KR100408990B1 - 플라즈마 처리장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 유전체로 구성되고 내부에 플라즈마 처리영역이 형성되는 진공용기와,상기 진공용기에 대해 가스를 공급 및 배출시키는 수단과,상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되고 상기 진공용기내에 공급되는 가스를 방전시키는 통형상의 제1전극과,상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 자석과,상기 통형상의 제1전극에 고주파 전력을 인가시키는 고주파 전력 인가수단을 구비하고, 상기 제1전극에 고주파 전력을 인가하여 진공용기내에서 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 진공용기는 상부용기와 하부용기로 구성되고, 상기 상부용기는 하부가 개구되어 있는 외에 돔형을 한 구조물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 진공용기에 가스를 균일하게 공급하는 샤워홀을 갖고, 상기 샤워홀과 대면하는 위치에 피처리기판을 위치시키는 서셉터를 설치한 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제3항에 있어서, 상기 진공용기의 바깥쪽에서, 샤워홀의 외주 부분에 제2전극을 배치시킨 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제3항에 있어서, 상기 진공용기의 플라즈마 처리영역쪽과는 반대쪽의 샤워홀의 입구쪽에 제2전극을 배치시킨 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
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- 제1항에 있어서, 상기 자석이 복수의 영구자석으로 이루어지며, 이들 복수의 영구자석이 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치된 자석홀더의 감입홀에 끼워 넣어져서 홀딩되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 자석이 복수의 영구자석으로 이루어지며, 이들 복수의 영구자석이 상기 제1전극과 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치된 자석요크로 협지되어 홀딩되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 자석은 상기 방전용 전극의 상단부근에 설치되는 제1자석과 상기 방전용 전극의 하단부근에 설치되는 제2자석을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 자석이 복수의 영구자석으로 이루어지며, 이들 복수의 영구자석이 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치된 자석홀더의 감입 공극에 끼워 넣어져서 홀딩되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 상부용기와 하부용기를 가지며, 이들 상부용기와 하부용기 중의 적어도 상기 상부용기가 유전체로 구성되고 내부에 플라즈마 처리영역이 형성되는 진공용기와,상기 상부용기에 대해 가스를 공급 및 배출시키는 수단과,상기 상부용기의 바깥쪽 주위에 배치되고 상기 진공용기내에 공급되는 가스를 방전시키는 통형상의 제1전극과,상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 자석과,상기 통형상의 제1전극에 고주파 전력을 인가시키는 고주파 전력 인가수단을 구비하고, 상기 제1전극에 고주파 전력을 인가하여 진공용기내에서 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 상기 자석은 상기 방전용 전극의 상단부근에 설치되는 제1자석과 상기 방전용 전극의 하단부근에 설치되는 제2자석을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 상기 진공용기는 상부용기와 하부용기로 구성되고, 상기 상부용기는 하부가 개구되어 있는 외에 돔형을 한 구조물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 상기 진공용기는 석영 또는 알루미나 또는 세라믹 중의 어느 하나로부터 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 피처리기판은 상기 상부전극의 내부에 배치되어 처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 상기 자석이 복수의 영구자석으로 이루어지며, 이들 복수의 영구자석이 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치된 자석홀더의 감입 공극에 끼워 넣어져서 홀딩되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 제12항에 있어서, 상기 자석이 복수의 영구자석으로 이루어지며, 이들 복수의 영구자석이 상기 제1전극과 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치된 자석요크로 협지되어 홀딩되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치.
- 유전체로 구성되는 진공용기와, 공급 및 배출 수단과, 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 통형상의 제1전극과, 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 자석과, 상기 통형상의 제1전극에 고주파 전력을 인가하는 고주파 전력 인가수단을 구비한 플라즈마 처리장치를 사용하여, 반도체장치를 제조하는 반도체장치의 제조방법으로서, 상기 진공용기 내에 기판을 삽입하여, 상기 공급수단에 의해서 상기 진공용기 내에 가스를 공급하고, 상기 제1전극에 고주파 전력 인가수단으로부터 출력되는 고주파 전력을 인가하고, 상기 진공용기 내에 플라즈마를 발생시켜서, 상기 기판에 플라즈마 처리를 수행하여, 상기 기판을 진공용기로부터 반출하는 반도체 장치의 제조방법.
- 상부용기와 하부용기를 가지며, 이들 2개의 용기중의 적어도 상부용기는 유전체로 구성되는 진공용기와, 공급 및 배출 수단과, 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 통형상의 제1전극과, 상기 진공용기의 바깥쪽 주위에 배치되는 자석과, 상기 통형상의 제1전극에 고주파 전력을 인가하는 고주파 전력 인가수단을 구비한 플라즈마 처리장치를 사용하여, 반도체장치를 제조하는 반도체장치의 제조방법으로서, 상기 진공용기 내에 기판을 삽입하여, 상기 공급수단에 의해서 상기 진공용기 내에 가스를 공급하고, 상기 제1전극에 고주파 전력 인가수단으로부터 출력되는 고주파 전력을 인가하고, 상기 진공용기 내에 플라즈마를 발생시켜서, 상기 기판에 플라즈마 처리를 수행하여, 상기 기판을 진공용기로부터 반출하는 반도체 장치의 제조방법.
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