JPH0969295A - 不揮発性多値メモリ装置 - Google Patents

不揮発性多値メモリ装置

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JPH0969295A
JPH0969295A JP22438395A JP22438395A JPH0969295A JP H0969295 A JPH0969295 A JP H0969295A JP 22438395 A JP22438395 A JP 22438395A JP 22438395 A JP22438395 A JP 22438395A JP H0969295 A JPH0969295 A JP H0969295A
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JP
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memory cell
read
circuit
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JP22438395A
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Haruo Hagiwara
治夫 萩原
Takashi Uchino
高志 内野
Sou Nanbu
想 南部
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 無駄な書き込み期間をなくして書き込みに要
する時間を短くすると共に、書き込み回路の構成を簡略
化する。 【解決手段】 入力デジタルデータをデータレジスタ2
0に保持し、これを抵抗分割回路21及びデコーダ22
により多値のアナログ量に変換し、不揮発性メモリセル
60から読み出したアナログ量と変換されたアナログ量
とを比較器23により比較し、比較結果に応答してメモ
リセル60に書き込み電圧を供給すると共に、この書き
込み電圧として2種類の異なるバイアス電圧VBLH,VB
LLを発生する第1バイアス発生回路500を設け、バイ
アス電圧の供給ラインに各々スイッチとしてのMOSト
ランジスタ27,28を挿入し、入力デジタルデータの
上位ビットD1に応じていずれかのMOSトランジスタ
27,28を選択的にオンオフ制御して、書き込み電圧
の切換を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多値情報を記憶可
能なEEPROM等を用いた不揮発性多値メモリ装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】フローティングゲートを備えたEEPR
OM等の不揮発性メモリにおいて、フローティングゲー
トに注入する電荷量を制御することによりそのスレッシ
ョルドレベルを変更して、メモリセルにアナログ量を記
憶することは、従来より行われていた。
【0003】例えば、特表平4−500576号公報で
は、入力されるアナログ信号をアナログサンプルホール
ド回路によってサンプルホールドする一方、不揮発性メ
モリセルに高電圧書き込みパルスを供給することにより
そのフローティングゲートに電荷を注入し、注入後、注
入電荷に対応するアナログ量を読み出してサンプルホー
ルドしておいたアナログ信号と比較し、両アナログ量が
一致するまで書き込みパルスの供給を繰り返すことによ
り、入力アナログ電圧に対応するアナログ量をメモりセ
ルに記録するようにしていた。
【0004】また、書き込みパルスとしては、時間の経
過に伴って電圧値が徐々に上昇する階段状のパルス列が
用いられていた。そして、多値メモリは、離散的なアナ
ログ量を記憶するメモリであり、書き込み回路は上述の
公報とほぼ同様の構成が用いられていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来例において、書き
込みパルス列として、時間の経過に伴って電圧値が徐々
に上昇する階段状のパルス列を用いるのは、フローティ
ングゲートへの注入電荷量を少量から多量へと幅広く対
応できるようにするためである。つまり、書き込み電圧
が低いとフローティングゲートへの1パルス当たりの電
荷注入量が少なくなり、書き込み電圧が高いとフローテ
ィングゲートへの1パルス当たりの電荷注入量は多くな
るので、いずれの場合にも対応できるように、電圧値を
徐々に上昇させているのである。
【0006】従って、実際の書き込みでは、フローティ
ングゲートへ注入する電荷量が少ない場合は、書き込み
パルス列の電圧値の低い期間が有効となり、電荷量が多
い場合は、書き込みパルス列の電圧値の高い期間が有効
となり、他の期間は実質的には無駄な期間となる。この
ため、書き込みに要する時間が長くなるという課題があ
り、さらには、電圧値を徐々に上昇させるために書き込
み回路が複雑にならざるを得なかった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、多値情報を記
憶可能な不揮発性メモリセルと、入力デジタルデータに
対応する多値情報を書き込むために前記メモリセルに書
き込み電圧を供給する書き込み回路と、前記入力デジタ
ルデータに応じて前記メモリセルへ供給する書き込み電
圧を切り換える切換回路とによって、不揮発性多値メモ
リ装置を構成することにより、上記課題を解決するもの
である。
【0008】また、本発明は、入力デジタルデータを多
値のアナログ量に変換する変換回路と、多値情報を記憶
可能な不揮発性メモリセルと、該不揮発性メモリセルか
ら読み出したアナログ量と前記変換回路によって変換さ
れたアナログ量とを比較する比較器と、多値情報を書き
込むために前記比較器の比較結果に応答して前記メモリ
セルに書き込み電圧を供給する書き込み回路と、前記入
力デジタルデータに応じて前記メモリセルへ供給する書
き込み電圧を切り換える切換回路とによって、不揮発性
多値メモリ装置を構成することにより上記課題を解決す
るものである。
【0009】また、本発明では、前記切換回路は、電圧
値が異なる複数の書き込み電圧を発生する電圧発生回路
と、前記入力デジタルデータを入力し該データに応じて
前記複数の書き込み電圧のいずれか1つを選択する選択
回路とよりなることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】図5に、本発明を適用した音声録
音再生装置の概略ブロック図を示す。この装置では、ま
ず、録音モードにおいて、入力されるアナログ音声信号
が、第1ADコンバータ1により所定のサンプリング周
期で12ビットのデジタル音声データに変換され、次段
のADPCMエンコーダ2により4ビットのデジタル圧
縮データに符号化されて、リードライト制御回路3に送
出される。リードライト制御回路3では、4ビットのデ
ジタル圧縮データが内部の第2DAコンバータ4でアナ
ログ信号に変換され、このアナログ信号がEEPROM
6へ書き込まれる。
【0011】一方、再生モードにおいては、リードライ
ト制御回路3によって、EEPROM6からアナログ信
号が読み出され、内部の第2ADコンバータ5で4ビッ
トのデジタル圧縮データに変換される。この4ビットの
デジタル圧縮データは、ADPCMデコーダ7により1
2ビットのデジタル音声データに復号化され、更に、こ
の12ビットのデジタル音声データが次段の第1DAコ
ンバータ8でアナログ信号に変換され、図示しないスピ
ーカ等から音声として放音される。
【0012】また、EEPROM6に対する書き込み及
び読み出し用の20ビットのアドレスは、マイコン9か
ら入力されるコマンド等に基づいてアドレス発生回路1
0によって生成され、EEPROM6及びリードライト
制御回路3に供給される。次に、リードライト制御回路
3に含まれるリードライト回路300の具体的構成を図
1に示す。
【0013】図1において、20はDフリップフロップ
で構成され、ADPCMエンコーダ2から出力される4
ビットのデジタル圧縮データのうち上位もしくは下位の
2ビットを取り込んで保持する2ビットのデータレジス
タ、21は基準電圧VrefをV1〜V4(V1<V2<
V3<V4)の4つの電圧に分割する抵抗分割回路、2
2はデータレジスタ20の内容をデコードしその内容に
対応してV1〜V4のいずれかの電圧を選択的に出力す
るデコーダ、23はデコーダ22から出力されるアナロ
グ電圧Vdecを非反転端子+に入力し、EEPROM6
のメモリセル60から読み出した電圧Vmを反転端子−
に入力して両電圧を比較する比較器、24はタイミング
クロックRWCK4がHレベルの期間比較器23の出力
をそのまま出力し、Lレベルへの立ち下がり時に比較器
の出力をラッチしてLレベルの期間ラッチした出力を送
出するラッチ回路、25はデータレジスタ20の内容を
出力するための出力バッファであり、抵抗分割回路21
とデコーダ22により図5に示す第2DAコンバータ4
を構成している。
【0014】EEPROM6のメモリセル60は、フロ
ーティングゲートFGを備えたスプリットゲート型のセ
ルであって、フローティングゲートFGに電荷を注入す
ることにより書き込みを行い、フローティングゲートF
Gに注入された電荷を引き抜くことにより消去を行うも
のである。各メモリセル60は、そのドレインDがビッ
トラインBL1,BL2,……に接続され、ソースSが
ソースラインSL1,SL2,……に接続され、コント
ロールゲートCGがワードラインWL1,WL2,……
に接続されている。各ビットラインBL1,BL2,…
…は、上位4ビットのXアドレスADRX[8:5]を
デコードするXアドレスデコーダ100により、いずれ
か1ラインが選択されて比較器23の反転端子に接続さ
れる。ワードラインWL1,WL2,……、及び、ソー
スラインSL1,SL2,……は、各々、11ビットの
Yアドレス[10:0]をデコードするYアドレスデコ
ーダ200及び250に接続され、これらデコーダには
第2バイアス発生回路400から種々のバイアス電圧が
供給されている。このバイアス電圧には、書き込み用の
高電圧バイアスVhv1及び消去用の高電圧バイアスVhv2
が含まれている。
【0015】尚、アドレスデコーダ100,200,2
50には、タイミング信号としてRWCK3,RWCK
4,WBEが入力されている。また、ここでのドレイ
ン,ソースという呼び方は、読み出し時の動作状態を基
準にしている。ビットラインBL1,BL2,……へ供
給する3種類のバイアス電圧VBH,VBLH,VBLL(VBH
>VBLH>VBLL)は、第1バイアス発生回路500から
出力され、これらのバイアス電圧の供給ラインには、各
々、スイッチとしてPチャネルMOSトランジスタ2
6,NチャネルMOSトランジスタ27,NチャネルM
OSトランジスタ28が挿入されている。そして、これ
らトランジスタの出力側には、書き込み時のみオンする
アナログスイッチ29が接続され、このアナログスイッ
チ29の出力がXアドレスデコーダ100への入出力ラ
イン30に接続されている。PチャネルMOSトランジ
スタ26のゲートには、一端にラッチ回路24の出力C
OMPを入力するANDゲート31の出力が印加され、
NチャネルMOSトランジスタ27及び28には、各々
ANDゲート32及び33の出力が印加されている。A
NDゲート32及び33には、一端にANDゲート31
の出力が共通して入力され、ANDゲート32の他端に
は、データレジスタ20への上位ビットD1をインバー
タ34により反転した信号が入力され、ANDゲート3
3の他端には、データレジスタ20への上位ビットD1
がそのまま入力されている。
【0016】また、メモリセル60に書き込まれたアナ
ログ量を電圧として読み出すために、抵抗分割回路で構
成されたリードバイアス発生回路35が設けられてお
り、その分圧点Pが比較時のみオンするNチャネルMO
Sトランジスタ36を介して、Xアドレスデコーダ10
0への入出力ライン30に接続されている。この入出力
ライン30と接地間には、メモリセルの消去時にビット
ラインBL1,BL2,……へ接地電位を供給するた
め、制御信号WBEによりオンするNチャネルMOSト
ランジスタ37が挿入されている。
【0017】ところで、図1に示すリードライト回路3
00は、Xアドレス方向に8個のメモリセルを1ブロッ
クとして管理しており、各ブロックには自己のブロック
が選択されたことを検出するためのブロックセレクタ6
00が配置されている。図1に示すブロックNO.0の
ブロックでは、ブロックセレクタ600は、下位6ビッ
トのXアドレスADRX[5:0]がオール「0」であ
ることを検出するANDゲートで構成されている。
【0018】更に、図1において、38はサンプリング
クロックRWCK2とラッチイネーブル信号LATEN
とブロックセレクタ600の出力BSELを入力するN
ANDゲート、39はタイミングクロックRWCK3と
リードイネーブル信号REAEN2及び出力COMPを
入力するNANDゲート、40はブロックセレクタ60
0の出力BSELとリードイネーブル信号REAEN2
とを入力するNANDゲート、41は2つのNANDゲ
ート38,39の出力を入力するNANDゲート、42
はタイミングクロックRWCK3とライトイネーブル信
号WRIEN2を入力するANDゲート、43はリード
イネーブル信号REAEN2とライトイネーブル信号W
RIEN2を入力するORゲート、44はタイミングク
ロックRWCK4とORゲート43の出力を入力するA
NDゲートであり、NANDゲート41の出力をデータ
レジスタ20を構成するDフリップフロップのクロック
端子に印加し、NANDゲート40の出力を出力バッフ
ァ25のオンオフ制御信号として印加し、ANDゲート
42の出力をアナログスイッチ29のオンオフ制御信号
として印加し、ANDゲート44の出力をNチャネルM
OSトランジスタ36のゲートに印加するようにしてい
る。
【0019】以下、図8及び図9のタイミングチャート
を参照して、リードライト回路300の書き込み動作及
び読み出し動作について説明する。メモリセル60の各
動作状態でのバイアス条件は図10に示す通りである。
まず、書き込み動作に先立ち、データレジスタ20にデ
ータをラッチするためのラッチモードに入る。このモー
ドでは、2ビットのデジタルデータD1、D0が入力ラ
イン45に送出されると共に、データを書き込むべきE
EPROM6のアドレスADRX,ADRYがアドレス
発生回路10から送出され、且つ、ラッチモードを示す
信号LATENがHレベルになる。出力されたXアドレ
スのうち下位6ビットADRX[5:0]が、自己のブ
ロックNO.と一致すると、ブロックセレクタ600の
出力がHレベルとなり、このため、サンプリングパルス
RWCK2の立ち上がりでNANDゲート38の出力が
Lレベルとなって、NANDゲート41の出力もLレベ
ルになる。よって、データレジスタ20を構成するDフ
リップフロップのクロック端子CKにクロックが印加さ
れ、入力データD1,D0はデータレジスタ20に取り
込まれる。
【0020】取り込みが終了すると信号WBEがHレベ
ルとなり、NチャネルMOSトランジスタ37がオン
し、入出力ライン30は接地電位0Vとなる。Xアドレ
スデコーダ100ではXアドレスADRX[8:5]に
より選択されたビットラインが入出力ライン30に接続
されているため、そのビットラインBLは0Vとなる。
一方、Yアドレスデコーダ250により、選択されたワ
ードラインWLには消去用の高電圧バイアスVhv2が印
加され、ソースラインSLにはYアドレスデコーダ20
0から0Vが印加されるので、選択されたメモリセルは
消去状態となる。即ち、メモリセル60のフローティン
グゲートFGへの電荷は引き抜かれた状態となる。
【0021】このような消去後に、実際の書き込みモー
ドに入る。書き込みモードでは、図8ウに示すように信
号WRIEN2がHレベルになり、このため、クロック
RWCK3が図8エの如くHレベルになっている期間
は、ANDゲート42の出力がHレベルになり、さら
に、ラッチ回路24はHレベルに初期設定されているの
でANDゲート31の出力もHレベルになる。従って、
アナログスイッチ29がオンすると共に、PチャネルM
OSトランジスタ26がオフする。
【0022】今、入力データの上位ビットD1が「0」
であれば、ANDゲート32の出力がHレベルとなるの
で、NチャネルMOSトランジスタ27がオンし、図8
カに示すようにバイアス電圧VBLHが、アナログスイッ
チ29,入出力ライン30,Xアドレスデコーダ100
を介して選択されたビットラインBLに供給される。逆
に、入力データの上位ビットD1が「1」であれば、A
NDゲート33の出力がHレベルとなるので、Nチャネ
ルMOSトランジスタ28がオンし、バイアス電圧VBL
Lがアナログスイッチ29,入出力ライン30,Xアド
レスデコーダ100を介して選択されたビットラインB
Lに供給される。
【0023】クロックRWCK3がHレベルの期間は、
Yアドレスデコーダ200により選択されたソースライ
ンSLに高電圧Vhv1が供給され(図8ク)、Yアドレ
スデコーダ250により選択されたワードラインWLに
VB2が供給されるので(図8キ)、図10に示す書き込
みバイアス条件が満足され、メモリセル60への書き込
みが実行される。即ち、メモリセル60のフローティン
グゲートFGへの電荷の注入が開始される。
【0024】次に、クロックRWCK3が立ち下がり、
クロックRWCK4が図8オの如くHレベルになると、
ANDゲート42の出力がLレベル、ANDゲート44
の出力がHレベルになるため、アナログスイッチ29が
オフし、NチャネルMOSトランジスタ36がオンし、
リードバイアス発生回路35の分圧点Pが入出力ライン
30に接続される。分圧点Pの電位は、NチャネルMO
Sトランジスタ36がオフのときにV4よりやや高い電
圧VREFMに設定されている。更に、この状態では、Yア
ドレスデコーダ250により、選択されたワードライン
WLにはVB1が印加され、ソースラインSLにはYアド
レスデコーダ200から0Vが印加されるので、選択さ
れたメモリセル60は読み出し状態となる。よって、選
択されたメモリセルのフローティングゲートFGに注入
された電荷に対応する電圧Vmが入出力ライン30に得
られ、この電圧Vmが比較器23においてデコーダ22
からの出力電圧Vdecと比較される。
【0025】デコーダ22では、データレジスタ20に
ラッチされたデータに対応して、抵抗分割回路21から
の4つの電圧V1〜V4のうちいずれかのアナログ電圧
が選択され、比較器23の非反転端子に出力される。こ
こで、データD1,D0と分圧値V1〜V4の関係を図
10に示しておく。比較の結果、Vdec>Vmであれ
ば、比較器23の出力はHレベルを維持し、上述したク
ロックRWCK3に基づく書き込み動作とクロックRW
CK4に基づく読み出し及び比較動作を繰り返す。書き
込み動作の繰り返しによりフローティングゲートFGへ
の電荷注入量が増加し、読み出し電圧Vmは図8カに示
すように上昇していく。そして、Vdec≦Vmになる
と、図8ケに示すように、比較器23の出力が反転して
Lレベルになり、ラッチ回路24の出力COMPもLレ
ベルになる。このため、ANDゲート31の出力がHレ
ベルからLレベルに反転し、PチャネルMOSトランジ
スタ26がオンし、更に、ANDゲート32,33の出
力がLレベルとなって、2つのNチャネルMOSトラン
ジスタ27,28がオフする。よって、次にクロックR
WCK3がHレベルになったときには、バイアス電圧V
BHがアナログスイッチ29を介してメモリセルのビット
ラインBLに供給されるようになる(図8カ参照)。つ
まり、図11に示す書き込みバイアス条件が崩れ、書き
込み動作が停止する。
【0026】以上のように、書き込みモードにおいて
は、選択されたメモリセル60に、2ビットの入力デジ
タルデータに対応する4値のアナログ量が記憶される。
ところで、図12は上述した書き込み動作時における書
き込みパルス数nと、メモリセル電流Irとの関係を示
すグラフであり、曲線aがドレインへバイアス電圧VBL
Hを印加した場合を示し、曲線bがドレインへバイアス
電圧VBLLを印加した場合を示す。
【0027】書き込みパルス数nが多くなると、フロー
ティングゲートへの電荷注入量が増加して、メモリセル
のスレッショルド電圧Vtが大きくなるため、メモりセ
ル電流Irが低下する。しかし、1パルス毎のフローテ
ィングゲートへの電荷注入量は徐々に少なくなるため、
メモリセル電流の低下率は徐々に少なくなってしまう。
【0028】そこで、ドレインへ印加するバイアス電圧
として比較的高いVBLHを採用した場合、曲線aに示す
ように、約15パルス印加すればデータ「0,1」に対
応するメモリセル電流値80μAとなり、読み出し時に
はほぼV2の読み出し電圧Vmが得られるが、データ
「1,0」に対応するメモリセル電流60μA(読み出
し電圧V3に対応する電流値)を得るためには、60パ
ルス以上の書き込みパルスを印加する必要がある。
【0029】しかしながら、図1に示す回路構成では、
データの上位ビットD1が「1」のとき、ドレインへの
バイアス電圧がVBLHからより低いVBLLに切り換えられ
るので、1パルス当たりのフローティングゲートへの電
荷注入量が増加して、曲線bに示すように、約4パルス
でデータ「1,0」に対応するメモリセル電流60μA
が得られるようになり、データ「1,1」に対応するメ
モリセル電流40μA(読み出し電圧V4に対応する電
流値)もほぼ11パルスで得られるようになる。
【0030】つまり、書き込むデータに応じてドレイン
へ供給するバイアス電圧値を切り換えることにより、短
時間に書き込みを行うことができる。次に、読み出しモ
ードでの動作について、図9を参照しながら説明する。
読み出しモードでは、まず、信号XSET(図9ウ)が
Hレベルになることによって、データレジスタ20に初
期値オール「1」がセットされ(図9オ)、デコーダ2
2からは図9カに示すように、オール「1」に対応する
アナログ電圧V4が出力される。そこで、クロックRW
CK4が図9キの如くHレベルになると、メモリセル6
0に対するバイアス条件は書き込みモードにおける読み
出し動作時と全く同一になるので、選択されたメモリセ
ルのフローティングゲートに注入された電荷に対応する
電圧Vmが比較器23の反転端子に得られ、この電圧V
mがデコーダ22からの電圧V4と比較される。比較の
結果、Vm>V4であれば比較器23及びラッチ回路2
4の出力COMPはLレベルになるので、NANDゲー
ト39の出力がHレベルになり、このときNANDゲー
ト38の出力はHレベルに固定されているので、NAN
Dゲート41の出力はLレベルとなり、以降ラッチ動作
は行われることなくデータレジスタ20にはオール
「1」が保持されたままとなる。
【0031】一方、比較の結果Vm≦V4であれば、比
較器23及びラッチ回路24の出力COMPはHレベル
となるので、図9アに示すようにクロックRWCK3が
Hレベルになると、NANDゲート39の出力がLレベ
ルとなり、このため、NANDゲート41からデータレ
ジスタ20にクロック信号が出力され、データ入力ライ
ン45に供給されたデータがデータレジスタ20にラッ
チされる。このデータ入力ライン45には、読み出しモ
ード時に図2に示すダウンカウンタ801から「1
0」,「01」,「00」のデータ「D1,D0」がク
ロックRWCK4が立ち下がる毎に順次出力されるの
で、データ「11」の次にはデータ「10」が図9オに
示すようにデータレジスタ20にラッチされることとな
る。すると、デコーダ22の出力Vdecは図9カに示す
ように電圧V3まで低下し、クロックRWCK4が再び
Hレベルになると、メモリセルから読み出されたアナロ
グ量に対応する電圧Vmと電圧V3が比較される。そし
て、Vm>V3であれば比較器23及びラッチ回路24
の出力COMPはLレベルに反転し、以降ラッチ動作は
行われることなくデータレジスタ20には「10」が保
持される。比較の結果Vm≦V3のときは、比較器23
及びラッチ回路24の出力COMPはHレベルを維持す
るので、次のデータ「01」がデータレジスタ20にラ
ッチされ、比較器23で電圧V2とVmが比較される。
この比較により、Vm>V2であればデータレジスタ2
0の内容は「01」に固定され、Vm≦V2であれば最
後のデータ「00」がデータラッチ20にラッチされ、
電圧VmとV1が比較される。電圧V1はほぼ0Vに設
定されているので、最後の比較においてはVm>V1と
なりデータレジスタ10の内容は「00」に固定され
る。
【0032】以上のように、メモリセルから読み出され
たアナログ量に対応する電圧Vmは、データレジスタ2
0,抵抗分割回路21,デコーダ22,比較器23,N
ANDゲート39,NANDゲート41によりAD変換
され、出力バッファ25を介して外部に転送される。つ
まり、これらの回路により図5に示した第2ADコンバ
ータ5が構成されている。
【0033】ところで、以上説明したリードライト回路
300では、2ビットのデジタルデータを4値のアナロ
グ量に変換して1メモリセルに書き込むようにしている
が、ADPCMエンコーダ2から出力される実際のデジ
タルデータは4ビットである。そこで、この例において
は、図2に示すように、入力される4ビットのデジタル
データのうち上位2ビットを右側のメモリセルアレイ6
Rに記憶し、下位2ビットを左側のメモリセルアレイ6
Lに記憶するようにしている。勿論、両アレイに対する
記憶は、上述したリードライト回路300によって行わ
れ、2ビットのデジタルデータが各々4値のアナログ量
に変換された後、各メモリセルに多値記憶される。
【0034】図2において、800はマイコン8,AD
PCMエンコーダ2,ADPCMデコーダ7に接続され
たコントロール回路であり、読み出し時のAD変換用の
ダウンカウント値を出力するダウンカウンタ801、及
び、アドレス発生回路10を含み、9ビットのXアドレ
スADRX,11ビットのYアドレスADRY,4ビッ
トのデータを送出すると共に、図1に示した各種クロッ
ク信号及び制御信号を出力し、さらには、メモリセルア
レイから読み出したアナログ量に対応するデジタルデー
タを一旦取り込み、ADPCMデコーダ7に送出する働
きをする。
【0035】また、右側のメモリセルアレイ6Rには、
上側にブロックセレクタ群600RU,リードライト回
路群300RU,Xアドレスデコーダ群100RU,サ
ブデコーダ700RUが配置されており、これらの構成
と対称的に下側にも、ブロックセレクタ群600RL,
リードライト回路群300RL,Xアドレスデコーダ群
100RL,サブデコーダ700RLが配置されてい
る。左側のメモリセルアレイ6Lについても右側セルア
レイと同様に、上下に、ブロックセレクタ群600L
U,リードライト回路群300LU,Xアドレスデコー
ダ群100LU,サブデコーダ700LU、及び、ブロ
ックセレクタ群600LL,リードライト回路群300
LL,Xアドレスデコーダ群100LL,サブデコーダ
700LLが配置されている。
【0036】そして、右側メモリセルアレイ6Rと左側
メモリセルアレイ6Lに対する上記回路構成は全て同一
であり、且つ、入力されるアドレス信号も同一であるた
め、これらメモリセルは全く同一の動作を行う。尚、Y
アドレスデコーダ200,250、及び、第2バイアス
発生回路400は、図1に示した構成と同一である。こ
こで、図3に左側メモリセルアレイ6L及びその周辺回
路の詳細を示す。
【0037】図3においては、メモリセルアレイ6Lが
上下に各々32ブロックに分割管理されており、これら
の各ブロック毎に、ブロックセレクタBS,リードライ
ト回路R/W,XアドレスデコーダX−ADECが配置
されている。従って、ブロックセレクタ群600LU,
600LLは各々32個のブロックセレクタBSからな
り、リードライト回路群300LU,300LLは各々
32個のリードライト回路R/Wからなり、Xアドレス
デコーダ群100LU,100LLは各々32個のXア
ドレスデコーダX−ADECからなる。図3に示す各ブ
ロックのリードライト回路R/Wは図1に示したリード
ライト回路300と全く同一の構成であり、Xアドレス
デコーダX−ADECも図1に示したXアドレスデコー
ダ100と全く同一の構成である。しかしながら、ブロ
ックセレクタBSは自己のブロックが選択されたことを
検出するため、自己のブロックNO.を示すXアドレス
ADRX[5:0]が入力されたときのみHレベルを出
力するように、各ブロック毎に異なるアドレスを入力す
る構成である。
【0038】以下、図6を参照してデータ書き込みモー
ド時の動作を説明する。まず、アドレス発生回路10か
ら送出されるアドレスは順次更新されるので、下位6ビ
ットのXアドレスADRX[5:0]は図6イに示すよ
うに変化し、上側のブロックセレクタ群600LUでは
ブロックNO.0からNO.31に向かって順次セレク
ト出力BSELがHレベルになる。この期間は、図6
ウ,エに示すように上側のリードライト回路群300L
Uへのラッチイネーブル信号LATEN及びライトイネ
ーブル信号WRIEN2が、各々Hレベル及びLレベル
になるので、ブロックNO.0からNO.31に向かっ
て各リードライト回路R/W内のデータレジスタ20
に、サンプルされたデータが順次ラッチされていく。更
に、XアドレスADRX[5:0]が更新されていく
と、今度は、下側のブロックセレクタ群600LLでは
ブロックNO.32からNO.63に向かって順次セレ
クト出力がHレベルになり、この期間は図6オに示すよ
うにラッチイネーブル信号LATENがHレベルになる
ので、下側のリードライト回路群300LLでは、ブロ
ックNO.32からNO.63に向かって各リードライ
ト回路R/W内のデータレジスタ20に、サンプルされ
たデータが順次ラッチされていく。また、この期間は、
同時に上側のリードライト回路群300LUへのライト
イネーブル信号WRITEN2が、図6エに示すように
Hレベルになるので、各ブロックでは同時に書き込み動
作が実行される。但し、各ブロックでは、Xアドレスデ
コーダX−ADECが上位8ビットのXアドレスADR
X[8:5]によりいずれか1本のビットラインBLを
選択し、Yアドレスデコーダ200,250がいずれか
1本のソースラインSL及びワードラインWLを選択す
るので、結果的には上側の選択された32個のメモリセ
ルに対して同時に書き込みが実行される。
【0039】書き込み後に、アドレスADRX[5:
0]は、再び、「0」に戻って順次アドレスを更新する
ので、次に入力される32個のサンプリングデータは上
側リードライト回路群300LUの各ブロックのデータ
レジスタ20に順次ラッチされていく。このようなラッ
チ動作が行われている期間に、下側リードライト回路群
300LLでは、ライトイネーブル信号WITEN2が
Hレベルになるので、全ブロックにおいて32個の選択
されたメモリセルに対して同時に書き込みが実行され
る。
【0040】このように、上側リードライト回路群30
0LUと下側リードライト回路群300LLでは、デー
タのラッチ動作と書き込み動作が交互に行われ、書き込
み動作が1サンプリング時間より長くても、空き時間を
作ることなく効率よく書き込み動作が実行される。次
に、図7を参照しながら読み出しモード時の動作を説明
する。
【0041】まず、サブデコーダ700LUは、図4の
実線で示すように、XアドレスADRX[4:2]を入
力するNANDゲート701と、アドレスADRX
[5]とNANDゲート701の出力とを入力するNA
NDゲートと、読み出しモード中常にHレベルになる信
号REAENとNANDゲート702の出力を入力し出
力として図1に示すリードイネーブル信号REAEN2
を出力するANDゲート703とから構成される。ま
た、サブデコーダ700LLは、点線で示すようにアド
レスADRX[5]の代わりにその反転信号を入力する
ようにした点のみが、サブデコーダ700LUと異な
り、他の部分は全く同一構成である。
【0042】そこで、読み出しモード時に、図7イに示
すようにアドレスADRX[5:0]が更新され、アド
レスが「60」になるとADRX[5:2]の各ビット
出力が全てHレベルになるので、サブデコーダ700L
Uでは、NANDゲート701の出力がLレベルにな
り、このため、NANDゲート702及びANDゲート
703の出力REAEN2が、図7ウに示すようにHレ
ベルになる。よって、上側のリードライト回路群700
LUで32個のメモリセルから同時に読み出し動作が開
始される。この読み出し動作は1サンプリング期間(ア
ドレスが1だけ更新される期間)より長く、この場合約
3サンプリング期間かかり、アドレスが「0」に戻るま
でには終了している。
【0043】ところで、NANDゲート701がHレベ
ルである期間は、アドレスが「60」から「63」にな
るまで続き、アドレスが「0」に戻るとその出力はLレ
ベルになってしまう。しかしながら、アドレスが「0」
から「31」の間はADRX[5]が常にLレベルであ
るので、NANDゲート702の出力はHレベルとな
り、サブデコーダ700LUの出力REAEN2は、図
7ウに示すように引き続きHレベルを維持する。アドレ
スADRX[5:0]が「0」から「31」に変化する
と、ブロックNO.0からNO.31のブロックセレク
タBSが順次Hレベルを出力するので、各リードライト
回路R/Wでは出力バッファ34が開いて、順次データ
レジスタ20の内容が出力される。
【0044】一方、サブデコーダ700LLでは、アド
レスADRX[5:0]が「28」になると、アドレス
ADRX[5]の反転出力及びADRX[4:2]の各
ビット出力が全てHレベルになるので、NANDゲート
701の出力がHレベルとなり、このため、NANDゲ
ート702及びANDゲート703の出力REAEN2
が、図7エに示すようにHレベルになる。よって、下側
のリードライト回路群300LLで32個のメモリセル
から同時に読み出し動作が開始される。そして、NAN
Dゲート701の出力はアドレスが「31」になるまで
Hレベルを維持し、「32」になるとLレベルになって
しまうが、アドレスが「32」から「63」まではAD
RX[5]の反転出力は常にLレベルになるので、この
期間、下側のリードライト回路群300LLの出力RE
AEN2は、図7エに示すように引き続きHレベルを維
持する。そして、アドレスが「32」から「63」に変
化する期間は、ブロックNO.32からNO.63のブ
ロックセレクタBSが順次Hレベルを出力するので、各
リードライト回路R/Wでは出力バッファ34が開い
て、順次データレジスタ20の内容が出力される。
【0045】このように、データの出力を開始すべきタ
イミングより4サンプリング期間前から、データレジス
タ20の内容を先読みすることによって、読み出しモー
ド時に無用な空き時間ができることを防いでいる。以
上、図3に基づき左側のメモリセルアレイ6Lに関して
説明を行ったが、上述した通り、右側メモリセルアレイ
6Rでも全く同様の動作が行われる。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、入力デジタルデータに
応じて書き込み電圧の電圧値が切り換えられるので、書
き込みに有効な最適電圧値が常に選ばれるようになり、
無駄な書き込み期間をなくして書き込みに要する時間を
短くできる。しかも、徐々に電圧値を上昇させる等の制
御が不要となり、書き込み回路の構成を簡略化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるリードライト回路を示す回路図
である。
【図2】本発明における左右一対のメモリセルアレイ及
びその周辺回路を示すブロック図である。
【図3】本発明における左側メモリセルアレイ及びその
周辺回路を示すブロック図である。
【図4】本発明におけるサブデコーダの具体構成を示す
回路図である。
【図5】本発明を適用した音声録音再生装置の全体ブロ
ック図である。
【図6】本発明におけるリードライト回路群のラッチモ
ード及び書き込みモード時の動作を示すタイミングチャ
ートである。
【図7】本発明におけるリードライト回路群の読み出し
モード時の動作を示すタイミングチャートである。
【図8】本発明におけるリードライト回路の書き込みモ
ード動作を示すタイミングチャートである。
【図9】本発明におけるリードライト回路の読み出しモ
ード動作を示すタイミングチャートである。
【図10】本発明における入力デジタルデータと対応す
るアナログ電圧との関係を示す図である。
【図11】本発明におけるメモリセルのバイアス条件を
示す図である。
【図12】本発明におけるメモリセルの書き込み特性を
示す特性図である。
【符号の説明】
1 第1ADコンバータ 2 ADPCMエンコーダ 3 リードライト制御回路 4 第2DAコンバータ 5 第2ADコンバータ 6 EEPROM 6R 右側メモリセルアレイ 6L 左側メモリセルアレイ 7 ADPCMデコーダ 8 第1DAコンバータ 9 マイコン 10 アドレス発生回路 20 データレジスタ 21 抵抗分割回路 22 デコーダ 23 比較器 24 ラッチ回路 25 出力バッファ 26 PチャネルMOSトランジスタ 27,28,36,37 NチャネルMOSトランジス
タ 29 アナログスイッチ 60 メモリセル 100 Xアドレスデコーダ 100LU,100LL,100RU,100RL X
アドレスデコーダ群 200 Yアドレスデコーダ(SL用) 250 Yアドレスデコーダ(WL用) 300 リードライト回路 300LU,300LL,300RU,300RL リ
ードライト回路群 400 第2バイアス発生回路 500 第1バイアス発生回路 600 ブロックセレクタ 600LU,600LL,600RU,600RL ブ
ロックセレクタ群 700LU,700LL,700RU,700RL サ
ブデコーダ 800 コントロール回路 801 ダウンカウンタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多値情報を記憶可能な不揮発性メモリセ
    ルと、入力デジタルデータに対応する多値情報を書き込
    むために前記メモリセルに書き込み電圧を供給する書き
    込み回路と、前記入力デジタルデータに応じて前記メモ
    リセルへ供給する書き込み電圧を切り換える切換回路と
    を備えたことを特徴とする不揮発性多値メモリ装置。
  2. 【請求項2】 入力デジタルデータを多値のアナログ量
    に変換する変換回路と、多値情報を記憶可能な不揮発性
    メモリセルと、該不揮発性メモリセルから読み出したア
    ナログ量と前記変換回路によって変換されたアナログ量
    とを比較する比較器と、多値情報を書き込むために前記
    比較器の比較結果に応答して前記メモリセルに書き込み
    電圧を供給する書き込み回路と、前記入力デジタルデー
    タに応じて前記メモリセルへ供給する書き込み電圧を切
    り換える切換回路とを備えたことを特徴とする不揮発性
    多値メモリ装置。
  3. 【請求項3】 前記切換回路は、電圧値が異なる複数の
    書き込み電圧を発生する電圧発生回路と、前記入力デジ
    タルデータを入力し該データに応じて前記複数の書き込
    み電圧のいずれか1つを選択する選択回路とよりなるこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載の不揮発性多値メモ
    リ装置。
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