JPH01195644A - イオンビーム電流の測定方法およびその制御装置 - Google Patents

イオンビーム電流の測定方法およびその制御装置

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JPH01195644A
JPH01195644A JP2052788A JP2052788A JPH01195644A JP H01195644 A JPH01195644 A JP H01195644A JP 2052788 A JP2052788 A JP 2052788A JP 2052788 A JP2052788 A JP 2052788A JP H01195644 A JPH01195644 A JP H01195644A
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JP
Japan
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current
ion beam
electric wire
beam current
ion
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Application number
JP2052788A
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English (en)
Inventor
Yuji Mukai
裕二 向井
Hiroyoshi Tanaka
博由 田中
Yoshiyuki Tsuda
善行 津田
Hideaki Yasui
秀明 安井
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はイオン源から引き出されるイオンビーム電流の
測定方法に係り、特にイオンビームを照射するターゲッ
トに流れる電流を測定することなくイオンビーム電流を
測定するイオンビーム電流の測定方法およびその制御装
置に関する。
従来の技術 イオン源をイオン注入等に利用する場合、照射している
イオンの量を正確に測定し、モニタする必要がある。
そこで、あらかじめイオン源の放電電力やイオンの引き
出し電圧等に対するイオンビーム量の変化をファラデー
カップ等で測定しておき、それと同一の条件でイオン源
を運転するか、またはイオンビームを照射しているター
ゲットに流れている電流、すなわちイオンビーム電流を
直接測定し、モニタする方法が採られている。
発明が解決しようとする課題 ところが、あらかじめイオンビーム量をファラデーカッ
プ等で測定しておいて、それと同一の条件でイオン源を
運転しても、イオン注入する物質等が放電室内やイオン
引き出し電極に付着し、しだいにイオンビーム量が変化
してしまうという課題があったっ また、ターゲットに流れる電流を測定しようとするとタ
ーゲット毎に電流測定用の端子を取り付けなければなら
ず、工程が複雑になってしまうという課題があった。更
に、イオンを注入する物質が絶縁物の場合は電流を計る
こともできないという課題があった。
本発明は上記課題に鑑み、簡易な構成でイオンビームの
量を正確に測定し、モニタできるイオンビーム電流の測
定方法およびその制御装置を提供することを目的とする
課題を解決するだめの手段 上記課題を解決するために、本発明では放電室内のプラ
ズマ、もしくは放電室から引き出されるイオンビームに
電位を与える電線上に流れる電流を測定しこの電流の収
支よりイオンビーム電流を算出する測定方法であり、特
に、プラズマを断続的なパルスで入力する高周波または
直流の電力で発生させ、かつ電位を与える電線上に流れ
る交流成分の実効値電流の収支によりイオンビーム電流
を算出するイオンビーム電流の測定方法である。
まだ、本発明のイオンビーム電流の制御装置は、前記電
線上に流れる電流を測定し、測定された電流の収支より
イオンビーム電流を測定しこの測定値により放電電力ま
たはイオン引き出し電圧を制御する構成となっている。
作用 本発明は、放電電力をパルスにすることによりプラズマ
および引き出されるイオンビームがパルスで生じる。そ
こで、プラズマまたはイオンに電位を与える電線上にも
パルスで電流が流れ、この電流の交流成分の実効値から
イオンビーム電流が正確に測定、モニタできるものであ
る。
実施例 本発明の第1の実施例を第1図を参照しながら説明する
第1図は第1の実施例における高周波電力であるマイク
ロ波を放電電力としたイオン源の断面図である。
図中、1は第2図の乙に図示されるような60H2の周
期の断続的なパルスで供給される周波数2.45 GH
zのマイクロ波であり、2はマイクロ波を伝搬する矩形
導波管で途中から内導体3と外導体4から成る同軸管5
に接続している。
マイクロ波1は矩形導波管2から同軸管5を通り放電室
6内に供給されてプラズマ7を発生する。
8と9はイオンビームを引き出すだめのスクリーン電極
と加速電極であり、プラズマ7に放電管6を通して直流
電源10により正の電圧を印加し、イオンに加速電圧を
与えるため加速電極9に直流電源11により負の電圧を
印加すると、正電荷を持ったイオンビーム12が引き出
される。
なお、13はマイクロ波の反射を調整するだめの可動短
絡板、14はセラミック製のマイクロ波窓、16はソレ
ノイドコイルである。
また一般に高出力のイオン源は放電中に放電室等が高温
に加熱されるだめ、冷却水による冷却が不可欠となる。
本実施例では放電管6の周囲を冷却水を通した水冷ジャ
ケット16を設け、更に内導体3内にも冷却水管17を
設けて矢印のように冷却水を流し、放電管6と内導体3
を水冷している0 18は放電管6に正電位を与える電線19上に流れる交
流成分の実効値電流を測定する電流計、20は加速電極
9に負電位を与える電線21上に流れる交流成分の実効
値電流を測定する電流計である。
イオン源全体はアースから構造上は絶縁されているが、
冷却ジャケット16および内導体3内を流れる冷却水に
よりアースに対して数十にΩ程度の導通があり、直流電
源1oに高電圧を印加すると冷却水を通して若干の直流
のリーク電流が流れてしまう。例えば、上記の冷却水の
抵抗を20にΩとしても直流電源1oに2KVを印加す
れば、電線19には100m人のリーク電流が流れる。
この状態で放電を開始すると電線19上には第2図すの
様に上記リーク電流の直流成分と60Hzのパルス放電
による断続的なパルス状の交流成分の電流が重畳して流
れる。
但し、第2図のb 、 dの電流はイオン源に入る電流
を下向き、イオン源から出て行く電流を上向きに表して
いる。
また、加速電極9に流れる電流、すなわち電線21に流
れる電流と、イオンビーム電流も第2図のc、dに示す
ようにeoHzの断続的なパルスで流れる。
そこで、電流の収支より電線19に流れる電流のうち、
冷却水を通って流れるリーク電流を差し引いた電流、す
なわちパルスで流れる交流成分の実効値電流が、電線2
1を流れるパルスの交流成分の実効値電流とパルスで引
き出されるイオンビーム電流の実効値の和になる。
従って、交流成分の実効値電流を測定する電流計18と
20の差が引き出されたイオンビーム電流値となる。
上記のように、マイクロ波の放電電力を断続的なパルス
で入力し、プラズマ7に電位を与える電線上に流れる交
流電流の実効値を測定する電流計18と、イオンビーム
に加速電位を与える電線21上に流れる交流電流の実効
値、および電流の収支よりイオンビーム電流を正確に求
めることができる。
本実施例では引き出し電極部にスクリーン電極と加速電
極から成る2枚電極構成について説明したが、しばしば
使用される3枚電極構成でもかまわないし、他の電極構
成でも良い。
但し、毎々の電極毎に交流の実効値を測定する電流計を
設ける必要がある。
丑だ本実施例ではマイクロ波を断続的なパルスで入力す
る周波数としてeoHzを用いたが、本発明はこの周波
数に限定されるものではない。
更に、引き出されるイオンビームの計を増やすために、
第2図のaのマイクロ波入力のオンの状態の時間を長く
した第3図のaのような断続的なパルス入力でも良い。
この場合イオンビーム電流も第3図のbのように増える
なお、本実施例では高周波電力の発生素子であるマグネ
トロンに60H2の半波整流した断続的なパルスの直流
電圧を印加することにより60H2のパルスのマイクロ
波電力を得ているが、他の方法によりパルスを発生させ
ても良い。
また、本発明はパルス放電と交流成分の実効値電流の測
定を必須とするものではなく、プラズマもしくはイオン
に電位を与える電線上に流れる電流の収支からイオンビ
ーム電流を算出するものであり、連続的な放電を行い上
記電線上に流れる電流の収支からイオンビーム電流を算
出しても良い。
但しこの場合は、冷却水等によるリーク電流の補正が必
要であることは言うまでもない。
以上のように制御装置26は、イオンビーム電流を測定
しモニタして、そのイオンビーム電流が一定になる様に
放電電力やイオンの引き出し電圧等を制御するものであ
る。
本発明の第2の実施例を第4図を参照にして説明する。
第4図は直流電力を放電電力としたカウフマン型のイオ
ン源の断面図である。
第4図において、第1図と同一のものには同一の番号を
付けている。
22は熱電子放熱用のフィラメントであり、23はフィ
ラメント22を加熱するための電源、24は放電電源で
あり直流の断続的なパルスで放電電力を発生する。
25は放電管6に正の電圧を印加している電線である。
この場合も前述のマイクロ波を用いたイオン源と同様に
交流成分の実効値電流計18と20の電流値、および電
流の収支よりイオンビーム電流を正確に求めることがで
きる。
なお、本実施例は、イオン注入用のイオン源にのみ限ら
れるものではなく、イオンビームスパッタやプラズマC
VD 、エツチング、成膜時のイオンミキシングやイオ
ンアシスト蒸着等、イオン源全てに適用できるものであ
る。
発明の効果 以上のように本発明によれば、イオンビームの問を正確
にモニタすることができ、壕だイオンを注入するターゲ
ットにイオン電流測定用の端子を取り付ける必要もなく
、更に、絶縁物のターゲットの場合にも照射しているイ
オンビームの量を正確に測定し、モニタすることができ
る効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例におけるイオンビーム電
流の測定方法を具現化する装置に用いられるマイクロ波
イオン源の断面図、第2図は断続的なマイクロ波入力と
電流を示す波形図、第3図はオン時間の長い場合のマイ
クロ波入力とイオンビーム電流を示す波形図、第4図は
本発明を用いた直流放電のイオン源の断面図である。 6・・・・・・放電管、9・・・・・・加速電極、10
.11・・・・・・直流電源、18.20・・・・・・
交流の実効値電流計、19・・・・・・プラズマに電圧
を印加する電線、21・・・・・・イオンに電圧を印加
する電源。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名6−
−−放電臂 ワー 加速を極 IQ、 //・−直;X’L、電源 印加オる電線 第2図 (b)  を凍18に協〕にる電漁 第3図 相 (α) 工z71グI]シ只ξ〜νε力(b)  4オ
ンビーム畝流

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)放電室内のプラズマ、もしくは前記放電室から引
    き出されるイオンに電位を与える電線上に流れる電流を
    測定し、測定された電流の収支よりイオンビーム電流を
    算出するイオンビーム電流の測定方法。
  2. (2)放電室内のプラズマを断続的なパルスで入力する
    高周波または直流の電力で発生させ、かつ電線上に流れ
    る交流成分の実効値電流を測定する特許請求の範囲第1
    項記載のイオンビーム電流の測定方法。
  3. (3)放電室内のプラズマ、もしくは前記放電室から引
    き出されるイオンに電位を与える電線を設け、前記電線
    上に流れる電流を測定し、測定された電流の収支よりイ
    オンビーム電流を測定しこの測定値により放電電力また
    はイオン引き出し電圧を制御するイオンビーム電流の制
    御装置。
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