JPH0936077A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ランプ制御用の照度計の紫外線損傷を軽減す
る。 【解決手段】 照度計測時は紫外線照度計１５を基板ボ
ックス１内の紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めし、照度
計測を行わないときは、照度計昇降機構２１によって紫
外線照度計１５を紫外線到達領域ＵＲの外側に退避させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造装置
や液晶表示器製造装置などにおいて、半導体ウエハ，液
晶用基板や各種ワークなどの被処理物（以下、「基板」
と総称する）に対し紫外線を照射することにより、オゾ
ン等を発生させて基板表面上の有機物を分解させたり、
基板表面を親水化させて後段の洗浄工程における水洗効
果を高めたり、あるいは光アッシング、光ＣＶＤ等の各
種処理を施すために使用される基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板の表面に紫外線を照射してオゾンを
発生させることにより、基板表面上の有機物を分解させ
たり、基板表面を親水化させて後段の洗浄工程における
水洗効果を高めたりするために使用される基板処理装置
は、種々の型式のものが知られており、液晶表示器製造
装置のフォトリソ工程などにおいて用いられている。こ
の種の基板処理装置は、図７または図８の如く、具体的
には、基板３１を支持するステージ３２の上方位置に低
圧水銀ランプ３３を配設しており、ステージ３２に搭載
された基板３１の表面に低圧水銀ランプ３３からの紫外
線を、装置のタクトタイムに等しい所定時間だけ照射す
ることにより、適量の紫外線エネルギーを基板に与える
ように構成されている。

【０００３】ここで、紫外線による基板処理を良好に行
うためには、紫外線の照度と照射時間によって決まる基
板３１への紫外線照射量を高い精度で制御する必要があ
る。そこで、従来、基板３１に対する紫外線の照度を安
定させる目的で、紫外線照射領域内の所定位置に紫外線
照度計３４を固定配置し、ここでの測定結果を低圧水銀
ランプ３３の照度検出部３５に送信して、制御部３６に
フィードバックして、低圧水銀ランプ３３の照度を一定
に調整していた。なお、図７は紫外線照度計３４を基板
３１の近傍に配置した例、図８は紫外線照度計３４を低
圧水銀ランプ３３の近傍に配置した例であって、図７お
よび図８中の符号３７はランプ電源調整部、符号３８は
ランプ電源、符号３９は電源中継ボックスを夫々示して
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の基板
処理装置では、紫外線照度計３４には常に紫外線が照射
されるように構成されていた。このため、紫外線照度計
３４を構成する結晶内の原子が玉突状に押されて結晶格
子内で局部的に空孔状の欠陥が生じる。すなわち、いわ
ゆる紫外線損傷といった現象が発生する。そうすると、
紫外線照度計３４の劣化が比較的速く進行する。ここ
で、低圧水銀ランプ３３の劣化に比較して紫外線照度計
３４の劣化が相対的に速く進行してしまうと、紫外線照
度計３４によって低圧水銀ランプ３３の劣化を検知する
ことは不可能となってしまう。

【０００５】この発明は、上記の問題を解決するために
なされたものであり、紫外線照度計の劣化を顕著に抑制
し得る基板処理装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、紫外線エネルギーを基板に照射して与える基板処理
装置であって、基板を支持する支持手段と、前記支持手
段に支持された基板に対向して配置され、当該基板に向
けて紫外線を照射する紫外線ランプと、紫外線ランプの
照度を測定する紫外線照度計と、前記紫外線照度計を移
動させることにより前記紫外線照度計の前記紫外線ラン
プに対する距離を変化させる駆動手段と、前記駆動手段
を制御し、前記紫外線ランプからの紫外線が実質的に到
達する紫外線到達領域内へ前記紫外線照度計を位置決め
し、且つ、基板への紫外線照射時間より少なく設定され
た紫外線照度測定時間の経過後、前記駆動手段を駆動さ
せて前記紫外線照度計を前記紫外線到達領域の外に退避
させる制御手段と、を備える。

【０００７】ここで、請求項１では、紫外線ランプから
出射された紫外線が到達する範囲（紫外線到達領域）
が、基板周囲の雰囲気に応じて変化し、紫外線の波長と
雰囲気を適切に組合せることで紫外線到達領域を例えば
数ｍｍないし数百ｍｍに設定可能であることから、紫外
線照度測定時のみ、紫外線が実質的に到達する紫外線到
達領域内に紫外線照度計を位置決めし、紫外線照度測定
の終了後は紫外線到達領域から紫外線照度計を退避させ
る。これにより、紫外線照度計の紫外線損傷を軽減でき
る。

【０００８】請求項２に記載の発明は、前記駆動手段は
前記紫外線照度計を空気雰囲気において紫外線到達領域
の外へ駆動するものであり、しかも前記紫外線ランプか
ら出射される紫外線の波長が１６０ｎｍないし１９５ｎ
ｍの紫外線を出射する紫外線ランプを用いている。

【０００９】請求項２では、紫外線照度計は空気雰囲気
において紫外線到達領域の外へ待避する。この空気雰囲
気では、波長１６０ｎｍの紫外線の到達距離はほぼゼロ
となり、紫外線到達領域が実質上存在しなくなる。そし
て、波長が１６０ｎｍよりも長くなるにしたがって到達
距離は伸びて紫外線到達領域が存在する。しかしなが
ら、波長１９５ｎｍ以上では、紫外線の到達距離はほぼ
無限大となるため、紫外線照度計を紫外線ランプから離
隔しても紫外線到達領域の外に退避させることができな
い。このことを考慮し、空気雰囲気では、波長１６０ｎ
ｍないし１９５ｎｍの紫外線ランプを用いれば、紫外線
到達領域を所定の範囲に限定して設定することができ、
紫外線照度計の紫外線到達領域への出し入れを有効に行
うことができる。

【００１０】請求項３に記載の発明は、前記紫外線ラン
プとして誘電体バリア放電ランプを用いている。この誘
電体バリア放電ランプから出射される紫外線の中心波長
はその放電ガスの種類によって設定できる。例えば放電
ガスとしてキセノンを用いると、中心波長は１７２ｎｍ
であり、空気雰囲気での到達距離は約１０ｍｍであり、
この紫外線到達領域の内外に基板が位置決めされて基板
への紫外線の照射および非照射が制御される。

【００１１】

【発明の実施の形態】

｛構成｝図１はこの発明にかかる紫外線照射装置として
の基板処理装置の一の実施の形態を示す断面図であり、
図２はこの実施の形態の平面図である。この基板処理装
置は、図１に示すように、基板ボックス１内には、ステ
ージ部２が昇降自在に設けられている。このステージ部
２は、ステージ２ａと、このステージ２ａの上面から上
方向に突設された複数の支持ピン２ｂとで構成されてお
り、複数の支持ピン２ｂにより基板３を支持している。
このように、この実施の形態では、ステージ部２が支持
手段として機能する。

【００１２】また、この基板ボックス１の側面部には、
図２の如く、基板３を出し入れするための開口１９が形
成され、図示しないシャッタにより基板の搬入・搬出の
タイミングに応じて開閉される。また、基板ボックス１
の上面部には、支持ピン２ｂにより支持される基板３よ
りも大きなサイズの開口４が設けられている。

【００１３】そして、図１の如く、この開口４とほぼ同
一サイズの開口５を底面部に有するランプボックス６
が、両開口４，５が対向するようにして、基板ボックス
１の上に配置されている。また、この開口５を塞ぐよう
に、ランプボックス６内に石英板７が配置され、ランプ
ボックス６側でランプ空間ＳＰLが形成されるととも
に、基板ボックス１側で基板処理空間ＳＰTが形成され
る。さらに、この石英板７の上方位置に８本の誘電体バ
リア放電ランプ９が一列に整列配置されている。したが
って、ランプ電源１０から電力が送電されると、電源中
継ボックス１１を介して誘電体バリア放電ランプ９に与
えられて誘電体バリア放電ランプ９が点灯する。この誘
電体バリア放電ランプ９はエキシマ発光を利用して紫外
線を出射するもので、ここでは放電ガスとしてキセノン
を用いた誘電体バリア放電ランプ９を使用する。これに
より、誘電体バリア放電ランプ９からの中心波長１７２
ｎｍの紫外線が石英板７を介して支持ピン２ｂに支持さ
れた基板３側に向けて出射される。

【００１４】このランプボックス６内には、ランプボッ
クス６の上面と誘電体バリア放電ランプ９との間に反射
板１２が配置されており、誘電体バリア放電ランプ９か
ら紫外線を効率良く基板３側に導く。また、図１に示す
ように、ランプボックス６の左側部には窒素ガスの導入
口１３が設けられており、図示を省略する窒素ガス供給
部からの窒素ガスをランプボックス６と石英板７とで形
成されるランプ空間ＳＰLに導入可能となっている。一
方、ランプボックス６の右側部には窒素ガスの排気口１
４が設けられており、この排気口１４と連結された排気
システムや排気ポンプなどの排気手段（図示省略）によ
りランプ空間ＳＰLから外部に排気されるように構成さ
れている。したがって、ランプ空間ＳＰL内では、誘電
体バリア放電ランプ９から出射される紫外線の吸収減衰
の主原因となる酸素が排除されるとともに、当該紫外線
を減衰させない窒素ガスが充満され、その結果、誘電体
バリア放電ランプ９からの紫外線を効率良く基板３側に
出射することができる。なお、この実施の形態ではラン
プ空間ＳＰLを形成するために、石英板７を用いている
が、紫外線を透過する板材であれば他の素材、例えばフ
ッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、およびフッ化リ
チウム等の板材でもよく、石英板に限定されるものでは
ない。ただし、紫外線の減衰ができる限り少ないものが
望ましい。

【００１５】一方、基板ボックス１側では、上記のよう
に基板ボックス１と石英板７とで基板処理空間ＳＰTが
形成されており、空気雰囲気で誘電体バリア放電ランプ
９からの紫外線が基板３に向けて照射されて所定の基板
処理を行うことができるようになっている。この基板処
理空間ＳＰTには、排気システムや排気ポンプなどの排
気手段（図示省略）が接続されており、基板処理空間Ｓ
ＰTで発生するオゾンや基板処理に生じたガスなどを排
出可能となっている。

【００１６】また、この基板処理空間ＳＰT内には、図
２に示すように、石英板７を介して基板３側に照射され
る紫外線を受光し、基板３への紫外線照度を測定するた
めの紫外線照度計１５が設けられている。この紫外線照
度計１５は、図１の如く、照度検出部１６と電気的に接
続され、紫外線照度計１５により測定された照度が照度
検出部１６に与えられる。

【００１７】この照度検出部１６では、紫外線照度計１
５から与えられた照度の変化に基づき誘電体バリア放電
ランプ９の点灯・消灯タイミング（誘電体バリア放電ラ
ンプ９の点灯開始からの照射時間ｔ1等）を求める。こ
の照度検出部１６は装置全体を制御する制御部（ＣＰ
Ｕ）１７と電気的に接続されており、上記のようにして
求められた点灯・消灯タイミングに関する信号が制御部
１７に与えられる。そして、この信号を受けて、制御部
１７は、誘電体バリア放電ランプ９の点灯・消灯を切り
替える切替手段として機能するランプ電源調整部１８を
介してランプ電源１０から誘電体バリア放電ランプ９へ
の電力供給を制御し、誘電体バリア放電ランプ９のＯＮ
・ＯＦＦを制御する。

【００１８】そして、紫外線照度計１５は、図１の如
く、駆動手段としての紫外線照度計昇降機構２１が連結
されており、照度計測定タイミング制御装置２２からの
指令に応じて基板処理空間ＳＰT内で昇降方向（上下方
向）に位置決めされる。なお、紫外線照度計１５の昇降
動作は、後述する紫外線到達領域ＵＲへの出入りを目的
とするものであって、制御部１７による照度計昇降部２
２の制御に基づいて行われる。紫外線照度計１５の昇降
タイミングについては、後で詳述する。

【００１９】｛動作｝次に、上記のように構成された基
板処理装置の動作について図３を参照しながら説明す
る。

【００２０】まず、装置の起動時に、制御部１７からの
指令に応じてランプ電源１０から誘電体バリア放電ラン
プ９に電力が供給されて誘電体バリア放電ランプ９が点
灯する。

【００２１】ここで、紫外線ランプとして放電ガスにキ
セノンを使った誘電体バリア放電ランプ９を用いている
ので、誘電体バリア放電ランプ９から出射される紫外線
の中心波長は１７２ｎｍであり、しかも基板３の周辺の
雰囲気は空気であるため、誘電体バリア放電ランプ９か
らの紫外線が実質的に到達する紫外線到達領域ＵＲは、
図３に示すように、石英板７から下方向に長さＤの範囲
に限られる。その理由について図４を参照しながら説明
する。

【００２２】図４は、塵埃等を含まない清浄な空気雰囲
気での、波長に対する紫外線の到達距離を示すグラフの
一例である。同図からわかるように、空気雰囲気では、
波長１６０ｎｍの紫外線の到達距離はゼロとなり（Ｄ＝
０）、紫外線到達領域が実質上存在しなくなる。そし
て、波長が１６０ｎｍよりも長くなるにしたがって到達
距離は伸びて紫外線到達領域が存在する（Ｄ＞０）。さ
らに、波長が長くなり、波長１９５ｎｍとなると、紫外
線の到達距離はほぼ無限大となる。ここで、この実施の
形態の誘電体バリア放電ランプ９から出射される紫外線
についてみると、その中心波長は１７２ｎｍであるた
め、紫外線到達距離は１０ｍｍ程度、つまりＤ＝１０ｍ
ｍとなる。したがって、この実施の形態では、石英板７
から下方向に紫外線到達距離Ｄ＝１０ｍｍの紫外線到達
領域ＵＲ（図３の点線領域）が形成されている。

【００２３】図３に戻って基板処理装置の動作の説明を
続ける。この実施の形態では、基板処理開始時点で、紫
外線照度計１５を紫外線到達領域ＵＲの下端より下側に
配置しておく。この状態で、処理すべき基板３を開口１
９（図２）を介して基板処理空間ＳＰT内に搬入し、ス
テージ部２の支持ピン２ｂ上に載置して位置決めする
（図３）。これとほぼ同時に、制御部１７からの処理開
始指令に応じて、照度計測定タイミング制御装置２２に
よって紫外線照度計昇降機構２１を駆動し、紫外線照度
計１５を上昇させて紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めす
る。

【００２４】この状態で、誘電体バリア放電ランプ９か
らの紫外線が基板３に照射されて基板処理が実行され
る。一定時間（照度測定時間ｔx）が経過した時点で、
照度検出部１６は、紫外線照度計１５から与えられた照
度に応じて、所定量の紫外線を基板３に照射するため
の、誘電体バリア放電ランプ９の消灯のタイミングを算
出し、その結果を制御部１７に与える。もしその照度が
変化していた場合には、その照度の変化に基づき誘電体
バリア放電ランプ９の消灯タイミングを求め、求められ
た消灯タイミングに関する信号を制御部１７に与える。
なお、照度計１５での測定は１回だけでも差し支えない
が、測定精度を向上するため、複数回の測定を行ってそ
の平均値を求めても良い。この場合、紫外線照度計１５
の照度測定時間ｔxは、当該複数回の測定に必要な時間
である。

【００２５】これと同時に、制御部１７から照度計測定
タイミング制御装置２２に指令が与えられ、これに応じ
て照度計測定タイミング制御装置２２が紫外線照度計昇
降機構２１を駆動し、紫外線照度計１５を降下させて紫
外線到達領域ＵＲの下端より下側に退避させる。これに
より、紫外線照度計１５に紫外線が届かなくなり、故に
紫外線照度計１５の紫外線損傷による劣化を軽減でき
る。なお、紫外線照度計１５を紫外線到達領域ＵＲから
退避させるタイミングは、紫外線照度計１５による測定
が安定するのに適切なタイミングとして、予め制御部１
７のメモリ（図示省略）に記憶しておく。

【００２６】そして、誘電体バリア放電ランプ９の点灯
開始から、照度検出部１６によって求められた照射時間
ｔ1（ただしｔ1＞＞ｔx）が経過して基板３に必要量の
紫外線エネルギーが与えられた時点で、先に照度検出部
１６によって求められた点灯タイミングに基づいて、制
御部１７は、ランプ電源調整部１８を介してランプ電源
１０からの誘電体バリア放電ランプ９への電力供給を停
止し、誘電体バリア放電ランプ９を消灯する。しかる
後、開口１９（図２）のシャッタを開き、開口１９を介
して基板３を装置外部に搬出する。そして、次に処理す
べき基板３を搬入する前には、再び誘電体バリア放電ラ
ンプ９を点灯させるのである。

【００２７】以上のように、この実施の形態によれば、
照度測定に必要な時間だけ紫外線照度計１５を上昇させ
て紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めし、予め設定した適
当な時間が経過すると、紫外線照度計１５を降下させて
紫外線到達領域ＵＲから退避させているので、紫外線照
度計１５に対して与える紫外線エネルギーを抑制でき
る。紫外線照度計１５としてフォトダイオード等の一般
的素子を用いた場合、照度測定時間ｔxは長くても１秒
以下であり、他方、基板３への紫外線照射時間ｔ1は一
般に数秒〜数分であり、紫外線照度計１５が紫外線にさ
らされる時間ｔxは時間ｔ1と比べてきわめて短いもので
すむ。したがって、紫外線照度計１５の紫外線損傷によ
る劣化を顕著に軽減でき、その耐用時間を延長させるこ
とができる。

【００２８】なお、図３（ｂ）に示す状態では紫外線照
度計１５の外殻上面は基板３の上面よりも上方にある
が、このとき紫外線照度計１５の受光面は基板３の上面
と同じ高さにあるよう構成されており、基板３表面での
照度を正確に検出できるようになっている。

【００２９】｛変形例｝ （１） 上記実施の形態では、処理すべき基板３の搬入
とほぼ同時に紫外線照度計１５を紫外線到達領域ＵＲ内
に位置決めしていたが、これに限るものではなく、誘電
体バリア放電ランプ９が点灯してから消灯するまでの間
の途中段階であれば、いつでもよい。この場合、誘電体
バリア放電ランプ９の照射時間ｔ1は、照度計１５の測
定完了時点で既にある程度経過してしまっているので、
かかる経過時間を考慮しながら、継続して照射すべき残
りの適正照射時間を求めればよい。

【００３０】（２） 上記実施の形態では、紫外線照度
計１５による照度測定を行わないときは照度計昇降機構
２１によって紫外線照度計１５を紫外線到達領域ＵＲの
下側に待避させていたが、図５の破線で示すように、紫
外線到達領域ＵＲの上側に退避させてもよく、またある
いは側方に退避させてもよい。要するに、照度測定を行
うときには紫外線照度計１５が紫外線到達領域ＵＲ内へ
入り、行わないときには外へ退避するものであればよ
い。図５においては、紫外線照度計昇降機構２１は、照
度測定を行うときには紫外線照度計１５を窒素ガスが充
満したランプ空間ＳＰL内へ入れ、退避時においては紫
外線照度計１５をランプボックス６の上面に形成した開
口６Ａからランプ空間ＳＰL外の空気雰囲気であって紫
外線が到達しない位置へ駆動するものである。窒素ガス
は波長１７２ｎｍの紫外線を減衰させないので、紫外線
照度計１５はかかるランプ空間ＳＰL内の紫外線到達領
域ＵＲ内で紫外線の照度を正確に測定でき、また、退避
時においては、紫外線照度計１５は空気雰囲気にあり、
かかる空気雰囲気で紫外線が減衰されることで紫外線が
到達しなくなる領域へ退避できる。

【００３１】（３） 上記実施の形態では、被処理物で
ある基板３を１枚処理する毎に紫外線照度計１５による
照度測定を行っているが、誘電体バリア放電ランプ９の
経時的変化による照度の低下は比較的長時間の間にゆっ
くりと起こるものであるので、例えば５０枚の基板の組
からなる１ロットの処理の最初だけに測定を行って紫外
線照射時間ｔ1を設定し、そのロットの処理の間は照度
変化はないものとしてそのロットの全てを同じ条件で処
理をしてもよく、あるいは１日に１回のみ照度測定を行
うといったものでもよい。また、かかる照度測定は、誘
電体バリア放電ランプ９が点灯している状態であれば必
ずしも基板処理空間ＳＰTに基板３が存する時に限ら
ず、例えば基板３の搬入前に行ってもよい。なお、上記
実施の形態のように基板３を１枚処理する毎に、すなわ
ち比較的短い周期で紫外線照度計１５による照度測定を
行ってその度に紫外線照射時間ｔ1を設定する構成であ
れば、例えば午前と午後における電源電圧の変動など比
較的短時間の間に起こる照度変化に対しても、基板への
照射光量を一定に保つことができるという効果がある。

【００３２】（４） 上記実施の形態では、ステージ部
２を基板ボックス１内の所定位置に固定し、１枚の基板
ごとに誘電体バリア放電ランプ９の点灯・消灯をランプ
電源１０によって切り換えていたが、図示しないステー
ジ昇降機構によりステージ２ａを昇降駆動するよう構成
してもよい。この場合、所定量の紫外線エネルギーが基
板３に与えられた時点、すなわち、基板処理開始時点か
ら前述の照射時間ｔ1が経過した時点で、ステージ昇降
機構によってステージ２ａを降下させて基板３を紫外線
到達領域外乱に待避させれば、紫外線ランプを消灯させ
ることなく、適量の紫外線エネルギーを基板に与えるこ
とができる。

【００３３】（５） 上記実施の形態では、紫外線照度
計１５を上昇させて紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めす
る前に誘電体バリア放電ランプ９を点灯しているが、誘
電体バリア放電ランプ９は通電後短時間（１秒以下）に
安定化するので、紫外線照度計１５の紫外線到達領域Ｕ
Ｒ内への位置決め後に誘電体バリア放電ランプ９を点灯
させるようにしてもよい。

【００３４】（６） 上記実施の形態では、基板を空気
雰囲気に置き、紫外線ランプとして中心波長１７２ｎｍ
の誘電体バリア放電ランプ９を用いているが、これ以外
の紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプを用いてもよ
い。中心波長が１６０ｎｍないし１９５ｎｍの紫外線を
発する紫外線ランプの例としては、誘電体バリア放電ラ
ンプであれば、上述したものの他、放電ガスとしてＡｒ
Ｂｒ，ＡｒＣｌ，ＡｒＦを用いたもの等があげられる。
これらはそれぞれ、中心波長が１６５ｎｍ，１７５ｎ
ｍ，１９３ｎｍの紫外線を発するものであり、基板処理
空間ＳＰTを空気雰囲気として、基板の処理と紫外線照
度計１５による照度測定とを空気雰囲気において行う場
合に適している。また、基板処理空間ＳＰTを空気以外
の雰囲気にして処理する場合においては、波長と紫外線
到達距離との関係が雰囲気の種類によって大きく異な
り、各種雰囲気中におけるこの関係を図６に示す。窒素
ガス（Ｎ2）や水素ガス（Ｈ2）雰囲気では、１００ｎｍ
以下の波長で上記実施の形態（空気雰囲気）と同様の減
衰が始まる。また、オゾン（Ｏ3）雰囲気では２００ｎ
ｍないし３００ｎｍで同様の減衰が始まる。さらに、ヘ
リウム（Ｈｅ）雰囲気、ネオン（Ｎｅ）雰囲気およびア
ルゴン（Ａｒ）雰囲気では、それぞれ５８．４ｎｍ以
下、７４．３ｎｍ以下および１０６．６ｎｍ以下で同様
の減衰が始まる。したがって、雰囲気と紫外線の波長と
を総合的に判断して紫外線ランプを選択する必要があ
る。

【００３５】（７） さらにまた、上記実施の形態で
は、８本の誘電体バリア放電ランプ９により基板に紫外
線を照射するようにしているが、誘電体バリア放電ラン
プ９の本数は任意であり、１本あるいは複数であっても
よい。

【００３６】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、紫外
線ランプから出射された紫外線が到達する範囲（紫外線
到達領域）が、基板周囲の雰囲気に応じて変化し、紫外
線の波長と雰囲気を適切に組合せることで紫外線到達領
域を数ｍｍないし数百ｍｍに設定可能であることを利用
し、紫外線照度測定時のみ、紫外線が実質的に到達する
紫外線到達領域内に紫外線照度計を位置決めし、紫外線
照度測定の終了後は紫外線到達領域から紫外線照度計を
退避させるので、紫外線照度計の紫外線損傷を軽減でき
る。したがって、紫外線ランプの劣化より紫外線照度計
の劣化を遅くすることができ、紫外線照度計によって紫
外線ランプの劣化を有効に検知できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる基板処理装置の一の実施の形
態を示す断面図である。

【図２】図１の基板処理装置を示す平面図である。

【図３】図１の基板処理装置の動作を示す断面図であ
る。

【図４】空気雰囲気での波長に対する紫外線の到達距離
を示すグラフである。

【図５】この発明にかかる基板処理装置の変形例を示す
断面図である。

【図６】種々の雰囲気での波長に対する紫外線の到達距
離を示すグラフである。

【図７】従来の基板処理装置の一例を示す断面図であ
る。

【図８】従来の基板処理装置の他の例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板 ２ ステージ部（支持手段） ２ａ ステージ ２ｂ 支持ピン ３ 基板 ９ 誘電体バリア放電ランプ １０ ランプ電源 １５ 紫外線照度計 １６ 照度検出部 １７ 制御部 １８ ランプ電源調整部 ２０ ランプ調整部 ２１ 紫外線照度計昇降機構 ２２ 照度計測定タイミング制御装置 ＵＲ 紫外線到達領域

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 紫外線エネルギーを基板に照射して与え
   る基板処理装置であって、 基板を支持する支持手段と、 前記支持手段に支持された基板に対向して配置され、当
   該基板に向けて紫外線を照射する紫外線ランプと、 紫外線ランプの照度を測定する紫外線照度計と、 前記紫外線照度計を移動させることにより前記紫外線照
   度計の前記紫外線ランプに対する距離を変化させる駆動
   手段と、 前記駆動手段を制御し、前記紫外線ランプからの紫外線
   が実質的に到達する紫外線到達領域内へ前記紫外線照度
   計を位置決めし、且つ、基板への紫外線照射時間より少
   なく設定された紫外線照度測定時間の経過後、前記駆動
   手段を駆動させて前記紫外線照度計を前記紫外線到達領
   域の外に退避させる制御手段と、を備えることを特徴と
   する基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置であっ
   て、前記駆動手段は前記紫外線照度計を空気雰囲気にお
   いて紫外線到達領域の外へ駆動するものであり、しかも
   前記紫外線ランプから出射される紫外線の波長が１６０
   ｎｍないし１９５ｎｍであることを特徴とする、基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の基板処理装置であっ
   て、前記紫外線ランプが誘電体バリア放電ランプである
   ことを特徴とする基板処理装置。