JPH09269563A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPH09269563A JPH09269563A JP8078687A JP7868796A JPH09269563A JP H09269563 A JPH09269563 A JP H09269563A JP 8078687 A JP8078687 A JP 8078687A JP 7868796 A JP7868796 A JP 7868796A JP H09269563 A JPH09269563 A JP H09269563A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 帯電防止性能、残色、膜付き、乾燥ムラ、液
中プレッシャーに優れ、超迅速可能な感光材料の提供。 【解決手段】 透明支持体の両面に乳剤層を有し、片面
もしくは両面に少なくともは一層の導電層を有する感光
材料において、該導電層が金属酸化物コロイドを含有
し、該乳剤層と導電層の間に平均分子量2万以下の水溶
性ポリマーが総バインダー量の1/10以下含有されか
つ固体微粒子状に分散された下記一般式(1)で示され
る染料が含有された非感光性層を有し、表面マット度が
100mmHg以上である感光材料又は該感光材料の乳
剤層及び/又は保護層に下記一般式(2)で表される化
合物を含有する感光材料により達成。
中プレッシャーに優れ、超迅速可能な感光材料の提供。 【解決手段】 透明支持体の両面に乳剤層を有し、片面
もしくは両面に少なくともは一層の導電層を有する感光
材料において、該導電層が金属酸化物コロイドを含有
し、該乳剤層と導電層の間に平均分子量2万以下の水溶
性ポリマーが総バインダー量の1/10以下含有されか
つ固体微粒子状に分散された下記一般式(1)で示され
る染料が含有された非感光性層を有し、表面マット度が
100mmHg以上である感光材料又は該感光材料の乳
剤層及び/又は保護層に下記一般式(2)で表される化
合物を含有する感光材料により達成。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料に関し、詳しくは帯電防止性能、残色、膜付
き、乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れた超迅速可能な
ハロゲン化銀写真感光材料に関する。
感光材料に関し、詳しくは帯電防止性能、残色、膜付
き、乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れた超迅速可能な
ハロゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、エレクトロニクスの進歩により映
像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、ハロゲ
ン化銀写真感光材料(以下、単に感光材料という)へも
益々迅速処理が要求されている。このため、感光材料
は、その諸物性に対しても益々厳しい要求をされてきて
いるが、このような要求の厳しい性能の一つとして、帯
電防止性能も挙げられる。
像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、ハロゲ
ン化銀写真感光材料(以下、単に感光材料という)へも
益々迅速処理が要求されている。このため、感光材料
は、その諸物性に対しても益々厳しい要求をされてきて
いるが、このような要求の厳しい性能の一つとして、帯
電防止性能も挙げられる。
【0003】従来、感光材料の帯電防止剤としては、高
分子電解質や、界面活性剤が用いられてきた。しかし、
これらの高分子電解質や界面活性剤は水溶性であるた
め、現像処理時に処理液中に溶出し、濁りやスラッジを
生じることがある。よって、これらの高分子電解質や界
面活性剤は、水溶性の大きいものを選ぶか、高分子電解
質を架橋する手段などがとられてきた。しかしながら、
近年、環境規制が厳しいことから処理液の廃液量減少が
要求されており、このような場合には、上記手段によっ
ても濁りやスラッジの問題は解決できない。
分子電解質や、界面活性剤が用いられてきた。しかし、
これらの高分子電解質や界面活性剤は水溶性であるた
め、現像処理時に処理液中に溶出し、濁りやスラッジを
生じることがある。よって、これらの高分子電解質や界
面活性剤は、水溶性の大きいものを選ぶか、高分子電解
質を架橋する手段などがとられてきた。しかしながら、
近年、環境規制が厳しいことから処理液の廃液量減少が
要求されており、このような場合には、上記手段によっ
ても濁りやスラッジの問題は解決できない。
【0004】特公昭60−49894号では、このよう
な問題を避けるために非水溶性の結晶性の金属酸化物粒
子をビニリデン等の疎水性バインダーと共に用いること
が提案されている。この場合、疎水性バインダーは導電
性が無いので、結晶性の金属酸化物粒子は、導電性を出
すために導電性層中の粒子の充填率を上げる必要があ
り、当該特許においては、80重量%以上であるが、結
晶性の金属酸化物粒子は光を散乱するため、これだけの
量を添加すると、現像後の失透性の劣化が問題となっ
た。これに対処するために、特公平3−24656号で
は、結晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バインダ
ーおよび、ポリオキシエチレン基を有するノニオン界面
活性剤用いることが、特公平3−24657号では、結
晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バインダーおよ
び、フッ素系界面活性剤を用いることが示されている。
しかしながら、これらの技術をもってしても導電性を持
たせるために、粒子の充填率は50%以上必要であるこ
とが示されており、失透性の問題は十分解決されていな
い。
な問題を避けるために非水溶性の結晶性の金属酸化物粒
子をビニリデン等の疎水性バインダーと共に用いること
が提案されている。この場合、疎水性バインダーは導電
性が無いので、結晶性の金属酸化物粒子は、導電性を出
すために導電性層中の粒子の充填率を上げる必要があ
り、当該特許においては、80重量%以上であるが、結
晶性の金属酸化物粒子は光を散乱するため、これだけの
量を添加すると、現像後の失透性の劣化が問題となっ
た。これに対処するために、特公平3−24656号で
は、結晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バインダ
ーおよび、ポリオキシエチレン基を有するノニオン界面
活性剤用いることが、特公平3−24657号では、結
晶性の金属酸化物粒子とともに、親水性バインダーおよ
び、フッ素系界面活性剤を用いることが示されている。
しかしながら、これらの技術をもってしても導電性を持
たせるために、粒子の充填率は50%以上必要であるこ
とが示されており、失透性の問題は十分解決されていな
い。
【0005】また、撮影装置などの高速搬送時や自動現
像機での迅速処理の際に、挿入時にフィルムの先端でロ
ーラーにより膜が剥がれるなどの問題も発生している。
さらに迅速処理のために短時間での急激な乾燥方式を取
った場合、特に乾燥工程がヒートローラーを備えている
自動現像機で処理した場合、乾燥ムラが生じ問題となる
こともわかった。乾燥ムラは、主にフィルム表面の光沢
のムラとして現れ、画質の劣化を招く。
像機での迅速処理の際に、挿入時にフィルムの先端でロ
ーラーにより膜が剥がれるなどの問題も発生している。
さらに迅速処理のために短時間での急激な乾燥方式を取
った場合、特に乾燥工程がヒートローラーを備えている
自動現像機で処理した場合、乾燥ムラが生じ問題となる
こともわかった。乾燥ムラは、主にフィルム表面の光沢
のムラとして現れ、画質の劣化を招く。
【0006】さらに、Xレイ感光材料においては、高感
度を維持し、かつ鮮鋭性を向上する目的で、染料を固定
して存在させるための数々の方法が提案されている。染
料を固定させるために、塩基性の高分子と酸性染料を組
み合わせ使用する方法がある。この方法は、固定化され
た染料が現像、定着、水洗により脱色せずに残る問題が
ある。固定化能力を高めるために、塩基性を強くすれ
ば、酸性染料との結合が強くなり、脱色しにくくなる。
逆に、固定化を弱めれば脱色しやすくなるが、染料が隣
接層へ拡散移動してしまい、写真特性に悪影響を与え
る。そのため、染料が現像や定着中に分解するように構
造式を変えることが試みられてきたが、分解性の染料を
用いるとフィルムの保存時に、特に高温下の保存中に分
解が進み、安定な性能が得られないという欠点がでてく
る。この固定化の強さと分解性の程度を最適化した技術
では、鮮鋭性の向上が不十分であった。
度を維持し、かつ鮮鋭性を向上する目的で、染料を固定
して存在させるための数々の方法が提案されている。染
料を固定させるために、塩基性の高分子と酸性染料を組
み合わせ使用する方法がある。この方法は、固定化され
た染料が現像、定着、水洗により脱色せずに残る問題が
ある。固定化能力を高めるために、塩基性を強くすれ
ば、酸性染料との結合が強くなり、脱色しにくくなる。
逆に、固定化を弱めれば脱色しやすくなるが、染料が隣
接層へ拡散移動してしまい、写真特性に悪影響を与え
る。そのため、染料が現像や定着中に分解するように構
造式を変えることが試みられてきたが、分解性の染料を
用いるとフィルムの保存時に、特に高温下の保存中に分
解が進み、安定な性能が得られないという欠点がでてく
る。この固定化の強さと分解性の程度を最適化した技術
では、鮮鋭性の向上が不十分であった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、帯電防止性能、残色、膜付き、
乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れ、超迅速可能な感光
材料を提供することにある。
して、本発明の課題は、帯電防止性能、残色、膜付き、
乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れ、超迅速可能な感光
材料を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
手段により達成される。
手段により達成される。
【0009】 透明支持体の両面に感光性ハロゲン化
銀乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくともは一層
の導電層を有する感光材料において、該導電層が金属酸
化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層の間に平均分
子量2万以下の水溶性ポリマーが総バインダー量の1/
10以下、1/50以上含有される層を有し、かつ固体
微粒子状に分散された前記一般式(1)で示される染料
が含有された非感光性層を有し、表面マット度が100
mmHg以上、30mmHg以下であることを特徴する
感光材料。
銀乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくともは一層
の導電層を有する感光材料において、該導電層が金属酸
化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層の間に平均分
子量2万以下の水溶性ポリマーが総バインダー量の1/
10以下、1/50以上含有される層を有し、かつ固体
微粒子状に分散された前記一般式(1)で示される染料
が含有された非感光性層を有し、表面マット度が100
mmHg以上、30mmHg以下であることを特徴する
感光材料。
【0010】 透明支持体の両面に感光性ハロゲン化
銀乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくともは一層
の導電層を有する感光材料において、該導電層が金属酸
化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層の間に平均分
子量2万以下の水溶性ポリマーが総バインダー量の1/
10以下、1/50以上含有される層を有し、かつ固体
微粒子状に分散された前記一般式(1)で示される染料
が含有された非感光性層を有し、かつ前記一般式(2)
で示される化合物を該ハロゲン化銀乳剤層及び/又は保
護層に含有することを特徴する感光材料。
銀乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくともは一層
の導電層を有する感光材料において、該導電層が金属酸
化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層の間に平均分
子量2万以下の水溶性ポリマーが総バインダー量の1/
10以下、1/50以上含有される層を有し、かつ固体
微粒子状に分散された前記一般式(1)で示される染料
が含有された非感光性層を有し、かつ前記一般式(2)
で示される化合物を該ハロゲン化銀乳剤層及び/又は保
護層に含有することを特徴する感光材料。
【0011】以下、本発明について具体的に説明する。
【0012】本発明の金属酸化物コロイドとしては、亜
鉛、マグネシウム、ケイ素、カルシウム、アルミニウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ジルコニウム、チタ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、スズ、インジ
ウム、モリブデン、バナジウムなどの酸化物コロイドが
好ましく用いられる。特にZnO、TiO2及びSnO2
が好ましい。また異種原子をドープした例としてはZn
Oに対してはAl、In等、TiO2に対してはNb、
Ta等、SnO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素
等が挙げられる。
鉛、マグネシウム、ケイ素、カルシウム、アルミニウ
ム、ストロンチウム、バリウム、ジルコニウム、チタ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、スズ、インジ
ウム、モリブデン、バナジウムなどの酸化物コロイドが
好ましく用いられる。特にZnO、TiO2及びSnO2
が好ましい。また異種原子をドープした例としてはZn
Oに対してはAl、In等、TiO2に対してはNb、
Ta等、SnO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素
等が挙げられる。
【0013】無機コロイド粒子の平均粒径は、好ましく
は0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
は0.001〜1μmが分散安定上好ましい。
【0014】本発明に用いる金属酸化物コロイド、特に
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、または溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中
における分解反応から製造する方法など、いずれの方法
でも良い。
酸化第二錫からなるコロイド状SnO2ゾルの製造方法
に関しては、SnO2超微粒子を適当な溶媒に分散して
製造する方法、または溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中
における分解反応から製造する方法など、いずれの方法
でも良い。
【0015】SnO2超微粒子の製造方法に関しては、
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下好ましくは200℃以下さらに好ま
しくは150℃以下で行なうべきである。しかし、25
℃から150℃までの加温は、バインダー中への分散を
考えたときには、好適に選ばれる手段である。
特に温度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、
一次粒子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので
好ましくなく、やむをえず熱処理を行う必要があるとき
には、300℃以下好ましくは200℃以下さらに好ま
しくは150℃以下で行なうべきである。しかし、25
℃から150℃までの加温は、バインダー中への分散を
考えたときには、好適に選ばれる手段である。
【0016】また、最近粉体製造技術の進歩により、超
微粒子を製造するにあたり、湿式法により製造された化
合物を電気炉中に噴霧する方法や、有機金属化合物の高
温度熱分解法などが開発されているが、かかる方法によ
り製造された超微粒子を溶媒中に再分散するには、かな
りの困難を伴い経済的に好ましくなく、また凝集粒子の
発生など感光材料として重大な欠陥を引き起こす可能性
がある。このような理由から金属酸化物だけ単離する製
造プロセスの後、溶媒中へ再分散する方法は、写真用帯
電防止剤として使用する本発明においては採用しない。
ただし、バインダーとSnO2ゾルの溶媒との相溶性が
悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そのようなと
きには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性または分散安定
性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2ゾルから
SnO2超微粒子と適量添加された化合物とを300℃
以下、好ましくは200℃以下、さらに好ましくは15
0℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ再分散
する。
微粒子を製造するにあたり、湿式法により製造された化
合物を電気炉中に噴霧する方法や、有機金属化合物の高
温度熱分解法などが開発されているが、かかる方法によ
り製造された超微粒子を溶媒中に再分散するには、かな
りの困難を伴い経済的に好ましくなく、また凝集粒子の
発生など感光材料として重大な欠陥を引き起こす可能性
がある。このような理由から金属酸化物だけ単離する製
造プロセスの後、溶媒中へ再分散する方法は、写真用帯
電防止剤として使用する本発明においては採用しない。
ただし、バインダーとSnO2ゾルの溶媒との相溶性が
悪い時には、溶媒置換の必要が生じるが、そのようなと
きには、SnO2ゾルの溶媒との相溶性または分散安定
性の良好な他の化合物を適量添加し、SnO2ゾルから
SnO2超微粒子と適量添加された化合物とを300℃
以下、好ましくは200℃以下、さらに好ましくは15
0℃以下の加温により乾燥分離後、他の溶媒中へ再分散
する。
【0017】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法に関して以下に述べる。溶媒
に可溶なSn化合物とは、K2SnO3・3H2Oのよう
なオキソ陰イオンを含む化合物、SnCl4のような水
溶性ハロゲン化物、R′2SnR2,R3SnX,R2Sn
X2の構造を有する化合物で(ここで、R及びR′はア
ルキル基を表す)、例えば(CH3)3SnCl・(ピリ
ジン)、(C4H9)2Sn(O2CC2H5)2など有機金
属化合物、Sn(SO4)2・2H2Oなどのオキソ塩を
挙げる事ができる。これらの溶媒に可溶なSn化合物を
用いてSnO2ゾルを製造する方法としては、溶媒に溶
解後、加熱、加圧などの物理的方法、酸化、還元、加水
分解などの化学的方法、または中間体を経由後、SnO
2ゾルを製造する方法などがある。例として特公昭35
−6616に記載されたSnO2ゾルの製造方法を述べ
ると、SnCl4を100倍容量の蒸留水に溶解して、
中間体として水酸化第二錫の沈澱を作る。この水酸化第
二錫にアンモニア水を加え微アルカリ性となし溶解す
る。ついでアンモニア臭の無くなるまで加温するとコロ
イド状SnO2ゾルが得られる。なお、この例では、溶
媒として水を用いたが、メタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶
媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族有機溶媒、ベンゼ
ン、ピリジンなどの芳香族有機溶媒などSn化合物に応
じて様々な溶媒を用いる事が可能であり、本発明は、溶
媒に関して特に制限はない。好ましくは、水、アルコー
ル類の溶媒が選ばれる。
分解反応から製造する方法に関して以下に述べる。溶媒
に可溶なSn化合物とは、K2SnO3・3H2Oのよう
なオキソ陰イオンを含む化合物、SnCl4のような水
溶性ハロゲン化物、R′2SnR2,R3SnX,R2Sn
X2の構造を有する化合物で(ここで、R及びR′はア
ルキル基を表す)、例えば(CH3)3SnCl・(ピリ
ジン)、(C4H9)2Sn(O2CC2H5)2など有機金
属化合物、Sn(SO4)2・2H2Oなどのオキソ塩を
挙げる事ができる。これらの溶媒に可溶なSn化合物を
用いてSnO2ゾルを製造する方法としては、溶媒に溶
解後、加熱、加圧などの物理的方法、酸化、還元、加水
分解などの化学的方法、または中間体を経由後、SnO
2ゾルを製造する方法などがある。例として特公昭35
−6616に記載されたSnO2ゾルの製造方法を述べ
ると、SnCl4を100倍容量の蒸留水に溶解して、
中間体として水酸化第二錫の沈澱を作る。この水酸化第
二錫にアンモニア水を加え微アルカリ性となし溶解す
る。ついでアンモニア臭の無くなるまで加温するとコロ
イド状SnO2ゾルが得られる。なお、この例では、溶
媒として水を用いたが、メタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶
媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族有機溶媒、ベンゼ
ン、ピリジンなどの芳香族有機溶媒などSn化合物に応
じて様々な溶媒を用いる事が可能であり、本発明は、溶
媒に関して特に制限はない。好ましくは、水、アルコー
ル類の溶媒が選ばれる。
【0018】溶媒に可溶なSn化合物の溶媒中における
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価または5価の配位数をとりうる金属の
化合物の添加である。
分解反応から製造する方法においてはプロセスの途中で
溶媒に可溶なSn以外の元素を含む化合物の添加も可能
である。例えば溶媒に可溶な弗素含有化合物の添加や、
溶媒に可溶な3価または5価の配位数をとりうる金属の
化合物の添加である。
【0019】溶媒に可溶な弗素含有化合物とは、イオン
性弗化物または共有性弗化物のいずれでも良い。例え
ば、HF、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの
金属弗化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオ
ロ錯陰イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF
6などの無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、
P(CF3)3などの有機弗素化合物をあげることができ
るが、溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合
わせのように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合
わせも用いる事ができる。
性弗化物または共有性弗化物のいずれでも良い。例え
ば、HF、もしくはKHF2、SbF3、MoF6などの
金属弗化物、NH4MnF3、NH4BiF4などのフルオ
ロ錯陰イオンを生成する化合物、BrF3、SF4、SF
6などの無機分子性弗化物、CF3I、CF3COOH、
P(CF3)3などの有機弗素化合物をあげることができ
るが、溶媒が水の場合には、CaF2と硫酸との組み合
わせのように、弗素含有化合物と不揮発性酸との組み合
わせも用いる事ができる。
【0020】溶媒に可溶な3価もしくは5価の配位数を
とりうる金属の化合物とは、Al,Ga,In,Tlな
どのIIIa族元素もしくはP,As,Sb,Biなどの
V族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb,
V,Ti,Cr,Mo,Fe,Co,Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
とりうる金属の化合物とは、Al,Ga,In,Tlな
どのIIIa族元素もしくはP,As,Sb,Biなどの
V族元素、3価もしくは5価の配位数をとりうるNb,
V,Ti,Cr,Mo,Fe,Co,Niなどの遷移金
属を含む化合物群である。
【0021】本発明に用いられる導電層のバインダーと
しては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブ
ミン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合
物;寒天、アルギン酸ソーダ、デンプン誘導体等の糖誘
導体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体及び加水
分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
アクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重合
体、ロジン、シェラック等の天然物及びその誘導体、そ
の他多くの合成用樹脂が用いられる。又、スチレンブタ
ジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エス
テル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、オレフィ
ン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使用するこ
とができる。
しては、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブ
ミン、カゼイン等のタンパク質;カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合
物;寒天、アルギン酸ソーダ、デンプン誘導体等の糖誘
導体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコー
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重
合体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体及び加水
分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
アクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重合
体、ロジン、シェラック等の天然物及びその誘導体、そ
の他多くの合成用樹脂が用いられる。又、スチレンブタ
ジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エス
テル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−ア
クリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、オレフィ
ン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使用するこ
とができる。
【0022】その他、カーボネート系、ポリエステル
系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン及びポリピロールのごとき有機半導体
を使用することができる。これらのバインダーは2種以
上を混合して使用することができる。
系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン及びポリピロールのごとき有機半導体
を使用することができる。これらのバインダーは2種以
上を混合して使用することができる。
【0023】製造時の取り扱い容易性や製品性能の観点
からこれらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸共
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
からこれらのバインダーの中でも特にポリアクリル酸共
重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンが好まし
い。
【0024】本発明における導電層の抵抗は、導電層の
導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/又
は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω・
cmの範囲に容易に調節することができる。しかしなが
ら、導電層としての強度を十分持たせるためにはバイン
ダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導電
性微粒子の割合は、体積含有率で10〜70%、より好
ましくは15〜50%であり、その使用量は0.05〜
5.0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2であ
る。
導電性粒子の体積含有率を調節することにより及び/又
は導電層の厚みを調節することにより10〜1010Ω・
cmの範囲に容易に調節することができる。しかしなが
ら、導電層としての強度を十分持たせるためにはバイン
ダーの量は5重量%を下回らないことが好ましい。導電
性微粒子の割合は、体積含有率で10〜70%、より好
ましくは15〜50%であり、その使用量は0.05〜
5.0g/m2、好ましくは0.1〜2.0g/m2であ
る。
【0025】導電層の塗布に際しては、溶剤を適宜選択
して上記の組成物の分散物を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
に制限はなく、公知の方法を用いことができる。又、塗
布に際してはサポニン、ドデシルベンゼンスルホン酸等
の公知の塗布助剤や硬膜剤、着色剤、紫外線吸収剤、熱
線カット剤等を適宜必要に応じて塗布液に用いることが
できる。又、支持体と導電層の間の接着性を上げるため
に、両者の間に下引層をもうけてもよい。
して上記の組成物の分散物を調製する。溶剤の選択は当
業者であれば容易に行うことができる。塗布方法には特
に制限はなく、公知の方法を用いことができる。又、塗
布に際してはサポニン、ドデシルベンゼンスルホン酸等
の公知の塗布助剤や硬膜剤、着色剤、紫外線吸収剤、熱
線カット剤等を適宜必要に応じて塗布液に用いることが
できる。又、支持体と導電層の間の接着性を上げるため
に、両者の間に下引層をもうけてもよい。
【0026】本発明の乳剤層と導電層の間の親水性コロ
イド層中に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば
合成水溶性ポリマーと天然水溶性ポリマーが挙げられる
が、本発明ではいずれも好ましく用いることができる。
このうち、合成水溶性ポリマーとしては、分子構造中に
例えばノニオン性基を有するもの、アニオン性基を有す
るもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有するも
のが挙げられる。ノニオン性基としては、例えばエーテ
ル基、エチレンオキサイド基、ヒドロキシ基等が挙げら
れ、アニオン性基としては、例えばスルホン酸基あるい
はその塩、カルボン酸基あるいはその塩、リン酸基ある
いはその塩、等が挙げられる。
イド層中に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば
合成水溶性ポリマーと天然水溶性ポリマーが挙げられる
が、本発明ではいずれも好ましく用いることができる。
このうち、合成水溶性ポリマーとしては、分子構造中に
例えばノニオン性基を有するもの、アニオン性基を有す
るもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有するも
のが挙げられる。ノニオン性基としては、例えばエーテ
ル基、エチレンオキサイド基、ヒドロキシ基等が挙げら
れ、アニオン性基としては、例えばスルホン酸基あるい
はその塩、カルボン酸基あるいはその塩、リン酸基ある
いはその塩、等が挙げられる。
【0027】これらの合成水溶性ポリマーとしては、ホ
モポリマーのみならず1種又はそれ以上の単量体とのコ
ポリマーでもよい。さらにこのコポリマーは、そのもの
が水溶性を保持する限り、部分的に疎水性の単量体との
コポリマーの組成は、添加場所や添加量によって若干の
制約を受ける。すなわち、特に、乳剤層に多量添加する
場合には、添加の際に副作用を生じないような組成範囲
に限定する必要がある。
モポリマーのみならず1種又はそれ以上の単量体とのコ
ポリマーでもよい。さらにこのコポリマーは、そのもの
が水溶性を保持する限り、部分的に疎水性の単量体との
コポリマーの組成は、添加場所や添加量によって若干の
制約を受ける。すなわち、特に、乳剤層に多量添加する
場合には、添加の際に副作用を生じないような組成範囲
に限定する必要がある。
【0028】また、天然水溶性ポリマーとしても分子構
造中に、例えばノニオン性基を有する物、アニオン性基
を有するもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有
するものが挙げられる。
造中に、例えばノニオン性基を有する物、アニオン性基
を有するもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有
するものが挙げられる。
【0029】本発明では、水溶性ポリマーとは、20℃
における水100gに対し0.05g以上溶解れすれば
よく、好ましくは0.1g以上のものである。
における水100gに対し0.05g以上溶解れすれば
よく、好ましくは0.1g以上のものである。
【0030】更に又、本発明の水溶性ポリマーは現像液
や定着液への溶解度が高い程好ましく、その溶解度が現
像液100gに対して、0.05g以上溶解するもので
あり、好ましくは0.5g以上特に好ましいのは1g以
上である。
や定着液への溶解度が高い程好ましく、その溶解度が現
像液100gに対して、0.05g以上溶解するもので
あり、好ましくは0.5g以上特に好ましいのは1g以
上である。
【0031】合成水溶性ポリマーとしては、下記一般式
〔P〕の繰り返し単位をポリマー1分子中10〜100
モル%含むものが挙げられる。
〔P〕の繰り返し単位をポリマー1分子中10〜100
モル%含むものが挙げられる。
【0032】
【化3】
【0033】式中、R1及びR2は同じでも異なってもよ
くそれぞれは水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数1〜4のアルキル基(置換基を有するものも含まれ
る。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子)または−CH2
COOMを表し、Lは−CONH−、−NHCO−、−
COO−、−OCO−、−CO−、−SO2−、−NH
SO2−、−SO2NH−または−O−を表し、Jはアル
キレン基、好ましくは炭素原子数1〜10のアルキレン
基(置換基を有するものも含まれる。例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチ
レン基、ヘキシレン基等)、アリーレン基(置換基を有
するものも含まれる。例えばフェニレン基等)、アラル
キレン基(置換基を有するものも含まれる。
くそれぞれは水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数1〜4のアルキル基(置換基を有するものも含まれ
る。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子)または−CH2
COOMを表し、Lは−CONH−、−NHCO−、−
COO−、−OCO−、−CO−、−SO2−、−NH
SO2−、−SO2NH−または−O−を表し、Jはアル
キレン基、好ましくは炭素原子数1〜10のアルキレン
基(置換基を有するものも含まれる。例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチ
レン基、ヘキシレン基等)、アリーレン基(置換基を有
するものも含まれる。例えばフェニレン基等)、アラル
キレン基(置換基を有するものも含まれる。
【0034】
【化4】
【0035】Mは水素原子またはカチオン基を表し、R
9は炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表し、R3、
R4、R5、R6、R7およびR8は水素原子、炭素原子数
1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデ
シル基等)、アルケニル基(例えばビニル基、アリル基
等)、フェニル基(例えばフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロフェニル基等)、アラルキル基(例えばベン
ジル基等)を表し、Xはアニオンを表し、またpおよび
qはそれぞれ0または1を表す。特にアクリルアミド又
はメタクリルアミドを含有するポリマーが好ましい。
9は炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表し、R3、
R4、R5、R6、R7およびR8は水素原子、炭素原子数
1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデ
シル基等)、アルケニル基(例えばビニル基、アリル基
等)、フェニル基(例えばフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロフェニル基等)、アラルキル基(例えばベン
ジル基等)を表し、Xはアニオンを表し、またpおよび
qはそれぞれ0または1を表す。特にアクリルアミド又
はメタクリルアミドを含有するポリマーが好ましい。
【0036】Yは水素原子又は−(L)p−(J)q−Q
を表す。
を表す。
【0037】また、本発明の合成水溶性モノマーはエチ
レン性不飽和モノマーと共重合させることができる。共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例は、スチレ
ン、アルキルスチレン、ヒドロキシアルキルスチレン
(アルキル基は炭素数1〜4までのものたとえばメチ
ル、エチル、ブチル等)、ビニルベンゼンスルホン酸お
よびその塩、α−メチルスチレン、4−ビニルピリジ
ン、N−ビニルピロリドン、脂肪酸のモノエチレン性不
飽和エステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル等)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジ
カルボン酸およびその塩(例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸)、無水マレイン酸、エチレン性不飽和のモノカル
ボン酸もしくはジカルボン酸のエステル(例えばn−ブ
チルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジ
カルボン酸のアミド(例えば、アクリルアミド、2−ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ、
N,N−ジメチル−N′−メタクリロイルプロパンジア
ミンアセテートベタイン)などである。
レン性不飽和モノマーと共重合させることができる。共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例は、スチレ
ン、アルキルスチレン、ヒドロキシアルキルスチレン
(アルキル基は炭素数1〜4までのものたとえばメチ
ル、エチル、ブチル等)、ビニルベンゼンスルホン酸お
よびその塩、α−メチルスチレン、4−ビニルピリジ
ン、N−ビニルピロリドン、脂肪酸のモノエチレン性不
飽和エステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル等)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジ
カルボン酸およびその塩(例えばアクリル酸、メタクリ
ル酸)、無水マレイン酸、エチレン性不飽和のモノカル
ボン酸もしくはジカルボン酸のエステル(例えばn−ブ
チルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジ
カルボン酸のアミド(例えば、アクリルアミド、2−ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ、
N,N−ジメチル−N′−メタクリロイルプロパンジア
ミンアセテートベタイン)などである。
【0038】次に一般式〔P〕の合成水溶性ポリマーの
具体例を挙げる。
具体例を挙げる。
【0039】
【化5】
【0040】
【化6】
【0041】
【化7】
【0042】
【化8】
【0043】
【化9】
【0044】
【化10】
【0045】本発明の合成水溶性ポリマーの数平均分子
量は2万以下500以上である。好ましくは1万以下で
ある。又、更に好ましくは5000以下である。
量は2万以下500以上である。好ましくは1万以下で
ある。又、更に好ましくは5000以下である。
【0046】天然水溶性ポリマーとしては、水溶性高分
子水分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出
版部)に詳しく記載されているが、リグニン、澱粉、プ
ルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン、デキ
ストリン、グアーガム、アラビアゴム、ペクチン、カゼ
イン、寒天、キサンタンガム、シクロデキストリン、ロ
ーカストビーンガム、トラガントガム、カラギーナン、
グリコーゲン、ラミナラン、リケニン、ニゲラン等及び
その誘導体が好ましい。
子水分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出
版部)に詳しく記載されているが、リグニン、澱粉、プ
ルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン、デキ
ストリン、グアーガム、アラビアゴム、ペクチン、カゼ
イン、寒天、キサンタンガム、シクロデキストリン、ロ
ーカストビーンガム、トラガントガム、カラギーナン、
グリコーゲン、ラミナラン、リケニン、ニゲラン等及び
その誘導体が好ましい。
【0047】また天然水溶性ポリマーの誘導体として
は、スルホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホア
ルキレン化、又はカルボキシアルキレン化、アルキルリ
ン酸化したもの、及びその塩、ポリオキシアルキレン化
(例えばエチレン、グリセリン、プロピレンなど)、ア
ルキル化(メチル、エチル、ベンジル化など)が好まし
い。
は、スルホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホア
ルキレン化、又はカルボキシアルキレン化、アルキルリ
ン酸化したもの、及びその塩、ポリオキシアルキレン化
(例えばエチレン、グリセリン、プロピレンなど)、ア
ルキル化(メチル、エチル、ベンジル化など)が好まし
い。
【0048】本発明において、天然水溶性ポリマーは2
種以上併用して用いてもよい。
種以上併用して用いてもよい。
【0049】また、天然水溶性ポリマーの中では、グル
コース重合体、及びその誘導体が好ましく、グルコース
重合体、及びその誘導体中でも、澱粉、グリコーゲン、
セルロース、リケニン、デキストラン、デキストリン、
シクロデキストリン、ニゲラン等が好ましく、特にデキ
ストリン、シクロデキストリン及びその誘導体が好まし
い。
コース重合体、及びその誘導体が好ましく、グルコース
重合体、及びその誘導体中でも、澱粉、グリコーゲン、
セルロース、リケニン、デキストラン、デキストリン、
シクロデキストリン、ニゲラン等が好ましく、特にデキ
ストリン、シクロデキストリン及びその誘導体が好まし
い。
【0050】これらの天然水溶性ポリマーの数平均分子
量は、2万以下が好ましいが、特に好ましいのは1万以
下である。また、更に好ましくは、5000以下であ
る。本発明に用いられる合成あるいは天然水溶性ポリマ
ーの添加量としては、0.01〜2g/m2が好ましい
が、より好ましくは0.05〜1g/m2である。更に
好ましくは、0.1〜0.5g/m2である。また、添
加する層は乳剤層が好ましいが、必要に応じてその他の
親水性コロイド層に必要量添加しても良い。
量は、2万以下が好ましいが、特に好ましいのは1万以
下である。また、更に好ましくは、5000以下であ
る。本発明に用いられる合成あるいは天然水溶性ポリマ
ーの添加量としては、0.01〜2g/m2が好ましい
が、より好ましくは0.05〜1g/m2である。更に
好ましくは、0.1〜0.5g/m2である。また、添
加する層は乳剤層が好ましいが、必要に応じてその他の
親水性コロイド層に必要量添加しても良い。
【0051】本発明に用いられる合成あるいは天然水溶
性ポリマーは、単独で用いても良いが、必要ならば2種
以上組み合わせて用いても差し支えない。
性ポリマーは、単独で用いても良いが、必要ならば2種
以上組み合わせて用いても差し支えない。
【0052】本発明に用いられる合成あるいは天然水溶
性ポリマーは、写真感光材料中にその総重量の10%以
上含有され、好ましくは10%以上、30%以下で含有
されれば良い。
性ポリマーは、写真感光材料中にその総重量の10%以
上含有され、好ましくは10%以上、30%以下で含有
されれば良い。
【0053】本発明に用いられるデキストリンは、α−
1,4結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
デンプンを加水分解して麦芽糖に至るまでの種々の分解
生成物の総称を指す。学術上重要なものとして化学構造
上特徴ある物がいくつかある他は、特に構造上の特徴を
持たず、分子量も一定のものではない。デンプンをわず
かに加水分解した高分子量のものから、ヨウ素デンプン
反応を呈しない低分子量の物まであり、加水分解の方法
および用途に従って多くの種類がある。
1,4結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
デンプンを加水分解して麦芽糖に至るまでの種々の分解
生成物の総称を指す。学術上重要なものとして化学構造
上特徴ある物がいくつかある他は、特に構造上の特徴を
持たず、分子量も一定のものではない。デンプンをわず
かに加水分解した高分子量のものから、ヨウ素デンプン
反応を呈しない低分子量の物まであり、加水分解の方法
および用途に従って多くの種類がある。
【0054】デキストリンの具体例としては、名糖産業
(株)からはLLD等の商品名で、日澱化学(株)から
は、アミコール1、デキストリン102S等の商品名、
又、東和化成工業(株)からは、ピーオー等の商品名で
市販されているものが挙げられる。
(株)からはLLD等の商品名で、日澱化学(株)から
は、アミコール1、デキストリン102S等の商品名、
又、東和化成工業(株)からは、ピーオー等の商品名で
市販されているものが挙げられる。
【0055】本発明に用いられる前記一般式(1)で表
される染料について説明する。
される染料について説明する。
【0056】前記一般式(1)においてR1およびR2で
表されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、iso−プロピル基、t−ブチル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル
基、2−エチルヘキシル基、n−ドデシル基、n−ペン
タデシル基、エイコシル基等が挙げられる。該アルキル
基は置換基を有するものを含み、該置換基としては、例
えばハロゲン原子(例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
等の各原子)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシル基)、ヘテロ環基(例えばピロリジ
ル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基等)、スルフ
ィン酸基、カルボキシル基、ニトロ基、水酸基、メルカ
プト基、アミノ基(例えばアミノ基、ジエチルアミノ基
等)、アルキルオキシ基(例えばメチルオキシ基、エチ
ルオキシ基、n−ブチルオキシ基、n−オクチルオキシ
基、イソプロピルオキシ基等)、アリールオキシ基(フ
ェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等)、カルバモイル
基(例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル
基、n−ペンチルカルバモイル基、フェニルカルバモイ
ル基等)、アミド基(例えばメチルアミド基、ベンズア
ミド基、n−オクチルアミド基等)、アミノスルホニル
アミノ基(例えばアミノスルホニルアミノ基、メチルア
ミノスルホニルアミノ基、アニリノスルホニルアミノ基
等)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、メ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、n
−ブチルスルファモイル基等)、スルホンアミド基(例
えばメタンスルホンアミド基、n−ヘプタンスルホンア
ミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルフィニル
基(例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル
基、フェニルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基
等のアルキルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
等のアリールスルフィニル基等)、アルキルオキシカル
ボニル基(例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオ
キシカルボニル基、2−ヒドロキシエチルオキシカルボ
ニル基、n−オクチルオキシカルボニル基等)、アリー
ルオキシカルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニ
ル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、アルキルチオ
基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキシル
チオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、
ナフチルチオ基等)、アルキルカルボニル基(例えばア
セチル基、エチルカルボニル基、n−ブチルカルボニル
基、n−オクチルカルボニル基等)、アリールカルボニ
ル基(例えばベンゾイル基、p−メタンスルホンアミド
ベンゾイル基、p−カルボキシベンゾイル基、ナフトイ
ル基等)、シアノ基、ウレイド基(例えばメチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基等)、チオウレイド基(例え
ばメチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド基等)
等が挙げられる。
表されるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、iso−プロピル基、t−ブチル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル
基、2−エチルヘキシル基、n−ドデシル基、n−ペン
タデシル基、エイコシル基等が挙げられる。該アルキル
基は置換基を有するものを含み、該置換基としては、例
えばハロゲン原子(例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素
等の各原子)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチ
ル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシル基)、ヘテロ環基(例えばピロリジ
ル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基等)、スルフ
ィン酸基、カルボキシル基、ニトロ基、水酸基、メルカ
プト基、アミノ基(例えばアミノ基、ジエチルアミノ基
等)、アルキルオキシ基(例えばメチルオキシ基、エチ
ルオキシ基、n−ブチルオキシ基、n−オクチルオキシ
基、イソプロピルオキシ基等)、アリールオキシ基(フ
ェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等)、カルバモイル
基(例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル
基、n−ペンチルカルバモイル基、フェニルカルバモイ
ル基等)、アミド基(例えばメチルアミド基、ベンズア
ミド基、n−オクチルアミド基等)、アミノスルホニル
アミノ基(例えばアミノスルホニルアミノ基、メチルア
ミノスルホニルアミノ基、アニリノスルホニルアミノ基
等)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、メ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、n
−ブチルスルファモイル基等)、スルホンアミド基(例
えばメタンスルホンアミド基、n−ヘプタンスルホンア
ミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルフィニル
基(例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル
基、フェニルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基
等のアルキルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
等のアリールスルフィニル基等)、アルキルオキシカル
ボニル基(例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオ
キシカルボニル基、2−ヒドロキシエチルオキシカルボ
ニル基、n−オクチルオキシカルボニル基等)、アリー
ルオキシカルボニル基(例えばフェニルオキシカルボニ
ル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、アルキルチオ
基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキシル
チオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、
ナフチルチオ基等)、アルキルカルボニル基(例えばア
セチル基、エチルカルボニル基、n−ブチルカルボニル
基、n−オクチルカルボニル基等)、アリールカルボニ
ル基(例えばベンゾイル基、p−メタンスルホンアミド
ベンゾイル基、p−カルボキシベンゾイル基、ナフトイ
ル基等)、シアノ基、ウレイド基(例えばメチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基等)、チオウレイド基(例え
ばメチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド基等)
等が挙げられる。
【0057】R1およびR2で表されるアリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられる。該ア
リール基は置換基を有するものを含み、該置換基として
は、例えば前記のアルキル基、又はアルキル基の置換基
として挙げた前述の基が挙げられる。
は、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げられる。該ア
リール基は置換基を有するものを含み、該置換基として
は、例えば前記のアルキル基、又はアルキル基の置換基
として挙げた前述の基が挙げられる。
【0058】R1およびR2で表されるヘテロ環基として
は、例えばピリジル基(2−ピリジル基、3−ピリジル
基、4−ピリジル基、5−カルボキシ−2−ピリジル
基、3,5−ジクロロ−2−ピリジル基、4,6−ジメ
チル−2−ピリジル基、6−ヒドロキシ−2−ピリジル
基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ピリジル
基、3−ニトロ−2−ピリジル基等)、オキサゾリル基
(5−カルボキシル−2−ベンズオキサゾリル基、2−
ベンズオキサゾリル基、2−オキサゾリル基等)、チア
ゾリル基(5−スルファモイル−2−ベンズチアゾリル
基、2−ベンズチアゾリル基、2−チアゾリル基等)、
イミダゾリル基(1−メチル−2−イミダゾリル基、1
−メチル−5−カルボキシ−2−ベンズイミダゾリル基
等)、フリル基(3−フリル基等)、ピロリル基(3−
ピロリル基等)、チエニル基(2−チエニル基等)、ピ
ラジニル基(2−ピラジニル基等)、ピリミジニル基
(2−ピリミジニル基、4−クロロ−2−ピリミジニル
基等)、ピリダジニル基(2−ピリダジニル基等)、プ
リニル基(8−プリニル基等)、イソオキサゾリル基
(3−イソオキサゾリル基等)、セレナゾリル基(5−
カルボキシ−2−セレナゾリル基等)、スルホラニル基
(3−スルホラニル基等)、ピペリジニル基(1−メチ
ル−3−ピペリジニル基等)、ピラゾリル基(3−ピラ
ゾリル基等)、テトラゾリル基(1−メチル−5−テト
ラゾリル基等)等が挙げられ、該ヘテロ環基は置換基を
有するものを含み、該置換基としては、前記のアルキル
基及びアルキル基の置換基として例示したものが挙げら
れる。
は、例えばピリジル基(2−ピリジル基、3−ピリジル
基、4−ピリジル基、5−カルボキシ−2−ピリジル
基、3,5−ジクロロ−2−ピリジル基、4,6−ジメ
チル−2−ピリジル基、6−ヒドロキシ−2−ピリジル
基、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−ピリジル
基、3−ニトロ−2−ピリジル基等)、オキサゾリル基
(5−カルボキシル−2−ベンズオキサゾリル基、2−
ベンズオキサゾリル基、2−オキサゾリル基等)、チア
ゾリル基(5−スルファモイル−2−ベンズチアゾリル
基、2−ベンズチアゾリル基、2−チアゾリル基等)、
イミダゾリル基(1−メチル−2−イミダゾリル基、1
−メチル−5−カルボキシ−2−ベンズイミダゾリル基
等)、フリル基(3−フリル基等)、ピロリル基(3−
ピロリル基等)、チエニル基(2−チエニル基等)、ピ
ラジニル基(2−ピラジニル基等)、ピリミジニル基
(2−ピリミジニル基、4−クロロ−2−ピリミジニル
基等)、ピリダジニル基(2−ピリダジニル基等)、プ
リニル基(8−プリニル基等)、イソオキサゾリル基
(3−イソオキサゾリル基等)、セレナゾリル基(5−
カルボキシ−2−セレナゾリル基等)、スルホラニル基
(3−スルホラニル基等)、ピペリジニル基(1−メチ
ル−3−ピペリジニル基等)、ピラゾリル基(3−ピラ
ゾリル基等)、テトラゾリル基(1−メチル−5−テト
ラゾリル基等)等が挙げられ、該ヘテロ環基は置換基を
有するものを含み、該置換基としては、前記のアルキル
基及びアルキル基の置換基として例示したものが挙げら
れる。
【0059】R2で表されるアルコキシカルボニル基と
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、i−プロポキシカルボニル基、t−ブトキシカ
ルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ドデシルオ
キシカルボニル基等が挙げられる。
しては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、i−プロポキシカルボニル基、t−ブトキシカ
ルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ドデシルオ
キシカルボニル基等が挙げられる。
【0060】R2で表されるアリールオキシカルボニル
基としては、例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフ
チルオキシカルボニル基等が挙げられる。
基としては、例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフ
チルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【0061】R2で表されるカルバモイル基としては、
例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル基、エ
チルカルバモイル基、i−プロピルカルバモイル基、t
−ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、2−ピリジルカルバモイル基、
4−ピリジルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル
基、モルホリノカルバモイル基、ピペラジノカルバモイ
ル基等が挙げられる。R2で表されるアシルアミノ基と
しては、例えばメチルカルボニルアミノ基、エチルカル
ボニルアミノ基、i−プロピルカルボニルアミノ基、t
−ブチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミ
ノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニ
ルアミノ基等が挙げられる。
例えばアミノカルボニル基、メチルカルバモイル基、エ
チルカルバモイル基、i−プロピルカルバモイル基、t
−ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、2−ピリジルカルバモイル基、
4−ピリジルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル
基、モルホリノカルバモイル基、ピペラジノカルバモイ
ル基等が挙げられる。R2で表されるアシルアミノ基と
しては、例えばメチルカルボニルアミノ基、エチルカル
ボニルアミノ基、i−プロピルカルボニルアミノ基、t
−ブチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミ
ノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニ
ルアミノ基等が挙げられる。
【0062】R2で表されるウレイド基としては、例え
ばメチルウレイド基、エチルウレイド基、i−プロピル
ウレイド基、t−ブチルウレイド基、ドデシルウレイド
基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基、チ
アゾリルウレイド基等が挙げられる。
ばメチルウレイド基、エチルウレイド基、i−プロピル
ウレイド基、t−ブチルウレイド基、ドデシルウレイド
基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基、チ
アゾリルウレイド基等が挙げられる。
【0063】R2で表されるアミノ基としては、例えば
アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、i−プロ
ピルアミノ基、t−ブチルアミノ基、オクチルアミノ
基、ドデシルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ
基、ナフチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基等
が挙げられる。
アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、i−プロ
ピルアミノ基、t−ブチルアミノ基、オクチルアミノ
基、ドデシルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ
基、ナフチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基等
が挙げられる。
【0064】R2で表されるアシル基としては、例えば
メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、i−プロピ
ルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、オクチルカ
ルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、ナフチルカルボニル基等が挙げられる。
メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、i−プロピ
ルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、オクチルカ
ルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、ナフチルカルボニル基等が挙げられる。
【0065】R2で表されるアルコキシ基としては、例
えばメトキシ基、エトキシ基、i−プロポキシ基、t−
ブチルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
えばメトキシ基、エトキシ基、i−プロポキシ基、t−
ブチルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
【0066】R2で表されるアリールオキシ基として
は、例えばフェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
は、例えばフェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げら
れる。
【0067】R2で表されるスルファモイル基として
は、例えばアミノスルホニル基、メチルスルファモイル
基、i−プロピルスルファモイル基、t−ブチルスルフ
ァモイル基、ドデシルスルファモイル基、フェニルスル
ファモイル基、2−ピリジルスルファモイル基、4−ピ
リジルスルファモイル基、モルホリノスルファモイル
基、ピペラジノスルファモイル基等が挙げられる。
は、例えばアミノスルホニル基、メチルスルファモイル
基、i−プロピルスルファモイル基、t−ブチルスルフ
ァモイル基、ドデシルスルファモイル基、フェニルスル
ファモイル基、2−ピリジルスルファモイル基、4−ピ
リジルスルファモイル基、モルホリノスルファモイル
基、ピペラジノスルファモイル基等が挙げられる。
【0068】R2で表されるスルホンアミド基として
は、例えばメチルスルホンアミド基、エチルスルホンア
ミド基、i−プロピルスルホンアミド基、t−ブチルス
ルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基、フェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等が挙げ
られる。
は、例えばメチルスルホンアミド基、エチルスルホンア
ミド基、i−プロピルスルホンアミド基、t−ブチルス
ルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基、フェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等が挙げ
られる。
【0069】これらの各基は、置換基を有するものを含
み、該置換基としては、前述のR1およびR2として示し
たアルキル基及びR1およびR2として示したアルキル基
の置換基として例示したものが挙げられる。
み、該置換基としては、前述のR1およびR2として示し
たアルキル基及びR1およびR2として示したアルキル基
の置換基として例示したものが挙げられる。
【0070】一般式(1)において、Bで表される5員
または6員の含酸素ヘテロ環基、および6員の含窒素ヘ
テロ環基としては、フリル基(2−フリル基、3−フリ
ル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、
1−イソベンゾフラニル基等)、ピラニル基(2−テト
ラヒドロピラニル基、3−2H−ピラニル基、4−2H
−ピラニル基、5−2H−ピラニル基、6−2H−ピラ
ニル基、2−4H−ピラニル基、3−4H−ピラニル
基、2−クロマニル基、3−クロマニル基、4−2H−
クロメニル基、2−4H−クロメニル基等)、ピロニル
基(2−4H−ピロニル基、3−4H−ピロニル基、2
−クロモニル基、3−クマリニル基、3−クロモニル基
等)、ピリジル基(2−ピリジル基、3−ピリジル基、
4−ピリジル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4
−キノリル基、9−アクリジニル基、3−チエノピリジ
ル基等)、ピラジニル基(2−ピラジニル基等)、ピリ
ミジニル基(2−ピリミジニル基、4−ピリミジニル
基、5−ピリミジニル基、2−キナゾリニル基等)、ピ
ペリジニル基(3−ピペリジニル基等)等が挙げられ
る。該ヘテロ環基は置換基を有するものを含み、該置換
基としては、前記R1およびR2のアルキル基及びアルキ
ル基の置換基として例示したものが挙げられ、さらに、
R2のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基とし
て例示したものが挙げられる。
または6員の含酸素ヘテロ環基、および6員の含窒素ヘ
テロ環基としては、フリル基(2−フリル基、3−フリ
ル基、2−ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、
1−イソベンゾフラニル基等)、ピラニル基(2−テト
ラヒドロピラニル基、3−2H−ピラニル基、4−2H
−ピラニル基、5−2H−ピラニル基、6−2H−ピラ
ニル基、2−4H−ピラニル基、3−4H−ピラニル
基、2−クロマニル基、3−クロマニル基、4−2H−
クロメニル基、2−4H−クロメニル基等)、ピロニル
基(2−4H−ピロニル基、3−4H−ピロニル基、2
−クロモニル基、3−クマリニル基、3−クロモニル基
等)、ピリジル基(2−ピリジル基、3−ピリジル基、
4−ピリジル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4
−キノリル基、9−アクリジニル基、3−チエノピリジ
ル基等)、ピラジニル基(2−ピラジニル基等)、ピリ
ミジニル基(2−ピリミジニル基、4−ピリミジニル
基、5−ピリミジニル基、2−キナゾリニル基等)、ピ
ペリジニル基(3−ピペリジニル基等)等が挙げられ
る。該ヘテロ環基は置換基を有するものを含み、該置換
基としては、前記R1およびR2のアルキル基及びアルキ
ル基の置換基として例示したものが挙げられ、さらに、
R2のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基とし
て例示したものが挙げられる。
【0071】一般式(1)において、L1〜L3で表され
るメチン基は、置換基を有するものを含み、該置換基と
しては、例えばアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、ベンジル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基等)、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素、弗
素等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
等)、アシルオキシ基(例えばメチルカルボニルオキシ
基、フェニルカルボニルオキシ基等)等が挙げられる。
るメチン基は、置換基を有するものを含み、該置換基と
しては、例えばアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、イソプロピル基、t−ブチル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、ベンジル基等)、アリール基(例えばフェニ
ル基等)、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素、弗
素等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
等)、アシルオキシ基(例えばメチルカルボニルオキシ
基、フェニルカルボニルオキシ基等)等が挙げられる。
【0072】以下に本発明の化合物の具体例を挙げる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0073】
【表1】
【0074】
【表2】
【0075】
【表3】
【0076】
【表4】
【0077】以下、本発明の化合物の具体的合成例を示
すが、他の化合物も同様の方法で容易に合成することが
できる。
すが、他の化合物も同様の方法で容易に合成することが
できる。
【0078】合成例1 例示化合物(1−2)の合成 1−(4−カルボキシフェニル)−3−エトキシカルボ
ニル−2−ピラゾリン−5−オン27.6g、5−ジメ
チルアミノフルフラール14.0g、トリエチルアミン
10.2g及びエタノール500mlの混合物を還流下
に、3時間加熱撹拌した。反応混合物を放冷後、酢酸1
0.0gを加え、生成物を濾取した。生成物をエタノー
ル中で還流下にスラリーとし、濾取することにより精製
した。この処理を繰り返して、化合物(2)19.0g
を得た。化合物の構造をNMR、IR及びMASSスペ
クトルにより確認した。
ニル−2−ピラゾリン−5−オン27.6g、5−ジメ
チルアミノフルフラール14.0g、トリエチルアミン
10.2g及びエタノール500mlの混合物を還流下
に、3時間加熱撹拌した。反応混合物を放冷後、酢酸1
0.0gを加え、生成物を濾取した。生成物をエタノー
ル中で還流下にスラリーとし、濾取することにより精製
した。この処理を繰り返して、化合物(2)19.0g
を得た。化合物の構造をNMR、IR及びMASSスペ
クトルにより確認した。
【0079】本発明における乳剤層側の表面マット度は
100mmHg以上である。
100mmHg以上である。
【0080】ここで言うマット度とはフィルム表面の粗
さを表すもので、以下のようにして測定できる。
さを表すもので、以下のようにして測定できる。
【0081】即ち、本発明において、マット度とは、温
度23℃、湿度48%RHの条件で4時間調湿を行った
未露光の感光材料(いわゆる生フィルム)について、調
湿後、同一条件下で吸引圧を測定しmmHgで表した数
値をいう。この値が大きい程マット度が高いことを示
す。後記実施例において吸引圧の測定には、スムースタ
ー(東英電子工業(株)製)を用いた。
度23℃、湿度48%RHの条件で4時間調湿を行った
未露光の感光材料(いわゆる生フィルム)について、調
湿後、同一条件下で吸引圧を測定しmmHgで表した数
値をいう。この値が大きい程マット度が高いことを示
す。後記実施例において吸引圧の測定には、スムースタ
ー(東英電子工業(株)製)を用いた。
【0082】通常、感光材料にマット度を付与するため
にはマット剤を用いる。マット剤は一般に水不溶性の有
機または無機化合物の微粒子である。本発明にはマット
剤としては任意のものを使用でき、当業界で良く知られ
たものを用いることができる。例えば有機マット剤とし
て米国特許1,939,213号、同2,322,03
7号、同2,701,245号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,488号
等の各明細書に記載のものを用いることができる。
にはマット剤を用いる。マット剤は一般に水不溶性の有
機または無機化合物の微粒子である。本発明にはマット
剤としては任意のものを使用でき、当業界で良く知られ
たものを用いることができる。例えば有機マット剤とし
て米国特許1,939,213号、同2,322,03
7号、同2,701,245号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,488号
等の各明細書に記載のものを用いることができる。
【0083】無機マット剤としては、同1,260,7
72号、同2,192,241号、同3,257,20
6号、同3,370,951号、同3,523,022
号、同3,769,020号等に記載のものを用いるこ
とができる。
72号、同2,192,241号、同3,257,20
6号、同3,370,951号、同3,523,022
号、同3,769,020号等に記載のものを用いるこ
とができる。
【0084】具体的にマット剤として用いることができ
る有機化合物の例としては、水分散性ビニル重合体の例
としてポリメチルアクリレート、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−α
−メチルスチレン共重合体、ポリスチレン、スチレン−
ジビニルベンゼン共重合体、ポリビニルアセテート、ポ
リエチレンカーボネート、ポリテトラフルオロエチレン
など、セルロース誘導体の例としては、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の例と
してカルボキシ澱粉、カルボキシニトリロフェニル澱
粉、尿素−ホルムアルデヒド−澱粉反応物など、公知の
硬化剤で硬化したゼラチン及びコアセルベート硬化して
微小カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなどを好まし
く用いることができる。無機化合物の例としては二酸化
珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アルミ
ニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法で
減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、ケイソウ土な
どを好ましく用いることができる。
る有機化合物の例としては、水分散性ビニル重合体の例
としてポリメチルアクリレート、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−α
−メチルスチレン共重合体、ポリスチレン、スチレン−
ジビニルベンゼン共重合体、ポリビニルアセテート、ポ
リエチレンカーボネート、ポリテトラフルオロエチレン
など、セルロース誘導体の例としては、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の例と
してカルボキシ澱粉、カルボキシニトリロフェニル澱
粉、尿素−ホルムアルデヒド−澱粉反応物など、公知の
硬化剤で硬化したゼラチン及びコアセルベート硬化して
微小カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなどを好まし
く用いることができる。無機化合物の例としては二酸化
珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アルミ
ニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法で
減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、ケイソウ土な
どを好ましく用いることができる。
【0085】上記のマット剤は必要に応じて異なる種類
の物質を混合して用いることができる。
の物質を混合して用いることができる。
【0086】マット剤の大きさ、形状に特に限定はな
く、任意の粒径のものを用いることができる。本発明の
実施に際しては、0.1〜15μmの粒径のものを用い
るのが好ましい。
く、任意の粒径のものを用いることができる。本発明の
実施に際しては、0.1〜15μmの粒径のものを用い
るのが好ましい。
【0087】用いられるマット剤の粒子サイズ分布は狭
くても広くてもよく、単分散でも多分散でもよい。ここ
で単分散マット剤とは、平均粒子径の±20%以内の粒
子径の粒子の数が全粒子数の90%以上であるものをい
う。
くても広くてもよく、単分散でも多分散でもよい。ここ
で単分散マット剤とは、平均粒子径の±20%以内の粒
子径の粒子の数が全粒子数の90%以上であるものをい
う。
【0088】本発明において、乳剤層側のマット度は、
100〜250mmHgであることが好ましく、100
〜200mmHgであることが特に好ましい。
100〜250mmHgであることが好ましく、100
〜200mmHgであることが特に好ましい。
【0089】本発明においてマット剤は、感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、乃至は
外表面に近い層に含有されるのが好ましく、いわゆる保
護層として作用する層に含有されるのが好ましい。すな
わち、乳剤層側においては非感光性層である保護層に含
有されるのが好ましい。
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、乃至は
外表面に近い層に含有されるのが好ましく、いわゆる保
護層として作用する層に含有されるのが好ましい。すな
わち、乳剤層側においては非感光性層である保護層に含
有されるのが好ましい。
【0090】本発明の前記一般式(2)について説明す
る。
る。
【0091】式中、R1、R2、R3、及びR4は同じであ
っても異なっていてもよく、炭素数1〜20のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル
基、ドデシル基)、置換のアルキル基(例えばアルコキ
シアルキル基、アリールアルキル基)、アリール基(例
えばフェニル基)、置換アリール基(例えばトリル
基)、シクロアルキル基(例えばシクロヘキシル基)を
表す。R5はR3と同じ又は−(A)n−B又は−C−D
でA及びCは2価の基を表し、例えば炭素数2〜20の
置換又は無置換のアルキレン基を表す。nは0又は1を
表す。Bはn=0のときはアルコキシ基(メトキシ基、
エトキシ基など)、ヒドロキシ基又は水素原子を表し、
n=1のときはカルボキシル基、アミノ基又はメルカプ
ト基を表す。
っても異なっていてもよく、炭素数1〜20のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル
基、ドデシル基)、置換のアルキル基(例えばアルコキ
シアルキル基、アリールアルキル基)、アリール基(例
えばフェニル基)、置換アリール基(例えばトリル
基)、シクロアルキル基(例えばシクロヘキシル基)を
表す。R5はR3と同じ又は−(A)n−B又は−C−D
でA及びCは2価の基を表し、例えば炭素数2〜20の
置換又は無置換のアルキレン基を表す。nは0又は1を
表す。Bはn=0のときはアルコキシ基(メトキシ基、
エトキシ基など)、ヒドロキシ基又は水素原子を表し、
n=1のときはカルボキシル基、アミノ基又はメルカプ
ト基を表す。
【0092】Dは活性ビニル基、エポキシ基、メタンス
ルホン酸基、活性ハロゲン基、活性エステル基、アルデ
ヒド基、酸ハライド基、アゾリド基、イソシアナート
基、メチロール基、酸無水物、エチレンイミン基又はマ
レイミド基を表す。lは0又は1以上の整数を、mは1
以上の整数を、l+mは1〜1000の整数の1つであ
る。好ましくはl+mは2〜500である。
ルホン酸基、活性ハロゲン基、活性エステル基、アルデ
ヒド基、酸ハライド基、アゾリド基、イソシアナート
基、メチロール基、酸無水物、エチレンイミン基又はマ
レイミド基を表す。lは0又は1以上の整数を、mは1
以上の整数を、l+mは1〜1000の整数の1つであ
る。好ましくはl+mは2〜500である。
【0093】本発明に用いられる代表的な一般式(2)
の化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定され
るものではない。
の化合物の具体例を以下に挙げるが、これらに限定され
るものではない。
【0094】
【化11】
【0095】
【化12】
【0096】
【化13】
【0097】
【化14】
【0098】
【化15】
【0099】上記化合物の製法は公知であり例えば特公
昭35−10771号、同43−2864号、同45−
14898号などの記載に基づいて容易に合成すること
ができる。上記化合物の屈折率は特に制限はないが、通
常25℃における測定値は約1.405〜1.650の
ものが適当であり、好ましくは25℃における測定値が
約1.415〜1.550の範囲にあるものが有効であ
る。屈折率が1.405より小さかったりあるいは1.
650より大きいものを使用した場合には適用された感
光材料、特に写真処理が行われた後の乾燥された感光材
料の透明性に影響を及ぼすことがある。
昭35−10771号、同43−2864号、同45−
14898号などの記載に基づいて容易に合成すること
ができる。上記化合物の屈折率は特に制限はないが、通
常25℃における測定値は約1.405〜1.650の
ものが適当であり、好ましくは25℃における測定値が
約1.415〜1.550の範囲にあるものが有効であ
る。屈折率が1.405より小さかったりあるいは1.
650より大きいものを使用した場合には適用された感
光材料、特に写真処理が行われた後の乾燥された感光材
料の透明性に影響を及ぼすことがある。
【0100】またこれらの化合物の粘度は特に制限はな
く、一般的な方法で合成できる前記の化合物であればい
ずれも所望の効果を与えることができるが、通常25℃
での測定値が約20〜100000センチストークスを
示すものが適当である。
く、一般的な方法で合成できる前記の化合物であればい
ずれも所望の効果を与えることができるが、通常25℃
での測定値が約20〜100000センチストークスを
示すものが適当である。
【0101】本発明においてハロゲン化銀のバインダー
としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利
である。ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、ブ
レティン・オブ・ソサエティ・オブ・サイエンティフィ
ック・フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bull.
Soc.Sci.Phot.Japan)No.16、
30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼラチ
ンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸素分
解物も用いることができる。ゼラチン誘導体としては、
ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシアナー
ト類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスルホン
アミド類マレインイミド化合物類、ポリアルキレンオキ
シド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応させて
得られるものが用いられる。その具体例は米国特許2,
614,928号、同3,132,945号、同3,1
86,846号、同3,312,553号、英国特許8
61,414号、同1,033,189号、同1,00
5,784号、特公昭42−26845号などに記載さ
れている。
としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体を用いるのが有利
である。ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、ブ
レティン・オブ・ソサエティ・オブ・サイエンティフィ
ック・フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bull.
Soc.Sci.Phot.Japan)No.16、
30頁(1966年)に記載されたような酸処理ゼラチ
ンを用いてもよく、またゼラチンの加水分解物や酸素分
解物も用いることができる。ゼラチン誘導体としては、
ゼラチンに例えば酸ハライド、酸無水物、イソシアナー
ト類、ブロモ酢酸アルカンサルトン類、ビニルスルホン
アミド類マレインイミド化合物類、ポリアルキレンオキ
シド類、エポキシ化合物類等種々の化合物を反応させて
得られるものが用いられる。その具体例は米国特許2,
614,928号、同3,132,945号、同3,1
86,846号、同3,312,553号、英国特許8
61,414号、同1,033,189号、同1,00
5,784号、特公昭42−26845号などに記載さ
れている。
【0102】本発明の感光材料の感光性ハロゲン化銀乳
剤としては、臭化銀、沃臭化銀、或いは少量の塩化銀を
含む沃塩臭化銀乳剤であってよい。ハロゲン化銀粒子は
本発明の構成であれば、どのような結晶型のものであっ
てもよく、例えば立方体、8面体、14面体などの単結
晶であってもよく、種々の形状を有した多双晶粒子であ
ってもよい。
剤としては、臭化銀、沃臭化銀、或いは少量の塩化銀を
含む沃塩臭化銀乳剤であってよい。ハロゲン化銀粒子は
本発明の構成であれば、どのような結晶型のものであっ
てもよく、例えば立方体、8面体、14面体などの単結
晶であってもよく、種々の形状を有した多双晶粒子であ
ってもよい。
【0103】即ち、酸性法、アンモニア法、中性法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロールド・ダブルジェット法などの混合条
件、コンバージョン法、コア/シェル法などの粒子調製
条件及びこれらの組合わせ法を用いて製造することがで
きる。
【0104】本発明の感光材料に用いられる乳剤の好ま
しい実施態様としては、沃化銀を粒子内部に局在させた
単分散乳剤が挙げられる。ここで言う単分散とは、常法
により平均粒子直径を測定したとき、粒子数又は重量で
少なくとも95%の粒子が平均粒子径の±40%以内、
好ましくは±30%以内にあるハロゲン化銀粒子であ
る。
しい実施態様としては、沃化銀を粒子内部に局在させた
単分散乳剤が挙げられる。ここで言う単分散とは、常法
により平均粒子直径を測定したとき、粒子数又は重量で
少なくとも95%の粒子が平均粒子径の±40%以内、
好ましくは±30%以内にあるハロゲン化銀粒子であ
る。
【0105】ハロゲン化銀粒子の粒径分布は、狭い分布
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。
を有した単分散乳剤或いは広い分布を有した多分散乳剤
の何れであってもよい。ハロゲン化銀の結晶構造は内部
と外部が異なったハロゲン化銀組成からなっていてもよ
く、例えば高沃化銀のコア部分に低沃化銀のシェル層を
被覆して明確な2層構造を有したコア/シェル型単分散
乳剤であってもよい。
【0106】本発明の感光材料に用いられる乳剤は、上
記の単分散乳剤を得るための方法として、例えば種晶を
用い、この種晶を成長核として銀イオン及びハライドイ
オンを供給し成長させた乳剤を用いてもよい。
記の単分散乳剤を得るための方法として、例えば種晶を
用い、この種晶を成長核として銀イオン及びハライドイ
オンを供給し成長させた乳剤を用いてもよい。
【0107】本発明の感光材料に用いられる乳剤は、ア
スペクト比(粒子径/粒子厚みの比)が3以上の平板状
粒子であり、好ましくはアスペクト比4以上であること
が好ましい。このような平板状粒子の利点としては、分
光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改良など
が得られるとして、例えば英国特許2,112,157
号、米国特許4,414,310号、同4,434,2
26号などに開示されており、乳剤はこれらの公報に記
載の方法を参考に調製することができる。
スペクト比(粒子径/粒子厚みの比)が3以上の平板状
粒子であり、好ましくはアスペクト比4以上であること
が好ましい。このような平板状粒子の利点としては、分
光増感効率の向上や画像の粒状性及び鮮鋭性の改良など
が得られるとして、例えば英国特許2,112,157
号、米国特許4,414,310号、同4,434,2
26号などに開示されており、乳剤はこれらの公報に記
載の方法を参考に調製することができる。
【0108】上述した乳剤は、粒子表面に潜像を形成す
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
る表面潜像型或いは粒子内部に潜像を形成する内部潜像
型、表面と内部の両方に潜像を形成する型の何れの乳剤
であってもよい。
【0109】これらの乳剤は物理熟成、或は粒子調製の
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
段階で、例えばカドミウム塩、鉛塩、亜鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又はその錯塩、ロジウム塩又はその錯
塩、鉄塩又はその錯塩などを用いてもよい。
【0110】乳剤は可溶性塩類を除去するためにヌード
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭
35−16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水
素系アルデヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2−70
37号記載の凝集高分子剤例示G−3、G−8などを用
いる方法が特に好ましい脱塩法として挙げられる。
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などの水洗方法が
なされてよい。好ましい水洗法としては、例えば特公昭
35−16086号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水
素系アルデヒド樹脂を用いる方法、又は特開平2−70
37号記載の凝集高分子剤例示G−3、G−8などを用
いる方法が特に好ましい脱塩法として挙げられる。
【0111】本発明の感光材料は、支持体上の少なくと
も2層以上の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するが、以
下、該支持体から遠くに位置するハロゲン化銀乳剤層を
上層、前記上層より支持体に近く位置するハロゲン化銀
乳剤層を下層と称する。
も2層以上の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するが、以
下、該支持体から遠くに位置するハロゲン化銀乳剤層を
上層、前記上層より支持体に近く位置するハロゲン化銀
乳剤層を下層と称する。
【0112】本発明に係るハロゲン化銀写真乳剤は、物
理熟成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又
はその錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いること
ができる。公知の添加剤としては例えばリサーチ・ディ
スクロージャーNo.17643(1978年12月)
23〜29頁、同No.18716(1979年11
月)648〜651頁及び同No.308119(19
89年12月)996〜1009頁に記載された化合物
が挙げられる。
理熟成又は化学熟成前後の工程において、前記金属塩又
はその錯塩などの他、各種の写真用添加剤を用いること
ができる。公知の添加剤としては例えばリサーチ・ディ
スクロージャーNo.17643(1978年12月)
23〜29頁、同No.18716(1979年11
月)648〜651頁及び同No.308119(19
89年12月)996〜1009頁に記載された化合物
が挙げられる。
【0113】本発明の感光材料に用いることのできる支
持体としては、例えば前述のRD−17643の28頁
及びRD−308119の1009頁に記載されている
ものが挙げられる。
持体としては、例えば前述のRD−17643の28頁
及びRD−308119の1009頁に記載されている
ものが挙げられる。
【0114】適当な支持体としてはポリエチレンテレフ
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
タレートフィルムなどで、これら支持体の表面は塗布層
の接着をよくするために、下引層を設けたり、コロナ放
電、紫外線照射などを施してもよい。
【0115】本発明の感光材料の処理方法は、現像、定
着、水洗及び乾燥の工程を含む自動現像機で処理され、
現像から乾燥までの処理工程は45秒以内であり、好ま
しくは30秒以内である。
着、水洗及び乾燥の工程を含む自動現像機で処理され、
現像から乾燥までの処理工程は45秒以内であり、好ま
しくは30秒以内である。
【0116】即ち、感光材料の先端が現像液に浸漬され
始める時点から、処理工程を経て、同先端が乾燥ゾーン
を出てくるまでの時間(いわゆるDry to Dry
の時間)が45秒以内であり、より好ましくはこのDr
y to Dryの時間が30秒以内である。
始める時点から、処理工程を経て、同先端が乾燥ゾーン
を出てくるまでの時間(いわゆるDry to Dry
の時間)が45秒以内であり、より好ましくはこのDr
y to Dryの時間が30秒以内である。
【0117】
【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。なお、当然のことながら、本発明は以下述べる実施
例により限定されるものではない。
る。なお、当然のことながら、本発明は以下述べる実施
例により限定されるものではない。
【0118】実施例1 (種乳剤EM−Aの調製)下記のようにして種乳剤EM
−Aを調製した。
−Aを調製した。
【0119】 A1 オセインゼラチン 100g 臭化カリウム 2.05g 水で 11.5l B1 オセインゼラチン 55g 臭化カリウム 65g 沃化カリウム 1.8g 0.2N硫酸 38.5ml 水で 2.6l C1 オセインゼラチン 75g 臭化カリウム 950g 沃化カリウム 27g 水で 3.0l D1 硝酸銀 95g 水で 2.7l E1 硝酸銀 1410g 水で 3.2l 反応釜で60℃に保温したA1液に、B1液とD1液を
コントロールダブルジェット法により、30分間かけて
添加し、その後、C1液及びE1液をコントロールダブ
ルジェット法により105分間かけて加えた。撹拌は、
500rpmで行った。流速は、粒子の成長に伴い、新
しい核が発生せず、かついわゆるオストワルド熟成をお
こし、粒径分布の広がらない流速で添加した。銀イオン
液及びハライドイオン液の添加時において、pAgは臭
化カリウム液を用い、8.3±0.05に調整し、pH
は硫酸を用いて2.0±0.1に調整した。
コントロールダブルジェット法により、30分間かけて
添加し、その後、C1液及びE1液をコントロールダブ
ルジェット法により105分間かけて加えた。撹拌は、
500rpmで行った。流速は、粒子の成長に伴い、新
しい核が発生せず、かついわゆるオストワルド熟成をお
こし、粒径分布の広がらない流速で添加した。銀イオン
液及びハライドイオン液の添加時において、pAgは臭
化カリウム液を用い、8.3±0.05に調整し、pH
は硫酸を用いて2.0±0.1に調整した。
【0120】添加終了後、pHを6.0に合わせてか
ら、過剰の塩類を除去するため、特公昭35−1608
6号記載の方法により脱塩処理を行った。
ら、過剰の塩類を除去するため、特公昭35−1608
6号記載の方法により脱塩処理を行った。
【0121】この種乳剤を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、平均粒径0.27μm、粒径分布の広さ17%の角
がややかけた立方体形状の14面体単分散性乳剤であっ
た。
ろ、平均粒径0.27μm、粒径分布の広さ17%の角
がややかけた立方体形状の14面体単分散性乳剤であっ
た。
【0122】(Em−1の調製)種乳剤EM−Aと以下
に示す7種の溶液を用い、単分散性コア/シェル型乳剤
を調製した。
に示す7種の溶液を用い、単分散性コア/シェル型乳剤
を調製した。
【0123】 A2 オセインゼラチン 10g アンモニア水(28%) 28ml 氷酢酸 3ml 種乳剤EM−A 0.119モル相当 水で 600mlに仕上げる B2 オセインゼラチン 0.8g 臭化カリウム 5g 沃化カリウム 3g 水で 110mlに仕上げる C2 オセインゼラチン 2g 臭化カリウム 90g 水で 240mlに仕上げる D2 硝酸銀 9.9g アンモニア水(28%) 7.0ml 水で 110mlに仕上げる E2 硝酸銀 130g アンモニア水(28%) 100ml 水で 240mlに仕上げる F2 臭化カリウム 94g 水で 165mlに仕上げる G2 硝酸銀 9.9g アンモニア水(28%) 7.0ml 水で 110mlに仕上げる A2液を40℃に保温し撹拌機で800rpmで撹拌を
行った。A2液のpHは酢酸を用い9.90に調整し、
種乳剤EM−Aを採取し分散懸濁させ、その後G2液を
7分間かけて等速で添加しpAgを7.3にした。更
に、B2液、D2液を同時に20分かけて添加した。こ
の時のpAgは7.3一定とした。さらに10分間かけ
て臭化カリウム溶液及び酢酸を用いてpH=8.83、
pAg=9.0に調整した後、C2液、E2液を同時に
30分間かけて添加した。
行った。A2液のpHは酢酸を用い9.90に調整し、
種乳剤EM−Aを採取し分散懸濁させ、その後G2液を
7分間かけて等速で添加しpAgを7.3にした。更
に、B2液、D2液を同時に20分かけて添加した。こ
の時のpAgは7.3一定とした。さらに10分間かけ
て臭化カリウム溶液及び酢酸を用いてpH=8.83、
pAg=9.0に調整した後、C2液、E2液を同時に
30分間かけて添加した。
【0124】この時、添加速度時と添加終了時の流量比
は1:10であり、時間とともに流速を上昇せしめた。
又、流量比に比例してpHを8.83から8.00まで
低下せしめた。又、C2液及びE2液が全体の2/3量
だけ添加された時に、F2液を追加注入し8分間かけて
等速で添加した。この時、pAgは9.0から11.0
まで上昇した。更に酢酸を加えてpHを6.0に調整し
た。
は1:10であり、時間とともに流速を上昇せしめた。
又、流量比に比例してpHを8.83から8.00まで
低下せしめた。又、C2液及びE2液が全体の2/3量
だけ添加された時に、F2液を追加注入し8分間かけて
等速で添加した。この時、pAgは9.0から11.0
まで上昇した。更に酢酸を加えてpHを6.0に調整し
た。
【0125】添加終了後、過剰な塩類を除去するため
に、デモール(花王アトラス社製)水溶液及び硫酸マグ
ネシウム水溶液を用いて沈澱脱塩を行い、pAg8.
5、40℃においてpH5.85の平均沃化銀含有率が
約2モル%の乳剤を得た。
に、デモール(花王アトラス社製)水溶液及び硫酸マグ
ネシウム水溶液を用いて沈澱脱塩を行い、pAg8.
5、40℃においてpH5.85の平均沃化銀含有率が
約2モル%の乳剤を得た。
【0126】得られた乳剤を電子顕微鏡にて観察したと
ころ、平均粒径0.55μm、粒径分布の広さが14%
の丸みを帯びた14面体単分散性コア/シェル型乳剤を
得た。
ころ、平均粒径0.55μm、粒径分布の広さが14%
の丸みを帯びた14面体単分散性コア/シェル型乳剤を
得た。
【0127】(六角平板状種乳剤EM−Bの調製)以下
の方法により純臭化銀の六角平板状種乳剤EM−Bを作
成した。
の方法により純臭化銀の六角平板状種乳剤EM−Bを作
成した。
【0128】 A3 オセインゼラチン 60.2g 蒸留水 20.0l HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17 −(CH2CH2O)mH(n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 5.6ml KBr 26.8g 10%H2SO4 144ml B3 硝酸銀 1487.5g 蒸留水で 3500mlにする C3 KBr 1050g 蒸留水で 3500mlにする D3 1.75N KBr水溶液 下記銀電位制御量 35℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A3
に溶液B3及び溶液C3の各々64.1mlを同時混合
法により2分の時間を要して添加し、核形成を行った。
溶液B3及び溶液C3の添加を停止した後、60分の時
間を要して溶液A3の温度を60℃に上昇させ、再び溶
液B3と溶液C3を同時混合法により、各々68.5m
l/minの流量で50分間添加した。この間の銀電位
(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として銀イオン選択電
極で測定)を溶液Dを用いて+6mVになるように制御
した。添加終了後3%KOHによってpHを6に合わ
せ、直ちに脱塩、水洗を行い種乳剤EM−Bとした。こ
のように作成した種乳剤EM−Bは、ハロゲン化銀粒子
の全投影面積の90%以上が最大隣接辺比が1.0〜
2.0の六角平板粒子よりなり、六角平板の平均厚さ
0.07μm、平均直径(円直径換算)は0.5μm、
変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察により判
明した。
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A3
に溶液B3及び溶液C3の各々64.1mlを同時混合
法により2分の時間を要して添加し、核形成を行った。
溶液B3及び溶液C3の添加を停止した後、60分の時
間を要して溶液A3の温度を60℃に上昇させ、再び溶
液B3と溶液C3を同時混合法により、各々68.5m
l/minの流量で50分間添加した。この間の銀電位
(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として銀イオン選択電
極で測定)を溶液Dを用いて+6mVになるように制御
した。添加終了後3%KOHによってpHを6に合わ
せ、直ちに脱塩、水洗を行い種乳剤EM−Bとした。こ
のように作成した種乳剤EM−Bは、ハロゲン化銀粒子
の全投影面積の90%以上が最大隣接辺比が1.0〜
2.0の六角平板粒子よりなり、六角平板の平均厚さ
0.07μm、平均直径(円直径換算)は0.5μm、
変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察により判
明した。
【0129】(沃臭化銀乳剤EM−2の調製)以下の4
種類の溶液を用いて平板状純臭化銀乳剤を作成した。
種類の溶液を用いて平板状純臭化銀乳剤を作成した。
【0130】 A4 オセインゼラチン 29.4g HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17 −(CH2CH2O)mH (n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 1.25ml 種乳剤EM−B 2.65モル相当 蒸留水で 3000mlとする B4 3.5N AgNO3水溶液 1760ml C4 KBr 737g 蒸留水で 1760mlにする D4 1.75N KBr水溶液 下記銀電位制御量 60℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A4
に溶液B4及び溶液C4の全量を同時混合法(ダブルジ
ェット法)により添加終了時の流速が添加開始時の流速
の3倍になるように110分の時間を要し添加成長を行
った。この間の銀電位は溶液D4を用いて+40mVに
なるように制御した。
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A4
に溶液B4及び溶液C4の全量を同時混合法(ダブルジ
ェット法)により添加終了時の流速が添加開始時の流速
の3倍になるように110分の時間を要し添加成長を行
った。この間の銀電位は溶液D4を用いて+40mVに
なるように制御した。
【0131】添加終了後、過剰な塩類を除去するため、
以下に示す方法で沈澱脱塩を行った。
以下に示す方法で沈澱脱塩を行った。
【0132】1.混合終了した反応液を40℃にして、
特開平2−280139号の例示凝集ゼラチン剤G−3
を20g/AgX1モル加え、56wt%酢酸を加えて
pHを4.30まで落とし、静置し、デカンテーション
を行う 2.40℃の純水1.8l/AgX1モルを加え、10
分間撹拌させた後、静置、デカンテーションを行う 3.上記2の工程をもう1回繰り返す 4.後ゼラチン15g/AgX1モルと炭酸ナトリウ
ム、水を加え、pH6.0にして分散させ、450ml
/AgX1モルに仕上げる。
特開平2−280139号の例示凝集ゼラチン剤G−3
を20g/AgX1モル加え、56wt%酢酸を加えて
pHを4.30まで落とし、静置し、デカンテーション
を行う 2.40℃の純水1.8l/AgX1モルを加え、10
分間撹拌させた後、静置、デカンテーションを行う 3.上記2の工程をもう1回繰り返す 4.後ゼラチン15g/AgX1モルと炭酸ナトリウ
ム、水を加え、pH6.0にして分散させ、450ml
/AgX1モルに仕上げる。
【0133】得られた乳剤EM−2の約3000個を電
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、平
均円相当直径0.59μm、平均厚さ0.17μmの六
角平板状粒子であり、変動係数は24%であった。
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、平
均円相当直径0.59μm、平均厚さ0.17μmの六
角平板状粒子であり、変動係数は24%であった。
【0134】 (塩化銀種乳剤EM−Cの調製) EM−C(純塩化銀平板状種乳剤)の調製 A5 オセインゼラチン 37.5g KI 0.625g NaCl 16.5g 蒸留水で 7500mlとする B5 硝酸銀 1500g 蒸留水で 2500mlとする C5 KI 4g NaCl 140g 蒸留水で 684mlとする D5 NaCl 375g 蒸留水で 1816mlとする 40℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機中の溶液A5に、溶
液B5の684mlと溶液C5の全量を1分間かけて添
加した。EAgを149mVに調整し、20分間オスト
ワルド熟成した後に溶液A5の残り全量と溶液D5の全
量を40分かけて添加した。その間、EAgは149m
Vに制御した。
58289号に示される混合撹拌機中の溶液A5に、溶
液B5の684mlと溶液C5の全量を1分間かけて添
加した。EAgを149mVに調整し、20分間オスト
ワルド熟成した後に溶液A5の残り全量と溶液D5の全
量を40分かけて添加した。その間、EAgは149m
Vに制御した。
【0135】添加終了後、直ちにEM−Aと同様な方法
で脱塩、水洗を行い種乳剤EM−Cとした。このように
作成した種乳剤EM−Cは、ハロゲン化銀粒子の全投影
面積の60%以上が(100)面を主平面とする平板状
粒子よりなり、平均厚さ0.07μm、平均直径は0.
5μm、変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察
により判明した。
で脱塩、水洗を行い種乳剤EM−Cとした。このように
作成した種乳剤EM−Cは、ハロゲン化銀粒子の全投影
面積の60%以上が(100)面を主平面とする平板状
粒子よりなり、平均厚さ0.07μm、平均直径は0.
5μm、変動係数は25%であることが電子顕微鏡観察
により判明した。
【0136】(純塩化銀乳剤EM−3の調製)以下の4
種類の溶液を用いて平板状純塩化銀乳剤を作成した。
種類の溶液を用いて平板状純塩化銀乳剤を作成した。
【0137】 A6 オセインゼラチン 29.4g HO−(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17 −(CH2CH2O)mH (n+m=5〜7)10%メタノール水溶液 1.25ml 種乳剤EM−C 0.98モル相当 蒸留水で 3000mlとする B6 3.50N AgNO3水溶液 2240ml C6 NaCl 455g 蒸留水で 2240mlにする D6 1.75N NaCl水溶液 下記銀電位制御量 40℃において、特公昭58−58288号、同58−
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A6
に溶液B6及び溶液C6の全量を同時混合法(ダブルジ
ェット法)により添加終了時の流速が添加開始時の流速
の3倍になるように110分の時間を要し添加成長を行
った。この間の銀電位は溶液D6を用いて+120mV
になるように制御した。
58289号に示される混合撹拌機を用いて、溶液A6
に溶液B6及び溶液C6の全量を同時混合法(ダブルジ
ェット法)により添加終了時の流速が添加開始時の流速
の3倍になるように110分の時間を要し添加成長を行
った。この間の銀電位は溶液D6を用いて+120mV
になるように制御した。
【0138】添加終了後、過剰な塩類を除去するため、
EM−1同様の方法で沈澱脱塩を行った。得られた乳剤
EM−3の約3000個を電子顕微鏡により観察・測定
し形状を分析したところ、全投影面積の80%以上が
(100)面を主平面とする、平均直径1.17μm、
平均厚さ0.12μmの平板状粒子であり、変動係数は
24%であった。
EM−1同様の方法で沈澱脱塩を行った。得られた乳剤
EM−3の約3000個を電子顕微鏡により観察・測定
し形状を分析したところ、全投影面積の80%以上が
(100)面を主平面とする、平均直径1.17μm、
平均厚さ0.12μmの平板状粒子であり、変動係数は
24%であった。
【0139】(EM−4(AgBr0.45Cl0.55平板状
粒子)の調製)EM−3の調整方法において、溶液C6
中に臭化カリウム473gを加え、溶液B6、溶液C6
添加中の銀電位を+100mVに制御する以外は、全く
同様に行うことで平板状粒子EM−4を調製した。
粒子)の調製)EM−3の調整方法において、溶液C6
中に臭化カリウム473gを加え、溶液B6、溶液C6
添加中の銀電位を+100mVに制御する以外は、全く
同様に行うことで平板状粒子EM−4を調製した。
【0140】得られた乳剤EM−4の約3000個を電
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
子顕微鏡により観察・測定し形状を分析したところ、全
投影面積の80%以上が(100)面を主平面とする、
平均直径1.17μm、平均厚さ0.12μmの平板状
粒子であり、変動係数は24%であった。
【0141】(沃化銀微粒子の調製) A7 オセインゼラチン 100g KI 8.5g 蒸留水で 2000mlにする B7 AgNO3 360g 蒸留水で 605mlにする C7 KI 352g 蒸留水で 605mlにする 反応容器に溶液A7を加え、40℃に保ち撹拌しなが
ら、溶液B7及び溶液C7を同時混合法により30分を
要して定速で添加した。添加中のpAgは常法のpAg
制御手段で13.5に保った。生成した沃化銀は平均粒
径0.06μmのβ−AgIとγ−AgIの混合物であ
った。この乳剤を沃化銀微粒子乳剤と呼ぶ。
ら、溶液B7及び溶液C7を同時混合法により30分を
要して定速で添加した。添加中のpAgは常法のpAg
制御手段で13.5に保った。生成した沃化銀は平均粒
径0.06μmのβ−AgIとγ−AgIの混合物であ
った。この乳剤を沃化銀微粒子乳剤と呼ぶ。
【0142】(分光増感色素の固体微粒子分散物の調
製)下記分光増感色素(A)及び(B)を100:1の
比率で予め27℃に調温した水に加え、高速撹拌機(デ
ィゾルバー)で3,500rpmにて30〜120分間
にわたって撹拌することによって、分光増感色素の固体
微粒子状の分散物を得た。このとき増感色素(A)の濃
度が2%になるように調製した。
製)下記分光増感色素(A)及び(B)を100:1の
比率で予め27℃に調温した水に加え、高速撹拌機(デ
ィゾルバー)で3,500rpmにて30〜120分間
にわたって撹拌することによって、分光増感色素の固体
微粒子状の分散物を得た。このとき増感色素(A)の濃
度が2%になるように調製した。
【0143】増感色素(A):5,5′−ジクロロ−9
−エチル−3,3′−ジ−(3−スルホプロピル)オキ
サカルボシアニン塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウ
ム塩 無水物 (セレン増感)各乳剤EM−1〜EM−4を以下の方法
で分光増感及び化学増感を施した。
−エチル−3,3′−ジ−(3−スルホプロピル)オキ
サカルボシアニン塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウ
ム塩 無水物 (セレン増感)各乳剤EM−1〜EM−4を以下の方法
で分光増感及び化学増感を施した。
【0144】乳剤を60℃にした後、増感色素(A)が
銀1モル当たり460mgになるように、上記固体微粒
子分散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を
銀1モル当たり7.0×10-4モルを加え、塩化金酸カ
リウムとチオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフ
ィンセレナイドを銀1モル当たり3.0×10-6モル、
添加して最適に化学熟成を行い、上記沃化銀微粒子乳剤
を3×10-3モル/Ag1モル添加後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)3×10-2モルで安定化した。
銀1モル当たり460mgになるように、上記固体微粒
子分散物を加えた後に、チオシアン酸アンモニウム塩を
銀1モル当たり7.0×10-4モルを加え、塩化金酸カ
リウムとチオ硫酸ナトリウム及びトリフェニルフォスフ
ィンセレナイドを銀1モル当たり3.0×10-6モル、
添加して最適に化学熟成を行い、上記沃化銀微粒子乳剤
を3×10-3モル/Ag1モル添加後、4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)3×10-2モルで安定化した。
【0145】次にこのようにして増感を施した乳剤EM
−1〜EM−4に、後記する添加剤を加え乳剤層塗布液
とした。また同時に保護層塗布液も調製した。
−1〜EM−4に、後記する添加剤を加え乳剤層塗布液
とした。また同時に保護層塗布液も調製した。
【0146】〈下引き済み支持体の作成〉 (導電性粒子P1の分散液)塩化第二スズ水和物65g
を水溶液2000mlに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000ml中に添加して分散後、全量を2000m
lとする。さらに30%アンモニア水を40ml加え、
水浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
を水溶液2000mlに溶解し均一溶液を得た。次いで
これを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈殿物をデカン
テーションにより取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水
洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素
イオンの反応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留
水1000ml中に添加して分散後、全量を2000m
lとする。さらに30%アンモニア水を40ml加え、
水浴中で加温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0147】塗布液として用いるときには、このゾル溶
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約8%に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は3.4×104
Ωcmであった。
【0148】(導電性粒子P2の分散液)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00mlに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
ml中に添加して分散後、全量を2000mlとする。
さらに30%アンモニア水を40ml加え、水溶中で加
温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
水和物65gと三塩化アンチモン1.0gを水溶液20
00mlに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗いする。沈
澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反
応がないことを確認する。この沈澱物を蒸留水1000
ml中に添加して分散後、全量を2000mlとする。
さらに30%アンモニア水を40ml加え、水溶中で加
温すると、SnO2ゾル溶液が生成する。
【0149】このゾル溶液を400℃に加熱した電気炉
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型機にて成形後、4端子法で測定された体積固有抵抗
は1.5×101Ωcmであった。
【0150】この導電性粉末をpH10のアンモニア水
に濃度8wt%となるように分散した。
に濃度8wt%となるように分散した。
【0151】(感光材料用支持体の作成) (支持体1)2軸延伸・熱固定後の厚さ175μm、濃
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号記載のように
下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmになるよ
うに下引き層B−1として塗布し、100℃1分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引き層B−1と反対側の面に特開昭59−77439
号記載のように下記下引き塗布液B−2を下引き層B−
2として塗布110℃1分間乾燥した。
度0.15に青色着色したポリエチレンテレフタレート
フィルムの両面に8W分/m2のコロナ放電処理を施
し、一方の面に特開昭59−19941号記載のように
下記下引き塗布液B−1を乾燥膜厚0.8μmになるよ
うに下引き層B−1として塗布し、100℃1分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引き層B−1と反対側の面に特開昭59−77439
号記載のように下記下引き塗布液B−2を下引き層B−
2として塗布110℃1分間乾燥した。
【0152】 下引き第1層 〈下引き塗布液B−1〉 ブチルアクリレート30重量%、t−ブチルアクリレート20重量%、 スチレン25重量%及び2−ヒドロキシエチルアクリレート25重量%の 共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g 化合物A 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる。
【0153】 〈下引き塗布液B−2−1〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%及びグリジルアクリ レート40重量%の共重合体ラテックス液(固形分30%) 23g 導電性P1分散液 415g ポリエチレングリコール(分子量600) 0.00012g 水 568g 下引き第2層 さらに上記下引き層B−1及びB−2−1の上に8W分
/m2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜
厚0.1μmになるように塗布し、100℃1分間乾燥
した。
/m2のコロナ放電を施し、下記塗布液B−3を乾燥膜
厚0.1μmになるように塗布し、100℃1分間乾燥
した。
【0154】 〈下引き塗布液B−3〉 ゼラチン 10g 化合物A 0.4g 化合物B 0.1g 平均粒径3μmのシリカ粒子 0.1g 水で1lに仕上げる。
【0155】
【化16】
【0156】(支持体2)試料作成条件は、上記下引き
塗布液B−2−1の代わりに下記下引き塗布液B−2−
2を用いた以外は、支持体1と同様に作成した。
塗布液B−2−1の代わりに下記下引き塗布液B−2−
2を用いた以外は、支持体1と同様に作成した。
【0157】 〈下引き塗布液B−2−2〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%及びグリシジルアクリ レート40重量%の共重合体ラテックス液(固形分30%) 23g 導電性P2分散液 760g ポリエチレングリコール(分子量600) 1.65g 水 700g (支持体3)試料作成条件は、下引き塗布液B−2−1
の代わりに下引き塗布液B−2−3を用いた以外は、支
持体1と同様に作成した。
の代わりに下引き塗布液B−2−3を用いた以外は、支
持体1と同様に作成した。
【0158】 〈下引き塗布液B−2−3〉 ブチルアクリレート40重量%、スチレン20重量%及びグリシジルアクリ レート40重量%の共重合体ラテックス液(固形分30%) 27g 導電性P1分散液 83g ポリエチレングリコール(分子量600) 0.48g 水 700g (試料の作成)上記支持体の両面に、下記のクロスオー
バーカット層、乳剤層、中間層、保護層の順に、両面に
均一に塗布乾燥して試料を作成した。下記の所定の塗布
量になるように、毎分150mのスピードで同時重層塗
布し乾燥した。
バーカット層、乳剤層、中間層、保護層の順に、両面に
均一に塗布乾燥して試料を作成した。下記の所定の塗布
量になるように、毎分150mのスピードで同時重層塗
布し乾燥した。
【0159】 第1層(クロスオーバーカット層) 固体微粒子分散体染料(一般式(1)化合物) 表5に示す量 ゼラチン 0.2g/m2 デキストリン(平均分子量1000) 表5に示す量 デキストラン(平均分子量40000) 表5に示す量 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(I) 5mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg/m2 第2層(乳剤層) 上記で得た各々の乳剤に下記の各種添加剤を加えた。
【0160】 化合物(G) 0.5mg/m2 2,6−ビス(ヒドロキシアミノ)−4−ジエチルアミノ− 1,3,5−トリアジン 5mg/m2 t−ブチル−カテコール 130mg/m2 ポリビニルピロリドン(分子量10,000) 35mg/m2 スチレン−無水マレイン酸共重合体 80mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 トリメチロールプロパン 350mg/m2 ジエチレングリコール 50mg/m2 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド 20mg/m2 1,3−ジヒドロキシベンゼン−4−スルホン酸アンモニウム 500mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(H) 0.5mg/m2 n−C4H9OCH2CH(OH)CH2N(CH2COOH)2 350mg/m2 化合物(M) 5mg/m2 化合物(N) 5mg/m2 コロイダルシリカ 0.5g/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 デキストリン(平均分子量1000) 0.2g/m2 デキストラン(平均分子量40000) 0.1g/m2 ただし、ゼラチンとしては1.0g/m2になるように
調整した。
調整した。
【0161】 第3層(中間層) ゼラチン 0.4g/m2 ホルムアルデヒド 10mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩 5mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 18mg/m2 ラテックス(L) 0.05g/m2 ポリアクリル酸ナトリウム 10mg/m2 化合物(S−1) 3mg/m2 化合物(K) 5mg/m2 硬膜剤(B) 1mg/m2 第4層(保護層) ゼラチン 0.4g/m2 ポリメチルメタクリレートからなるマット剤(面積平均粒径7.0μm) 表5に示すマット度になる量 ホルムアルデヒド 10mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5− トリアジンンナトリウム塩 5mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 18mg/m2 ラテックス(L) 0.1g/m2 ポリアクリルアミド(平均分子量10000) 0.05g/m2 ポリアクリル酸ナトリウム 20mg/m2 化合物(I) 12mg/m2 化合物(J) 2mg/m2 化合物(S−1) 7mg/m2 化合物(K) 15mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 化合物(S−2) 5mg/m2 C9F19−O−(CH2CH2O)11−H 3mg/m2 化合物S−3 2mg/m2 化合物S−4 1mg/m2 硬膜剤(B) 1.5mg/m2
【0162】
【化17】
【0163】
【化18】
【0164】
【化19】
【0165】なお、素材の付量は片面分であり、塗布銀
量は片面分として1.6g/m2、乳剤層のゼラチン量
が1.0g/m2になるように調整した。
量は片面分として1.6g/m2、乳剤層のゼラチン量
が1.0g/m2になるように調整した。
【0166】このようにして得られた試料について下記
の評価を行った。
の評価を行った。
【0167】(乾燥ムラの評価)SRX−503自動現
像機(コニカ(株)製)を以下の処理時間になるように
改造した自動現像機を用いてSR−DF処理液にて現像
温度35℃で、得られた試料の大角サイズ(35.6×
35.6cm)を濃度が1.0になるように均一にX線
露光し、これを100枚連続処理した。その後濃度が
2.5になるよう均一に白光露光した大角サイズ試料を
10枚連続処理した。
像機(コニカ(株)製)を以下の処理時間になるように
改造した自動現像機を用いてSR−DF処理液にて現像
温度35℃で、得られた試料の大角サイズ(35.6×
35.6cm)を濃度が1.0になるように均一にX線
露光し、これを100枚連続処理した。その後濃度が
2.5になるよう均一に白光露光した大角サイズ試料を
10枚連続処理した。
【0168】この現像処理済み試料を光に反射させて観
察したときに見えるムラを下記の4段階に分け、乾燥ム
ラとして評価した。処理液の補充量は現像液、定着液と
もに125ml/m2で処理した。
察したときに見えるムラを下記の4段階に分け、乾燥ム
ラとして評価した。処理液の補充量は現像液、定着液と
もに125ml/m2で処理した。
【0169】 現像時間 : 8秒 定着時間 :6.2秒 水洗時間 : 4秒 水洗−乾燥間(スクイズ):3.2秒 乾燥時間 :8.6秒 全処理時間 : 30秒 このとき乾燥温度は、ヒートローラーの表面温度が60
℃で乾燥を行った。ヒートローラーはアルミテフロンコ
ートした熱源としてハロゲンヒーターを使用したものを
用いた。
℃で乾燥を行った。ヒートローラーはアルミテフロンコ
ートした熱源としてハロゲンヒーターを使用したものを
用いた。
【0170】4:全く乾燥ムラは観察されない 3:額縁状にフィルムの端(周囲)に乾燥ムラが観察さ
れる 2:フィルムの約半分が端から中央にかけてモヤモヤし
たムラが観察される 1:フィルム全面に大きな乾燥ムラが観察される。
れる 2:フィルムの約半分が端から中央にかけてモヤモヤし
たムラが観察される 1:フィルム全面に大きな乾燥ムラが観察される。
【0171】(帯電防止性能の評価:灰付着テスト法)
23℃、20%RHの条件下で、現像済み試料の乳剤面
側をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけ
て、フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調
べた。
23℃、20%RHの条件下で、現像済み試料の乳剤面
側をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけ
て、フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調
べた。
【0172】 4:1cmまで近づけても全く付着しない 3:1〜4cmまで近づけると付着する 2:4〜10cmまで近づけると付着する 1:10cm以上でも付着する。
【0173】(残色性の評価)未露光試料を上述したS
RX503改造自動現像機を用いて前記処理剤にて30
秒処理を行い残色汚染について下記の5段階目視評価を
行った。
RX503改造自動現像機を用いて前記処理剤にて30
秒処理を行い残色汚染について下記の5段階目視評価を
行った。
【0174】5:残色汚染なし 4:わずかにあり 3:残色汚染はあるが実用可 2:残色汚染やや多いが実用範囲の限界 1:残色汚染が多く実用不可。
【0175】(膜付き)試料の乳剤面に、カミソリで浅
傷を碁盤の目状につけ、その上にセロハン接着テープを
圧着した後、該テープを急激に剥離したときの、セロハ
ンテープの接着面積に対する乳剤膜の残存率(膜付き)
を百分率(%)で示した。
傷を碁盤の目状につけ、その上にセロハン接着テープを
圧着した後、該テープを急激に剥離したときの、セロハ
ンテープの接着面積に対する乳剤膜の残存率(膜付き)
を百分率(%)で示した。
【0176】
【表5】
【0177】
【化20】
【0178】表5の結果から、本発明の試料は、乾燥ム
ラ、帯電防止性能に優れ、膜付きも良好で、残色も少な
いことがわかる。
ラ、帯電防止性能に優れ、膜付きも良好で、残色も少な
いことがわかる。
【0179】実施例2 保護層以外は、実施例1で調製した乳剤及び調製液を用
いて表6に示す試料を作成した。
いて表6に示す試料を作成した。
【0180】第4層(保護層)に一般式(2)の化合物
を表6に示す量を添加した以外は、実施例1と同一の処
方で作成した。このときマット度は150mmHgに調
整した。
を表6に示す量を添加した以外は、実施例1と同一の処
方で作成した。このときマット度は150mmHgに調
整した。
【0181】下記の方法で、液中プレシャーと実施例1
の方法で帯電防止性能、膜付き、残色を測定した。
の方法で帯電防止性能、膜付き、残色を測定した。
【0182】(液中プレッシャー:ローラーマークの評
価)現像時の耐圧性(自動現像機のローラーによる圧力
マーク、即ちローラーマーク)は、濃度が1.0となる
ように露光した試料を対抗ローラーを有する凹凸の強い
特別のローラーを渡りラックに用いて実施例1で乾燥ム
ラを評価した自動現像機で処理した。
価)現像時の耐圧性(自動現像機のローラーによる圧力
マーク、即ちローラーマーク)は、濃度が1.0となる
ように露光した試料を対抗ローラーを有する凹凸の強い
特別のローラーを渡りラックに用いて実施例1で乾燥ム
ラを評価した自動現像機で処理した。
【0183】その時発生したローラーマークをその程度
により5段階で分類し評価した。
により5段階で分類し評価した。
【0184】5:ローラーマークなし 4:わずかに発生あり 3:やや発生はあるが実用可 2:発生は多いが実用範囲の限界 1:発生が非常に多く実用不可
【0185】
【表6】
【0186】表6の結果から、本発明の試料は、ローラ
ーマーク(液中プレッシャー)の発生がなく、膜付きも
良好で帯電防止性能に優れ、残色も少ないことがわか
る。
ーマーク(液中プレッシャー)の発生がなく、膜付きも
良好で帯電防止性能に優れ、残色も少ないことがわか
る。
【0187】
【発明の効果】本発明により、帯電防止性能、残色、膜
付き、乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れ、超迅速可能
な感光材料を提供することができた。
付き、乾燥ムラ、液中プレッシャーに優れ、超迅速可能
な感光材料を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項1】 透明支持体の両面に感光性ハロゲン化銀
乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくとも一層の導
電層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該導
電層が金属酸化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層
の間に平均分子量2万以下の水溶性ポリマーが総バイン
ダー量の1/10以下、1/50以上含有される層を有
し、かつ固体微粒子状に分散された下記一般式(1)で
示される染料が含有された非感光性層を有し、表面マッ
ト度が100mmHg以上、300mmHg以下である
ことを特徴するハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 〔式中、R1は、水素原子、アルキル基、アリール基又
はヘテロ環基を表し、R2は水素原子、アルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミ
ノ基、ウレイド基、アミノ基、アシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、
シアノ基、スルファモイル基又はスルホンアミド基を表
し、Bは5員もしくは6員の含酸素ヘテロ環基又は6員
の含窒素ヘテロ環基を表し、L1〜L3はメチン基を表
し、nは0又は1を表す。但し、一般式(1)の化合物
はカルボキシ基、スルホンアミド基及びスルファモイル
基の少なくとも1つを有する。〕 - 【請求項2】 透明支持体の両面に感光性ハロゲン化銀
乳剤層を有し、片面もしくは両面に少なくとも一層の導
電層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該導
電層が金属酸化物コロイドを含有し、該乳剤層と導電層
の間に平均分子量2万以下の水溶性ポリマーが総バイン
ダー量の1/10以下、1/50以7上含有される層を
有し、かつ固体微粒子状に分散された前記一般式(1)
で示される染料が含有された非感光性層を有し、かつ下
記一般式(2)で示される化合物を該ハロゲン化銀乳剤
層及び/又は保護層に含有することを特徴するハロゲン
化銀写真感光材料。 【化2】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は同じであっても異なっ
ていてもよく、炭素数1〜20の置換又は無置換のアル
キル基、置換又は無置換のアリール基、シクロアルキル
基を表す。R5は、R3と同じ又は−(A)n−B又は−
C−DでA及びCは2価の基を表し、例えば炭素数2〜
20の置換又は無置換のアルキレン基を表す。nは0又
は1を表す。Bはn=0のときはアルコキシ基、ヒドロ
キシ基又は水素原子を表し、n=1のときはカルボキシ
ル基、アミノ基又はメルカプト基を表す。Dは活性ビニ
ル基、エポキシ基、メタンスルホン酸基、活性ハロゲン
基、活性エステル基、アルデヒド基、酸ハライド基、ア
ゾリド基、イソシアナート基、メチロール基、酸無水
物、エチレンイミン基又はマレイミド基を表す。lは0
又は1以上の整数を、mは1以上の整数を、l+mは1
〜1000の整数の1つである。好ましくはl+mは2
〜500である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8078687A JPH09269563A (ja) | 1996-04-01 | 1996-04-01 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8078687A JPH09269563A (ja) | 1996-04-01 | 1996-04-01 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09269563A true JPH09269563A (ja) | 1997-10-14 |
Family
ID=13668790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8078687A Pending JPH09269563A (ja) | 1996-04-01 | 1996-04-01 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09269563A (ja) |
-
1996
- 1996-04-01 JP JP8078687A patent/JPH09269563A/ja active Pending
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Legal Events
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