JPH09294063A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH09294063A
JPH09294063A JP8105492A JP10549296A JPH09294063A JP H09294063 A JPH09294063 A JP H09294063A JP 8105492 A JP8105492 A JP 8105492A JP 10549296 A JP10549296 A JP 10549296A JP H09294063 A JPH09294063 A JP H09294063A
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intermediate potential
signal
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semiconductor integrated
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浩一 熊谷
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Abstract

(57)【要約】 【課題】内部信号を授受する長い内部配線の信号伝達を
高速化し、内部電源線の電圧揺らぎを緩和する。 【解決手段】長い内部配線2を介して内部信号を授受す
るため、電源電位の2分の1の中間電位を発生する中間
電位発生器4と、入力端子11に入力される内部信号の
立上り/立下りエッジに対応して中間電位を基準レベル
とした正/負パルス信号をそれぞれ生成し内部配線2を
駆動するドライバ回路1と、正/負パルス信号に対応し
て出力がセット/リセットされるレシーバ回路3と、を
備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に関
し、特に内部信号を授受する長い内部配線を有するCM
OS論理LSIの半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】近年のCMOS論理LSIでは、高速化
および素子の集積度向上を図るため、素子および配線寸
法の微細化が進んでいる。この素子寸法の微細化は、M
OSトランジスタの場合具体的には、チャネル長、ゲー
ト酸化膜厚並びにソース,ドレイン拡散層面積等の縮小
を意味し、トランジスタの駆動能力向上および集積度向
上につながる。従って、MOSトランジスタ単体の性能
向上に関しては、素子寸法を微細化するほど性能向上が
図られるという、スケーリング則が成り立っている。
【0003】一方、配線寸法の微細化は、配線幅と配線
間隔で規定される配線ピッチを縮小することであり、孤
立配線の容量は低減されるものの隣接配線間の容量が増
加するため全体としては配線容量増加を招き、かつ配線
抵抗の増加も招く結果となる。従って、配線で生じる信
号の伝搬遅延、いわゆる配線遅延は、一般に前記配線容
量と配線抵抗に関して単調増加の関数であるため、配線
寸法のスケーリング則に従わない。このような理由によ
り、LSIの微細化に伴い信号の伝搬遅延時間の中で配
線遅延時間の占める割合が大きくなってくる。
【0004】図4は、従来のCMOS論理回路で配線を
介して信号を伝達する回路を構成した例である。図4の
構成は、ドライバ回路1の入力端子11に入力されたデ
ジタル信号は、P型MOSトランジスタおよびN型MO
Sトランジスタで構成された2個のインバータ18,1
9の直列接続回路を通してドライバの出力端子12より
入力信号と同相で出力される。出力端子12から出力さ
れた信号は、単位長さ当たりの容量C(pF/mm),
単位長さ当たりの抵抗R(Ω/mm)をもつ長さL(m
m)の配線2を伝送してレシーバ回路3の入力端子31
に到達する。レシーバに入力した信号は、P型MOSト
ランジスタおよびN型MOSトランジスタで構成された
2個のインバータ38,39の直列接続回路を通してレ
シーバの出力端子32より出力される。
【0005】図4の回路においてドライバの入力信号が
ロウレベルからハイレベルに変化する信号をレシーバの
出力端子32へ伝達する場合、配線容量Cl およびレシ
ーバの入力端子容量Ct への電荷供給は、ドライバの2
段目のインバータ19のP型MOSトランジスタにより
おこなわれる。反対に、図4の回路においてドライバの
入力信号がハイレベルからロウレベルに変化する信号を
レシーバの出力端子32へ伝達する場合、配線容量Cl
およびレシーバの入力端子容量Ct からの電荷の引き抜
きは、ドライバの2段目のインバータ19のN型MOS
トランジスタにより行われる。
【0006】いま、電源電圧Vdd、出力インピーダンス
Zr ,Zf (Zr :立上り,Zf :立下り)のドライバ
回路1で、配線抵抗Rl ,配線容量Cl の配線,および
論理スレッショルド電圧Vt ,入力端子容量Ct のレシ
ーバ回路3を駆動した場合を考えると、配線遅延tpdl
(r)(立上り),tpdl(f)(立下り)は、次の,式
でそれぞれ与えられる。
【0007】
【0008】(W.C.Elmore, "The transient response
of damped linear networks with particular regard t
o wide-band amplifiers", Journal of Applied Physic
s, Vol.19, No.1, pp.55-63, Jan.1948)現在の量産レ
ベルであるゲート長0.5μmのCMOSプロセスを想
定して、単位長さ(1mm)当たりの容量C=0.2p
F/mm,単位長さ(1mm)当たりの抵抗R=50Ω
/mm,電源電圧Vdd=3.3v,ドライバ回路の出力
インピーダンスZr =Zf =400Ω,レシーバ回路の
論理スレッショルド電圧Vt =1.5v,入力端子容量
Ct =20fFと仮定して配線長3mmの場合の配線遅
延を計算すると、,式よりtpdl(r)=0.17n
s,tpdl(f)=0.22nsとなる。同様に配線長10
mmで配線遅延を求めると、tpdl(r)=0.79ns,
tpdl(f)=1.0nsとなる。0.5μmCMOSプロ
セスでは、インバータゲート一段当たりの遅延がファン
アウト1の負荷で、約200psであるから、上記配線
遅延は、配線長3mmでインバータゲート一段分の遅延
と同等、配線長10mmの場合はインバータゲート遅延
の4〜5倍の遅延である。
【0009】このように、ゲート長が0.5μm以下の
デバイスにおいては、配線長3mm以上の配線を介して
信号を伝搬する場合はゲート遅延よりも配線遅延の方が
大きくなる。微細化が進展すると上記,式上では、
トランジスタの駆動能力向上によりドライバ回路601
の出力インピーダンスZr ,Zf は小さくなるが、Rl
,Cl は前述のようにスケーリング則に従わないた
め、tpdl(r),tpdl(f)の値は同等か、増加する傾向に
ある。一方、ゲート遅延は、微細化のトランジスタの能
力向上によりスケーリングされて小さくなるため、式の
上からも微細化により配線遅延が信号の伝搬遅延全体に
占める割合が増加することがわかる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従来のCMOS論理回
路の大部分は、単一の論理スレッショルド電圧をもつド
ライバ回路−レシーバ回路間で信号の伝送をおこなう構
成である。このような構成では、デバイスがスケーリン
グ則に従って高性能化し、駆動能力が向上していくのに
対し、配線遅延はスケーリング則に従わないため、微細
化により配線遅延が信号の伝搬遅延全体に占める割合が
増加してくるという問題点が有った。
【0011】また、内部配線の配線容量および入出力端
子容量の駆動を高速化するほど、内部信号の立上り/立
下りエッジのそれぞれに対応して、内部電源線の電圧揺
らぎが大きくなるという問題点が有った。
【0012】したがって、本発明の目的は、これらの技
術課題の少なくとも1つを解決するため、内部信号を授
受する長い内部配線の信号伝達を高速化し、内部電源線
の電圧揺らぎを緩和することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、内部信号を授
受する長い内部配線を有する半導体集積回路において、
電源電位および接地電位の中間電位を発生する中間電位
発生器と、前記内部信号の立上り/立下りエッジに対応
して前記中間電位を基準レベルとした正/負パルス信号
をそれぞれ生成し前記内部配線を駆動するドライバ回路
と、前記正/負パルス信号に対応して出力がセット/リ
セットされるレシーバ回路と、を備えている。
【0014】また、前記ドライバ回路が、前記内部信号
の立上り/立下りエッジを検出し一定のパルス幅をもつ
エッジ検出信号を出力するエッジ検出回路と、前記エッ
ジ検出信号の制御により前記パルス幅期間に前記内部信
号を選択し前記パルス幅期間外に前記中間電位を選択し
出力するセレクタ回路と、を備えている。
【0015】さらに、前記レシーバ回路が、前記正/負
パルス信号を入力し前記中間電位より高い論理スレッシ
ョルド値をもつ高スレッショルド回路と、前記正/負パ
ルス信号を入力し前記中間電位より低い論理スレッショ
ルド値をもつ低スレッショルド回路と、前記高スレッシ
ョルド回路および前記低スレッショルド回路の出力に対
応してセット/リセットされるRSフリップフロップ回
路と、を備えている。
【0016】より下位の解決手段として、前記高スレッ
ショルド回路が、前記正/負パルス信号をゲート電極に
入力しドレイン電極を出力とする第一のPおよびN型ト
ランジスタと、この第一のN型トランジスタのソース電
極と接地との間に接続され前記中間電位より高い論理ス
レッショルド値を設定する第一の設定手段と、を有し、
前記低スレッショルド回路が、前記正/負パルス信号を
ゲート電極に入力しドレイン電極を出力とする第二のN
およびP型トランジスタと、この第二のP型トランジス
タのソース電極と電源との間に接続され前記中間電位よ
り低い論理スレッショルド値を設定する第二の設定手段
と、を有している。
【0017】また、前記第一の設定手段が、前記第一の
N型トランジスタのソース電極にゲート電極を接続しソ
ース電極を接地するN型トランジスタを備え、前記第二
の設定手段が、前記第二のP型トランジスタのソース電
極にゲート電極を接続しソース電極を電源に接続するP
型トランジスタを備えている。
【0018】さらに、前記中間電位が、前記電源電位の
2分の1に設定されている。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
【0020】図1は、本発明の半導体集積回路の実施形
態を示す部分ブロック図である。図1を参照すると、本
実施形態の半導体集積回路は、長い内部配線2を介して
内部信号を授受するため、電源電位の2分の1の中間電
位を発生する中間電位発生器4と、入力端子11に入力
される内部信号の立上り/立下りエッジに対応して中間
電位を基準レベルとした正/負パルス信号をそれぞれ生
成し内部配線2を駆動するドライバ回路1と、正/負パ
ルス信号に対応して出力がセット/リセットされるレシ
ーバ回路3と、を備えている。これら各ブロックの中、
ドライバ回路1およびレシーバ回路3は、本実施形態の
半導体集積回路の特徴部分であり、図面を参照して詳細
説明を続ける。
【0021】図2は、本実施形態の半導体集積回路にお
けるドライバ回路1の詳細構成および動作を示す説明図
である。図2(A)は、ドライバ回路1の詳細構成例を
示す回路図であり、図2(B)は、このドライバ回路1
の入力信号および出力信号を示す波形図である。このド
ライバ回路1は、通常のデジタル信号である内部信号を
入力端子11に入力すると共に、中間電位発生器4から
中間電位を入力端子13に入力し、内部にエッジ検出回
路15,セレクタ回路17などを備え、出力端子12か
ら内部配線2を駆動している。
【0022】エッジ検出回路15は、さらに、ディレイ
回路151,EX−OR(排他的論理和)回路152と
を有している。ディレイ回路151は内部信号を一定時
間だけ遅延し遅延信号を出力する。また、EX−OR回
路152は、内部信号,その遅延信号とをEX−OR演
算し、ディレイ回路151のディレイ時間で規定される
一定のパルス幅をもつエッジ検出信号を出力する。
【0023】セレクタ回路17は、エッジ検出信号によ
り制御されるトランスファゲート回路171,スイッチ
付インバータ172とを有している。トランスファゲー
ト回路171は、エッジ検出信号のパルス幅期間外に中
間電位を選択し内部配線2に出力する。また、スイッチ
付インバータ172は、エッジ検出信号のパルス幅期間
に内部信号を選択し内部配線2に出力する。
【0024】このドライバ回路1の動作を簡単に説明す
る。まず入力端子11に入力される内部信号が変化する
と、エッジ検出回路15において、内部信号の立上り/
立下りエッジに対応して、ディレイ回路151のディレ
イ時間で規定される一定のパルス幅をもつエッジ検出信
号が出力される。次に、セレクタ回路17において、エ
ッジ検出信号のパルス幅期間に内部信号が選択され、そ
の後、パルス幅期間外に中間電位が選択される。これに
より、図2(B)に示されるように、中間電位を基準レ
ベルとした正/負パルス信号が、内部信号の立上り/立
下りエッジに対応して、出力端子12から内部配線2に
それぞれ出力される。
【0025】図3は、本実施形態の半導体集積回路にお
けるレシーバ回路3の詳細構成および動作を示す説明図
であり、図3(A)は、レシーバ回路3の詳細構成例を
示す回路図である。
【0026】このレシーバ回路3は、中間電位を基準レ
ベルとした正/負パルス信号を内部配線2から入力端子
31に入力し、ドライバ回路1の入力端子11に入力さ
れた内部信号を復元し出力端子32に出力する。そのた
め、中間電位を基準レベルとした正/負パルス信号を入
力し中間電位より高い論理スレッショルド値をもつイン
バータ回路である高スレッショルド回路33と、中間電
位を基準レベルとした正/負パルス信号を入力し中間電
位より低い論理スレッショルド値をもつインバータ回路
である低スレッショルド回路34と、これら高スレッシ
ョルド回路33および低スレッショルド回路34の出力
に対応してセット/リセットされ出力端子32に出力す
るRSフリップフロップ回路36と、を備えている。
【0027】高スレッショルド回路33は、さらに、正
/負パルス信号をゲート電極に入力しドレイン電極を出
力とするP型トランジスタ331,N型トランジスタ3
32と、このN型トランジスタ332のソース電極と接
地との間に接続され中間電位より高い論理スレッショル
ド値を設定する第一の設定手段と、を有し、この第一の
設定手段として、N型トランジスタ332のソース電極
にゲート電極を接続しソース電極を接地するN型トラン
ジスタ333を備えている。
【0028】また、低スレッショルド回路34は、正/
負パルス信号をゲート電極に入力しドレイン電極を出力
とするN型トランジスタ341およびP型トランジスタ
342と、このP型トランジスタ342のソース電極と
電源との間に接続され中間電位より低い論理スレッショ
ルド値を設定する第二の設定手段と、を有し、この第二
の設定手段として、P型トランジスタ342のソース電
極にゲート電極を接続しソース電極を電源に接続するP
型トランジスタ343を備えている。
【0029】次に、これら高スレッショルド回路33,
低スレッショルド回路34の入出力および電源電流特性
について詳細説明する。
【0030】一般に、インバータ回路において、入力端
子の電位を接地電位から上昇させたとき、出力がハイレ
ベルからロウレベルへ変化する。そのためには、出力端
子から電源を見たインピーダンスが、出力端子から接地
を見たインピーダンスより大きい関係を作り出さなけれ
ばならない。また、逆に、入力端子の電位を電源電位か
ら下げてきたとき、出力がロウレベルからハイレベルへ
変化する。そのためには、反対に、出力端子から電源を
見たインピーダンスが、出力端子から接地を見たインピ
ーダンスより小さい関係を作り出さなければならない。
【0031】高スレッショルド回路33の場合、出力端
子から電源を見たインピーダンスはP型トランジスタ3
31のチャネル抵抗でほぼ決定され、一方の出力端子か
ら接地を見たインピーダンスは、2つのN型MOSトラ
ンジスタ332,333のチャネル抵抗の直列合成抵抗
でほぼ決定される。従って、通常のCMOSインバータ
と比較すると、出力端子から電源を見たインピーダンス
は通常のCMOSインバータと変わらないが、出力端子
から接地を見たインピーダンスは、ゲートをドレインに
接続したNMOSトランジスタ333の働きにより、同
じ入力電位でも通常のCMOSインバータよりインピー
ダンスが高くなっている。従って、出力端子から電源を
見たインピーダンスと出力端子から接地を見たインピー
ダンスとの大小関係が、入力電圧の変化に対して通常の
CMOSインバータよりも高い入力電位で変化するた
め、高スレッショルド回路33は通常のCMOSインバ
ータよりも論理スレッショルド電圧が高くなる。
【0032】一方、低スレッショルド回路34の場合、
反対に、出力端子から電源を見たインピーダンスは2つ
のP型MOSトランジスタ342,343のチャネル抵
抗の直列合成抵抗でほぼ決定され、出力端子から接地を
見たインピーダンスは、N型MOSトランジスタ341
のチャネル抵抗でほぼ決定される。従って、通常のCM
OSインバータと比較すると、出力端子から接地を見た
インピーダンスは通常のCMOSインバータの場合と変
わらないが、出力端子から電源を見たインピーダンス
は、ゲートをドレインに接続したP型MOSトランジス
タ343の働きにより、同じ入力電位でも通常のCMO
Sインバータよりインピーダンスが高くなっている。従
って、出力端子から電源を見たインピーダンスと出力端
子から接地を見たインピーダンスとの大小関係が、入力
電圧の変化に対して通常のCMOSインバータよりも低
い入力電位で変化するため、低スレッショルド回路34
は通常のCMOSインバータよりも論理スレッショルド
電圧が低くなる。
【0033】図3(B)は、これら高スレッショルド回
路33,低スレッショルド回路34などレシーバ回路3
内の回路の入出力および電源電流特性を示す特性図であ
る。高スレッショルド回路33,低スレッショルド回路
34の回路シミュレーションによるDC解析結果を示し
ている。図3(B)を参照して説明すると、この特性図
では、横軸を入力電圧とし、左縦軸を入出力電圧とし、
右縦軸を電源電流として、入力信号曲線731,出力電
圧曲線733および734,電源電流曲線833および
834が示されている。入力信号曲線731は、図1の
レシーバ回路の入力端子31に入力される入力信号を示
し、出力電圧曲線733,734は、高スレッショルド
回路33,低スレッショルド回路34の出力電圧特性を
それぞれ示し、電源電流曲線833,834は、高スレ
ッショルド回路33,低スレッショルド回路34の電源
電流特性をそれぞれ示している。
【0034】この回路シミュレーションは、各トランジ
スタのゲート長Lを0.5μmとし、P型トランジスタ
331,342,343のゲート幅Wをそれぞれ10μ
m,5μm,5μmとし、N型トランジスタ332,3
33,341のゲート幅Wはそれぞれ5m,5μm,1
0μmとし、NおよびP型トランジスタのスレッショル
ド電圧Vtn,Vtpをそれぞれ0.6v,−0.6vと
し、電源電圧Vddを3.3vとする設定条件で行った。
【0035】高スレッショルド回路33の出力電圧曲線
733より、この回路の論理スレッショルド電圧は約
2.2v,低スレッショルド回路34の出力電圧曲線7
34より、この回路の論理スレッショルド電圧は0.8
vであることがわかる。また、高スレッショルド回路3
3,低スレッショルド回路34の電源電流曲線833,
834をみると、電源電圧の1/2電位(=1.65
v)付近ではほとんど電流値が0となっており、貫通電
流が生じない。これは、ゲートをドレインに接続したN
型MOSトランジスタ333,P型トランジスタ343
とが、高スレッショルド回路33,低スレッショルド回
路34において、それぞれ電源電流のリミッタとして働
いているためである。
【0036】すなわち、このレシーバ回路3は、これら
高スレッショルド回路33,低スレッショルド回路34
の電圧波形のうち一方を反転させ、他方をそのままの論
理でRSフリップフロップ36に入力することにより、
2つの論理スレッショルド電圧を有し、かつ電源電圧の
1/2電位を印加しても貫通電流を生じないシュミット
バッファ回路を構成している。
【0037】次に、本実施形態の半導体集積回路の作用
・動作について、図1を参照し説明する。
【0038】仮に、ドライバ回路1の入力端子11に図
1(B)に示す入力信号が入力されたとすると、ドライ
バ回路1の出力端子12の出力信号は、図1(B)に示
す出力信号のようになる。いま、電源電圧Vdd、出力イ
ンピーダンスZr ,Zf (Zr :立上り,Zf :立下
り)のドライバ回路1で、配線抵抗Rl ,配線容量Cl
の内部配線2と、2つの論理スレッショルド電圧VtH,
VtL(VtH>VtL)を有する入力端子容量Ct のレシー
バ回路3を駆動した場合を考えると、配線遅延tpdl(r)
(立上り),tpdl(f)(立下り)は、次の,式でそ
れぞれ与えられる。
【0039】
【0040】従来例の場合と同様に、現在の量産レベル
であるゲート長0.5μmのCMOSプロセスを想定し
て、単位長さ当たりの容量C=0.2pF/mm,単位
長さ当たりの抵抗R=50Ω/mm,電源電圧Vdd=
3.3v,ドライバ回路の出力インピーダンスZr=Z
f=400Ωとし、レシーバ回路3の論理スレッショル
ド電圧VtH,VtLを2.2v,0.8vとし、入力端子
容量Ctを20fFと仮定して配線長3mmの場合の配
線遅延を計算すると、,式より配線遅延tpdl(r)=
0.12ns,tpdl(f)=0.21nsとなる。同様
に、配線長10mmで配線遅延を求めると、配線遅延t
pdl(r)=0.55ns,tpdl(f)=0.98nsとな
る。このように、2種類の論理スレッショルド電圧をも
つレシーバ回路3を用いることで配線遅延を低減可能で
あり、配線が長いほどその効果は大きくなる。
【0041】また、本実施形態における2種類の論理ス
レッショルド電圧を有するレシーバ回路3は、電源電圧
の1/2電位が入力されても貫通電流はほとんど生じな
いため、定常状態での消費電力の増加はない。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による半導
体集積回路は、長い内部配線を介して内部信号を授受す
るため、内部信号の立上り/立下りエッジに対応して電
源電位の中間電位を基準レベルとした正/負パルス信号
を内部配線にそれぞれ出力し、この内部配線上の正/負
パルス信号に対応して、2つの論理スレッショルド電圧
を有し、出力がセット/リセットされるシュミット回路
を備えている。そのため、中間電位による貫通電流の増
加も無く、内部配線による配線遅延を低減可能であり、
内部信号を授受する内部配線が長いほど、内部配線を介
した信号伝達を高速化できる。
【0043】また、内部配線の配線容量および入出力端
子容量の充放電電流が、中間電位を基準レベルとした正
/負パルス信号の立上り/立下りエッジのそれぞれに対
応して分散化および小振幅化される。そのため、内部配
線を駆動するとき、内部電源線の電圧揺らぎが緩和され
るなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体集積回路の実施形態を示す部分
ブロック図である。
【図2】図1の半導体集積回路におけるドライバ回路1
の詳細構成および動作を示す説明図である。
【図3】図1の半導体集積回路におけるレシーバ回路3
の詳細構成および動作を示す説明図である。
【図4】従来の半導体集積回路の構成例を示す部分ブロ
ック図である。
【符号の説明】
1 ドライバ回路 2 内部配線 3 レシーバ回路 4 中間電位発生器 11,13,31 入力端子 12,32 出力端子 14,16,18,19,35,38,39 インバ
ータ 15 エッジ検出回路 17 セレクタ回路 33 高スレッショルド回路 34 低スレッショルド回路 36 RSフリップフロップ回路 151 ディレイ回路 152 EX−OR回路 171 トランスファゲート回路 172 スイッチ付インバータ回路 331,342,343 P型MOSトランジスタ 332,333,341 N型MOSトランジスタ 731 入力信号曲線 733,734 出力電圧曲線 833,834 電源電流曲線 Rl 内部配線抵抗 Cl 内部配線容量 Ct レシーバの入力端子容量

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部信号を授受する長い内部配線を有す
    る半導体集積回路において、電源電位および接地電位の
    中間電位を発生する中間電位発生器と、前記内部信号の
    立上り/立下りエッジに対応して前記中間電位を基準レ
    ベルとした正/負パルス信号をそれぞれ生成し前記内部
    配線を駆動するドライバ回路と、前記正/負パルス信号
    に対応して出力がセット/リセットされるレシーバ回路
    と、を備えることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記ドライバ回路が、前記内部信号の立
    上り/立下りエッジを検出し一定のパルス幅をもつエッ
    ジ検出信号を出力するエッジ検出回路と、前記エッジ検
    出信号の制御により前記パルス幅期間に前記内部信号を
    選択し前記パルス幅期間外に前記中間電位を選択し出力
    するセレクタ回路と、を備える、請求項1記載の半導体
    集積回路。
  3. 【請求項3】 前記レシーバ回路が、前記正/負パルス
    信号を入力し前記中間電位より高い論理スレッショルド
    値をもつ高スレッショルド回路と、前記正/負パルス信
    号を入力し前記中間電位より低い論理スレッショルド値
    をもつ低スレッショルド回路と、前記高スレッショルド
    回路および前記低スレッショルド回路の出力に対応して
    セット/リセットされるRSフリップフロップ回路と、
    を備える、請求項1または2記載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記高スレッショルド回路が、前記正/
    負パルス信号をゲート電極に入力しドレイン電極を出力
    とする第一のPおよびN型トランジスタと、この第一の
    N型トランジスタのソース電極と接地との間に接続され
    前記中間電位より高い論理スレッショルド値を設定する
    第一の設定手段と、を有し、前記低スレッショルド回路
    が、前記正/負パルス信号をゲート電極に入力しドレイ
    ン電極を出力とする第二のNおよびP型トランジスタ
    と、この第二のP型トランジスタのソース電極と電源と
    の間に接続され前記中間電位より低い論理スレッショル
    ド値を設定する第二の設定手段と、を有する、請求項3
    記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 前記第一の設定手段が、前記第一のN型
    トランジスタのソース電極にゲート電極を接続しソース
    電極を接地するN型トランジスタを備え、前記第二の設
    定手段が、前記第二のP型トランジスタのソース電極に
    ゲート電極を接続しソース電極を電源に接続するP型ト
    ランジスタを備える、請求項4記載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記中間電位が、前記電源電位の2分の
    1に設定される、請求項1,2,3,4または5記載の
    半導体集積回路。
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