JPH0929835A - Tab用ベースフィルム - Google Patents
Tab用ベースフィルムInfo
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- JPH0929835A JPH0929835A JP18259995A JP18259995A JPH0929835A JP H0929835 A JPH0929835 A JP H0929835A JP 18259995 A JP18259995 A JP 18259995A JP 18259995 A JP18259995 A JP 18259995A JP H0929835 A JPH0929835 A JP H0929835A
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Abstract
プロケットホール、デバイスホールなどのスルーホール
性に優れるTAB用ベースフィルムを提供する。 【解決手段】芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミド
フィルムからなるTAB用ベースフィルムであって、厚
み方向の屈折率nz≧1.50、長手方向および幅方向
の屈折率nx,nyが、 0.1≦(nxーnz)≦0.6 0.1≦(nyーnz)≦0.6 を充たし、且つ、分子量1000以下のオリゴマーの重
量分率を0.5%以下とする。
Description
tomated Bonding )と言われる半導体集積回路用テー
プ(以下TABテープと略す)に用いられるベースフィ
ルムに関するものであり、更に詳しくは、スリット性、
スルーホール性に優れたTAB用ベースフィルムに関す
るものである。
香族ポリイミドフィルムなどの絶縁フィルム上に、接着
剤層、保護層を設け、接着剤付きテープとした後に、概
略以下の手順で製造される。
グ工程 銅箔ラミネーティング、接着剤硬化工程 銅箔パターン形成工程 メッキ処理工程 この後、ICが搭載されて実装部材となる。
で高温に曝され、また、パターンのファインピッチ化が
要請されるため、低熱膨張係数、高弾性率を具備した芳
香族ポリアミドや、芳香族ポリイミドなどの耐熱性フィ
ルムをベースフィルムとして使用することが提案されて
いる(例えば、特開平4ー30442や特開平5ー14
8458など)。
したようにスリット、パンチング工程を経て製造される
が、高弾性率の芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドを
スリット、パンチングする場合には、切断面に”バリ”
や”裂け目”が発生したり、ポリマの脱落であるいわゆ
る”切り粉”が発生したりする。バリや、裂け目が発生
するとスリット時において搬送が不安定になったり、切
断面が盛り上がり巻き取られたテープ(パンケーキ)の
巻き崩れ、端面ずれが発生することがある。また、パン
チング時においてはフィルムが裂けて使用できなくなっ
たり、ICとの接続不良を起こす場合がある。切り粉が
発生すると不導体の異物となるため銅箔パターン形成が
阻害される場合がある。
性、パンチングによるスルーホール性の良好な芳香族ポ
リアミド、芳香族ポリイミドからなるTAB用ベースフ
ィルムを提供することを目的とする。
折率nz≧1.50、長手方向および幅方向の屈折率n
x,nyが、 0.1≦(nxーnz)≦0.6 0.1≦(nyーnz)≦0.6 を充たし、且つ、分子量1000以下のオリゴマーの重
量分率が0.5%以下である芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドからなるTAB用ベースフィルムとす
るものである。
次の一般式(I)および/または一般式(II)で表さ
れる繰り返し単位を50モル%以上含むものが好まし
く、70モル%以上からなるものがより好ましい。
−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル、エチ
ル、プロピルなどのアルキル基(特にメチル基)、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどのア
ルコキシ基などの置換基で置換されているものも含み、
また、重合体を構成するアミド結合中の水素が他の置換
基によって置換されているものも含む。
されたものが、全芳香環の50%以上、好ましくは75
%以上を占める重合体が、剛性、耐熱性が良好でTAB
テープの薄膜化、パターンのファインピッチ化が実現で
きるため好ましい。
(I)および/または一般式(II)で表される繰り替
えし単位を50モル%以上含むものであって、50モル
%未満は他の繰り替えし単位が共重合、またはブレンド
されていても差し支えない。
合体の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を1つ以上
含むものであり、一般式(III)および/または一般
式(IV)で示される繰り返し単位を50モル%以上含
むものが好ましく、より好ましくは70モル%以上であ
る。
み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は芳香環上
の隣接する炭素原子に結合している。このAr4 は、芳
香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。
代表例としては次の様なものが挙げられる。
2 −,−S−,−C(CH3 )2 −等から選ばれる。
のハライドに由来する。Ar5 、Ar7 は例えば
−,−SO2 −,−S−,−C(CH3 )2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。更にこれら
の芳香環上の水素原子の一部が、塩素、フッ素、臭素な
どのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、メチル、エチ
ル、プロピルなどのアルキル基(特にメチル基)、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどのア
ルコキシ基などの置換基で置換されているものも含む。
II)および/または一般式(IV)で表される繰り替
えし単位を50モル%以上含むものであって、50モル
%未満は他の繰り替えし単位が共重合、またはブレンド
されていても差し支えない。
リイミドには、フィルムの物性を損なわない程度に滑
剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされていて
もよい。
方向の屈折率nz≧1.50、長手方向および幅方向の
屈折率nx,nyが、 0.1≦(nxーnz)≦0.6 0.1≦(nyーnz)≦0.6 を充たす必要がある。好ましくは、 0.2≦(nxーnz)≦0.4 0.2≦(nyーnz)≦0.4 である。
向と厚み方向の屈折率のバランスが良く良好なスリット
性、スルーホール性を示す。nz<1.50であると、
スリット性、スルーホール性が悪化するだけでなく、フ
ィルムの吸湿性が高くなるため接着性、絶縁性が悪化す
るためTAB用ベースフィルムとして適さなくなる。ま
た、(nx−nz)、(ny−nz)が0.1未満であ
ると切断面のバリが発生することがある。また、(nx
−nz),(ny−nz)が0.6を超えるとフィルム
に裂け目、バリが発生し易くなるだけでなく、フィルム
が脆くなり実用に適さなくなることがある。
は、分子量1000以下のオリゴマーの重量分率が0.
5%以下である必要がある。0.5%を超えると、スリ
ット時、パンチング時にバリや裂けが発生しやすくなる
だけでなく、切り粉が発生しやすくなり不導体の異物と
なるためにパターン形成が阻害されることがある。好ま
しくは、0.2%以下、更に好ましくは0.1%以下で
ある。
2.30以下であると、スリット性、スルーホール性が
より良好になり、また、TAB用ベースフィルムとして
充分な剛性と柔軟性を両立できるため好ましい。より好
ましくは1.80以上2.20以下である。
は、ヤング率が、長手方向、幅方向ともに800kg/
mm2 以上であると抗張力性、腰強さが高く、TAB製
造時の搬送特性が良好となり、また、薄膜化を実現でき
るので好ましい。より好ましくは1000kg/mm2
以上、更に好ましくは1200kg/mm2 以上であ
る。
は、厚みが15〜150μm程度で用いられるが、小型
化要求のための薄膜化要請、フィルム強度、ハンドリン
グ性などのバランスから15〜125μm程度がより好
ましく、更に好ましくは25〜75μm程度である。
向、幅方向の伸度がともに10%以上であるとフィルム
に適度な柔軟性を与えることが出来るので好ましい。よ
り好ましくは20%以上、更に好ましくは30%以上で
ある。
℃における熱収縮率は、5%以下であるとFPC等への
加工時に要求される耐ハンダ性が向上するので好まし
い。より好ましくは3%以下である。
は、4%以下であると吸湿による接着性の低下、寸法変
化を抑えることができるので好ましい。より好ましくは
3%以下、更に好ましくは2%以下である。
ィルムの物性を損なわない程度に滑材、酸化防止剤その
他の添加剤等がブレンドされていてもよい。
ルム中に粒子を存在させても差し支えない。粒子の種類
としては、SiO2 、TiO2 、Al2 O3 、CaSO
4 、BaSO4 、CaCO3 、カーボンブラック、ゼオ
ライトその他の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン
粒子、ポリイミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋ポリエ
ステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、テフロン粒子など
の有機高分子などがあるが、芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドフィルムの耐熱性を活かす点から耐熱
性の優れた無機粒子の方がより好ましい。粒子径として
は、0.01〜2.0μm、より好ましくは0.05〜
1.0μmであることが望ましい。また、含有量として
は、0.01〜10wt%、より好ましくは0.1〜5
wt%であることが望ましい。
あってもよい。例えば2層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。
に限定されるものではない。
ドとジアミンから得る場合には、N−メチルピロリドン
(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメ
チルホルムアミド(DMF)などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸
クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副生する
が、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの有機の中和剤が使用される。また、イソ
シアネートとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機
極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸
リチウムなどを添加する場合もある。
ド酸の溶液は次のようにして得られる。即ち、ポリアミ
ド酸はNMP,DMAC,DMFなどの非プロトン系有
機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジ
アミンを反応させて調製することができる。また、芳香
族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含有する溶液を加
熱したり、ピリジン等の触媒と無水酢酸などの脱水剤を
添加してイミド化を行い、これを再度溶媒に溶解して製
膜原液を調製できる。また、ポリアミド酸をそのまま製
膜原液としても差し支えない。
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。
ることが好ましく、より好ましくは1.0〜5.0、更
に好ましくは1.5〜4.5である。固有粘度が0.5
より小さいと分子量低下のため機械特性、吸湿性などの
フィルム物性が損なわれるために好ましくない。また
6.0より大きいと適切な溶液粘度を得るためにポリマ
濃度を相当程度低くしたり、キャスト温度を上げねばな
らず、生産性が低下したり、フィルム物性を損なうこと
になる。
範囲内であれば高い方が生産性向上につながり望ましい
が、現実的なプロセスの観点から5〜35%の範囲内で
ある。
あってもよい。例えば2層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。積層フ
ィルムの場合、それぞれの製膜原液の溶液粘度は、上記
溶液粘度の範囲内であれば異なっていてもよいがその差
が500ポイズ以下、より好ましくは300ポイズ以下
であると、口金内、複合管内での流動特性、または他の
層上への積層時の流動特性が均質になるために好まし
い。
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には製膜原液をエンドレスベルト、ドラム等の支持
体にキャスト後乾燥、フィルムの剥離、熱処理を行う乾
式法、製膜原液乾燥工程を経ずに直接水中に押し出し、
溶媒抽出後熱処理を行う湿式法、支持体上で乾燥、フィ
ルム剥離後湿式工程に導入する乾湿式法、支持体上で乾
燥後支持体ごと湿式工程に導入する半乾半湿式法などが
ありいづれの方法で製膜されても差し支えないが、オリ
ゴマー重量分率を低下させるためには、湿式工程を経る
方法が好ましい。ここでは乾湿式法を例にとって説明す
る。
金からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出
して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ
薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。この乾式工程に
おいては、まず1段目の乾燥において、100℃以下の
比較的低温で乾燥させる。次に2段目の乾燥において、
150℃以上の高温で残余の乾燥を行いフィルムに自己
支持性を持たせる。この時、押し出し時、1段目の乾燥
後、2段目の乾燥後のポリマー濃度をそれぞれa,b,
cwt%とすると1段目の乾燥で70≦(1段目乾燥
量:%)=(b−a)/(c−a)×100≦90とな
るまで乾燥を行う。乾燥を2段階で行う理由は、本発明
の範囲の屈折率を得るために、まず1段目の低温乾燥に
より面内方向への急激な分子鎖配向を抑えたまま乾燥し
た後、次に2段目の高温乾燥により面内配向を促進する
ことにより厚み方向の屈折率を本発明の範囲内にするた
めである。この乾式工程における乾燥は、1段目、2段
目に相当する乾燥をそれぞれ2段以上の多段階で行って
もよい。
に導入され、ここでフィルム中に含有されているオリゴ
マや溶剤、不純物が除去される。この浴は一般に水系媒
体からなるものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を
含有していてもよい。しかし、一般には水分量は30%
以上、好ましくは50%以上含有されているものであ
り、浴温度は通常0〜100℃で使用される。
マーを本発明の範囲内にまで減少させるためには、浴温
度を50℃以上に上げたり、有機溶媒あるいは有機溶媒
/水系の浴を設けてこの中を通すことが有効である。有
機溶媒としては、NMP、DMAC,DMFなどの非プ
ロトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、フレオン
等のハロゲン化炭化水素や、アルコール、ケトン、エー
テル等の有機溶媒がある。
い。例えば、まず、NMPなどの有機溶媒と水からなる
浴に浸漬後、クロロホルム、塩化メチレンなどに浴に浸
漬させることができる。更にその後、水浴で再度水洗す
ることにより、抽出を効果的に行うことができる。
比較的厚膜であるため、フィルム内部に含有されている
低分子量物を効果的に抽出するためには、湿式浴浸漬時
間は5分以上であることが望ましい。より好ましくは1
0分以上であり、更に好ましくは15分以上である。
燥、熱処理が行われてフィルムとなる。
膜工程中の湿式浴中、テンター内で面内配向性を上げ目
的の屈折率を持つフィルムを得るために延伸が行われる
が、延伸倍率は面倍率で1.0〜4.0(面倍率とは延
伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム面積で除した値
で定義する)の範囲内にあることが好ましく、より好ま
しくは1.1〜3.0である。延伸倍率がこの範囲内で
あるとポリマーの面内配向性が進行し本発明の目的であ
るスリット性、スルーホール性の改善された、しかも優
れた機械特性を兼ね備えたフィルムが得られるが、延伸
倍率が4.0を超えるとフィルムの柔軟性が損なわれス
リット、パンチング工程で裂けやすくなったり、屈曲性
に劣る場合がある。また、延伸倍率が1.0より小さい
と面内配向不足を招きやすい。
が、熱処理は200〜450℃の範囲内で行われるのが
好ましい。熱処理がこの温度以下であると乾燥不足、結
晶化不足を招き充分な機械特性が得られない。またこの
範囲以上であるとフィルムが脆くなり引き裂き性の低下
等が見られ実用に適さなくなる場合がある。
香族ポリアミドフィルムが得られ、本発明のTAB用ベ
ースフィルムとすることができる。
いた実装部材の製造方法を説明するがこれに限定される
ものではない。
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リフェニレンサルファイドなどの保護フィルム上に、エ
ポキシ系、ポリアミド系などの接着剤を塗布、乾燥し、
接着剤付き保護フィルムを得る。接着剤溶液の塗布厚み
は7〜50μmが好ましい。次いで所定の幅にスリット
された芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドフィル
ムに上記接着剤付き保護フィルムを熱圧着により貼り合
わせる。こうして得られた保護フィルム付きTAB用テ
ープは、スプロケットホール、デバイスホール等がパン
チングにより加工される。次いで保護フィルムを剥離し
ながら銅箔等とラミネートされる。一般的にラミネート
は連続式加熱ロールプレス方式が用いられ、ロール温度
100〜200℃、ロール線圧1〜50kg/cmの範
囲で行われる。次いでロール巻きのまま接着剤の硬化が
行われる。
の方法によりパターン形成、メッキ処理が施され、IC
が搭載されて実装部材となる。
次の方法による。
製位相差測定装置NPDM−1000を用いた。Xeラ
ンプを光源として測定波長590nmにて、光線を入射
角70゜で試料に当てたときの反射光から屈折率を測定
した。また、厚み方向の屈折率はアタゴ(株)製アッベ
の屈折率計4形を用い、NaのD線(589nm)を光
源として中間液に屈折率1.79の硫黄ヨウ化メチレン
溶液を用いて測定した。測定はいづれも25℃で行っ
た。
光散乱光度形および示差屈折率計を組み入れ、GPC装
置でサイズ分別された分子鎖溶液の光散乱強度および屈
折率差を溶出時間を追って測定することにより、溶質の
分子量と含有率を計算し求めた。
は、採取したポリマーあるいは含溶媒フィルムの重量W
3(g)を測定し、この後流水にて20分間脱溶媒、脱
塩した後、300℃のオーブン中で10分間乾燥した後
の重量W4(g)を測定し下記の式より算出した。
段目乾燥後の上記にて測定したポリマー濃度をそれぞれ
a,b,cwt%とし、下記の式より算出した。
た。試験片は10mm幅で50mm長さ、引っ張り速度
は300mm/分である。
W0 とし、該フィルムを20℃、相対湿度75%中で4
8時間吸湿後の重量をW1 として(W1 ーW0)/W0
に100を乗じた値で吸湿率(%)を表した。
にスリットし、測定サンプルとする。200℃の熱風オ
ーブンにサンプルを入れ、10分間加熱後オーブンから
取り出し、(加熱前の試長ー加熱後の試長)を加熱前の
試長で除した値に100を乗じて熱収縮率(%)とし
た。
トし、得られたパンケーキ状態(端部の盛り上がり、巻
きずれ、端面の変形、傷の有無)を以下の基準で評価し
た。
り粉がない △:小さな端部の盛り上がり、巻きずれ、端面の変形、
傷、切り粉がある ×:大きな端部の盛り上がり、巻きずれ、端面の変形、
傷、切り粉がある
エン、イソプロピルアルコールを溶媒とするエポキシ樹
脂系接着剤を10μm厚に塗布、乾燥後、(7)でスリ
ットしたベースフィルムに熱圧着する。こうして得られ
た保護フィルム付きTAB用テープに、パンチングによ
り10×10mmのデバイスホールを連続的に20個形
成し、切断部を顕微鏡観察し、以下の基準で判定した。
数が0〜2個 △:バリ、裂け目、切り粉の発生したデバイスホール個
数が3〜6個 ×:バリ、裂け目、切り粉の発生したデバイスホール個
数が7個以上
ン成分として95モル%に相当する2ークロルパラフェ
ニレンジアミンと、5モル%に相当する4、4’ージア
ミノジフェニルエーテル(DPE)とを溶解させ、これ
に99モル%に相当する2ークロルテレフタル酸クロリ
ド(CTPC)を添加し、2時間撹拌して重合を完了し
た。これを水酸化リチウムで副生した塩化水素を中和
し、ポリマ濃度10%、粘度3800ポイズの芳香族ポ
リアミド溶液を得た。この溶液に平均粒径100nmの
シリカ粒子をポリマに対して1.0%添加、分散させて
製膜原液とした。
ーで濾過した後、エンドレスベルト上に流延し、まず第
1段目の乾燥として、80℃の熱風で1段目乾燥量が7
0%となるまで乾燥を行った後、次に170℃の熱風で
加熱し溶媒を蒸発させ、自己支持性を得たポリマ濃度3
5wt%のフィルムをベルトから連続的に剥離した。こ
の含溶媒フィルムを組成がNMP/水=50/50で温
度が60℃の湿式浴に10分間、20℃のクロロホルム
浴に5分間、60℃の水浴に5分間連続的に走行させ
た。この間にロール間延伸により、フィルムを長手方向
に1.1倍延伸した。次にテンターで300℃で幅方向
に1.2倍延伸しながら3分間の乾燥、熱処理を行った
後、20℃/秒で徐冷して厚さ25μmの芳香族ポリア
ミドフィルムを得た。
向の屈折率、nx,ny,nzはそれぞれ、1.87
5、1.873、1.623であり、(nx−nz)=
0.252,(ny−nz)=0.250であった。ま
た、分子量1000以下のオリゴマーの重量分率は0.
09%であった。また、吸湿率は1.4%、長手方向、
幅方向のヤング率はそれぞれ、1520、1500kg
/mm2 であり、熱収縮率は長手方向、幅方向ともに
0.2%であった。
ルーホール性を評価したところ共に良好であった。
す。
香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム特性
を表2に示す。
t%となるように仕込み、パラフェニレンジアミンを1
00モル%溶解させ、更にテレフタル酸クロリド(TP
C)を50モル%、CTPCを49モル%添加し、実施
例1と同様に重合、中和を行い、ポリマー濃度7.5
%、溶液粘度4000ポイズのポリマー溶液を得た。こ
れに実施例1と同様のシリカ粒子を添加して製膜原液を
得た。
ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム特性を表
2に示す。
香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム特性
を表2に示す。
Cを50モル%、イソフタル酸クロリドを49モル%添
加し、実施例1と同様に重合、中和を行い、ポリマー濃
度15%、溶液粘度3100ポイズのポリマー溶液を得
た。これに実施例1と同様のシリカ粒子を添加して製膜
原液を得た。
ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム特性を表
2に示す。
香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム特性
を表2に示す。
械特性、耐熱性に優れるのみならず、長手方向、幅方
向、厚み方向の屈折率を特定の範囲に限定し、かつオリ
ゴマー量を規定することにより、スリット性、スルーホ
ール性に優れたTAB用ベースフィルムとすることがで
きる。また、フレキシブルプリント配線板用ベースフィ
ルムとしても好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】厚み方向の屈折率nz≧1.50、長手方
向および幅方向の屈折率nx,nyが、 0.1≦(nxーnz)≦0.6 0.1≦(nyーnz)≦0.6 を充たし、且つ、分子量1000以下のオリゴマーの重
量分率が0.5%以下である芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドからなるTAB用ベースフィルム。 - 【請求項2】nx,nyがともに1.70以上、2.3
0以下であることを特徴とする請求項1に記載のTAB
用ベースフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18259995A JP3942046B2 (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | Tab用ベースフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18259995A JP3942046B2 (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | Tab用ベースフィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0929835A true JPH0929835A (ja) | 1997-02-04 |
JP3942046B2 JP3942046B2 (ja) | 2007-07-11 |
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ID=16121110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18259995A Expired - Lifetime JP3942046B2 (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | Tab用ベースフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3942046B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1995
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