JPH09304408A - 走査型プローブ顕微鏡の測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 或る測定点の測定を終了して他の測定点への
測定に移る場合に、高速な移動を行い、使い勝手を良好
にする。 【解決手段】 試料表面の測定点を観察装置15で探し出
し、カンチレバー21の探針22を、測定点に物理量が作用
し合う程度の距離まで接近させ、カンチレバーが変位す
るとき、変位量を検出し、カンチレバーの変位が一定に
保持されるように制御して測定を行い、試料表面上での
複数の測定点に探針を移動させて上記測定を行うことに
より、試料表面を測定する。さらに、或る測定点での測
定が終了した後に他の測定点を測定する場合、試料が移
動を開始する時、探針を試料表面から離れるように退避
させ、観察装置で目標となる他の測定点が捕らえられて
試料の位置が確定して停止した時、探針を他の測定点に
接近させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス、
光ディスク、液晶素子等の試料表面の微細形状の測定に
適し、試料ステージを移動させるときに探針を目標とす
る測定点に高速に位置合せできる走査型プローブ顕微鏡
の測定方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】走査型プローブ顕微鏡は原子オーダの測
定分解能を有し、表面形状の計測など各種分野に利用さ
れる。走査型プローブ顕微鏡では、探針（プローブ）と
試料の間をナノメートルのオーダの距離に保持し、探針
・試料間に生じるトンネル電流や原子間力等の物理量を
検出することにより試料表面の微細形状の測定を行う。
走査型プローブ顕微鏡には、検出対象の物理量に応じ
て、走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）、原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）、磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）などがある。この
中で原子間力顕微鏡は、試料表面の形状を高分解能で検
出するのに適しており、半導体や光ディスクなどの表面
形状の測定に利用されている。

【０００３】例えばＡＦＭでは、先端に探針を備え、ば
ね定数が極めて低いカンチレバーを有し、探針を試料の
表面に対向して配置し、試料表面と探針の先端との間で
原子間力が作用すると、探針・試料間の距離に応じてカ
ンチレバーがたわむように構成される。カンチレバーの
たわみ量は探針・試料間の距離に比例し、このたわみ量
は、例えば光てこ方式の原理による変位検出光学系によ
って検出される。ＡＦＭは、測定範囲にて探針を移動さ
せるための走査機構を備え、この走査機構は圧電素子を
利用して構成される。測定範囲は最大で数十μｍ角の範
囲である。走査機構による走査動作の間、探針・試料間
の距離を所望の一定距離に制御することにより、カンチ
レバーのたわみ量を所定の一定値に保持する。探針の試
料表面に対するほぼ垂直方向（Ｚ軸方向）の変位量が試
料表面の形状に関する測定値となる。すなわちＡＦＭに
よる観察像は、ＸＹ軸スキャナによってＸＹ方向に走査
を行う間、カンチレバーの変位が一定、言い換えれば原
子間力が一定（１０^-7〜１０^-10 Ｎの力）になるように
Ｚ軸スキャナを動作させることにより行う。

【０００４】ここで図４を参照して、光学顕微鏡を一体
的に備えた従来のＡＦＭによって、試料表面の任意の測
定点に関する試料測定の手順について説明する。

【０００５】ＸＹステージ１１１の上に試料テーブル１
１２を取り付け、この試料テーブル１１２の上に試料１
１３を載置する。ＸＹステージ１１１は、図中Ｘ軸方向
およびＹ軸方向への移動を可能にする機構（上記ＸＹ軸
スキャナ）を内蔵する。ＸＹステージ１１１の動作によ
ってＸＹ平面内の走査が行われる。試料テーブル１１２
の上方にはフレーム１１４に固定された光学顕微鏡１１
５が配置され、この光学顕微鏡１１５によって試料１１
３の表面における測定したい目標位置を焦点調整するこ
とによって捕らえる。１２１はカンチレバーで、その先
端には探針１２２を備える。探針１２２は、先端半径が
約１０ｎｍ程度の鋭い形状を有する。カンチレバー１２
１はｘｙｚスキャナ１１８に取り付けられる。ｘｙｚス
キャナ１１８はＺ粗動ステージ１１７に取り付けられ、
さらに当該Ｚ粗動ステージ１１７は上記フレーム１１４
に固定される。カンチレバー１２１の配置位置は、その
先端部が光学顕微鏡１１５の視野内に入るように設定さ
れる。光学顕微鏡１１５で試料表面上の目標位置を探す
ときには、カンチレバー１２１を光学顕微鏡１１５の対
物レンズ側に移動させ、回折現象を利用して試料１１３
の表面の全面を光学顕微鏡１１５で観察できるようにし
ている。

【０００６】光学顕微鏡１１５で試料表面の目標位置を
捕らえた後、光学顕微鏡１１５に付設されたＣＣＤカメ
ラ１１６、画像処理装置１３３、表示装置１３４を用い
てカメラの視野中心（画像処理装置１３３によって表示
装置１３４の画面に表示される映像の中心位置）に、Ｘ
Ｙステージ１１１を動作させることによって試料表面の
上記目標位置を合わせる。その後、探針１２２を、Ｚ粗
動ステージ１１７とｘｙｚスキャナ１１８を動作させる
ことにより下げ、探針１２２と試料表面の目標位置とを
位置合わせし、当該探針１２２によってかつｘｙｚスキ
ャナ１１８を動作させることによって、当該目標位置に
ついての像観察を行う。

【０００７】以上のＡＦＭにおける試料測定において、
制御部１３５には、入力装置１３６から与えられた測定
パラメータに保存され、かつ測定や位置調整のためのプ
ログラムが用意される。Ｚ粗動ステージ制御回路１３１
は、制御部１３５からの制御指令を受けてＺ粗動ステー
ジ１１７の動作を制御する。ｘｙｚスキャナ制御回路１
３２は、制御部１３５から制御指令を受けてｘｙｚスキ
ャナ１１８の動作を制御する。ＸＹステージ制御回路１
３０は、制御部１３５からの制御指令を受けてＸＹステ
ージ１１１の動作を制御する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】試料測定の手順に関す
る上記説明で推測されるように、従来の光学顕微鏡付き
ＡＦＭで、任意の測定点を測定した後にさらに試料テー
ブル１１２を移動させて他の測定点を探し出し測定しよ
うとする場合には、測定手順として、次の（１）〜
（５）の手順が行われる。（１）測定を終了した場所の
試料表面から離れるように、ＡＦＭの探針１２２（カン
チレバー１２１）を退避させる。（２）探針の退避状態
を維持し、ＸＹステージ１２１の移動・停止を繰り返し
ながら光学顕微鏡１１５の焦点合せを行い、かつ目標位
置である他の測定点を探す。（３）光学顕微鏡１１５で
他の測定点が見つかったときには、ＸＹステージ１１１
の移動の動作を停止する。（４）目標位置である他の測
定点を光学顕微鏡の視野中心に位置させる。（５）退避
状態にあった探針１２２を、目標位置である他の測定点
に近づくように下げる。以上の手順（１）〜（５）を行
うために要する時間としては、およそ５分程度である。

【０００９】以上の通り、従来の光学顕微鏡付きＡＦＭ
では試料表面の測定領域において、或る測定点を測定し
た後に他の測定点を探し出して測定する場合、上記手順
（１）〜（５）を必ず繰り返さなければならないので、
その度に５分程度の時間がかかり、当該測定領域全体で
は、多数の測定点が定められているので、その時間が累
積すると、測定に要する時間が相当に長くなるという問
題が提起される。或る測定点の測定動作から他の測定点
での測定動作へ移るための時間が長くなるということ
は、測定全体にわたって当該ＡＦＭの操作性が悪いとい
う問題を提起し、測定装置としての使い勝手が非常に悪
いという印象をユーザに与える。

【００１０】前述した光学顕微鏡付きＡＦＭの問題は、
観察装置が装備された類似の走査型プローブ顕微鏡に一
般的に生じる問題である。

【００１１】本発明の目的は、前述の問題を解決するこ
とにあり、観察装置を備え、試料表面の目標とする測定
点の測定を開始する前に観察装置によって当該測定点を
探し出し測定を行う方法であって、試料表面の測定領域
において、或る測定点の測定を終了して他の測定点への
測定に移る場合に、高速な移動を行い、測定装置全体と
して使い勝手を良好にした走査型プローブ顕微鏡の測定
方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段および作用】第１の本発明
（請求項１に対応）に係る走査型プローブ顕微鏡の測定
方法は、試料の表面の測定点を観察装置で探し出し、カ
ンチレバーの先部に設けた探針を、当該測定点に対して
両者の間で物理量が作用し合う程度の距離まで接近さ
せ、探針に作用する物理量によってカンチレバーが変位
するとき、この変位量を検出し、カンチレバーの変位が
一定に保持されるように制御して測定を行い、試料の表
面上での複数の測定点の各々に探針を移動させて上記測
定を行うことにより、試料の表面を測定する走査型プロ
ーブ顕微鏡で実行される。特徴的な構成は、探針によっ
て、或る測定点での測定が終了した後、他の測定点を測
定するとき、試料が移動を開始する時、探針を試料表面
から離れるように退避させ、観察装置によって目標とな
る他の測定点が捕らえられ、試料の位置が確定して停止
した時、探針を他の測定点に接近させることである。

【００１３】本発明では、目標位置を探すべく試料の移
動を開始するとき、ＸＹステージによる試料テーブルす
なわち試料の移動と、試料表面から探針が退避すること
を同時に行うと共に、観察装置によって目標位置が見つ
かって試料が停止された時には退避状態にあった探針を
試料表面に接近させるようにしたので、高速な移動を可
能にし、測定時間が全体として短縮化される。

【００１４】第２の本発明（請求項２に対応）に係る走
査型プローブ顕微鏡の測定方法は、上記第１の方法にお
いて、好ましくは、探針の退避動作で、その動作量が、
試料の表面の傾斜量を前もって測定し、これにより、当
該傾斜量に基づいて決定することを特徴とする。退避の
動作制御が容易になり、必要な退避量を確実に動作させ
ることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
を添付図面に基づいて説明する。

【００１６】図１は本発明に係る走査型プローブ顕微鏡
の代表的実施形態としてのＡＦＭの構成を示し、図２は
制御部の内部構成を示す。

【００１７】本実施形態によるＡＦＭは、観察装置とし
ての光学顕微鏡を備え、光学顕微鏡と複合化された構成
を有する。基台１０の上にＸＹステージ１１が配置さ
れ、ＸＹステージ１１上に設けられた試料テーブル１２
の上に、測定対象である試料１３が載置される。ＸＹス
テージ１１は、直交するＸ軸方向およびＹ軸方向で定義
されるＸＹ平面内で試料テーブル１２を任意に移動させ
る。ＸＹ平面は、図１において、水平であってかつ紙面
に垂直な平面である。試料テーブル１２に載置された試
料１３は、試料テーブル１２の移動に伴ってＸＹ平面内
で任意方向に移動する。１９は、ＸＹステージ１１の変
位量を検出するステージ変位計である。

【００１８】基台１０上には取付け枠体１４が設けら
れ、この取付け枠体１４に光学顕微鏡１５とＺ粗動ステ
ージ１７と変位検出器（図示せず）が取り付けられる。
光学顕微鏡１５では、その対物レンズ部分を下方に向
け、試料１３に対向させている。光学顕微鏡１５は、試
料表面に関する像を撮影して電気信号に変換するＣＣＤ
カメラ１６を備える。またＺ粗動ステージ１７は、上記
ＸＹ平面に垂直なＺ軸方向の粗動動作（相対的に大きな
変位を生じる動作）を可能にする移動機構である。Ｚ粗
動ステージ１７の下側にはｘｙｚスキャナ１８が取り付
けられる。ｘｙｚスキャナ１８の下面にはカンチレバー
２１が取り付けられる。ｘｙｚスキャナ１８は、Ｘ，
Ｙ，Ｚの各軸方向にカンチレバー２１を微動させる機能
を有し、通常、圧電素子を用いて構成される。カンチレ
バー２１の先部には試料１３の表面に対向する探針２２
を備える。

【００１９】なおＡＦＭでは、図１中図示しない変位検
出器が設けられる。この変位検出器は、カンチレバー２
１のたわみ量、すなわち探針２２の変位を検出するため
の装置である。変位検出器には例えばレーザ光源と光検
出器からなる検出光学系が使用される。レーザ光源から
出力されたレーザ光はカンチレバー２１の背面で反射
し、その反射光が光検出器で検出されるように構成され
る。

【００２０】ＸＹステージ１１の動作はＸＹステージ制
御回路３０の制御に基づいて行われ、ＸＹステージ１１
の動作量はステージ変位計１９で検出される。ＸＹステ
ージ制御回路３０は制御部３５から制御量に関するデー
タを受け、ステージ変位計１９は検出した動作量に関す
るデータを制御部３５に送給する。またＺ粗動ステージ
１７の動作はＺ粗動ステージ制御回路３１で制御され、
ｘｙｚスキャナ１８の動作はｘｙｚスキャナ制御回路３
２によって制御される。ｘｙｚスキャナ制御回路３２に
基づく探針２２のＺ軸方向の位置制御は、探針２２と試
料１３の表面との間に作用する原子間力が一定に保持さ
れるように両者の間の距離を調整するために行われるも
のであるので、変位検出器で検出された変位検出データ
を制御部３５に送給し、制御部３５で演算された制御信
号がｘｙｚスキャナ制御回路３２に対して与えられる。
Ｚ粗動ステージ制御回路３１は、測定動作を行える位置
に探針２２を移動させるための制御回路であり、制御部
３５から必要な制御信号を受ける。

【００２１】制御部３５は、マイクロコンピュータを用
いて構成され、走査型プローブ顕微鏡全体の所要の制御
処理、演算処理、表示装置３４での像作成の作図処理な
どを行うプログラムを備え、さらに必要な指令等を入力
するための入力装置３６を備える。この入力装置３６に
よって、ＸＹステージ１１の移動、光学顕微鏡１５の焦
点合せ、Ｚ粗動ステージ１７の駆動、ｘｙｚスキャナ１
８の駆動に関する指令信号が入力される。

【００２２】また上記制御部３５は、機能手段として、
高速目標位置探索を実行する手段、すなわち高速目標位
置探索部３７を内蔵する。高速目標位置探索部３７の機
能は後述される。

【００２３】ＣＣＤカメラ１６が出力する信号は、像を
処理する画像処理装置３３に送られる。画像処理装置３
３および制御部３５に対して表示装置３４が備えられ
る。画像処理装置３３あるいは制御部３５で得られた画
像データに基づいて、表示装置３４に、測定された試料
部分の画像が表示される。

【００２４】次に図２を参照して制御部３５の構成を説
明する。制御部３５は、外部からの信号を取り込み、必
要に応じてＡ／Ｄ変換する入力インターフェース４１
と、所望の制御処理と演算処理を実行するためのマイク
ロプロセッサユニット（ＭＰＵ）４２と、ＭＰＵ４２で
実行される手順や必要なパラメータを格納するリードオ
ンリーメモリ（ＲＯＭ）４３と、制御処理や演算処理の
結果を格納するランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）４４
と、制御および演算の結果を必要に応じてＤ／Ａ変換し
て出力する出力インターフェース４５を備えている。さ
らに特徴的構成として、前述の高速目標位置探索部３７
を備える。高速目標位置探索実行部３７に基づくＡＦＭ
の動作は、図３のフローチャートを参照して後述され
る。

【００２５】上記構成を有するＡＦＭによる測定動作を
説明する。

【００２６】最初に基本的動作を説明する。ＸＹステー
ジ１１上の試料テーブル１２の上に試料１３を載せ、Ｘ
Ｙステージ１１を動作させて試料１３をＸＹ平面内で移
動させ、かつ光学顕微鏡１５によって試料表面の測定領
域を観察しながら、試料１３の表面にて決められた目標
位置である測定点を探し出す。測定点については、好ま
しくは、比較的に数の多い複数の点が予め定められてい
る。光学顕微鏡１５のＣＣＤセンサ１６から出力された
信号は画像処理装置３３に入力され、この画像処理装置
３３の出力信号と、ステージ変位計１９で検出された信
号が制御部３５に入力される。制御部３５では必要な制
御信号が作られ、これをＸＹステージ制御回路３０に供
給する。ＸＹステージ制御回路３０は制御部３５によっ
て駆動制御され、ＸＹステージ１１は、試料１３の表面
における上記測定点が光学顕微鏡１５に捕捉される位置
まで移動する。光学顕微鏡１５で得られた像は、画像処
理装置３３を経由して表示装置３４に表示される。

【００２７】光学顕微鏡１５に捕捉された試料１３の表
面における上記測定点は、表示装置３４の画面上でその
中心位置に位置合せされる。目標位置である当該測定点
が、当該画面中心位置に配置されると、カンチレバー２
１の先端に設けられた探針２２と当該測定点との位置が
一致する。探針２２が目標位置である測定点に位置合せ
されると、その後、ＡＦＭによる本来の測定動作が行わ
れる。

【００２８】試料１３の測定点に位置合わせされた探針
２２は、後述するように、高速目標位置探索部３７に基
づき、既に、原子間力が作用する位置に至るまで当該測
定点に接近した状態にある。カンチレバー２１の変位を
検出する変位検出器（図示せず）からの検出値に基づ
き、ｘｙｚスキャナ制御回路３２を介して、探針・試料
間に作用する原子間力が所定値に達するまで（カンチレ
バー２１のたわみ量が所定量に達するまで）、カンチレ
バー２１を試料表面に接近させ、カンチレバー２１に変
位を生じさせる。このようにして、当該測定点の微細形
状に関する測定が行われる。

【００２９】制御部３５は、上記測定点の測定が終了す
ると、次の他の測定点を光学顕微鏡１５によって探し出
すべく、ＸＹステージ１１を動作させ、もって試料１３
を移動させる。他の測定点が探し出されると、同様にし
て当該測定点の測定が行われる。すべての測定点につい
て同様にして測定が行われる。制御部３５は、すべての
測定点に関してカンチレバー２１のＺ軸方向の変位に関
する制御量を取り込み、データ記憶部であるＲＡＭ４４
に格納する。

【００３０】ここで図３を参照して本実施形態によるＡ
ＦＭの特徴的な動作を説明する。この特徴的動作は、高
速目標位置探索部３７によって実行される。

【００３１】上記特徴的動作は、試料１３の表面におけ
る測定領域において、任意の或る測定点から他の測定点
（目標位置）に移動する際に、高速な移動を行うための
動作である。ＡＦＭによる測定目標位置を、或る測定点
から他の測定点に移動する場合には、ＸＹステージ１１
を動作させることにより、光学顕微鏡１５に対する試料
１３の相対的位置を移動させる。ＸＹステージ１１の移
動動作は、入力装置３６から移動指令を入力することに
より行われる。ＸＹステージ１１が移動するとき、ＸＹ
ステージ１１の移動量はステージ変位計１９で検出さ
れ、制御部３５に入力される。ＸＹステージ１１の移動
については、入力装置３６によって定量的に目標値を与
えて移動させることができるし、あるいは、光学顕微鏡
１５を利用して試料１３の表面を観察しながら手動操作
で移動させることもできる。

【００３２】次の測定を行う目標位置を探し出すとき、
高速目標位置探索部３７は、ＸＹステージ１１の移動を
開始する共に、同時に、Ｚ粗動ステージ１７とｘｙｚス
キャナ１８を動作させて、カンチレバー２１を、試料１
３の表面から離れるように退避させる（ステップＳ１
１）。カンチレバー２１が退避状態に保持されたまま、
ＸＹステージ１１の移動動作は、判断ステップＳ１３で
目標位置に達したと判断されない限り、継続される（ス
テップＳ１２）。ＸＹステージ１１の移動によって、目
標位置、すなわち次の測定点に到達した判断されると、
ＸＹステージ１１の動作が停止される（ステップＳ１
４）。ＸＹステージ１１の動作が停止すると、これに連
動してカンチレバー２１が試料１３の表面に接近し、探
針２２が目標位置にセットされる。

【００３３】上記のごとく、ＸＹステージ１１を移動さ
せた時、その移動に関する指令信号を検出して、同時
に、連動させてカンチレバー２１は例えば数十μｍ退避
させる。またＸＹステージ１１が停止した時、同様にＸ
Ｙステージの停止に関する指令信号を検出して、カンチ
レバー２１を下げ、探針２２を試料表面の目標位置であ
る測定点に接近させる。ＸＹステージ１１の移動中は、
カンチレバー２１は退避状態に保持される。ＡＦＭの測
定動作において目標位置の探索を、高速目標位置探索部
３７によって上記のごとく行うようにしたため、或る測
定点から他の測定点に移動する時間が短縮され、測定に
要する時間が全体として高速化される。従来装置の測定
方法では、例えば８インチウェハの両端を移動する場合
には、ＸＹステージの平均スピードが３０mm／sec のた
め６〜７秒要したが、この時間が充分に短縮されること
になった。

【００３４】また、次の測定の目標位置を探し出すため
の移動方法は、次のように変更することもできる。試料
１３の測定すべき表面には、通常、傾斜が存在する。従
って、ＸＹステージの駆動を開始するとき、光学顕微鏡
の焦点合せ（フォーカス）が完了していても、移動のた
びに焦点合せを行わないと、目標位置を探し出すことが
できないおそれがある。そこで、光学顕微鏡には、焦点
合せ用ステッピングモータが付設されているので、試料
表面の各点で焦点合せを行っておけば、当該ステッピン
グモータの駆動値から試料表面の傾斜を知ることができ
る。一方、一定の力で探針２２を試料１３に当て、上記
の各点のＺ粗動ステージ１７、ｘｙｚスキャナ１８の各
々の駆動値から試料の傾斜量を知ることができる。この
ように、試料の表面の傾斜量がわかると、光学顕微鏡１
５のピントが合った状態でＸＹステージ１１を動作させ
ることができる。またカンチレバー２１を退避させると
き、試料表面の傾斜を考慮して、その退避量を設定する
ようにすることが可能である。かかる構成によれば、目
標位置をさらに高速に探索できる。

【００３５】前記実施形態では光学顕微鏡が複合された
ＡＦＭについて説明したが、他の走査型プローブ顕微鏡
についても同様に本発明による構成を適用できる。

【００３６】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、ＡＦＭ等の走査型プローブ顕微鏡の探針で試料表
面の形状等を測定・観察する場合、或る測定点を測定し
た後に他の測定点を測定するときに、ＸＹステージの移
動動作と共に、同時にカンチレバー（探針）を試料表面
から自動的に退避させ、ＸＹステージを停止すると、当
該カンチレバーが自動的に試料表面に接近してＡＦＭで
測定できる状態になる。従って、目標位置を高速に探索
することができ、高速な測定を行うことができる。また
試料表面の傾斜を考慮して探索を行えるように構成した
ため、光学顕微鏡のピントを常に合せ、かつカンチレバ
ーの退避量を適切に設定でき、さらに高速な探索を行う
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る走査プローブ顕微鏡の実施形態を
示す構成図である。

【図２】制御部の内部構成を示すブロック図である。

【図３】高速目標位置探索部の動作内容を示すフローチ
ャートである。

【図４】従来の装置を説明するための構成図である。

【符号の説明】 １１ ＸＹステージ １２ 試料テーブル １３ 試料 １４ 取付け枠体 １５ 光学顕微鏡 １６ ＣＣＤカメラ １７ Ｚ粗動ステージ １８ ｘｙｚスキャナ ２１ カンチレバー ２２ 探針

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 試料の表面の測定点を観察装置で探し出
   し、カンチレバーの先部に設けた探針を、前記測定点に
   対して両者の間で物理量が作用し合う程度の距離まで接
   近させ、前記探針に作用する前記物理量によって前記カ
   ンチレバーが変位するとき、この変位量を検出し、前記
   カンチレバーの変位が一定に保持されるように制御して
   測定を行い、前記試料の表面上での複数の測定点の各々
   に前記探針を移動させて前記測定を行うことにより、前
   記試料の表面を測定する走査型プローブ顕微鏡の測定方
   法において、 前記探針によって、或る測定点での測定が終了した後、
   他の測定点を測定するとき、前記試料が移動を開始する
   時、前記探針を試料表面から離れるように退避させ、前
   記試料の位置が確定して停止した時、前記探針を前記他
   の測定点に接近させることを特徴とする走査型プローブ
   顕微鏡の測定方法。
2. 【請求項２】 前記探針の退避量は、前記試料の表面の
   傾斜量を前もって測定することにより、当該傾斜量に基
   づいて決定することを特徴とする請求項２記載の走査型
   プローブ顕微鏡の測定方法。