JPH093646A - プラズマ中において部材を熱処理する際の電流密度の制御方法及び装置 - Google Patents
プラズマ中において部材を熱処理する際の電流密度の制御方法及び装置Info
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- JPH093646A JPH093646A JP8159203A JP15920396A JPH093646A JP H093646 A JPH093646 A JP H093646A JP 8159203 A JP8159203 A JP 8159203A JP 15920396 A JP15920396 A JP 15920396A JP H093646 A JPH093646 A JP H093646A
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- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 既知の表面積FHEを有する補助電極を用いて
プラズマ内で熱処理する際に熱処理される部材(以下単
に部材という)を流れる電流密度を制御する方法、及び
この方法を実施する装置を課題とする。 【解決手段】 補助電極を使用してプラズマ内で熱処理
する際に部材を流れる電流密度を制御する方法と装置に
関するものである。予めチャージ表面積FCHを計算せず
に、適正な電流密度の値を得ることができるようにする
ために、第1の処理ステップにおいて中性のプラズマ内
で補助電極9を用いて炉1内の全電流IGと補助電極9
の上方の電流IHEが測定し、これらの値と補助電極9の
既知の表面積FHEから未知のチャージ表面積FCHを計算
する。次に補助電極9がスイッチ12を介してプラズマ
発生器5から分離されて、中性のガスプラズマを物質
(コーティング材)を伝達するプラズマとする。次に、
計算されたチャージ表面積FCHと所望の電流密度目標値
Jsollから制御器15を介して電流測定装置14で制御
すべき目標全電流強さIGsollを計算する。
プラズマ内で熱処理する際に熱処理される部材(以下単
に部材という)を流れる電流密度を制御する方法、及び
この方法を実施する装置を課題とする。 【解決手段】 補助電極を使用してプラズマ内で熱処理
する際に部材を流れる電流密度を制御する方法と装置に
関するものである。予めチャージ表面積FCHを計算せず
に、適正な電流密度の値を得ることができるようにする
ために、第1の処理ステップにおいて中性のプラズマ内
で補助電極9を用いて炉1内の全電流IGと補助電極9
の上方の電流IHEが測定し、これらの値と補助電極9の
既知の表面積FHEから未知のチャージ表面積FCHを計算
する。次に補助電極9がスイッチ12を介してプラズマ
発生器5から分離されて、中性のガスプラズマを物質
(コーティング材)を伝達するプラズマとする。次に、
計算されたチャージ表面積FCHと所望の電流密度目標値
Jsollから制御器15を介して電流測定装置14で制御
すべき目標全電流強さIGsollを計算する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、既知の表面積FHE
を有する補助電極を用いてプラズマ内で熱処理する際に
熱処理される部材(以下単に部材という)を流れる電流
密度を制御する方法に関するものである。本発明はさら
にこの方法を実施する装置に関する。
を有する補助電極を用いてプラズマ内で熱処理する際に
熱処理される部材(以下単に部材という)を流れる電流
密度を制御する方法に関するものである。本発明はさら
にこの方法を実施する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】スイス特許公報CH−PS475366
号からは、強電流グロー放電の電気的特性を監視する方
法が知られている。この公知の方法においては監視の結
果、グロー放電が回避すべき、部材に損傷を与えるアー
ク放電に変化したことが明らかになった場合に、供給電
圧または装置全体がオフにされる。
号からは、強電流グロー放電の電気的特性を監視する方
法が知られている。この公知の方法においては監視の結
果、グロー放電が回避すべき、部材に損傷を与えるアー
ク放電に変化したことが明らかになった場合に、供給電
圧または装置全体がオフにされる。
【0003】この方法は、部材と補助電極を流れる放電
電流の比が部材並びに補助電極の面積の比と等しい間は
アーク放電は発生しないという原理に基づいている。グ
ロー放電からアーク放電へ変化する場合に該当する放電
電流が上昇し、従って電流比が変化するので、この公知
の装置はこの電流比の変化を利用して、供給電圧ないし
は装置全体をオフにすることによってアーク放電の発生
を克服している。
電流の比が部材並びに補助電極の面積の比と等しい間は
アーク放電は発生しないという原理に基づいている。グ
ロー放電からアーク放電へ変化する場合に該当する放電
電流が上昇し、従って電流比が変化するので、この公知
の装置はこの電流比の変化を利用して、供給電圧ないし
は装置全体をオフにすることによってアーク放電の発生
を克服している。
【0004】しかし、ガス−イオン表面処理ないしはプ
ラズマ表面処理の場合には発生する表面特性は部材の表
面における放電電流の電流密度によって著しく決定され
るので、不均一な放電ないしアーク放電に対する保護の
他に、処理すべき部材を流れる電流密度を測定して制御
することが必要である。部材を流れる放電電流を測定し
て制御することは容易であるが、部材を流れる電流密度
を求めることは困難である。
ラズマ表面処理の場合には発生する表面特性は部材の表
面における放電電流の電流密度によって著しく決定され
るので、不均一な放電ないしアーク放電に対する保護の
他に、処理すべき部材を流れる電流密度を測定して制御
することが必要である。部材を流れる放電電流を測定し
て制御することは容易であるが、部材を流れる電流密度
を求めることは困難である。
【0005】というのは電流密度を求めるためには、放
電電流が実際に有効となる部材表面積を求めなければな
らないからである。特に複雑な形状の部品の場合にはチ
ャージ表面積を求めることは極めて煩雑である。
電電流が実際に有効となる部材表面積を求めなければな
らないからである。特に複雑な形状の部品の場合にはチ
ャージ表面積を求めることは極めて煩雑である。
【0006】ドイツ特許公報DE−PS3504936
号からは、部材を流れる放電電流を制御する装置が知ら
れており、ここでは炉室内に処理すべき部材と並んで補
助電極が配置されている。毎回チャージの表面積を算出
し、あるいは正確に測らずに済むようにするために、こ
の公知の装置においては炉内の、従って部材チャージと
補助電極を流れる電流密度が測定されて、補助電極の既
知の表面積並びに別に測定された補助電極を流れる電流
からチャージ表面積が計算される。
号からは、部材を流れる放電電流を制御する装置が知ら
れており、ここでは炉室内に処理すべき部材と並んで補
助電極が配置されている。毎回チャージの表面積を算出
し、あるいは正確に測らずに済むようにするために、こ
の公知の装置においては炉内の、従って部材チャージと
補助電極を流れる電流密度が測定されて、補助電極の既
知の表面積並びに別に測定された補助電極を流れる電流
からチャージ表面積が計算される。
【0007】炉内の全電流密度のこの測定は、プラズマ
コーティングプロセス全体の間連続的に実施される。し
かし実際にこの試みを追跡した場合に、補助電極は一定
の電流を制御するが、処理サイクルの間のチャージを流
れる放電電流は理論的推定に対して変化することが明ら
かにされている。
コーティングプロセス全体の間連続的に実施される。し
かし実際にこの試みを追跡した場合に、補助電極は一定
の電流を制御するが、処理サイクルの間のチャージを流
れる放電電流は理論的推定に対して変化することが明ら
かにされている。
【0008】追試験の結果、プラズマコーティングプロ
セスの間に補助電極の表面積が変化することが明らかに
され、これは例えば煤の堆積によって生じる可能性があ
る。チャージ表面積のこの変化は、炉内の全電流密度を
測定するために、全プラズマコーティングプロセスの間
補助電極をオンにしたままにしておかなければならない
ことによってもたらされる。
セスの間に補助電極の表面積が変化することが明らかに
され、これは例えば煤の堆積によって生じる可能性があ
る。チャージ表面積のこの変化は、炉内の全電流密度を
測定するために、全プラズマコーティングプロセスの間
補助電極をオンにしたままにしておかなければならない
ことによってもたらされる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、熱処理される部材を流れる流密度を簡単かつ再現可
能に制御することを可能にする方法を提供することであ
る。さらに本発明の課題は、この方法を実施する装置を
提供することである。
は、熱処理される部材を流れる流密度を簡単かつ再現可
能に制御することを可能にする方法を提供することであ
る。さらに本発明の課題は、この方法を実施する装置を
提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によるこの課題の
方法の解決は、下記の工程を備えていることを特徴とす
る。 a)熱処理炉内で、中性ガスを用いてプラズマを発生さ
せ、 b)炉内の全電流IGと補助電極を流れる電流IHEを測
定し、 c)次の式に従ってチャージ表面積FCHを計算し: Fch=IG・FHE/IHE−FHE d)補助電極をオフにし、 e)物質を伝達するプラズマを発生させ、 f)所望の電流密度目標値Jsollを制御するために調節
すべき全電流IGsollを次に式に従って計算し: IGsoll=Fch・Jsoll g)炉内の全電流IG を測定して、IG をIGsoll に制
御する。
方法の解決は、下記の工程を備えていることを特徴とす
る。 a)熱処理炉内で、中性ガスを用いてプラズマを発生さ
せ、 b)炉内の全電流IGと補助電極を流れる電流IHEを測
定し、 c)次の式に従ってチャージ表面積FCHを計算し: Fch=IG・FHE/IHE−FHE d)補助電極をオフにし、 e)物質を伝達するプラズマを発生させ、 f)所望の電流密度目標値Jsollを制御するために調節
すべき全電流IGsollを次に式に従って計算し: IGsoll=Fch・Jsoll g)炉内の全電流IG を測定して、IG をIGsoll に制
御する。
【0011】本発明の方法においては、補助電極には短
い期間のみ、そして物質を伝達しないプラズマが存在す
る場合だけ、炉内の全電流を測定するために電圧が供給
される。後述の物質(プラズマによりコーティングする
物質)を伝達するプラズマ内での表面処理プロセスにお
いては、補助電極はドイツ特許公報DE−PS3504
936号に示す方法とは異なり、オフにされたままであ
って、従って、プラズマプロセスの間にその表面積は変
化されない。
い期間のみ、そして物質を伝達しないプラズマが存在す
る場合だけ、炉内の全電流を測定するために電圧が供給
される。後述の物質(プラズマによりコーティングする
物質)を伝達するプラズマ内での表面処理プロセスにお
いては、補助電極はドイツ特許公報DE−PS3504
936号に示す方法とは異なり、オフにされたままであ
って、従って、プラズマプロセスの間にその表面積は変
化されない。
【0012】従ってこの本発明による方法においては、
チャージ表面積FCHの計算後補助電極をオンにしないで
も、炉内の全電流IGを測定して追制御するだけで電流
密度を制御することが可能になる。
チャージ表面積FCHの計算後補助電極をオンにしないで
も、炉内の全電流IGを測定して追制御するだけで電流
密度を制御することが可能になる。
【0013】すなわち物質を伝達しないプラズマを発生
させる中性のガスとして、本発明の好ましい実施形態に
おいてはアルゴン、ネオン、ヘリウムまたは水素が使用
される。これらのガスはそれによって発生されるプラズ
マがチャージないし補助電極の表面と相互作用すること
がなく、従って誤りのない再現可能な測定を可能にする
という特徴を有する。
させる中性のガスとして、本発明の好ましい実施形態に
おいてはアルゴン、ネオン、ヘリウムまたは水素が使用
される。これらのガスはそれによって発生されるプラズ
マがチャージないし補助電極の表面と相互作用すること
がなく、従って誤りのない再現可能な測定を可能にする
という特徴を有する。
【0014】物質を伝達するプラズマを発生させるため
に、本発明の好ましい実施形態によれば、窒化ガス、滲
炭ガスまたはホウ化ガスが使用される。
に、本発明の好ましい実施形態によれば、窒化ガス、滲
炭ガスまたはホウ化ガスが使用される。
【0015】本発明による装置は、炉内の全電流IGが
電流測定装置を介して測定可能であって、全電流IGを
測定する電流測定装置と補助電極との間に補助電極を流
れる電流IHEを測定する電流測定装置と補助電極をオフ
にするスイッチが接続されていることを特徴としてい
る。
電流測定装置を介して測定可能であって、全電流IGを
測定する電流測定装置と補助電極との間に補助電極を流
れる電流IHEを測定する電流測定装置と補助電極をオフ
にするスイッチが接続されていることを特徴としてい
る。
【0016】電圧源と補助電極との間に接続されたスイ
ッチによって、補助電極に短時間だけ、すなわち中性の
プラズマ内で全電流IGを測定するために電圧を供給す
ることができる。次にスイッチにより補助電極が再びオ
フにされて、それによって、プラズマプロセスの間補助
電極の表面積の変化が発生しないことが保証される。
ッチによって、補助電極に短時間だけ、すなわち中性の
プラズマ内で全電流IGを測定するために電圧を供給す
ることができる。次にスイッチにより補助電極が再びオ
フにされて、それによって、プラズマプロセスの間補助
電極の表面積の変化が発生しないことが保証される。
【0017】本発明の好ましい実施形態においては、全
電流IGを測定する電流測定装置は制御器と接続されて
おり、制御器を介して計算された値IGsollを測定され
た値IGを用いて調節することができる。他の詳細と利
点は以下の図面の説明から明らかであり、図面には本発
明により形成された、電流密度を制御する装置の実施例
が概略的に図示されている。
電流IGを測定する電流測定装置は制御器と接続されて
おり、制御器を介して計算された値IGsollを測定され
た値IGを用いて調節することができる。他の詳細と利
点は以下の図面の説明から明らかであり、図面には本発
明により形成された、電流密度を制御する装置の実施例
が概略的に図示されている。
【0018】
【発明の実施の形態】図1に示す装置は大体において、
炉室2を包囲する取り外し可能な炉フード3及び炉室2
の排気を行う真空ポンプ4を有する炉1と、炉室2内に
プラズマを発生させる高圧源としてのプラズマ発生器5
とから形成される。
炉室2を包囲する取り外し可能な炉フード3及び炉室2
の排気を行う真空ポンプ4を有する炉1と、炉室2内に
プラズマを発生させる高圧源としてのプラズマ発生器5
とから形成される。
【0019】炉室2の充填並びに排出を行うために、点
線で示すように炉フード3はガイドレール6に沿って上
方へ移動することができる。炉室2内には部材チャージ
8を収容するためのチャージ支持体7と補助電極9が配
置されている。プラズマ発生器5として用いられる高圧
源は導線10を介してチャージ支持体7と接続されてい
る。
線で示すように炉フード3はガイドレール6に沿って上
方へ移動することができる。炉室2内には部材チャージ
8を収容するためのチャージ支持体7と補助電極9が配
置されている。プラズマ発生器5として用いられる高圧
源は導線10を介してチャージ支持体7と接続されてい
る。
【0020】導線10からは、補助電極9と接続された
導線11が分岐している。補助電極9へ通じる導線11
内にスイッチ12と補助電極9を流れる電流IHEを測定
する電流測定装置13が配置されている。
導線11が分岐している。補助電極9へ通じる導線11
内にスイッチ12と補助電極9を流れる電流IHEを測定
する電流測定装置13が配置されている。
【0021】炉1内の全電流IGを測定するために、プ
ラズマ発生器5から見て、導線11の分岐前の導線10
に炉内の全電流IGを測定する電流測定装置14が組み
込まれている。電流測定装置14で測定された全流IG
の強さを計算された全電流目標値IGsollに制御するこ
とができるようにするために、電流測定装置14は電流
制御器15と接続されている。上述の装置の作業方法
を、実施例を用いて以下で詳細に説明する。
ラズマ発生器5から見て、導線11の分岐前の導線10
に炉内の全電流IGを測定する電流測定装置14が組み
込まれている。電流測定装置14で測定された全流IG
の強さを計算された全電流目標値IGsollに制御するこ
とができるようにするために、電流測定装置14は電流
制御器15と接続されている。上述の装置の作業方法
を、実施例を用いて以下で詳細に説明する。
【0022】
【実施例】672個の小さいピニオンからなる未知の表
面積のチャージが炉1の炉室2内へ装入された。それに
続いて炉1が真空ポンプ4を介して排気されて、850
°に加熱された。温度はチャージ全体にわたって温度が
均衡するまで一定に維持された。
面積のチャージが炉1の炉室2内へ装入された。それに
続いて炉1が真空ポンプ4を介して排気されて、850
°に加熱された。温度はチャージ全体にわたって温度が
均衡するまで一定に維持された。
【0023】一定の温度に達した後に炉に水素ガスが供
給され、6mbarの圧力に制御された。スイッチ12
を閉じた後、すなわち導線10と11を介して補助電極
9がプラズマ発生器5と接続された後に、560Vの直
流電圧を印加することによって炉室2内にある水素ガス
によって中性の、すなわち物質を伝達しないプラズマが
発生された。
給され、6mbarの圧力に制御された。スイッチ12
を閉じた後、すなわち導線10と11を介して補助電極
9がプラズマ発生器5と接続された後に、560Vの直
流電圧を印加することによって炉室2内にある水素ガス
によって中性の、すなわち物質を伝達しないプラズマが
発生された。
【0024】電流測定装置14において27000mA
の炉1内の全電流強さIGを測定することができた。同
時に補助電極9を流れる電流を測定する電流測定装置1
3は91mAの値を表示した。これら測定された値と補
助電極9の既知の表面積FHE577cm2 に基づいて次
の式に従って計算する。
の炉1内の全電流強さIGを測定することができた。同
時に補助電極9を流れる電流を測定する電流測定装置1
3は91mAの値を表示した。これら測定された値と補
助電極9の既知の表面積FHE577cm2 に基づいて次
の式に従って計算する。
【0025】IHE/FHE=IG/(FCH+FHE) 上述の式から未知のチャージ表面積FCHを次のように解
くことができた。 FCH=IG・FHE/IHE−FHE
くことができた。 FCH=IG・FHE/IHE−FHE
【0026】3つの既知の値、すなわち測定された電流
の強さIGとIHE並びに補助電極9の既知の表面積FHE
に基づいて、未知のチャージ表面積FCHについて170
620cm2 の値が得られた。プラズマプロセスのため
の既知の電流密度目標値、Jsollは0.65mA/cm
2 であった。
の強さIGとIHE並びに補助電極9の既知の表面積FHE
に基づいて、未知のチャージ表面積FCHについて170
620cm2 の値が得られた。プラズマプロセスのため
の既知の電流密度目標値、Jsollは0.65mA/cm
2 であった。
【0027】中性プラズマ内の全電流強さIGを測定し
た後に、スイッチ12が開放されて、それによって補助
電極9がプラズマ発生器5から分離された。次に部材チ
ャージ8が最終温度に加熱されて、中性ガスプラズマが
物質を伝達するプラズマ、すなわち滲炭するプラズマに
とって代わられた。
た後に、スイッチ12が開放されて、それによって補助
電極9がプラズマ発生器5から分離された。次に部材チ
ャージ8が最終温度に加熱されて、中性ガスプラズマが
物質を伝達するプラズマ、すなわち滲炭するプラズマに
とって代わられた。
【0028】予め設定された0.65mA/cm2 の電
流密度目標値Jsollに制御することができるようにする
ために、この値が求められたチャージ面積FCHで乗算さ
れて、そこから新しい制御量としての全電流IGsoll が
次の式に従って求められた: IGsoll =Jsoll・FCH
流密度目標値Jsollに制御することができるようにする
ために、この値が求められたチャージ面積FCHで乗算さ
れて、そこから新しい制御量としての全電流IGsoll が
次の式に従って求められた: IGsoll =Jsoll・FCH
【0029】この計算から、電流制御器15を介して電
流測定装置14で調節すべき全電流密度の目標値IGsol
lについて110903mAの値が得られた。幾何学的
なチャージ表面積の再計算から、167758cm2 の
値が得られ、これは測定誤差が2%より小さく、従って
上述の方法が電流密度を制御するための正確かつ再現可
能な値を準備するのに適していることを意味している。
流測定装置14で調節すべき全電流密度の目標値IGsol
lについて110903mAの値が得られた。幾何学的
なチャージ表面積の再計算から、167758cm2 の
値が得られ、これは測定誤差が2%より小さく、従って
上述の方法が電流密度を制御するための正確かつ再現可
能な値を準備するのに適していることを意味している。
【0030】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明は、補助電極
を使用してプラズマ内で熱処理する際に部材を流れる電
流密度を制御する方法は、熱処理する部材の表面積を計
算することなく適正なプラズマ電流を設定できる利点が
ある。また、本発明の装置は、上記方法を容易に実施で
きる熱処理炉であり、部材を損傷することなくプラズマ
熱処理を可能にする。
を使用してプラズマ内で熱処理する際に部材を流れる電
流密度を制御する方法は、熱処理する部材の表面積を計
算することなく適正なプラズマ電流を設定できる利点が
ある。また、本発明の装置は、上記方法を容易に実施で
きる熱処理炉であり、部材を損傷することなくプラズマ
熱処理を可能にする。
【図1】本発明装置の実施態様を示す図である。
1 炉 2 炉室 3 炉フード 4 真空ポンプ 5 プラズマ発生器 6 ガイドレール 7 チャージ支持体 8 部材チャージ 9 補助電極 10 導線 11 導線 12 スイッチ 13 電流測定装置(IHE) 14 電流測定装置(IG) 15 制御器
フロントページの続き (72)発明者 ベルント・エデンホファー ドイツ国、クレベ・47533、ホルダルリン ストラーセ(番地なし)
Claims (5)
- 【請求項1】 熱処理炉内で、既知の表面積FHEを有す
る補助電極を用いてプラズマ熱処理する際に部材を流れ
る電流密度を制御する方法において、下記の工程を備え
たことを特徴とする部材を流れる電流密度を制御する方
法。 a)前記熱処理炉内で中性ガスを用いてプラズマを発生
させ、 b)前記炉内の全電流IG と補助電極を流れる電流IHE
を測定し、 c)次の式に従ってチャージ表面積FCHを計算し: FCH=IG ・FHE/IHE−FHE d)前記補助電極をオフにし、 e)物質を伝達するプラズマを発生させ、 f)所望の電流密度目標値Jsollを制御するために調節
すべき全電流IGsollを次の式に従って計算し: IGsoll =FCH・Jsoll g)炉内の全電流IG を測定して、IG をIGsoll に制
御する。 - 【請求項2】 前記中性ガスとしてアルゴン、ネオン、
ヘリウムまたは水素のいずれかを使用することを特徴と
する請求項1に記載の電流密度を制御する方法。 - 【請求項3】 物質を伝達するプラズマを発生させるた
めに、窒化ガス、滲炭ガスまたはホウ化ガスのいずれか
を使用することを特徴とする請求項1に記載の電流密度
を制御する方法。 - 【請求項4】 炉室(2)を備えたプラズマ熱処理炉
(1)と、前記炉室内に配置されたチャージ支持体
(7)と補助電極(9)と、かつ前記チャージ支持体
(7)と補助電極(9)に電圧源を介して同一の極性で
給電可能である熱処理装置において、 前記熱処理炉(1)内の全電流IG が電流測定装置(1
4)を介して測定可能であり、かつ前記電流測定装置
(14)と補助電極(9)との間に補助電極(9)を流
れる電流IHEを測定する電流測定装置(13)と、補助
電極(9)をオフにするスイッチ(12)が接続されて
いることを特徴とするプラズマ熱処理装置。 - 【請求項5】 前記全電流IG を測定する電流測定装置
(14)が電流制御器(15)と接続されていることを
特徴とする請求項4に記載のプラズマ熱処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19521548.6 | 1995-06-13 | ||
DE19521548A DE19521548A1 (de) | 1995-06-13 | 1995-06-13 | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der elektrischen Stromdichte über einem Werkstück bei der Wärmebehandlung im Plasma |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH093646A true JPH093646A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=7764305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8159203A Pending JPH093646A (ja) | 1995-06-13 | 1996-05-31 | プラズマ中において部材を熱処理する際の電流密度の制御方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5717186A (ja) |
EP (1) | EP0749147B1 (ja) |
JP (1) | JPH093646A (ja) |
AT (1) | ATE201282T1 (ja) |
DE (2) | DE19521548A1 (ja) |
ES (1) | ES2158969T3 (ja) |
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WO2009063909A1 (ja) | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Ntn Corporation | 鋼の熱処理方法、機械部品の製造方法および機械部品 |
WO2009069547A1 (ja) | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Ntn Corporation | 機械部品および転がり軸受 |
US8485730B2 (en) | 2008-03-27 | 2013-07-16 | Ntn Corporation | Rolling bearing |
US11437773B2 (en) | 2019-06-07 | 2022-09-06 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Wavelength conversion device |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100476136B1 (ko) * | 2002-12-02 | 2005-03-10 | 주식회사 셈테크놀러지 | 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 |
DE202006007937U1 (de) * | 2006-05-18 | 2007-09-20 | Strämke, Siegfried, Dr.-Ing. | Plasmabehandlungsanlage |
US8268094B2 (en) | 2007-05-09 | 2012-09-18 | Air Products And Chemicals, Inc. | Furnace atmosphere activation method and apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE284991A (ja) * | 1966-11-09 | |||
GB8404173D0 (en) * | 1984-02-17 | 1984-03-21 | Ti Group Services Ltd | Controlling current density |
WO1991010341A1 (en) * | 1990-01-04 | 1991-07-11 | Savas Stephen E | A low frequency inductive rf plasma reactor |
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JP2830958B2 (ja) * | 1991-03-28 | 1998-12-02 | 理化学研究所 | 電子ビーム励起イオン照射装置 |
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1995
- 1995-06-13 DE DE19521548A patent/DE19521548A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-04-18 DE DE59606894T patent/DE59606894D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-18 ES ES96106049T patent/ES2158969T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 AT AT96106049T patent/ATE201282T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-04-18 EP EP96106049A patent/EP0749147B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-31 JP JP8159203A patent/JPH093646A/ja active Pending
- 1996-06-13 US US08/664,990 patent/US5717186A/en not_active Expired - Fee Related
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WO2009069547A1 (ja) | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Ntn Corporation | 機械部品および転がり軸受 |
EP2397567A2 (en) | 2007-11-27 | 2011-12-21 | NTN Corporation | Machine component and rolling bearing |
US8337089B2 (en) | 2007-11-27 | 2012-12-25 | Ntn Corporation | Mechanical component and rolling bearing |
US8453528B2 (en) | 2007-11-27 | 2013-06-04 | Ntn Corporation | Mechanical component and rolling bearing |
US8485730B2 (en) | 2008-03-27 | 2013-07-16 | Ntn Corporation | Rolling bearing |
US11437773B2 (en) | 2019-06-07 | 2022-09-06 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Wavelength conversion device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE59606894D1 (de) | 2001-06-21 |
ES2158969T3 (es) | 2001-09-16 |
EP0749147A2 (de) | 1996-12-18 |
DE19521548A1 (de) | 1996-12-19 |
EP0749147A3 (de) | 1999-01-13 |
EP0749147B1 (de) | 2001-05-16 |
ATE201282T1 (de) | 2001-06-15 |
US5717186A (en) | 1998-02-10 |
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