JPH0933959A - 位相制御膜構造体 - Google Patents
位相制御膜構造体Info
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- JPH0933959A JPH0933959A JP7178566A JP17856695A JPH0933959A JP H0933959 A JPH0933959 A JP H0933959A JP 7178566 A JP7178566 A JP 7178566A JP 17856695 A JP17856695 A JP 17856695A JP H0933959 A JPH0933959 A JP H0933959A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 変調コントラスト顕微鏡等に用いられる位相
制御膜構造体において、それを構成する金属膜，誘電体
膜の好適な組み合わせを選択することにより、前記各膜
に対する可視光の屈折率，分散を最適化し、通過する可
視光の位相差が０又は０の近傍になるようにした位相制
御膜構造体を提供する。 【解決手段】 本発明による位相制御膜構造体３は金属
膜と誘電体膜とを相互に積層して構成され、２枚のガラ
ス基板１によって媒質２を挟むようにして構成された位
相板（若しくは変調板）に備えられて用いられる。
制御膜構造体において、それを構成する金属膜，誘電体
膜の好適な組み合わせを選択することにより、前記各膜
に対する可視光の屈折率，分散を最適化し、通過する可
視光の位相差が０又は０の近傍になるようにした位相制
御膜構造体を提供する。 【解決手段】 本発明による位相制御膜構造体３は金属
膜と誘電体膜とを相互に積層して構成され、２枚のガラ
ス基板１によって媒質２を挟むようにして構成された位
相板（若しくは変調板）に備えられて用いられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、変調コントラスト顕微
鏡及び瞳変調の変調膜等に利用される位相制御膜構造体
に関する。
鏡及び瞳変調の変調膜等に利用される位相制御膜構造体
に関する。
【０００２】
【従来の技術】可視光の透過率，反射率及び位相差を夫
々制御する位相制御膜には様々なものがある。例えば、
特開昭５６−８１０７号公報に開示されているように、
金属膜と高屈折率及び低屈折率の２種類の誘導体とを組
み合わせた膜により、主波長の透過率，反射率を夫々制
御し、主波長（λ）の位相差を±λ／４以内にしたもの
がある。又、金属膜と誘電体膜とを交互に組み合わせて
用いることにより可視光の反射率を制御し、更に前記金
属の選択或いは２種類以上の金属を組み合わせて用いる
ことによって全可視領域に亘って光の透過率を制御し、
全可視領域に亘る光の位相差を±λ／４以内或いは０と
した、特開平６−２８９４３８号公報に開示されている
ようなものもある。
々制御する位相制御膜には様々なものがある。例えば、
特開昭５６−８１０７号公報に開示されているように、
金属膜と高屈折率及び低屈折率の２種類の誘導体とを組
み合わせた膜により、主波長の透過率，反射率を夫々制
御し、主波長（λ）の位相差を±λ／４以内にしたもの
がある。又、金属膜と誘電体膜とを交互に組み合わせて
用いることにより可視光の反射率を制御し、更に前記金
属の選択或いは２種類以上の金属を組み合わせて用いる
ことによって全可視領域に亘って光の透過率を制御し、
全可視領域に亘る光の位相差を±λ／４以内或いは０と
した、特開平６−２８９４３８号公報に開示されている
ようなものもある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般的な位相板，変調
板は、図１に示すように、２枚のガラス基板１で媒質
（接合剤）２を挟むようにして構成されている。そし
て、このような位相板，変調板は、位相膜構造体３を通
過する光Ｘと媒質２を通過する光Ｙとの位相差を制御し
得るようになっている。このとき、位相板，変調板を通
過する光の位相θは、 θ＝２πｎｄ／λ ・・・・（１） （但し、ｎは位相板，変調板に対する光の屈折率、ｄは
位相板，変調板の厚さ、λは光の波長を示している）と
表される。よって、光Ｘと光Ｙとの位相差Δθは、 Δθ＝θｎ0 −θｎ1 ＝２（ｎ0 −ｎ1 ）πｄ／λ ・・・・（２） （但し、θｎ0 は媒質を通過する光の位相、θｎ1 は位
相制御膜構造体を通過する光の位相、ｎ0 は媒質に対す
る光の屈折率、ｎ1 は位相制御膜構造体に対する光の屈
折率を示している）と表される。
板は、図１に示すように、２枚のガラス基板１で媒質
（接合剤）２を挟むようにして構成されている。そし
て、このような位相板，変調板は、位相膜構造体３を通
過する光Ｘと媒質２を通過する光Ｙとの位相差を制御し
得るようになっている。このとき、位相板，変調板を通
過する光の位相θは、 θ＝２πｎｄ／λ ・・・・（１） （但し、ｎは位相板，変調板に対する光の屈折率、ｄは
位相板，変調板の厚さ、λは光の波長を示している）と
表される。よって、光Ｘと光Ｙとの位相差Δθは、 Δθ＝θｎ0 −θｎ1 ＝２（ｎ0 −ｎ1 ）πｄ／λ ・・・・（２） （但し、θｎ0 は媒質を通過する光の位相、θｎ1 は位
相制御膜構造体を通過する光の位相、ｎ0 は媒質に対す
る光の屈折率、ｎ1 は位相制御膜構造体に対する光の屈
折率を示している）と表される。
【０００４】実際に位相膜を顕微鏡に用いる場合、位相
差顕微鏡では、標本で回折される光の中の０次光の位相
を位相板でλ／４ずらして、回折光と干渉させ、透明な
標本にコントラストを付与して可視化している。このた
め、位相差制御膜構造体を通過する光と媒質を通過する
光との位相差がλ／４となるように設定するのが最適で
ある。又、変調コントラスト顕微鏡では、０次光と回折
光との振幅を変調板で変化させることにより、透明な標
本にコントラストを付与して可視化している。このた
め、位相制御膜構造体を通過する光と媒質を通過する光
との位相差が０となるように設定するのがよい。尚、こ
こに示した位相板とは、通過する光の位相に変化を与え
るためのものであり、変調板とは、通過する光の強度を
変化させるためのものである。
差顕微鏡では、標本で回折される光の中の０次光の位相
を位相板でλ／４ずらして、回折光と干渉させ、透明な
標本にコントラストを付与して可視化している。このた
め、位相差制御膜構造体を通過する光と媒質を通過する
光との位相差がλ／４となるように設定するのが最適で
ある。又、変調コントラスト顕微鏡では、０次光と回折
光との振幅を変調板で変化させることにより、透明な標
本にコントラストを付与して可視化している。このた
め、位相制御膜構造体を通過する光と媒質を通過する光
との位相差が０となるように設定するのがよい。尚、こ
こに示した位相板とは、通過する光の位相に変化を与え
るためのものであり、変調板とは、通過する光の強度を
変化させるためのものである。
【０００５】上記特開昭５６−８１０７号公報には、任
意の金属膜と誘電体膜との組み合わせにおいて、主波長
の透過率，反射率，位相を制御することによって、位相
差Δθをλ／４の値に設定している例が記載されてい
る。これは、上記式（２）を用いることによって、容易
に前記膜を通過する光の屈折率と吸収係数の最適化が可
能になるものである。しかし、かかる公報に開示されて
いる構成では、全可視領域に亘る光の位相差量が最適化
されていないため、実際に位相差顕微鏡用の位相板とし
て用いた場合に、像に干渉色がかかり、良好な像を得る
ことができない。そこで、光の位相差を全可視領域に亘
って等しくすることによって、像の干渉色による色づき
を除去する方法が考えられた。以下、光の波長毎の位相
を一定にするための一般的な方法を説明する。
意の金属膜と誘電体膜との組み合わせにおいて、主波長
の透過率，反射率，位相を制御することによって、位相
差Δθをλ／４の値に設定している例が記載されてい
る。これは、上記式（２）を用いることによって、容易
に前記膜を通過する光の屈折率と吸収係数の最適化が可
能になるものである。しかし、かかる公報に開示されて
いる構成では、全可視領域に亘る光の位相差量が最適化
されていないため、実際に位相差顕微鏡用の位相板とし
て用いた場合に、像に干渉色がかかり、良好な像を得る
ことができない。そこで、光の位相差を全可視領域に亘
って等しくすることによって、像の干渉色による色づき
を除去する方法が考えられた。以下、光の波長毎の位相
を一定にするための一般的な方法を説明する。
【０００６】位相制御膜構造体に対する光の屈折率を全
可視領域において最適な値に設定するためには、位相差
の波長分散が次式に示される条件を満足することが必要
になる。 （ｎ0 （λ）−ｎ1 （λ））／λ＝一定 ・・・・（３） 尚、このときのλは可視領域の光の波長を示している。
又、この場合、物質に対する光の屈折率及びその屈折率
の光の波長に対する変化（分散）は、個々の物質により
異なる。
可視領域において最適な値に設定するためには、位相差
の波長分散が次式に示される条件を満足することが必要
になる。 （ｎ0 （λ）−ｎ1 （λ））／λ＝一定 ・・・・（３） 尚、このときのλは可視領域の光の波長を示している。
又、この場合、物質に対する光の屈折率及びその屈折率
の光の波長に対する変化（分散）は、個々の物質により
異なる。
【０００７】このような考え方に基づいて、位相差顕微
鏡等に用いられる位相板を通過する光の位相差を全可視
領域でλ／４にする方法が、上記特開平６−２８９４３
８号公報に開示されている。ここでは、光の屈折率が
１．５〜１．６である接着剤とその屈折率が１．３〜
１．４である誘電体とを組み合わせることにより、その
位相差をλ／４としている。前記誘電体は光の屈折率が
低くその分散が小さいため、最適な金属を選定するか、
２種類以上の金属を組み合わせることで、前記接着材を
通過した光と位相制御膜構造体を通過した光との位相差
が全可視領域に亘ってλ／４になるようにしている。
尚、位相膜部分が誘電層と金属層とを積層して構成され
ている点は、上記特開昭５６−８１０７号公報に記載の
ものと同様である。又、通過する光の位相差が０となる
ようにした位相膜についても実現が可能である旨の記載
があるが、上記特開平６−２８９４３８号公報に記載の
実施例中にはその記載がなく、その実現性には甚だ疑問
が残る。
鏡等に用いられる位相板を通過する光の位相差を全可視
領域でλ／４にする方法が、上記特開平６−２８９４３
８号公報に開示されている。ここでは、光の屈折率が
１．５〜１．６である接着剤とその屈折率が１．３〜
１．４である誘電体とを組み合わせることにより、その
位相差をλ／４としている。前記誘電体は光の屈折率が
低くその分散が小さいため、最適な金属を選定するか、
２種類以上の金属を組み合わせることで、前記接着材を
通過した光と位相制御膜構造体を通過した光との位相差
が全可視領域に亘ってλ／４になるようにしている。
尚、位相膜部分が誘電層と金属層とを積層して構成され
ている点は、上記特開昭５６−８１０７号公報に記載の
ものと同様である。又、通過する光の位相差が０となる
ようにした位相膜についても実現が可能である旨の記載
があるが、上記特開平６−２８９４３８号公報に記載の
実施例中にはその記載がなく、その実現性には甚だ疑問
が残る。
【０００８】更に、上記各公報に記載の膜を通過する光
の透過率については、観察される標本の回折光の量か
ら、１０〜３０％に設定されている。
の透過率については、観察される標本の回折光の量か
ら、１０〜３０％に設定されている。
【０００９】ところで、変調コントラスト顕微鏡では、
０次光と回折光との振幅を変化させるために、その対物
レンズの瞳位置及びその共役な位置に、図１６に示す変
調板１０が配置されている。この変調板１０は光の透過
率が夫々異なる３つの領域１１，１２，１３を有してお
り、この変調板１０を変調コントラスト顕微鏡に用いた
場合、０次光に対して１つの領域を通過する回折光の透
過率を高く、他の領域を通過する回折光の透過率を低く
することができる。この３つの領域中、中間の透過率の
領域を通過する光と高い透過率の領域を通過する光との
間の位相差が全可視領域に亘って０又は０の近傍となっ
ていないと、光の位相差が異なることになる。この結
果、中心波長の光、例えば５５０ｎｍの波長以外の光の
場合、その位相差が０から離れた値となるため、必要で
ない位相差効果が発生したり、色づきが生じたりする不
具合が発生してしまう。
０次光と回折光との振幅を変化させるために、その対物
レンズの瞳位置及びその共役な位置に、図１６に示す変
調板１０が配置されている。この変調板１０は光の透過
率が夫々異なる３つの領域１１，１２，１３を有してお
り、この変調板１０を変調コントラスト顕微鏡に用いた
場合、０次光に対して１つの領域を通過する回折光の透
過率を高く、他の領域を通過する回折光の透過率を低く
することができる。この３つの領域中、中間の透過率の
領域を通過する光と高い透過率の領域を通過する光との
間の位相差が全可視領域に亘って０又は０の近傍となっ
ていないと、光の位相差が異なることになる。この結
果、中心波長の光、例えば５５０ｎｍの波長以外の光の
場合、その位相差が０から離れた値となるため、必要で
ない位相差効果が発生したり、色づきが生じたりする不
具合が発生してしまう。
【００１０】又、変調板１０のように、ガラス基板同士
に挟まれた構造で、非対称な形状の２つ以上の光の透過
率の異なる領域を有しているような場合は、その透過率
の最も高い領域１１に比べ、透過率の最も低い領域１３
は、光の透過率を低く設定するために厚く膜を蒸着しな
ければならず、この影響によって変調板１０が楔状に変
形してしまう。このように変形した変調板を用いると、
観察時に非点収差による像が著しい劣化が生じ、好まし
くない。
に挟まれた構造で、非対称な形状の２つ以上の光の透過
率の異なる領域を有しているような場合は、その透過率
の最も高い領域１１に比べ、透過率の最も低い領域１３
は、光の透過率を低く設定するために厚く膜を蒸着しな
ければならず、この影響によって変調板１０が楔状に変
形してしまう。このように変形した変調板を用いると、
観察時に非点収差による像が著しい劣化が生じ、好まし
くない。
【００１１】そこで、本発明は上記のような従来技術に
よる問題点に鑑み、その目的とするところは、変調コン
トラスト顕微鏡等に用いられる位相制御膜構造体におい
て、それを構成する金属膜，誘電体膜の好適な組み合わ
せを選択することにより、前記各膜に対する可視光の屈
折率，分散を最適化し、通過する可視光の位相差が０又
は０の近傍になるようにした位相制御膜構造体を提供す
ることである。
よる問題点に鑑み、その目的とするところは、変調コン
トラスト顕微鏡等に用いられる位相制御膜構造体におい
て、それを構成する金属膜，誘電体膜の好適な組み合わ
せを選択することにより、前記各膜に対する可視光の屈
折率，分散を最適化し、通過する可視光の位相差が０又
は０の近傍になるようにした位相制御膜構造体を提供す
ることである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による位相制御膜構造体は、可視光の透過
率，反射率及び位相を夫々制御し得る位相制御膜構造体
において、全体として少なくとも２層に構成され、その
うち少なくとも１層の金属からなる光吸収膜と、少なく
とも他の１層が誘電体の透明膜を有し、物質による光の
分散Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合に、前記位相制御膜構造体を構成する金
属膜による光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分
散をΔ（ｄ）としたとき、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する前記金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００５ を満足する前記誘電体膜とにより構成されているか、又
は、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２４≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０４５≧Δ（ｄ）≧０．０２ を満足する誘電体膜とにより構成されていることを特徴
としている。但し、前記ｎ450 は波長が４５０ｎｍであ
る光の透過率を、前記ｎ550 は波長が５５０ｎｍである
光の透過率を、前記ｎ650 は波長が６５０ｎｍである光
の透過率を夫々示している。
に、本発明による位相制御膜構造体は、可視光の透過
率，反射率及び位相を夫々制御し得る位相制御膜構造体
において、全体として少なくとも２層に構成され、その
うち少なくとも１層の金属からなる光吸収膜と、少なく
とも他の１層が誘電体の透明膜を有し、物質による光の
分散Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合に、前記位相制御膜構造体を構成する金
属膜による光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分
散をΔ（ｄ）としたとき、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する前記金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００５ を満足する前記誘電体膜とにより構成されているか、又
は、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２４≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０４５≧Δ（ｄ）≧０．０２ を満足する誘電体膜とにより構成されていることを特徴
としている。但し、前記ｎ450 は波長が４５０ｎｍであ
る光の透過率を、前記ｎ550 は波長が５５０ｎｍである
光の透過率を、前記ｎ650 は波長が６５０ｎｍである光
の透過率を夫々示している。
【００１３】又、本発明の位相制御膜構造体は、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する前記金属膜と、 ０．０１５≧Δ（ｄ）≧０．０１ を満足する前記誘電体膜とにより構成されるか、又は、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する前記金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０３５≧Δ（ｄ）≧０．０２５ を満足する前記誘電体膜とにより構成されてもよい。
【００１４】又、本発明の位相制御膜構造体は、変調コ
ントラスト顕微鏡の対物レンズの瞳位置及びこの瞳位置
と共役な位置に配置された変調板における、可視光の透
過率の異なる３つの領域中の、中間の光の透過率を有す
る領域に用いられることを特徴とする。
ントラスト顕微鏡の対物レンズの瞳位置及びこの瞳位置
と共役な位置に配置された変調板における、可視光の透
過率の異なる３つの領域中の、中間の光の透過率を有す
る領域に用いられることを特徴とする。
【００１５】更に、本発明の位相制御膜構造体は、ガラ
ス基板により挟まれた構造で対称な形状でない可視光の
透過率の異なる２つ以上の領域を有する位相板，変調板
の前記透過率を変えるための膜の厚さによる変形を補正
するために、前記領域の最も可視光の透過率が高い部分
に配置されて用いられてもよい。
ス基板により挟まれた構造で対称な形状でない可視光の
透過率の異なる２つ以上の領域を有する位相板，変調板
の前記透過率を変えるための膜の厚さによる変形を補正
するために、前記領域の最も可視光の透過率が高い部分
に配置されて用いられてもよい。
【００１６】
【作用】以下、本発明の作用を説明する。
【００１７】全可視領域に亘って光の位相差を０とする
ためには、最適な光の分散機能を有する金属と誘電体と
を組み合わせなければならない。そこで、位相膜に用い
られる物質の特徴を整理すると次に示すような傾向があ
る。
ためには、最適な光の分散機能を有する金属と誘電体と
を組み合わせなければならない。そこで、位相膜に用い
られる物質の特徴を整理すると次に示すような傾向があ
る。
【００１８】まず、誘電体については、可視光の誘電体
に対する屈折率は、一般に、短波長側が高く、長波長側
が低くなる傾向がある。又、高屈折率を有する物質程分
散も大きい傾向かあるが、その割合は個々の物質により
様々である。次に、金属については、可視光の金属に対
する屈折率は、長波長側が高くなるもの、短波長側が低
くなるもの等、誘電体以上に様々な特徴を有している。
に対する屈折率は、一般に、短波長側が高く、長波長側
が低くなる傾向がある。又、高屈折率を有する物質程分
散も大きい傾向かあるが、その割合は個々の物質により
様々である。次に、金属については、可視光の金属に対
する屈折率は、長波長側が高くなるもの、短波長側が低
くなるもの等、誘電体以上に様々な特徴を有している。
【００１９】そこで、このような特徴を備えた物質を用
いて通過する光の位相差を０にする位相膜を設計するた
めには、誘電体に中間屈折率（ｎ＝１．４〜１．７）の
物質を用いて、最適な金属と組み合わせることによって
実現できる。又、金属と組み合わせるのに最適な誘電体
が存在しない場合には、誘電体に低屈折率の物質（ｎ＝
１．３〜１．４）若しくは中間屈折率（ｎ＝１．４〜
１．７）の物質と、高屈折率（ｎ＝１．７以上）の物質
とを組み合わせることによっても、実現可能である。
いて通過する光の位相差を０にする位相膜を設計するた
めには、誘電体に中間屈折率（ｎ＝１．４〜１．７）の
物質を用いて、最適な金属と組み合わせることによって
実現できる。又、金属と組み合わせるのに最適な誘電体
が存在しない場合には、誘電体に低屈折率の物質（ｎ＝
１．３〜１．４）若しくは中間屈折率（ｎ＝１．４〜
１．７）の物質と、高屈折率（ｎ＝１．７以上）の物質
とを組み合わせることによっても、実現可能である。
【００２０】更に、全可視領域の光の位相を媒質を通過
する光と同じ値に設定する必要がある。このためには、
誘電体と媒質とは光の分散が異なるので、金属と誘電体
との組み合わせによって媒質を通過する光と同位相にな
るようにしなければならない。
する光と同じ値に設定する必要がある。このためには、
誘電体と媒質とは光の分散が異なるので、金属と誘電体
との組み合わせによって媒質を通過する光と同位相にな
るようにしなければならない。
【００２１】従って、本発明では、物質による光の分散
Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合、位相制御膜構造体を構成する金属膜に
よる光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分散をΔ
（ｄ）としたとき、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００５ を満足する誘電体膜とを組み合わせるか、又は、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２４≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０４５≧Δ（ｄ）≧０．０２ を満足する誘電体膜とを組み合わせることによって、位
相制御膜構造体を通過する全可視領域の光の位相差を、
容易に０又は０の近傍になるようにすることができる。
但し、前記ｎ450 は波長が４５０ｎｍである光の透過率
を、前記ｎ550 は波長が５５０ｎｍである光の透過率
を、前記ｎ650 は波長が６５０ｎｍである光の透過率を
夫々示している。
Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合、位相制御膜構造体を構成する金属膜に
よる光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分散をΔ
（ｄ）としたとき、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００５ を満足する誘電体膜とを組み合わせるか、又は、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する金属膜と、 ０．０２４≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０４５≧Δ（ｄ）≧０．０２ を満足する誘電体膜とを組み合わせることによって、位
相制御膜構造体を通過する全可視領域の光の位相差を、
容易に０又は０の近傍になるようにすることができる。
但し、前記ｎ450 は波長が４５０ｎｍである光の透過率
を、前記ｎ550 は波長が５５０ｎｍである光の透過率
を、前記ｎ650 は波長が６５０ｎｍである光の透過率を
夫々示している。
【００２２】又、前記の組み合わせの中でも、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する金属膜と、 ０．０１５≧Δ（ｄ）≧０．０１ を満足する誘電体膜とを組み合わせたものか、又は、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０３５≧Δ（ｄ）≧０．０２５ を満足する誘電体膜とを組み合わせたものである場合に
は、その位相差を、より０に近づけることが可能にな
る。
は、その位相差を、より０に近づけることが可能にな
る。
【００２３】尚、Δ（ｍ）若しくはΔ（ｄ）の値が上記
の範囲から外れるような物質を含む構成では、その物質
による光の分散により、１つの波長の位相差を０にする
ことはできても、全可視領域に亘る光の位相差を０又は
０の近傍になるようにすることは困難である。
の範囲から外れるような物質を含む構成では、その物質
による光の分散により、１つの波長の位相差を０にする
ことはできても、全可視領域に亘る光の位相差を０又は
０の近傍になるようにすることは困難である。
【００２４】又、前述した光の位相差が０又は０の近傍
になる範囲とは、位相差顕微鏡の位相膜、若しくは変調
コントラスト顕微鏡及び瞳変調の変調膜として本発明の
位相制御膜構造体を用いた場合に、全可視領域に亘って
十分な性能を確保できる範囲であり、可視領域の光の位
相差｜θ450 −θ650 ｜が、 ｜θ450 −θ650 ｜≦λ／１２ ・・・・（４） （但し、θ450 は波長が４５０ｎｍである光の位相差
を、θ650 は波長が６５０ｎｍである光の位相差を示し
ている）を満足していることが好ましい。変調コントラ
スト顕微鏡の変調板として本発明の位相制御膜構造体を
用いた場合に、｜θ450 −θ650 ｜の値が上記範囲から
外れると、光の波長による位相差が異なることになり、
この結果、光の中心波長、例えば波長が５５０ｎｍ以外
の位相差は０から離れるため、不要な位相差による効果
が発生したり、色つきによる不具合が生じたりすること
になる。
になる範囲とは、位相差顕微鏡の位相膜、若しくは変調
コントラスト顕微鏡及び瞳変調の変調膜として本発明の
位相制御膜構造体を用いた場合に、全可視領域に亘って
十分な性能を確保できる範囲であり、可視領域の光の位
相差｜θ450 −θ650 ｜が、 ｜θ450 −θ650 ｜≦λ／１２ ・・・・（４） （但し、θ450 は波長が４５０ｎｍである光の位相差
を、θ650 は波長が６５０ｎｍである光の位相差を示し
ている）を満足していることが好ましい。変調コントラ
スト顕微鏡の変調板として本発明の位相制御膜構造体を
用いた場合に、｜θ450 −θ650 ｜の値が上記範囲から
外れると、光の波長による位相差が異なることになり、
この結果、光の中心波長、例えば波長が５５０ｎｍ以外
の位相差は０から離れるため、不要な位相差による効果
が発生したり、色つきによる不具合が生じたりすること
になる。
【００２５】更に、本発明によれば、蒸着が容易なＴ
ｉ，Ｎｉ，Ｃｒ若しくはこれらを含む合金と、蒸着が容
易で光の屈折率，分散が最適な中間屈折率（ｎ＝１．４
〜１．７）の物質（ＳｉＯ2 ，ＭｇＯ若しくはＡｌ2 Ｏ
3 ）とを組み合わせることによって、容易に最適な位相
制御膜構造体を製作することができる。又、単体では光
の屈折率，分散が最適ではない誘電体であっても、低屈
折率（ｎ＝１．３〜１．４）の物質又は中間屈折率（ｎ
＝１．４〜１．７）の物質ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ，ＣｅＦ
3 若しくはＡｌ2 Ｏ3 と、高屈折率（ｎ＝１．７以上）
の物質Ｌａ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，ＴｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 若
しくはＺｎＳのような光の屈折率，分散が最適となる組
み合わせで、蒸着が容易な誘電体であれば、容易に良好
な位相制御膜構造体を製作することが可能である。以
下、表１に、波長が４５０ｎｍ，５５０ｎｍ及び６５０
ｎｍである光の各物質に対する屈折率（ｎ）及び各物質
による光の分散（Δ（ｄ），Δ（ｍ））を夫々示す。
ｉ，Ｎｉ，Ｃｒ若しくはこれらを含む合金と、蒸着が容
易で光の屈折率，分散が最適な中間屈折率（ｎ＝１．４
〜１．７）の物質（ＳｉＯ2 ，ＭｇＯ若しくはＡｌ2 Ｏ
3 ）とを組み合わせることによって、容易に最適な位相
制御膜構造体を製作することができる。又、単体では光
の屈折率，分散が最適ではない誘電体であっても、低屈
折率（ｎ＝１．３〜１．４）の物質又は中間屈折率（ｎ
＝１．４〜１．７）の物質ＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ，ＣｅＦ
3 若しくはＡｌ2 Ｏ3 と、高屈折率（ｎ＝１．７以上）
の物質Ｌａ2 Ｏ3 ，ＺｒＯ2 ，ＴｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 若
しくはＺｎＳのような光の屈折率，分散が最適となる組
み合わせで、蒸着が容易な誘電体であれば、容易に良好
な位相制御膜構造体を製作することが可能である。以
下、表１に、波長が４５０ｎｍ，５５０ｎｍ及び６５０
ｎｍである光の各物質に対する屈折率（ｎ）及び各物質
による光の分散（Δ（ｄ），Δ（ｍ））を夫々示す。
【００２６】
【００２７】又、変調コントラスト顕微鏡の変調板で
は、図１６に示す変調板１０の光の透過率の最も高い領
域１１の透過率を１００％にすれば、位相制御構造体等
を別途設ける必要はなく、光の透過率の最も低い領域１
３の透過率をほぼ０とすれば、その領域を通過する光の
位相差を考慮する必要はなくなる。このとき、中間の光
の透過率を有する領域１２の光の透過率を１０〜５０％
に設定すれば、立体感の高い像を得ることができる。更
に、この場合、中間の光の透過率を有する領域１２に本
発明による位相制御膜構造体を用いれば、白色光での標
本の観察時に不要な位相差効果が発生したり、色づきが
生じたりする不具合はなく、良好な像を観察できる。
又、このとき、光の透過率の最も高い領域１１の一部分
に本発明の位相制御膜構造体を備えれば、前記領域１１
を形成している膜が楔状に変形するのを抑制でき、観察
時の非点収差を抑制することが可能になる。
は、図１６に示す変調板１０の光の透過率の最も高い領
域１１の透過率を１００％にすれば、位相制御構造体等
を別途設ける必要はなく、光の透過率の最も低い領域１
３の透過率をほぼ０とすれば、その領域を通過する光の
位相差を考慮する必要はなくなる。このとき、中間の光
の透過率を有する領域１２の光の透過率を１０〜５０％
に設定すれば、立体感の高い像を得ることができる。更
に、この場合、中間の光の透過率を有する領域１２に本
発明による位相制御膜構造体を用いれば、白色光での標
本の観察時に不要な位相差効果が発生したり、色づきが
生じたりする不具合はなく、良好な像を観察できる。
又、このとき、光の透過率の最も高い領域１１の一部分
に本発明の位相制御膜構造体を備えれば、前記領域１１
を形成している膜が楔状に変形するのを抑制でき、観察
時の非点収差を抑制することが可能になる。
【００２８】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００２９】第１実施例 図１は本実施例にかかる位相制御膜構造体を備えた位相
板，変調板の構成を示す断面図である。本実施例の位相
制御膜構造体３は、金属のＮｉと誘電体のＺｒＯ2 ，Ｓ
ｉＯ2 を用いて、ガラス基板１上にそれらを交互に７層
積層させ、位相制御膜構造体３と同じ厚さの媒質を通過
する光との位相差が全可視領域に亘って一定になるよう
に構成されている。ガラス基板１上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ５１．４ ２ Ｎｉ ８．５ ４３．２ ３ ＳｉＯ2 ６０．３ ４ Ｎｉ １．９ ７８．６ ５ ＳｉＯ2 ６０．３ ６ Ｎｉ ８．５ ４３．２ ７ ＺｒＯ2 ５１．４ 尚、本実施例の位相制御膜構造体３に対する可視光の透
過率，反射率は図２に夫々曲線Ｔ1 ，Ｒ1 として、本実
施例の位相制御膜構造体３を通過する可視光と位相制御
膜構造体３と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図３に曲線ａとして
示している。
板，変調板の構成を示す断面図である。本実施例の位相
制御膜構造体３は、金属のＮｉと誘電体のＺｒＯ2 ，Ｓ
ｉＯ2 を用いて、ガラス基板１上にそれらを交互に７層
積層させ、位相制御膜構造体３と同じ厚さの媒質を通過
する光との位相差が全可視領域に亘って一定になるよう
に構成されている。ガラス基板１上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ５１．４ ２ Ｎｉ ８．５ ４３．２ ３ ＳｉＯ2 ６０．３ ４ Ｎｉ １．９ ７８．６ ５ ＳｉＯ2 ６０．３ ６ Ｎｉ ８．５ ４３．２ ７ ＺｒＯ2 ５１．４ 尚、本実施例の位相制御膜構造体３に対する可視光の透
過率，反射率は図２に夫々曲線Ｔ1 ，Ｒ1 として、本実
施例の位相制御膜構造体３を通過する可視光と位相制御
膜構造体３と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図３に曲線ａとして
示している。
【００３０】第２実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｒＯ2 ，ＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に５層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように構成されている。前記ガラス基板
上に順次積層された各層１乃至５の成分，厚さｄ及び波
長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りであ
る。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 １８．５ ２ Ｎｉ ５．３ ５７．１ ３ ＳｉＯ2 ９１．９ ４ Ｎｉ ５．３ ５７．１ ５ ＳｉＯ2 １８．５ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図２に夫々曲線Ｔ2 ，Ｒ2 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｂとして示し
ている。
電体のＺｒＯ2 ，ＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に５層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように構成されている。前記ガラス基板
上に順次積層された各層１乃至５の成分，厚さｄ及び波
長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りであ
る。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 １８．５ ２ Ｎｉ ５．３ ５７．１ ３ ＳｉＯ2 ９１．９ ４ Ｎｉ ５．３ ５７．１ ５ ＳｉＯ2 １８．５ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図２に夫々曲線Ｔ2 ，Ｒ2 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｂとして示し
ている。
【００３１】第３実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｒＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように、全体として第１実施例と同様に
なるように構成されている。前記ガラス基板上に順次積
層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０
ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ４４．４ ２ Ｎｉ ９．９ ３８．４ ３ ＭｇＦ2 ６８．９ ４ Ｎｉ ４．４ ６２．０ ５ ＭｇＦ2 ６８．９ ６ Ｎｉ ９．９ ３８．４ ７ ＺｒＯ2 ４４．４ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図４に夫々曲線Ｔ3 ，Ｒ3 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｃとして示し
ている。
電体のＺｒＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように、全体として第１実施例と同様に
なるように構成されている。前記ガラス基板上に順次積
層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０
ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ４４．４ ２ Ｎｉ ９．９ ３８．４ ３ ＭｇＦ2 ６８．９ ４ Ｎｉ ４．４ ６２．０ ５ ＭｇＦ2 ６８．９ ６ Ｎｉ ９．９ ３８．４ ７ ＺｒＯ2 ４４．４ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図４に夫々曲線Ｔ3 ，Ｒ3 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｃとして示し
ている。
【００３２】第４実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｒＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に５層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように、全体として第２実施例と同様に
なるように構成されている。前記ガラス基板上に順次積
層された各層１乃至５の成分，厚さｄ及び波長が５５０
ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 １１．６ ２ Ｎｉ ５．１ ５８．１ ３ ＭｇＦ2 １０６．１ ４ Ｎｉ ５．１ ５８．１ ５ ＳｉＯ2 １１．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図４に夫々曲線Ｔ4 ，Ｒ4 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｄとして示し
ている。
電体のＺｒＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に５層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘
って一定になるように、全体として第２実施例と同様に
なるように構成されている。前記ガラス基板上に順次積
層された各層１乃至５の成分，厚さｄ及び波長が５５０
ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 １１．６ ２ Ｎｉ ５．１ ５８．１ ３ ＭｇＦ2 １０６．１ ４ Ｎｉ ５．１ ５８．１ ５ ＳｉＯ2 １１．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図４に夫々曲線Ｔ4 ，Ｒ4 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図３に曲線ｄとして示し
ている。
【００３３】第５実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＴｉと誘
電体のＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそれらを交互
に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒
質を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定に
なるように、全体として第１実施例と同様になるように
構成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＳｉＯ2 ３．８ ２ Ｔｉ ９．８ ５４．５ ３ ＳｉＯ2 ７２．７ ４ Ｔｉ ２３．２ ３０．７ ５ ＳｉＯ2 ７２．７ ６ Ｔｉ ９．８ ５４．５ ７ ＳｉＯ2 ３．８ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図５に夫々曲線Ｔ5 ，Ｒ5 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｅとして示し
ている。
電体のＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそれらを交互
に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒
質を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定に
なるように、全体として第１実施例と同様になるように
構成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＳｉＯ2 ３．８ ２ Ｔｉ ９．８ ５４．５ ３ ＳｉＯ2 ７２．７ ４ Ｔｉ ２３．２ ３０．７ ５ ＳｉＯ2 ７２．７ ６ Ｔｉ ９．８ ５４．５ ７ ＳｉＯ2 ３．８ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図５に夫々曲線Ｔ5 ，Ｒ5 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｅとして示し
ている。
【００３４】第６実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｒＯ2 ，Ａｌ 2 Ｏ3 を用いて、ガラス基板上に
それらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と
同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に
亘って一定になるように、全体として第１実施例と同様
になるように構成されている。前記ガラス基板上に順次
積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５
０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ４４．５ ２ Ｎｉ ８．８ ４２．０ ３ Ａｌ2 Ｏ3 ７２．０ ４ Ｎｉ ９．１ ４１．０ ５ Ａｌ2 Ｏ3 ７２．０ ６ Ｎｉ ８．８ ４２．０ ７ ＺｒＯ2 ４４．５ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図５に夫々曲線Ｔ6 ，Ｒ6 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｆとして示し
ている。
電体のＺｒＯ2 ，Ａｌ 2 Ｏ3 を用いて、ガラス基板上に
それらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と
同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に
亘って一定になるように、全体として第１実施例と同様
になるように構成されている。前記ガラス基板上に順次
積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５
０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ４４．５ ２ Ｎｉ ８．８ ４２．０ ３ Ａｌ2 Ｏ3 ７２．０ ４ Ｎｉ ９．１ ４１．０ ５ Ａｌ2 Ｏ3 ７２．０ ６ Ｎｉ ８．８ ４２．０ ７ ＺｒＯ2 ４４．５ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図５に夫々曲線Ｔ6 ，Ｒ6 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｆとして示し
ている。
【００３５】第７実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｎＳ，ＳｉＯ 3 を用いて、ガラス基板上にそれ
らを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ
厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘っ
て一定になるように、全体として第１実施例と同様にな
るように構成されている。前記ガラス基板上に順次積層
された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎ
ｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｎＳ ３５．１ ２ Ｎｉ １１．７ ３３．２ ３ ＳｉＯ2 ６４．４ ４ Ｎｉ ３．８ ６５．９ ５ ＳｉＯ2 ６４．４ ６ Ｎｉ １１．７ ３３．２ ７ ＺｎＳ ３５．１ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図７に夫々曲線Ｔ7 ，Ｒ7 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｇとして示し
ている。
電体のＺｎＳ，ＳｉＯ 3 を用いて、ガラス基板上にそれ
らを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ
厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域に亘っ
て一定になるように、全体として第１実施例と同様にな
るように構成されている。前記ガラス基板上に順次積層
された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎ
ｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｎＳ ３５．１ ２ Ｎｉ １１．７ ３３．２ ３ ＳｉＯ2 ６４．４ ４ Ｎｉ ３．８ ６５．９ ５ ＳｉＯ2 ６４．４ ６ Ｎｉ １１．７ ３３．２ ７ ＺｎＳ ３５．１ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図７に夫々曲線Ｔ7 ，Ｒ7 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｇとして示し
ている。
【００３６】第８実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉとＣ
ｒとの合金と誘電体のＴｉＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガ
ラス基板上にそれらを交互に７層積層させ、その位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が
全可視領域に亘って一定になるように、全体として第１
実施例と同様になるように構成されている。前記ガラス
基板上に順次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及
び波長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りで
ある。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＴｉＯ2 ９．２ ２ ＮｉＣｒ ３．５ ５４．０ ３ ＭｇＦ2 ６４．２ ４ ＮｉＣｒ ６．３ ３７．９ ５ ＭｇＦ2 ６４．２ ６ ＮｉＣｒ ３．５ ５４．０ ７ ＴｉＯ2 ９．２ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図８に夫々曲線Ｔ8 ，Ｒ8 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｈとして示し
ている。
ｒとの合金と誘電体のＴｉＯ2 ，ＭｇＦ2 を用いて、ガ
ラス基板上にそれらを交互に７層積層させ、その位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が
全可視領域に亘って一定になるように、全体として第１
実施例と同様になるように構成されている。前記ガラス
基板上に順次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及
び波長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りで
ある。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＴｉＯ2 ９．２ ２ ＮｉＣｒ ３．５ ５４．０ ３ ＭｇＦ2 ６４．２ ４ ＮｉＣｒ ６．３ ３７．９ ５ ＭｇＦ2 ６４．２ ６ ＮｉＣｒ ３．５ ５４．０ ７ ＴｉＯ2 ９．２ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図８に夫々曲線Ｔ8 ，Ｒ8 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図６に曲線ｈとして示し
ている。
【００３７】第９実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＡｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ5 を用いて、ガラス基板上
にそれらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体
と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域
に亘って一定になるように、全体として第１実施例と同
様になるように構成されている。前記ガラス基板上に順
次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５
５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｔａ2 Ｏ5 ３８．６ ２ Ｔｉ ８．９ ４１．７ ３ Ａｌ2 Ｏ3 ７９．２ ４ Ｔｉ ９．９ ３８．４ ５ Ａｌ2 Ｏ3 ７９．２ ６ Ｔｉ ８．９ ４１．７ ７ Ｔａ2 Ｏ5 ３８．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図９に夫々曲線Ｔ9 ，Ｒ9 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｉとして示
している。
電体のＡｌ2 Ｏ3 ，Ｔａ2 Ｏ5 を用いて、ガラス基板上
にそれらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体
と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差が全可視領域
に亘って一定になるように、全体として第１実施例と同
様になるように構成されている。前記ガラス基板上に順
次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５
５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｔａ2 Ｏ5 ３８．６ ２ Ｔｉ ８．９ ４１．７ ３ Ａｌ2 Ｏ3 ７９．２ ４ Ｔｉ ９．９ ３８．４ ５ Ａｌ2 Ｏ3 ７９．２ ６ Ｔｉ ８．９ ４１．７ ７ Ｔａ2 Ｏ5 ３８．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図９に夫々曲線Ｔ9 ，Ｒ9 として、本実施
例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制御
膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合剤）
を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｉとして示
している。
【００３８】第１０実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＣｒと誘
電体のＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそれらを交互
に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒
質を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定に
なるように、全体として第１実施例と同様になるように
構成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｃｒ ４．１ ６５．７ ２ ＳｉＯ2 ８０．４ ３ Ｃｒ ９．４ ４４．０ ４ ＳｉＯ2 ７５．１ ５ Ｃｒ ９．４ ４４．０ ６ ＳｉＯ2 ８０．４ ７ Ｃｒ ４．１ ６５．７ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１１に夫々曲線Ｔ10，Ｒ10として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｊとし
て示している。
電体のＳｉＯ2 を用いて、ガラス基板上にそれらを交互
に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒
質を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定に
なるように、全体として第１実施例と同様になるように
構成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各
層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである
光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｃｒ ４．１ ６５．７ ２ ＳｉＯ2 ８０．４ ３ Ｃｒ ９．４ ４４．０ ４ ＳｉＯ2 ７５．１ ５ Ｃｒ ９．４ ４４．０ ６ ＳｉＯ2 ８０．４ ７ Ｃｒ ４．１ ６５．７ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１１に夫々曲線Ｔ10，Ｒ10として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｊとし
て示している。
【００３９】第１１実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉとＣ
ｒとの合金と誘電体のＬａ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 を用いて、
ガラス基板上にそれらを交互に７層積層させ、その位相
制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差
が全可視領域に亘って一定になるように、全体として第
１実施例と同様になるように構成されている。前記ガラ
ス基板上に順次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ
及び波長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通り
である。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｌａ2 Ｏ3 ２０．６ ２ ＮｉＣｒ ３．８ ５２．３ ３ ＳｉＯ2 ７２．６ ４ ＮｉＣｒ ７．５ ３３．１ ５ ＳｉＯ2 ７２．６ ６ ＮｉＣｒ ３．８ ５２．３ ７ Ｌａ2 Ｏ3 ２０．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１２に夫々曲線Ｔ11，Ｒ11として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｋとし
て示している。
ｒとの合金と誘電体のＬａ2 Ｏ3 ，ＳｉＯ2 を用いて、
ガラス基板上にそれらを交互に７層積層させ、その位相
制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通過する光との位相差
が全可視領域に亘って一定になるように、全体として第
１実施例と同様になるように構成されている。前記ガラ
ス基板上に順次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ
及び波長が５５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通り
である。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ Ｌａ2 Ｏ3 ２０．６ ２ ＮｉＣｒ ３．８ ５２．３ ３ ＳｉＯ2 ７２．６ ４ ＮｉＣｒ ７．５ ３３．１ ５ ＳｉＯ2 ７２．６ ６ ＮｉＣｒ ３．８ ５２．３ ７ Ｌａ2 Ｏ3 ２０．６ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１２に夫々曲線Ｔ11，Ｒ11として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｋとし
て示している。
【００４０】第１２実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＭｇＯを用いて、ガラス基板上にそれらを交互に
７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質
を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定にな
るように、全体として第１実施例と同様になるように構
成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各層
１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである光
の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＭｇＯ ６０．３ ２ Ｎｉ ７．７ ４６．２ ３ ＭｇＯ ７８．１ ４ Ｎｉ １６．０ ２４．０ ５ ＭｇＯ ７８．１ ６ Ｎｉ ７．７ ４６．２ ７ ＭｇＯ ６０．３ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１３に夫々曲線Ｔ12，Ｒ12として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｌとし
て示す通りである。
電体のＭｇＯを用いて、ガラス基板上にそれらを交互に
７層積層させ、その位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質
を通過する光との位相差が全可視領域に亘って一定にな
るように、全体として第１実施例と同様になるように構
成されている。前記ガラス基板上に順次積層された各層
１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５５０ｎｍである光
の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＭｇＯ ６０．３ ２ Ｎｉ ７．７ ４６．２ ３ ＭｇＯ ７８．１ ４ Ｎｉ １６．０ ２４．０ ５ ＭｇＯ ７８．１ ６ Ｎｉ ７．７ ４６．２ ７ ＭｇＯ ６０．３ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１３に夫々曲線Ｔ12，Ｒ12として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１０に曲線ｌとし
て示す通りである。
【００４１】第１３実施例 本実施例にかかる位相制御膜構造体は、金属のＮｉと誘
電体のＺｒＯ2 ，ＣｅＦ3 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの物質との光の位相差が全可視領域に亘って一定
になるように、全体として第１実施例と同様になるよう
に構成されている。尚、本実施例の位相制御膜構造体
は、図１５に示すよう変調板２０の光の透過率が最も高
い領域２１の一部分の厚みを補正するための膜２２とし
て使用されるものである。この領域２１に膜２２を設け
ることにより、変調板２０の領域２１の部分が楔状に変
形するのを抑えることができる。前記ガラス基板上に順
次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５
５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ２３．３ ２ Ｎｉ ４．１ ６３．８ ３ ＣｅＦ3 ８７．３ ４ Ｎｉ ３．８ ６５．６ ５ ＣｅＦ3 ８７．３ ６ Ｎｉ ４．１ ６３．８ ７ ＺｒＯ2 ２３．３ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１３に夫々曲線Ｔ13，Ｒ13として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１４に曲線ｍとし
て示している。
電体のＺｒＯ2 ，ＣｅＦ3 を用いて、ガラス基板上にそ
れらを交互に７層積層させ、その位相制御膜構造体と同
じ厚さの物質との光の位相差が全可視領域に亘って一定
になるように、全体として第１実施例と同様になるよう
に構成されている。尚、本実施例の位相制御膜構造体
は、図１５に示すよう変調板２０の光の透過率が最も高
い領域２１の一部分の厚みを補正するための膜２２とし
て使用されるものである。この領域２１に膜２２を設け
ることにより、変調板２０の領域２１の部分が楔状に変
形するのを抑えることができる。前記ガラス基板上に順
次積層された各層１乃至７の成分，厚さｄ及び波長が５
５０ｎｍである光の透過率Ｔは下記の通りである。 層 成分 ｄ（ｎｍ） Ｔ（％） １ ＺｒＯ2 ２３．３ ２ Ｎｉ ４．１ ６３．８ ３ ＣｅＦ3 ８７．３ ４ Ｎｉ ３．８ ６５．６ ５ ＣｅＦ3 ８７．３ ６ Ｎｉ ４．１ ６３．８ ７ ＺｒＯ2 ２３．３ 尚、本実施例の位相制御膜構造体に対する可視光の透過
率，反射率は図１３に夫々曲線Ｔ13，Ｒ13として、本実
施例の位相制御膜構造体を通過する可視光と前記位相制
御膜構造体と同じ厚さの媒質（屈折率１．５６の接合
剤）を通過する可視光との位相差は図１４に曲線ｍとし
て示している。
【００４２】尚、以上説明した各実施例に示した構成に
おいて用いられた誘電体は限られたものであるが、上記
に示したように構成すれば上記誘電体以外の誘電体を用
いて構成しても、同様の効果を有する位相制御膜構造体
を得ることができる。
おいて用いられた誘電体は限られたものであるが、上記
に示したように構成すれば上記誘電体以外の誘電体を用
いて構成しても、同様の効果を有する位相制御膜構造体
を得ることができる。
【００４３】
【発明の効果】上述のように、本発明の位相制御膜構造
体は、様々な波長を有する可視光の位相差の変化を小さ
くできる他、白色光で照明された標本の像の色つきも防
止できる。又、本発明の位相制御膜構造体を、ガラス基
板により挟まれた構造で、非対称な可視光の透過率の異
なる２つ以上の領域を有するような位相板，変調板中の
最も透過率の高い領域の一部分に用いた場合、前記領域
を構成する膜が変形するのを補正することが可能にな
る。
体は、様々な波長を有する可視光の位相差の変化を小さ
くできる他、白色光で照明された標本の像の色つきも防
止できる。又、本発明の位相制御膜構造体を、ガラス基
板により挟まれた構造で、非対称な可視光の透過率の異
なる２つ以上の領域を有するような位相板，変調板中の
最も透過率の高い領域の一部分に用いた場合、前記領域
を構成する膜が変形するのを補正することが可能にな
る。
【図１】本発明の位相制御膜構造体を備えた位相板，変
調板の構成を示す断面図である。
調板の構成を示す断面図である。
【図２】第１，第２実施例の位相制御膜構造体に対する
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図３】第１〜第４実施例の位相制御膜構造体を通過す
る可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通
過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
る可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通
過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
【図４】第３，第４実施例の位相制御膜構造体に対する
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図５】第５，第６実施例の位相制御膜構造体に対する
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図６】第５〜第８実施例の位相制御膜構造体を通過す
る可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通
過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
る可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質を通
過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
【図７】第７実施例の位相制御膜構造体に対する可視光
の透過率，反射率を示すグラフである。
の透過率，反射率を示すグラフである。
【図８】第８実施例の位相制御膜構造体に対する可視光
の透過率，反射率を示すグラフである。
の透過率，反射率を示すグラフである。
【図９】第９実施例の位相制御膜構造体に対する可視光
の透過率，反射率を示すグラフである。
の透過率，反射率を示すグラフである。
【図１０】第９〜第１２実施例の位相制御膜構造体を通
過する可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質
を通過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
過する可視光とその位相制御膜構造体と同じ厚さの媒質
を通過する可視光との位相差を夫々示すグラフである。
【図１１】第１０実施例の位相制御膜構造体に対する可
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図１２】第１１実施例の位相制御膜構造体に対する可
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図１３】第１２，第１３実施例の位相制御膜構造体に
対する可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
対する可視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図１４】第１３実施例の位相制御膜構造体に対する可
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
視光の透過率，反射率を示すグラフである。
【図１５】第１３実施例の位相制御膜構造体を変調板の
可視光の透過率の最も高い領域の部分に配置されている
状態を示す図である。
可視光の透過率の最も高い領域の部分に配置されている
状態を示す図である。
【図１６】変調コントラスト顕微鏡に用いられる変調板
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
１ ガラス基板 ２ 媒質 ３ 位相制御膜構造体 １０，２０ 変調板 １１，１２，１３，２１ 領域
Claims (4)
- 【請求項１】 可視光の透過率，反射率及び位相を夫々
制御し得る位相制御膜構造体において、 全体として少なくとも２層に構成され、そのうち少なく
とも１層は金属からなる光吸収膜であり、少なくとも他
の１層は誘電体の透明膜であって、物質によるの光の分
散Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合に、前記位相制御膜構造体を構成する金
属膜による光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分
散をΔ（ｄ）としたとき、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する前記金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００５ を満足する前記誘電体膜とにより構成されているか、又
は、 −０．０５≧Δ（ｍ）≧−０．２８ を満足する前記金属膜と、 ０．０２４≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する前記誘電体膜と、 ０．０４５≧Δ（ｄ）≧０．０２ を満足する前記誘電体膜とにより構成されていることを
特徴とする位相制御膜構造体。但し、前記ｎ450 は波長
が４５０ｎｍである光の透過率を、前記ｎ550 は波長が
５５０ｎｍである光の透過率を、前記ｎ650 は波長が６
５０ｎｍである光の透過率を夫々示している。 - 【請求項２】 可視光の透過率，反射率及び位相を夫々
制御し得る位相制御膜構造体において、 全体として少なくとも２層に構成され、そのうち少なく
とも１層は金属からなる光吸収膜であり、少なくとも他
の１層は誘電体の透明膜であって、物質によるの光の分
散Δが、 Δ＝（ｎ450 −ｎ650 ）／ｎ550 と表される場合に、前記位相制御膜構造体を構成する金
属膜による光の分散をΔ（ｍ），誘電体膜による光の分
散をΔ（ｄ）としたとき、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する前記金属膜と、 ０．０１５≧Δ（ｄ）≧０．０１ を満足する前記誘電体膜とにより構成されているか、又
は、 −０．１≧Δ（ｍ）≧−０．２４ を満足する前記金属膜と、 ０．０２≧Δ（ｄ）≧０．００３ を満足する誘電体膜と、 ０．０３５≧Δ（ｄ）≧０．０２５ を満足する前記誘電体膜とにより構成されていることを
特徴とする位相制御膜構造体。但し、前記ｎ450 は波長
が４５０ｎｍである光の透過率を、前記ｎ550 は波長が
５５０ｎｍである光の透過率を、前記ｎ650 は波長が６
５０ｎｍである光の透過率を夫々示している。 - 【請求項３】 前記位相制御膜構造体は、変調コントラ
スト顕微鏡の対物レンズの瞳位置及び該瞳位置と共役な
位置に配置された変調板における、可視光の透過率の異
なる３つの領域中の、中間の光の透過率を有する領域に
用いられる膜であることを特徴とする請求項１又は２に
記載の位相制御膜構造体。 - 【請求項４】 前記位相制御膜構造体は、ガラス基板に
より挟まれた構造で対称な形状でない可視光の透過率の
異なる２つ以上の領域を有する位相板，変調板の前記透
過率を変えるための膜の厚さによる変形を補正するため
に、前記領域の最も可視光の透過率が高い部分に配置さ
れて用いられる膜であることを特徴とする請求項１乃至
３の何れかに記載の位相制御膜構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7178566A JPH0933959A (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 位相制御膜構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7178566A JPH0933959A (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 位相制御膜構造体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0933959A true JPH0933959A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16050727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7178566A Pending JPH0933959A (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 位相制御膜構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0933959A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004126590A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Leica Microsystems Wetzler Gmbh | 顕微鏡で位相差観察または変調コントラスト観察を実現するための位相シフト方法および装置 |
| WO2019235511A1 (ja) * | 2018-06-05 | 2019-12-12 | 株式会社ニコン | 位相板、対物レンズ、及び観察装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS263341B1 (ja) * | 1950-02-01 | 1951-06-26 | ||
| JPS5888617U (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-16 | 株式会社ニコン | モジユレ−シヨン・コントラスト顕微鏡 |
| JPH02120801A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Hoya Corp | 多層膜表面反射鏡 |
| JPH02148003A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-06 | Hoya Corp | 多層膜表面反射鏡 |
| JPH0593811A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-04-16 | Olympus Optical Co Ltd | 光吸収膜 |
| JPH06289438A (ja) * | 1993-03-31 | 1994-10-18 | Olympus Optical Co Ltd | 位相制御膜構造体 |
-
1995
- 1995-07-14 JP JP7178566A patent/JPH0933959A/ja active Pending
Patent Citations (6)
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| JPWO2019235511A1 (ja) * | 2018-06-05 | 2021-06-10 | 株式会社ニコン | 位相板、対物レンズ、及び観察装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A521 | Written amendment |
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