JPH09283459A - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
基板処理方法および基板処理装置Info
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- JPH09283459A JPH09283459A JP8115306A JP11530696A JPH09283459A JP H09283459 A JPH09283459 A JP H09283459A JP 8115306 A JP8115306 A JP 8115306A JP 11530696 A JP11530696 A JP 11530696A JP H09283459 A JPH09283459 A JP H09283459A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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-
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- H01L21/02082—Cleaning product to be cleaned
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板表面との接触部分をなくし、基板表面に
堆積された薄膜を損うことなく、基板の裏面と側面に堆
積した薄膜のみを除去し、汚染パーティクルの発生をで
きる限り抑制する。 【解決手段】 ＣＶＤ法によって基板18の表面に薄膜を
成膜した後、ガス供給機構12,13 のガス供給面と基板の
成膜面を非接触状態にて接近させ、基板の裏面側の空間
にエッチングガスを供給してプラズマを発生させると共
に、ガス供給面からパージガスをガス供給面と基板との
間の空間に供給し、パージガスを基板の周囲縁部から基
板の裏面側の空間に流出するようにし、パージガスによ
ってプラズマ中のラジカルがガス供給面と基板の間の空
間に拡散・侵入するのを阻止する。
堆積された薄膜を損うことなく、基板の裏面と側面に堆
積した薄膜のみを除去し、汚染パーティクルの発生をで
きる限り抑制する。 【解決手段】 ＣＶＤ法によって基板18の表面に薄膜を
成膜した後、ガス供給機構12,13 のガス供給面と基板の
成膜面を非接触状態にて接近させ、基板の裏面側の空間
にエッチングガスを供給してプラズマを発生させると共
に、ガス供給面からパージガスをガス供給面と基板との
間の空間に供給し、パージガスを基板の周囲縁部から基
板の裏面側の空間に流出するようにし、パージガスによ
ってプラズマ中のラジカルがガス供給面と基板の間の空
間に拡散・侵入するのを阻止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
基板上にタングステン、銅、窒化チタン、チタン等の薄
膜をＣＶＤ法で成膜する際、成膜後に基板の裏面や縁部
側面の膜付着物を除去する方法および装置に関する。
基板上にタングステン、銅、窒化チタン、チタン等の薄
膜をＣＶＤ法で成膜する際、成膜後に基板の裏面や縁部
側面の膜付着物を除去する方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近の半導体装置製造の分野では、能動
素子等を含む電子回路要素の集積化と微細化がますます
進んでいる。その結果、半導体製造工程の１つとしての
メタライゼーションは、従来のスパッタリング法から、
集積化および微細化に適したＣＶＤ法（化学的気相成長
法）へ移行しつつある。
素子等を含む電子回路要素の集積化と微細化がますます
進んでいる。その結果、半導体製造工程の１つとしての
メタライゼーションは、従来のスパッタリング法から、
集積化および微細化に適したＣＶＤ法（化学的気相成長
法）へ移行しつつある。
【０００３】一方、従来から、１枚の基板から得られる
チップ収量を増やす目的で基板表面の全面に成膜するこ
とが行われていた。しかし、上記のごとくメタライゼー
ションの工程でＣＶＤ法を採用し、その上、全面成膜を
実行するとなれば、基板の周囲縁部側面や縁部近傍の裏
面にまで薄膜が堆積されるという不具合が生じる。
チップ収量を増やす目的で基板表面の全面に成膜するこ
とが行われていた。しかし、上記のごとくメタライゼー
ションの工程でＣＶＤ法を採用し、その上、全面成膜を
実行するとなれば、基板の周囲縁部側面や縁部近傍の裏
面にまで薄膜が堆積されるという不具合が生じる。
【０００４】またこれまでは、基板表面に堆積した薄膜
のうち不必要な薄膜を一様に除去するのにエッチバック
法を用いていたが、近年では、高集積化への対応によ
り、ＣＭＰ（化学的機械研磨）法を用いるようになって
きた。しかし、ＣＭＰ法を使うと、基板の周囲縁部側面
に堆積した薄膜を除去することができないので、その後
の半導体製造工程中において当該堆積薄膜が剥がれ、歩
留まりの低下を招く汚染パーティクルの発生原因となっ
た。これを避けるため、特にＣＭＰ法を使う場合では、
基板の周囲縁部側面に堆積した薄膜を除去する技術が必
要とされ、技術開発が現在行われている。
のうち不必要な薄膜を一様に除去するのにエッチバック
法を用いていたが、近年では、高集積化への対応によ
り、ＣＭＰ（化学的機械研磨）法を用いるようになって
きた。しかし、ＣＭＰ法を使うと、基板の周囲縁部側面
に堆積した薄膜を除去することができないので、その後
の半導体製造工程中において当該堆積薄膜が剥がれ、歩
留まりの低下を招く汚染パーティクルの発生原因となっ
た。これを避けるため、特にＣＭＰ法を使う場合では、
基板の周囲縁部側面に堆積した薄膜を除去する技術が必
要とされ、技術開発が現在行われている。
【０００５】基板の周囲縁部側面に堆積した薄膜を除去
する代表的な従来技術の構成を、例えばブランケットタ
ングステンを基板表面の全面に成膜するＣＶＤ装置に関
し、図５を参照して概念的に説明する。
する代表的な従来技術の構成を、例えばブランケットタ
ングステンを基板表面の全面に成膜するＣＶＤ装置に関
し、図５を参照して概念的に説明する。
【０００６】下部にガス供給板５３を備えたガス供給部
５２が反応容器５１内の上方に設けられ、ガス供給板５
３の下面の所定位置に垂直方向に突き出た突起部６１が
複数設けられる。ガス供給板５３は下方から見ると例え
ば円形であり、その中央部から周縁部近傍まで適当な配
置で複数のガス吹出し孔が形成されている。複数の突起
部６１は、ガス供給板５３の下面で、基板５８の直径よ
りわずかに小さい直径の円の上に所定間隔で配列され
る。反応容器５１の下方には、その上面がガス供給板５
３に対向した基板保持部５４が設けられる。基板保持部
５４の上面はほぼ円形の基板配置面となっている。基板
保持部５４は、その内部に加熱機構５５を備えると共
に、高周波電力印加機構５９によって高周波電力が印加
される。５５ａは加熱機構５５に電力を供給する電源で
ある。
５２が反応容器５１内の上方に設けられ、ガス供給板５
３の下面の所定位置に垂直方向に突き出た突起部６１が
複数設けられる。ガス供給板５３は下方から見ると例え
ば円形であり、その中央部から周縁部近傍まで適当な配
置で複数のガス吹出し孔が形成されている。複数の突起
部６１は、ガス供給板５３の下面で、基板５８の直径よ
りわずかに小さい直径の円の上に所定間隔で配列され
る。反応容器５１の下方には、その上面がガス供給板５
３に対向した基板保持部５４が設けられる。基板保持部
５４の上面はほぼ円形の基板配置面となっている。基板
保持部５４は、その内部に加熱機構５５を備えると共
に、高周波電力印加機構５９によって高周波電力が印加
される。５５ａは加熱機構５５に電力を供給する電源で
ある。
【０００７】円板状の基板５８は、成膜開始前には、基
板保持部５４の上面に配置される。その後、ガス供給部
５２から反応容器５１内にプロセスガスが供給され、Ｃ
ＶＤ法に基づき基板５８の表面の全面にタングステン薄
膜が形成される。この際、基板５８の周囲縁部側面、さ
らには裏面にも薄膜が堆積する。そこで次に、基板５８
の周囲縁部側面や裏面に付着したタングステン薄膜を除
去する工程になる。この従来装置では、以下に述べるよ
うな基板処理が施される。基板５８に対して、プラズマ
によって生成されるラジカルによってエッチング処理が
行われる。
板保持部５４の上面に配置される。その後、ガス供給部
５２から反応容器５１内にプロセスガスが供給され、Ｃ
ＶＤ法に基づき基板５８の表面の全面にタングステン薄
膜が形成される。この際、基板５８の周囲縁部側面、さ
らには裏面にも薄膜が堆積する。そこで次に、基板５８
の周囲縁部側面や裏面に付着したタングステン薄膜を除
去する工程になる。この従来装置では、以下に述べるよ
うな基板処理が施される。基板５８に対して、プラズマ
によって生成されるラジカルによってエッチング処理が
行われる。
【０００８】先ず、基板５８を、基板保持部５４から基
板突上げ棒（以下突上げ棒という）６０により持ち上
げ、基板５８の表面の外周部を、ガス供給板５３の突起
部６１に押し付ける。突上げ棒６０は基板突上げ棒駆動
部６２によって駆動される。また突上げ棒６０は基板保
持部５４を挿通するように設けられ、突上げ棒６０と基
板保持部５４は電気的に絶縁されている。
板突上げ棒（以下突上げ棒という）６０により持ち上
げ、基板５８の表面の外周部を、ガス供給板５３の突起
部６１に押し付ける。突上げ棒６０は基板突上げ棒駆動
部６２によって駆動される。また突上げ棒６０は基板保
持部５４を挿通するように設けられ、突上げ棒６０と基
板保持部５４は電気的に絶縁されている。
【０００９】次に、エッチングガスが、ガス供給部５２
からガス供給板５３と基板５８の表面との間の空間に導
入される。突起部６１以外の箇所には、基板５８の表面
とガス供給板５３との間に隙間が形成されている。基板
５８とガス供給板５３との間に導入されたエッチングガ
スは、突起部６１以外の隙間を通って反応容器５１の内
部空間に流出し、排気部５６によって外部へ排気され
る。
からガス供給板５３と基板５８の表面との間の空間に導
入される。突起部６１以外の箇所には、基板５８の表面
とガス供給板５３との間に隙間が形成されている。基板
５８とガス供給板５３との間に導入されたエッチングガ
スは、突起部６１以外の隙間を通って反応容器５１の内
部空間に流出し、排気部５６によって外部へ排気され
る。
【００１０】次に、高周波電力印加機構５９によって基
板保持部５４に高周波電力を印加し、基板５８の裏面と
基板保持部５４との間の空間、およびガス供給部５２と
基板保持部５４との間の空間にプラズマを発生する。こ
のプラズマによって生成されたラジカルが、基板５８に
到達し、基板の裏面と側面のタングステン薄膜を除去す
る。
板保持部５４に高周波電力を印加し、基板５８の裏面と
基板保持部５４との間の空間、およびガス供給部５２と
基板保持部５４との間の空間にプラズマを発生する。こ
のプラズマによって生成されたラジカルが、基板５８に
到達し、基板の裏面と側面のタングステン薄膜を除去す
る。
【００１１】一方、基板５８は突起部６１に押し付けら
れて、ガス供給板５３と等電位、すなわち接地電位に保
持される。従って、上記の高周波電力印加時において
も、基板５８とガス供給板５３の間にはプラズマは発生
しない。しかし、電気的に不十分な接触により電位差が
生じると、プラズマが発生するおそれもあるので、ガス
供給板５３と基板５８の表面との間を、プラズマが発生
しにくい所定値以下の距離を保つことにより、ガス供給
板と基板表面との間のプラズマ発生をよりいっそう抑え
るようにしている。
れて、ガス供給板５３と等電位、すなわち接地電位に保
持される。従って、上記の高周波電力印加時において
も、基板５８とガス供給板５３の間にはプラズマは発生
しない。しかし、電気的に不十分な接触により電位差が
生じると、プラズマが発生するおそれもあるので、ガス
供給板５３と基板５８の表面との間を、プラズマが発生
しにくい所定値以下の距離を保つことにより、ガス供給
板と基板表面との間のプラズマ発生をよりいっそう抑え
るようにしている。
【００１２】上記の従来技術では、高周波電力が基板保
持部５４に印加されかつガス供給部５２は接地されてい
るが、逆に、高周波電力をガス供給部５２に対し印加し
かつ基板保持部５４を接地する構造も可能である。
持部５４に印加されかつガス供給部５２は接地されてい
るが、逆に、高周波電力をガス供給部５２に対し印加し
かつ基板保持部５４を接地する構造も可能である。
【００１３】他の類似した従来例として、例えば特公平
６−７０２７３号公報（特開平３−９７８６９号公
報）、米国特許第４，９６２，０４９号公報がある。特
公平６−７０２７３号公報（特開平３−９７８６９号公
報）によれば、成膜後の基板（ウェハー）をガス供給板
であるフェースプレートの下面の突起部に接触させて配
置し、フェースプレートからプロセスガス（エッチング
ガス）を供給し、裏面と端部の付着物を除去するように
している。米国特許第４，９６２，０４９号公報によれ
ば、導電性カソードの上方で半導体基板を下方からピン
でカソードから所定距離にて支え、かかる基板の裏面を
プラズマ処理する構成が示される。
６−７０２７３号公報（特開平３−９７８６９号公
報）、米国特許第４，９６２，０４９号公報がある。特
公平６−７０２７３号公報（特開平３−９７８６９号公
報）によれば、成膜後の基板（ウェハー）をガス供給板
であるフェースプレートの下面の突起部に接触させて配
置し、フェースプレートからプロセスガス（エッチング
ガス）を供給し、裏面と端部の付着物を除去するように
している。米国特許第４，９６２，０４９号公報によれ
ば、導電性カソードの上方で半導体基板を下方からピン
でカソードから所定距離にて支え、かかる基板の裏面を
プラズマ処理する構成が示される。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来例の各構成
では、反応容器５１内で生成されたエッチングのための
プラズマが、ガス供給板５３と基板保持部５４の間にお
ける基板５８の周囲縁部近傍でも生じ、その上、このプ
ラズマが、基板５８とガス供給板５３の間に形成された
隙間から、基板５８の表面縁部の近傍に流れ込む。この
ため、プラズマによって生成されたラジカルの多くが、
基板５８の表面上へ拡散・侵入して、基板表面に堆積さ
れたタングステン薄膜まで除去してしまうという問題が
生じる。
では、反応容器５１内で生成されたエッチングのための
プラズマが、ガス供給板５３と基板保持部５４の間にお
ける基板５８の周囲縁部近傍でも生じ、その上、このプ
ラズマが、基板５８とガス供給板５３の間に形成された
隙間から、基板５８の表面縁部の近傍に流れ込む。この
ため、プラズマによって生成されたラジカルの多くが、
基板５８の表面上へ拡散・侵入して、基板表面に堆積さ
れたタングステン薄膜まで除去してしまうという問題が
生じる。
【００１５】また、タングステン薄膜が堆積された基板
表面を突起部６１に押し付けるようにするため、タング
ステン薄膜等の剥がれやすい薄膜では、歩留まりの低下
を招く汚染パーティクルの発生原因となるという他の問
題が提起される。
表面を突起部６１に押し付けるようにするため、タング
ステン薄膜等の剥がれやすい薄膜では、歩留まりの低下
を招く汚染パーティクルの発生原因となるという他の問
題が提起される。
【００１６】本発明の目的は、上記の問題を解決するこ
とにあり、基板を接地電位にするための基板表面との接
触部分をなくし、基板の表面に堆積された薄膜を損うこ
となく、基板の裏面と側面に堆積した薄膜のみを除去
し、その後の半導体製造工程における歩留まりの低下を
招く汚染パーティクルの発生をできる限り抑制した基板
処理方法および基板処理装置を提供することにある。
とにあり、基板を接地電位にするための基板表面との接
触部分をなくし、基板の表面に堆積された薄膜を損うこ
となく、基板の裏面と側面に堆積した薄膜のみを除去
し、その後の半導体製造工程における歩留まりの低下を
招く汚染パーティクルの発生をできる限り抑制した基板
処理方法および基板処理装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段および作用】本発明に係る
基板処理方法は、上記目的を達成するため、次のように
構成される。
基板処理方法は、上記目的を達成するため、次のように
構成される。
【００１８】第１の基板処理方法（請求項１に対応）
は、ＣＶＤ法によって基板の表面に薄膜を成膜した後、
ガス供給機構のガス供給面と基板の成膜面を非接触状態
にて接近させ、基板の裏面側の空間にエッチングガスを
供給してプラズマを発生させると共に、ガス供給面から
パージガスをガス供給面と基板との間の空間に供給し、
パージガスを基板の周囲縁部から基板の裏面側の空間に
流出するようにし、パージガスによってプラズマ中のラ
ジカルがガス供給面と基板との間の空間に拡散するのを
阻止したことを特徴とする。
は、ＣＶＤ法によって基板の表面に薄膜を成膜した後、
ガス供給機構のガス供給面と基板の成膜面を非接触状態
にて接近させ、基板の裏面側の空間にエッチングガスを
供給してプラズマを発生させると共に、ガス供給面から
パージガスをガス供給面と基板との間の空間に供給し、
パージガスを基板の周囲縁部から基板の裏面側の空間に
流出するようにし、パージガスによってプラズマ中のラ
ジカルがガス供給面と基板との間の空間に拡散するのを
阻止したことを特徴とする。
【００１９】上記の基板処理方法では、成膜処理した基
板の裏面や周囲縁部側面に付着した薄膜を除去するとき
に、基板の裏面の空間に当該裏面側の箇所からエッチン
グガスを供給してプラズマを生成し、当該プラズマ中の
ラジカルで除去すると共に、基板の成膜がなされた表面
側については、当該表面を非接触の状態でプラズマが生
成されない微小距離にてガス供給機構のガス供給面に接
近させ、当該ガス供給面からパージガスを供給して、上
記ラジカルが基板の表面側の空間に拡散・侵入するのを
阻止し、当該成膜面側の薄膜除去を防止するようにし
た。これにより、基板の裏面および周囲縁部側面の付着
物のみを除去できるようにした。
板の裏面や周囲縁部側面に付着した薄膜を除去するとき
に、基板の裏面の空間に当該裏面側の箇所からエッチン
グガスを供給してプラズマを生成し、当該プラズマ中の
ラジカルで除去すると共に、基板の成膜がなされた表面
側については、当該表面を非接触の状態でプラズマが生
成されない微小距離にてガス供給機構のガス供給面に接
近させ、当該ガス供給面からパージガスを供給して、上
記ラジカルが基板の表面側の空間に拡散・侵入するのを
阻止し、当該成膜面側の薄膜除去を防止するようにし
た。これにより、基板の裏面および周囲縁部側面の付着
物のみを除去できるようにした。
【００２０】第２の基板処理方法（請求項２に対応）
は、第１の方法において、好ましくは、基板をガス供給
面に接近させるようにした。
は、第１の方法において、好ましくは、基板をガス供給
面に接近させるようにした。
【００２１】第３の基板処理方法（請求項３に対応）
は、第１の方法において、好ましくは、ガス供給面を基
板に接近させるようにした。
は、第１の方法において、好ましくは、ガス供給面を基
板に接近させるようにした。
【００２２】第４の基板処理方法（請求項４に対応）
は、上記の各方法において、好ましくは、ガス供給面と
基板との距離を１ｍｍ以下とするものである。この距離
の隙間にすることにより、当該空間でのプラズマ発生を
防止できる。
は、上記の各方法において、好ましくは、ガス供給面と
基板との距離を１ｍｍ以下とするものである。この距離
の隙間にすることにより、当該空間でのプラズマ発生を
防止できる。
【００２３】第５の基板処理方法（請求項５に対応）
は、さらに好ましくは、基板とガス供給面が接近したと
きにおいて当該基板の周囲に配置されることにより、プ
ラズマ中のラジカルが基板の成膜面に拡散するのを阻止
する筒部材を配置したことを特徴とする。
は、さらに好ましくは、基板とガス供給面が接近したと
きにおいて当該基板の周囲に配置されることにより、プ
ラズマ中のラジカルが基板の成膜面に拡散するのを阻止
する筒部材を配置したことを特徴とする。
【００２４】本発明に係る基板処理装置は、上記の目的
を達成するため、次のように構成される。
を達成するため、次のように構成される。
【００２５】第１の基板処理装置（請求項６に対応）
は、基板保持部上に設けられた基板の表面にＣＶＤ法に
よって薄膜を成膜する成膜装置に適用されることを前提
とし、パージガスを吹出すガス供給面を備えたパージガ
ス供給機構と、基板とガス供給面を接近させる接近駆動
機構と、エッチングガス供給機構と基板保持部の間の空
間にエッチングガスを供給するエッチングガス供給機構
を備える。かかる構成において、基板の表面に成膜を行
った後、接近駆動機構によってガス供給面と基板の成膜
面を非接触状態にて接近させ、エッチングガス供給機構
によて基板の裏面側の空間にエッチングガスを供給して
プラズマを発生させると共に、上記パージガス供給機構
のガス供給面からパージガスをガス供給面と基板との間
の空間に供給し、パージガスを基板の周囲縁部から基板
の裏面側の空間に流出するようにし、パージガスによっ
てプラズマ中のラジカルがガス供給面と基板との間の空
間に拡散・侵入するのを阻止する。本基板処理装置は、
前述の基板処理方法を実施するための装置であり、本装
置の作用は、基板処理方法で説明した通り方法を実施す
るものである。
は、基板保持部上に設けられた基板の表面にＣＶＤ法に
よって薄膜を成膜する成膜装置に適用されることを前提
とし、パージガスを吹出すガス供給面を備えたパージガ
ス供給機構と、基板とガス供給面を接近させる接近駆動
機構と、エッチングガス供給機構と基板保持部の間の空
間にエッチングガスを供給するエッチングガス供給機構
を備える。かかる構成において、基板の表面に成膜を行
った後、接近駆動機構によってガス供給面と基板の成膜
面を非接触状態にて接近させ、エッチングガス供給機構
によて基板の裏面側の空間にエッチングガスを供給して
プラズマを発生させると共に、上記パージガス供給機構
のガス供給面からパージガスをガス供給面と基板との間
の空間に供給し、パージガスを基板の周囲縁部から基板
の裏面側の空間に流出するようにし、パージガスによっ
てプラズマ中のラジカルがガス供給面と基板との間の空
間に拡散・侵入するのを阻止する。本基板処理装置は、
前述の基板処理方法を実施するための装置であり、本装
置の作用は、基板処理方法で説明した通り方法を実施す
るものである。
【００２６】第２の基板処理装置（請求項７に対応）
は、第１の当該装置において、好ましくは、接近駆動機
構（基板突上げ棒駆動部および基板突上げ棒）が、基板
をガス供給面に接近させることを特徴とする。
は、第１の当該装置において、好ましくは、接近駆動機
構（基板突上げ棒駆動部および基板突上げ棒）が、基板
をガス供給面に接近させることを特徴とする。
【００２７】第３の基板処理装置（請求項８に対応）
は、第１の当該装置において、好ましくは、接近駆動機
構（ガス供給部の駆動部）が、ガス供給面を基板に接近
させることを特徴とする。
は、第１の当該装置において、好ましくは、接近駆動機
構（ガス供給部の駆動部）が、ガス供給面を基板に接近
させることを特徴とする。
【００２８】第４の基板処理装置（請求項９に対応）
は、好ましくは、ガス供給面と基板との距離が１ｍｍ以
下であるように設定される。
は、好ましくは、ガス供給面と基板との距離が１ｍｍ以
下であるように設定される。
【００２９】第５の基板処理装置（請求項１０に対応）
は、さらに好ましくは、基板とガス供給板が接近したと
き基板の周囲に配置され、プラズマ中のラジカルが基板
の成膜面に拡散するのを阻止する筒部材を、ガス供給面
に設けるように構成した。
は、さらに好ましくは、基板とガス供給板が接近したと
き基板の周囲に配置され、プラズマ中のラジカルが基板
の成膜面に拡散するのを阻止する筒部材を、ガス供給面
に設けるように構成した。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
を添付図面に基づいて説明する。
を添付図面に基づいて説明する。
【００３１】図１を参照して本発明に係る基板処理装置
とそれによる基板処理方法の第１の実施形態を説明す
る。この基板処理装置は、例えばブランケットタングス
テンをＣＶＤ法（化学的気相成長法）によって基板表面
の全面に成膜するためのＣＶＤ装置であって、成膜後の
基板の裏面および周囲縁部側面に付着した薄膜を除去す
るための装置である。ここで「基板処理」とは、成膜後
の基板の裏面および周囲縁部側面に付着した薄膜を除去
することを意味する。
とそれによる基板処理方法の第１の実施形態を説明す
る。この基板処理装置は、例えばブランケットタングス
テンをＣＶＤ法（化学的気相成長法）によって基板表面
の全面に成膜するためのＣＶＤ装置であって、成膜後の
基板の裏面および周囲縁部側面に付着した薄膜を除去す
るための装置である。ここで「基板処理」とは、成膜後
の基板の裏面および周囲縁部側面に付着した薄膜を除去
することを意味する。
【００３２】１１は、内部でＣＶＤ法が実行される反応
容器である。この反応容器１１内の上方位置にガス供給
部１２が設けられ、例えばほぼ中央部に基板保持部１４
が設けられる。ガス供給部１２と基板保持部１４の各々
の支持機構の図示は省略される。ガス供給部１２には、
反応容器１１の外部からガスが供給される。供給される
ガスは、基板成膜時にはプロセスガスであり、基板処理
装置として基板処理を行うときにはパージガスである。
ガス供給部１２の下部には、ガス供給部１２により供給
されたガスを反応容器１１内に吹き出させるためのガス
供給板１３が取り付けられる。ガス供給板１３の下面
は、下方の基板保持部１４の上面（基板配置面）に対向
している。ガス供給部１２とガス供給板１３は、外部の
接地部２０に接続され、接地電位に保持される。基板保
持部１４は、基板成膜時にはその上面に基板が配置さ
れ、図示しない固定手段で固定される。また基板保持部
１４には加熱機構１５が内蔵され、外部の電源１５ａか
ら加熱用電力が供給される。また基板保持部１４には、
高周波電力印加機構１９によって高周波電力が印加され
る。さらに、反応容器１１の側壁であって好ましくはガ
ス供給板１３と基板保持部１４との間の空間に対応する
側壁の部分に、エッチングガスを導入するためのエッチ
ングガス導入部１７が設けられている。
容器である。この反応容器１１内の上方位置にガス供給
部１２が設けられ、例えばほぼ中央部に基板保持部１４
が設けられる。ガス供給部１２と基板保持部１４の各々
の支持機構の図示は省略される。ガス供給部１２には、
反応容器１１の外部からガスが供給される。供給される
ガスは、基板成膜時にはプロセスガスであり、基板処理
装置として基板処理を行うときにはパージガスである。
ガス供給部１２の下部には、ガス供給部１２により供給
されたガスを反応容器１１内に吹き出させるためのガス
供給板１３が取り付けられる。ガス供給板１３の下面
は、下方の基板保持部１４の上面（基板配置面）に対向
している。ガス供給部１２とガス供給板１３は、外部の
接地部２０に接続され、接地電位に保持される。基板保
持部１４は、基板成膜時にはその上面に基板が配置さ
れ、図示しない固定手段で固定される。また基板保持部
１４には加熱機構１５が内蔵され、外部の電源１５ａか
ら加熱用電力が供給される。また基板保持部１４には、
高周波電力印加機構１９によって高周波電力が印加され
る。さらに、反応容器１１の側壁であって好ましくはガ
ス供給板１３と基板保持部１４との間の空間に対応する
側壁の部分に、エッチングガスを導入するためのエッチ
ングガス導入部１７が設けられている。
【００３３】ガス供給板１３の下面には、多数のガス吹
出し孔が適当な間隔で形成されている。前述の基板処理
工程では、かかるガス吹出し孔からパージガスが吹出さ
れる。パージガスとしては、Ｎ2 ，Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，
Ｋｒ，Ｘｅ等の希ガスが単体として、または適宜に組合
せて混合ガスとして使用される。またエッチングガスと
しては、ＮＦ3 ，ＳＦ6 ，ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 等のガスを
単体として、または適宜に組合せて混合ガスとして使用
される。
出し孔が適当な間隔で形成されている。前述の基板処理
工程では、かかるガス吹出し孔からパージガスが吹出さ
れる。パージガスとしては、Ｎ2 ，Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，
Ｋｒ，Ｘｅ等の希ガスが単体として、または適宜に組合
せて混合ガスとして使用される。またエッチングガスと
しては、ＮＦ3 ，ＳＦ6 ，ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 等のガスを
単体として、または適宜に組合せて混合ガスとして使用
される。
【００３４】反応容器１１の下壁には、排気機構（図示
せず）につながる排気部１６が設けられる。反応容器１
１の下側には、基板突上げ駆動部２１が設けられる。基
板突上げ駆動部２１には、反応容器１１の下壁１１ａを
通過して少なくとも２本以上の、好ましくは３本の基板
突上げ棒１０が取り付けられる。当該突上げ棒１０は、
基板保持部１４に形成された挿通孔を通して、その上方
に延設できるように設けられている。通常、突上げ棒１
０の先端は、基板保持部１４の上面、すなわち基板載置
面よりも下側に存在する。必要に応じて、突上げ棒１０
は、基板突上げ棒駆動部２１の動作によって上方に移動
することになり、基板保持部１４の上面よりもさらに上
方に延出される。図１に示す状態では、基板保持部１４
の上面に存在した基板１８は、上方に延びた突上げ棒１
０によってガス供給板１３の下面に接近した状態で配置
される。
せず）につながる排気部１６が設けられる。反応容器１
１の下側には、基板突上げ駆動部２１が設けられる。基
板突上げ駆動部２１には、反応容器１１の下壁１１ａを
通過して少なくとも２本以上の、好ましくは３本の基板
突上げ棒１０が取り付けられる。当該突上げ棒１０は、
基板保持部１４に形成された挿通孔を通して、その上方
に延設できるように設けられている。通常、突上げ棒１
０の先端は、基板保持部１４の上面、すなわち基板載置
面よりも下側に存在する。必要に応じて、突上げ棒１０
は、基板突上げ棒駆動部２１の動作によって上方に移動
することになり、基板保持部１４の上面よりもさらに上
方に延出される。図１に示す状態では、基板保持部１４
の上面に存在した基板１８は、上方に延びた突上げ棒１
０によってガス供給板１３の下面に接近した状態で配置
される。
【００３５】上記構成において、ガス供給部１２の側に
高周波電力を印加するようにしてもよい。また突上げ棒
１０と反応容器１１の下壁１１ａとの間には気密性およ
び電気的絶縁性が保たれ、また突上げ棒１０と基板保持
部１４との間でも電気的絶縁性が保たれている。
高周波電力を印加するようにしてもよい。また突上げ棒
１０と反応容器１１の下壁１１ａとの間には気密性およ
び電気的絶縁性が保たれ、また突上げ棒１０と基板保持
部１４との間でも電気的絶縁性が保たれている。
【００３６】次に、上記構成を有するＣＶＤ装置におけ
る成膜工程と、基板の周囲縁部側面および裏面に堆積し
た薄膜を除去する工程について説明する。
る成膜工程と、基板の周囲縁部側面および裏面に堆積し
た薄膜を除去する工程について説明する。
【００３７】基板保持部１４の上面に基板１８が固定さ
れ、以下のような条件で成膜が行われる。使用した基板
１８の直径は６インチである。ガス供給部１２よりプロ
セスガスが供給され、ガス供給板１３に対向した基板１
８の表面の全面にタングステン薄膜が成膜される。
れ、以下のような条件で成膜が行われる。使用した基板
１８の直径は６インチである。ガス供給部１２よりプロ
セスガスが供給され、ガス供給板１３に対向した基板１
８の表面の全面にタングステン薄膜が成膜される。
【００３８】ブランケットタングステン薄膜の通常の成
膜条件は、例えば、核形成として、プロセスガスＷＦ6
流量は２〜１０sccm、ＳｉＨ4 流量は２〜１０sccm、成
膜圧力は０．５〜１０Torrである。次にＨ2 還元により
厚膜を形成するときには、プロセスガスＷＦ6 流量は５
０〜２００sccm、Ｈ2 流量は５００〜２０００sccm、成
膜圧力は３０〜７０Torr、基板温度は４００〜５００
℃、成膜時間は２分である。この条件によるタングステ
ン薄膜の膜厚は１μｍ程度である。
膜条件は、例えば、核形成として、プロセスガスＷＦ6
流量は２〜１０sccm、ＳｉＨ4 流量は２〜１０sccm、成
膜圧力は０．５〜１０Torrである。次にＨ2 還元により
厚膜を形成するときには、プロセスガスＷＦ6 流量は５
０〜２００sccm、Ｈ2 流量は５００〜２０００sccm、成
膜圧力は３０〜７０Torr、基板温度は４００〜５００
℃、成膜時間は２分である。この条件によるタングステ
ン薄膜の膜厚は１μｍ程度である。
【００３９】基板１８の表側の面の全面に所望膜厚のタ
ングステンが成膜された後、基板１８の裏面と縁部側面
に堆積したタングステンを除去するために、以下のよう
に、本発明による基板処理が施される。
ングステンが成膜された後、基板１８の裏面と縁部側面
に堆積したタングステンを除去するために、以下のよう
に、本発明による基板処理が施される。
【００４０】先ず、基板１８を基板保持部１４から基板
突上げ棒１０によって上方に持ち上げ、ガス供給板１３
と基板１８の表面との間を、非接触の状態で、プラズマ
が発生しない十分に狭い距離である１ｍｍ以下の距離に
保つ。プラズマは、通常、高周波電力を供給された電極
板と電気的に接地された物体との間に発生する。しかし
ながら、プラズマの発生が予定される空間の圧力が１To
rr未満であれば、電極板と上記接地物体との距離が１ｍ
ｍ以下ではプラズマは発生しないことが解っている。従
って、突上げ棒によって基板１８をガス供給板１３に接
近させ、それらの間の距離を１ｍｍ以下の距離に保つこ
とによって、ガス供給板１３と基板１８の間の空間にプ
ラズマが発生または侵入するのを防ぐ。
突上げ棒１０によって上方に持ち上げ、ガス供給板１３
と基板１８の表面との間を、非接触の状態で、プラズマ
が発生しない十分に狭い距離である１ｍｍ以下の距離に
保つ。プラズマは、通常、高周波電力を供給された電極
板と電気的に接地された物体との間に発生する。しかし
ながら、プラズマの発生が予定される空間の圧力が１To
rr未満であれば、電極板と上記接地物体との距離が１ｍ
ｍ以下ではプラズマは発生しないことが解っている。従
って、突上げ棒によって基板１８をガス供給板１３に接
近させ、それらの間の距離を１ｍｍ以下の距離に保つこ
とによって、ガス供給板１３と基板１８の間の空間にプ
ラズマが発生または侵入するのを防ぐ。
【００４１】次に、ガス供給部１２よりパージガスを導
入する共に、エッチングガス導入部１７よりエッチング
ガスを導入する。パージガスとエッチングガスは両方と
も反応容器１１の内部空間を経て、排気部１６によって
排気される。エッチングガスはタングステン膜と反応し
てタングステンを蒸発させ、除去する。本実施形態によ
る構造によれば、以下に述べるように、基板１８の裏面
と縁部側面に付着したタングステンのみが除去される。
入する共に、エッチングガス導入部１７よりエッチング
ガスを導入する。パージガスとエッチングガスは両方と
も反応容器１１の内部空間を経て、排気部１６によって
排気される。エッチングガスはタングステン膜と反応し
てタングステンを蒸発させ、除去する。本実施形態によ
る構造によれば、以下に述べるように、基板１８の裏面
と縁部側面に付着したタングステンのみが除去される。
【００４２】次に、高周波電力を基板保持部１４に印加
し、基板保持部１４とガス供給板１３との間にプラズマ
を発生させる。発生したプラズマによって、エッチング
ガスの一部がイオンやラジカルとなり、当該ラジカル
は、基板１８の縁部とガス供給板１３との間の空間へ拡
散しようとする。しかしながら、ガス供給板１３から
は、ガス供給部１２から導入されたパージガスが吹き出
し、当該パージガスは、ガス供給板１３と基板１８の成
膜表面との間を流れ、基板１８の周囲縁部を通過して反
応容器１１の内部へ吹き出すので、基板１８の成膜表面
へのラジカルの拡散・侵入が防止される。
し、基板保持部１４とガス供給板１３との間にプラズマ
を発生させる。発生したプラズマによって、エッチング
ガスの一部がイオンやラジカルとなり、当該ラジカル
は、基板１８の縁部とガス供給板１３との間の空間へ拡
散しようとする。しかしながら、ガス供給板１３から
は、ガス供給部１２から導入されたパージガスが吹き出
し、当該パージガスは、ガス供給板１３と基板１８の成
膜表面との間を流れ、基板１８の周囲縁部を通過して反
応容器１１の内部へ吹き出すので、基板１８の成膜表面
へのラジカルの拡散・侵入が防止される。
【００４３】上記において、ガス供給板１３から吹き出
されたパージガスの流量を増減することによって、基板
１８の縁部近傍からその内側の表面上へのラジカルの拡
散量を制御することができる。すなわち、パージガスの
流量を多くすれば、ラジカルの拡散量は減少し、パージ
ガスを少なくすれば、ラジカルの拡散量は増加する。ま
たラジカルの拡散量によって、基板１８の縁部近傍のエ
ッチング範囲を変化させることができる。結局、ラジカ
ルの拡散量をパージガスで制御することにより、基板１
８の縁部近傍のエッチング範囲を制御できる。以上によ
り、基板１８の裏面、縁部側面のみのタングステン薄膜
の除去を行い、基板１８の表面における縁部近傍からそ
の内側領域上のタングステン薄膜の除去を防ぐことがで
きる。
されたパージガスの流量を増減することによって、基板
１８の縁部近傍からその内側の表面上へのラジカルの拡
散量を制御することができる。すなわち、パージガスの
流量を多くすれば、ラジカルの拡散量は減少し、パージ
ガスを少なくすれば、ラジカルの拡散量は増加する。ま
たラジカルの拡散量によって、基板１８の縁部近傍のエ
ッチング範囲を変化させることができる。結局、ラジカ
ルの拡散量をパージガスで制御することにより、基板１
８の縁部近傍のエッチング範囲を制御できる。以上によ
り、基板１８の裏面、縁部側面のみのタングステン薄膜
の除去を行い、基板１８の表面における縁部近傍からそ
の内側領域上のタングステン薄膜の除去を防ぐことがで
きる。
【００４４】前述の実施形態による基板処理の条件は、
例えば、エッチングガスＣＦ4 の流量は１１０sccm、Ｏ
2 の流量は９０sccm、パージガスとしてＡｒの流量は１
００sccm、成膜圧力は０．８６Torr、ＲＦパワーは２０
０〜３００Ｗ、処理時間は１分である。この基板処理条
件により実験を行った結果、基板１８の表面に成膜され
たタングステンは除去されずに、基板１８の裏面、縁部
側面に堆積したタングステンのみが完全に除去されてい
た。
例えば、エッチングガスＣＦ4 の流量は１１０sccm、Ｏ
2 の流量は９０sccm、パージガスとしてＡｒの流量は１
００sccm、成膜圧力は０．８６Torr、ＲＦパワーは２０
０〜３００Ｗ、処理時間は１分である。この基板処理条
件により実験を行った結果、基板１８の表面に成膜され
たタングステンは除去されずに、基板１８の裏面、縁部
側面に堆積したタングステンのみが完全に除去されてい
た。
【００４５】次に、図２を参照して本発明に係る基板処
理装置（基板処理方法）の第２の実施形態を説明する。
本実施形態は、第１の実施形態を一部変更したものであ
り、ガス供給板１３の下面に、内径が基板１８の直径よ
り大きく、かつ基板突上げ棒１０によって持ち上げられ
た基板１８がその内部空間に入る高さを持つ円筒部材
（またはリング部材）３１を設けた構造を有する。その
他の構造に関しては、第１実施形態と同じである。
理装置（基板処理方法）の第２の実施形態を説明する。
本実施形態は、第１の実施形態を一部変更したものであ
り、ガス供給板１３の下面に、内径が基板１８の直径よ
り大きく、かつ基板突上げ棒１０によって持ち上げられ
た基板１８がその内部空間に入る高さを持つ円筒部材
（またはリング部材）３１を設けた構造を有する。その
他の構造に関しては、第１実施形態と同じである。
【００４６】タングステン薄膜除去の工程で、本実施形
態では、第１実施形態と同様に基板１８を基板保持部１
４から突上げ棒１０により持ち上げてガス供給板１３に
接近させ、さらに基板１８を円筒部材３１の内部空間に
挿入する。ガス供給板１３と基板１８の表面との間、お
よび円筒部材３１と基板１８の周囲縁部との間を、プラ
ズマが発生しない１ｍｍ以下の距離に保つ。その後、ガ
ス供給部１２よりパージガスを導入しかつエッチングガ
ス供給部１７よりエッチングガスを導入した後、高周波
電力を基板保持部１４に印加し、基板保持部１４と円筒
部材３１との間にプラズマを発生させる。発生したプラ
ズマによって、エッチングガスの一部が、イオンやラジ
カルとなり、当該ラジカルは基板１８の縁部と円筒部材
３１との間の空間へ拡散しようとするが、第１実施形態
で説明した通り、ガス供給板１３から吹き出され、適切
な流量に調整されたパージガスによって基板１８の表面
へのラジカルの侵入を防ぐ。また円筒部材３１を設けた
ため、パージガスが直接に反応容器内に流出するのを防
ぐ。
態では、第１実施形態と同様に基板１８を基板保持部１
４から突上げ棒１０により持ち上げてガス供給板１３に
接近させ、さらに基板１８を円筒部材３１の内部空間に
挿入する。ガス供給板１３と基板１８の表面との間、お
よび円筒部材３１と基板１８の周囲縁部との間を、プラ
ズマが発生しない１ｍｍ以下の距離に保つ。その後、ガ
ス供給部１２よりパージガスを導入しかつエッチングガ
ス供給部１７よりエッチングガスを導入した後、高周波
電力を基板保持部１４に印加し、基板保持部１４と円筒
部材３１との間にプラズマを発生させる。発生したプラ
ズマによって、エッチングガスの一部が、イオンやラジ
カルとなり、当該ラジカルは基板１８の縁部と円筒部材
３１との間の空間へ拡散しようとするが、第１実施形態
で説明した通り、ガス供給板１３から吹き出され、適切
な流量に調整されたパージガスによって基板１８の表面
へのラジカルの侵入を防ぐ。また円筒部材３１を設けた
ため、パージガスが直接に反応容器内に流出するのを防
ぐ。
【００４７】また本実施形態では、さらに、円筒部材３
１の高さすなわち軸方向の長さを適宜に調整することに
よって、かつラジカルの拡散量を調整するようにしてい
る。ラジカルの拡散量の調節については、円筒部材３１
の軸方向の長さが長いと、ラジカルの拡散量は減少し、
短いと、ラジカルの拡散量は増加する。このように、基
板１８の表面における縁部から内部側へのラジカルの拡
散量を、円筒部材３１の高さ（軸方向の長さ）とパージ
ガスの流量で制御することにより、基板１８の縁部近傍
のエッチング範囲を制御する。こうして、基板１８の裏
面と縁部側面のみのタングステンの除去を行い、成膜表
面のタングステン薄膜の除去を防いでいる。第２実施形
態による基板処理条件を第１実施形態と同様に設定して
実験を行った結果、基板１８の表面のタングステンは除
去されずに、基板１８の裏面と縁部側面に堆積したタン
グステンのみ完全に除去されていた。
１の高さすなわち軸方向の長さを適宜に調整することに
よって、かつラジカルの拡散量を調整するようにしてい
る。ラジカルの拡散量の調節については、円筒部材３１
の軸方向の長さが長いと、ラジカルの拡散量は減少し、
短いと、ラジカルの拡散量は増加する。このように、基
板１８の表面における縁部から内部側へのラジカルの拡
散量を、円筒部材３１の高さ（軸方向の長さ）とパージ
ガスの流量で制御することにより、基板１８の縁部近傍
のエッチング範囲を制御する。こうして、基板１８の裏
面と縁部側面のみのタングステンの除去を行い、成膜表
面のタングステン薄膜の除去を防いでいる。第２実施形
態による基板処理条件を第１実施形態と同様に設定して
実験を行った結果、基板１８の表面のタングステンは除
去されずに、基板１８の裏面と縁部側面に堆積したタン
グステンのみ完全に除去されていた。
【００４８】なお上記円筒部材３１の実際の寸法は、例
えば内径１５２ｍｍ、高さ３６ｍｍ、厚さ２ｍｍであ
る。
えば内径１５２ｍｍ、高さ３６ｍｍ、厚さ２ｍｍであ
る。
【００４９】次に、図３を参照して本発明に係る基板処
理装置（基板処理方法）の第３の実施形態を説明する。
第３実施形態の基板処理装置は、第１実施形態と同様
に、例えばブランケットタングステンをＣＶＤ法によっ
て基板の表面の全面に成膜する装置である。図３におい
て、図１で説明した要素と実質的に同一の要素には同一
の符号を付している。
理装置（基板処理方法）の第３の実施形態を説明する。
第３実施形態の基板処理装置は、第１実施形態と同様
に、例えばブランケットタングステンをＣＶＤ法によっ
て基板の表面の全面に成膜する装置である。図３におい
て、図１で説明した要素と実質的に同一の要素には同一
の符号を付している。
【００５０】本実施形態によるＣＶＤ装置は、反応容器
１１内の上方位置に設けられたガス供給部１２が駆動部
３２を備え、この駆動部３２によって、ガス供給部１２
とガス供給板１３が、基板保持部１４の上に載置され、
ガス供給板１３に対向した基板１８に対して下降する構
造を有する。図３中に示された基板突上げ棒駆動部２１
は、本実施形態の場合、基板１８を、成膜前に基板保持
部１４に置き、かつ薄膜除去後に基板保持部１４から除
くために用いられるものであり、第１実施形態のごとく
基板処理の際には用いられない。反応容器１１の側壁に
も受けられたエッチングガス導入部１７は、基板保持部
１４のほぼ側方位置に配置される。その他の構造は、第
１実施形態の場合と同様である。
１１内の上方位置に設けられたガス供給部１２が駆動部
３２を備え、この駆動部３２によって、ガス供給部１２
とガス供給板１３が、基板保持部１４の上に載置され、
ガス供給板１３に対向した基板１８に対して下降する構
造を有する。図３中に示された基板突上げ棒駆動部２１
は、本実施形態の場合、基板１８を、成膜前に基板保持
部１４に置き、かつ薄膜除去後に基板保持部１４から除
くために用いられるものであり、第１実施形態のごとく
基板処理の際には用いられない。反応容器１１の側壁に
も受けられたエッチングガス導入部１７は、基板保持部
１４のほぼ側方位置に配置される。その他の構造は、第
１実施形態の場合と同様である。
【００５１】第３の実施形態でも、第１実施形態と同様
に、基板１８の表面の全面に所望のタングステンが成膜
された後、基板１８の裏面、縁部側面に堆積したタング
ステンを除去するための基板処理が行われる。すなわ
ち、最初に、基板１８を基板保持部１４に固定したまま
で駆動部３２によってガス供給部１２を基板１８に対し
て降下させ、ガス供給板１３と基板１８の表面との間を
プラズマが発生しない１ｍｍ以下の距離に保つ。その
後、第１実施形態と同様に、ガス供給部１２に供給され
るパージガスを利用して、基板１８の裏面、縁部側面の
みのタングステンの除去を行い、基板１８の表面におけ
る縁部近傍から内側領域上の薄膜の除去を防する。な
お、基板１８の裏面のタングステン薄膜の除去は、基板
１８と基板保持部１４との間で接触が不完全な部分があ
るため、基板１８と基板保持部１４の間の隙間へラジカ
ルが侵入することにより行われる。さらに、基板１８が
基板保持部１４において例えば真空チャックで固定され
る場合、基板の周囲縁部が基板保持部から離れるように
変形し、その裏面に薄膜が付着するので、当該付着物の
除去に本実施形態は適している。
に、基板１８の表面の全面に所望のタングステンが成膜
された後、基板１８の裏面、縁部側面に堆積したタング
ステンを除去するための基板処理が行われる。すなわ
ち、最初に、基板１８を基板保持部１４に固定したまま
で駆動部３２によってガス供給部１２を基板１８に対し
て降下させ、ガス供給板１３と基板１８の表面との間を
プラズマが発生しない１ｍｍ以下の距離に保つ。その
後、第１実施形態と同様に、ガス供給部１２に供給され
るパージガスを利用して、基板１８の裏面、縁部側面の
みのタングステンの除去を行い、基板１８の表面におけ
る縁部近傍から内側領域上の薄膜の除去を防する。な
お、基板１８の裏面のタングステン薄膜の除去は、基板
１８と基板保持部１４との間で接触が不完全な部分があ
るため、基板１８と基板保持部１４の間の隙間へラジカ
ルが侵入することにより行われる。さらに、基板１８が
基板保持部１４において例えば真空チャックで固定され
る場合、基板の周囲縁部が基板保持部から離れるように
変形し、その裏面に薄膜が付着するので、当該付着物の
除去に本実施形態は適している。
【００５２】上記の第３実施形態の構成についても、第
１実施形態と同じ基板処理条件を設定して実験を行った
結果、第１実施形態と同様に基板１８の表面のタングス
テンは除去されずに、基板１８の裏面と縁部側面に堆積
したタングステンのみが完全に除去された。
１実施形態と同じ基板処理条件を設定して実験を行った
結果、第１実施形態と同様に基板１８の表面のタングス
テンは除去されずに、基板１８の裏面と縁部側面に堆積
したタングステンのみが完全に除去された。
【００５３】次に、図３を参照して本発明に係る基板処
理装置（基板処理方法）の第４の実施形態を説明する。
本実施形態は、第３実施形態を変形したもので、図３に
示した第３の実施形態に対して図２で説明した円筒部材
３１を付加したものである。すなわち、駆動部３２を備
えたガス供給部１２のガス供給板１３における基板１８
に対向する面に、第２実施形態で説明した構成上の特徴
を有する円筒部材３１を取り付け、かかるガス供給部１
２とガス供給板１３が、基板１８に対して下降する構造
を有する。その他の構成は、図３で説明したものと同じ
である。
理装置（基板処理方法）の第４の実施形態を説明する。
本実施形態は、第３実施形態を変形したもので、図３に
示した第３の実施形態に対して図２で説明した円筒部材
３１を付加したものである。すなわち、駆動部３２を備
えたガス供給部１２のガス供給板１３における基板１８
に対向する面に、第２実施形態で説明した構成上の特徴
を有する円筒部材３１を取り付け、かかるガス供給部１
２とガス供給板１３が、基板１８に対して下降する構造
を有する。その他の構成は、図３で説明したものと同じ
である。
【００５４】第４の実施形態によれば、前述した第３実
施形態の作用・効果に加えて、追加された円筒部材３１
に基づく作用・効果が発揮される。第３の実施形態の作
用、それに基づく効果の詳細な説明はここでは省略す
る。円筒部材３１の構成に関する作用およびその効果
は、第２実施形態で説明した通り、円筒部材３１の高さ
を適宜に調整することにより、パージガスがガス供給板
１３から反応容器１１へ直接流出することを妨げ、かつ
基板１８の表面へのラジカルの侵入を適切に防ぐ。基板
の成膜表面へのラジカルの拡散量はパージガスで制御さ
れ、これにより基板縁部領域のエッチング範囲が制御さ
れる。また基板の裏面、縁部側面のみのタングステンが
除去される。
施形態の作用・効果に加えて、追加された円筒部材３１
に基づく作用・効果が発揮される。第３の実施形態の作
用、それに基づく効果の詳細な説明はここでは省略す
る。円筒部材３１の構成に関する作用およびその効果
は、第２実施形態で説明した通り、円筒部材３１の高さ
を適宜に調整することにより、パージガスがガス供給板
１３から反応容器１１へ直接流出することを妨げ、かつ
基板１８の表面へのラジカルの侵入を適切に防ぐ。基板
の成膜表面へのラジカルの拡散量はパージガスで制御さ
れ、これにより基板縁部領域のエッチング範囲が制御さ
れる。また基板の裏面、縁部側面のみのタングステンが
除去される。
【００５５】上記の各実施形態の説明において、基板へ
の薄膜堆積と、当該基板の裏面および縁部側面の堆積膜
の除去を同一の反応容器内で行ったが、各々を別々の反
応容器で行うことも可能である。
の薄膜堆積と、当該基板の裏面および縁部側面の堆積膜
の除去を同一の反応容器内で行ったが、各々を別々の反
応容器で行うことも可能である。
【００５６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明によ
れば、ＣＶＤ装置で基板に所定の薄膜を成膜した後、基
板の裏面または縁部側面に付着した望ましくない付着物
を除去するにあたって、ガス供給板に対し、これに接触
させることなく、成膜後の基板を、その成膜表面が当該
ガス供給板に対向し、かつプラズマが発生しない距離ま
で接近するように配置し、その上にガス供給板から基板
との間の空間にパージガスを所要の流量で流し、さらに
基板の周囲縁部から反応室側に流すようにしたため、基
板の成膜表面の中央部や縁部の薄膜を除去することな
く、基板の裏面と縁部側面の付着物のみを除去すること
ができる。またガス供給板と基板との間には接触部がな
く、剥がれやすい薄膜部分が形成されないので、後の工
程でパーティクル汚染が発生しないという効果が生じ
る。
れば、ＣＶＤ装置で基板に所定の薄膜を成膜した後、基
板の裏面または縁部側面に付着した望ましくない付着物
を除去するにあたって、ガス供給板に対し、これに接触
させることなく、成膜後の基板を、その成膜表面が当該
ガス供給板に対向し、かつプラズマが発生しない距離ま
で接近するように配置し、その上にガス供給板から基板
との間の空間にパージガスを所要の流量で流し、さらに
基板の周囲縁部から反応室側に流すようにしたため、基
板の成膜表面の中央部や縁部の薄膜を除去することな
く、基板の裏面と縁部側面の付着物のみを除去すること
ができる。またガス供給板と基板との間には接触部がな
く、剥がれやすい薄膜部分が形成されないので、後の工
程でパーティクル汚染が発生しないという効果が生じ
る。
【００５７】さらに、基板の裏面および縁部側面の付着
物を除去する工程において、基板の周囲に円筒状または
リング状の部材を配置するように構成し、適当な軸方向
の長さを有する当該部材によって、パージガスの流れを
制御し、かつプラズマの拡散を制御するようにしたた
め、基板の縁部近傍の領域の薄膜除去を適切に行うこと
ができる。
物を除去する工程において、基板の周囲に円筒状または
リング状の部材を配置するように構成し、適当な軸方向
の長さを有する当該部材によって、パージガスの流れを
制御し、かつプラズマの拡散を制御するようにしたた
め、基板の縁部近傍の領域の薄膜除去を適切に行うこと
ができる。
【００５８】さらに、不要付着物を除去する目的で基板
の裏面側にプラズマを発生させるため導入されるエッチ
ングガスの供給路と、基板の表面側の堆積薄膜が除去さ
れることを防止するためのパージガスの供給流路を別々
に設定するようにしたため、基板表面側の薄膜の除去を
防止するためのガスの流量制御が容易になり、プラズマ
中のラジカルの基板表面側への侵入を確実に、かつ最も
望ましい状態にて阻止できる。
の裏面側にプラズマを発生させるため導入されるエッチ
ングガスの供給路と、基板の表面側の堆積薄膜が除去さ
れることを防止するためのパージガスの供給流路を別々
に設定するようにしたため、基板表面側の薄膜の除去を
防止するためのガスの流量制御が容易になり、プラズマ
中のラジカルの基板表面側への侵入を確実に、かつ最も
望ましい状態にて阻止できる。
【図１】本発明の第１実施形態を説明するための要部構
造を示す縦断面図である。
造を示す縦断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態を説明するための要部構
造を示す縦断面図である。
造を示す縦断面図である。
【図３】本発明の第３実施形態を説明するための要部構
造を示す縦断面図である。
造を示す縦断面図である。
【図４】本発明の第４実施形態を説明するための要部構
造を示す縦断面図である。
造を示す縦断面図である。
【図５】従来の基板処理装置の要部構造を示す縦断面図
である。
である。
１０ 基板突上げ棒 １１ 反応容器 １２ ガス供給部 １３ ガス供給板 １４ 基板保持部 １５ 加熱機構 １６ 排気部 １７ エッチングガス導入部 １８ 基板 １９ 高周波電力印加機構 ２０ 接地部 ２１ 基板突上げ棒駆動部 ３１ 円筒部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沼沢 陽一郎 東京都府中市四谷５丁目８番１号 アネル バ株式会社内 (72)発明者 高橋 信行 東京都府中市四谷５丁目８番１号 アネル バ株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 ＣＶＤ法によって基板の表面に薄膜を成
膜した後、ガス供給機構のガス供給面と前記基板の成膜
面とを非接触状態にて接近させ、前記基板の裏面側の空
間にエッチングガスを供給してプラズマを発生させると
共に、前記ガス供給面からパージガスを前記ガス供給面
と前記基板との間の空間に供給し、前記パージガスを前
記基板の周囲縁部から前記基板の裏面側の空間に流出す
るようにし、前記パージガスによって前記プラズマ中の
ラジカルが前記ガス供給面と前記基板との間の前記空間
に拡散するのを阻止することを特徴とする基板処理方
法。 - 【請求項２】 前記基板を前記ガス供給面に接近させる
ことを特徴とする請求項１記載の基板処理方法。 - 【請求項３】 前記ガス供給面を前記基板に接近させる
ことを特徴とする請求項１記載の基板処理方法。 - 【請求項４】 前記ガス供給面と前記基板との距離は１
ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か１項に記載の基板処理方法。 - 【請求項５】 前記基板と前記ガス供給面が接近したと
き前記基板の周囲に配置され、前記プラズマ中の前記ラ
ジカルが前記基板の成膜面に拡散するのを阻止する筒部
材を配置したことを特徴とする請求項１記載の基板処理
方法。 - 【請求項６】 基板保持部上の基板の表面にＣＶＤ法に
よって薄膜を成膜する成膜装置において、 パージガスを吹出すガス供給面を備えたパージガス供給
機構と、 前記基板と前記ガス供給面を接近させる接近駆動機構
と、 前記エッチングガス供給機構と前記基板保持部の間の空
間にエッチングガスを供給するエッチングガス供給機構
を備え、 基板成膜後、前記接近駆動機構によって前記ガス供給面
と前記基板の成膜面を非接触状態にて接近させ、前記エ
ッチングガス供給機構によて前記基板の裏面側の空間に
前記エッチングガスを供給してプラズマを発生させると
共に、前記パージガス供給機構の前記ガス供給面から前
記パージガスを前記ガス供給面と前記基板との間の空間
に供給し、前記パージガスを前記基板の周囲縁部から前
記基板の裏面側の空間に流出するようにし、前記パージ
ガスによって前記プラズマ中のラジカルが前記ガス供給
面と前記基板との間の前記空間に拡散するのを阻止する
ことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項７】 前記接近駆動機構は前記基板を前記ガス
供給面に接近させることを特徴とする請求項６記載の基
板処理装置。 - 【請求項８】 前記接近駆動機構は前記ガス供給面を前
記基板に接近させることを特徴とする請求項６記載の基
板処理装置。 - 【請求項９】 前記ガス供給面と前記基板との距離は１
ｍｍ以下であることを特徴とする請求項６〜８のいずれ
か１項に記載の基板処理装置。 - 【請求項１０】 前記基板と前記ガス供給板が接近した
とき前記基板の周囲に配置され、前記プラズマ中の前記
ラジカルが前記基板の成膜面に拡散するのを阻止する筒
部材を、前記ガス供給面に設けたことを特徴とする請求
項６記載の基板処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11530696A JP3942672B2 (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| US08/826,735 US6059985A (en) | 1996-04-12 | 1997-04-04 | Method of processing a substrate and apparatus for the method |
| KR1019970012623A KR100269041B1 (ko) | 1996-04-12 | 1997-04-07 | 기판 |
| TW086104450A TW406345B (en) | 1996-04-12 | 1997-04-08 | Method of processing a substrate and apparatus for the method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11530696A JP3942672B2 (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 基板処理方法および基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09283459A true JPH09283459A (ja) | 1997-10-31 |
| JP3942672B2 JP3942672B2 (ja) | 2007-07-11 |
Family
ID=14659370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11530696A Expired - Lifetime JP3942672B2 (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | 基板処理方法および基板処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6059985A (ja) |
| JP (1) | JP3942672B2 (ja) |
| KR (1) | KR100269041B1 (ja) |
| TW (1) | TW406345B (ja) |
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| KR101440788B1 (ko) * | 2008-01-16 | 2014-09-19 | 참엔지니어링(주) | 플라즈마 처리장치 |
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| US6632292B1 (en) * | 1998-03-13 | 2003-10-14 | Semitool, Inc. | Selective treatment of microelectronic workpiece surfaces |
| JPH11297800A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置製造用装置 |
| JP2002118027A (ja) | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Anelva Corp | 磁性膜形成装置および磁性膜形成方法 |
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| KR100777467B1 (ko) | 2006-09-16 | 2007-11-21 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 기판의 가장 자리 및 후면을 동시 식각하기 위한 플라즈마식각 장치 및 이를 위한 기판 리프팅 장치 |
| KR100777466B1 (ko) | 2006-09-16 | 2007-11-21 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 피처리 기판의 가장 자리 및 후면을 동시 식각하기 위한플라즈마 식각 장치 및 이를 위한 기판 리프팅 장치 |
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