JPH09263944A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JPH09263944A JPH09263944A JP7691996A JP7691996A JPH09263944A JP H09263944 A JPH09263944 A JP H09263944A JP 7691996 A JP7691996 A JP 7691996A JP 7691996 A JP7691996 A JP 7691996A JP H09263944 A JPH09263944 A JP H09263944A
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Abstract
ミを防止できる成膜装置を提供する。 【解決手段】 本発明の成膜装置は、シール部に二重の
Oリング132を有し、前記二重のOリングの間を排気
するための排気手段を備え、前記二重のOリングを構成
する外側Oリング132bの断面径が内側Oリング13
2aの断面径以上であることを特徴とする。また、前記
内側Oリングの断面径を前記外側Oリングの断面径で割
った値が、0.25以上であることを特徴とする。
Description
より詳細には、成膜装置の内部への不純物コンタミを防
止できる成膜装置に関する。
101〜107を有する成膜装置を示す。図6は、図1
のA−A’部分の模式的な断面図である。また、図7
は、図6のD−D’部分の模式的な平面図であり、図8
は、図6のE領域の拡大図である。
室104のシール部を例にとって説明する。従来のシー
ル部は、図8に示すとおり、成膜室の壁部材604’と
成膜室の蓋604”を、一重のOリング632(図7)
をもって封止していた。そのため、成膜室604(10
4)の内部を減圧した場合、Oリングを通して大気成分
が透過するため、あるいはOリング自体からガス放出が
あるため、成膜室内の到達真空度を十分に下げることが
困難であった。したがって、成膜室内に配置した基体の
表面上には、有機系不純物や水分子が付着しやすい状況
にあった。その結果、このような基体上に膜を形成する
と、膜の諸特性が悪く、かつそのバラツキも大きくなる
という問題があった。
置の内部への不純物コンタミを防止できる成膜装置を提
供することを目的とする。
ール部に二重のOリングを有し、前記二重のOリングの
間を排気するための排気手段を備え、前記二重のOリン
グを構成する外側Oリングの断面径が内側Oリングの断
面径以上であるため、成膜装置の内部への不純物コンタ
ミ量を低減できる。
ングの断面径を前記外側Oリングの断面径で割った値が
0.25以上であるため、不純物コンタミ量が低くてか
つ安定な状態が得られる。
明するが、本発明がこれら実施例に限定されることはな
い。
図1に示した成膜装置において、少なくとも搬送室10
7と成膜室104のシール部に、各々二重のOリング1
31a,131bおよび132a,132bを設置した
点が、従来の成膜装置(図6)と異なる。
面図であり、図4は、図2のC領域の拡大図である。本
例のシール部は、図4に示すとおり、成膜室の壁部材1
04’と成膜室の蓋104”を、二重のOリング132
a,132b(図3)をもって封止した。二重のOリン
グを構成する内側Oリング132aと外側Oリング13
2bの断面径を一致させ、5mmのものを用いた。ま
た、二重のOリング132a,132bの全周の長さは
約2000mmであり、二重のOリング132a,13
2bの材質はフッ素系ゴム(製品名、バイトン)とした
(図3)。さらに、二重のOリングを構成する内側Oリ
ング132aと外側Oリング132bの間には、不図示
の排気手段(例えば、真空ポンプ)に通ずる配管133
を設け、二重Oリングの間の空間134を約1Torr
に減圧した(図4)。
で、基体125上にアルミニウム膜を形成し、膜中に含
まれるコンタミ量を調べた。基体125としては、10
mm角のガラス基板(コーニング社製、#7059)を
用いた。
る。
い、基体を洗浄した。 基体が入ったカセット(材質:シリコン樹脂)を超純
水(比抵抗:18MΩ)浸漬させ、超純水中に超音波振
動(0.8MHz)を10分間加えた。 上記の処理を終えた基体をスピン乾燥(850rp
m、2分間)した。
1が入ったカセット122をロード室101内へ挿入し
た後、ロード室内を1×10-6Torrまで減圧した。
のUVランプ(波長が250nm〜600nmを有する
ダニエルソン社製、型番PSS−275)で基体上に紫
外線を10分間照射した後、次の条件で不図示のオゾン
ガスをロード室内に導入することでオゾンガスに基体1
21を曝した。 ・供給ガス:O3100ppm/O2:N2=1:4 ・オゾンガスの不純物濃度:1ppb以下 ・気密室の内圧:700Torr ・供給時間:10分間 但し、O3、O2及びN2以外のガス成分がオゾンガスに
含まれる不純物であり、例えばH2O、CO2、CH4が
挙げられる。
1は、基体搬送手段123を用いて、前もって超高真空
に排気してある搬送室107を介して、前もって超高真
空に排気してある成膜室104に移した。搬送室及び成
膜室の到達圧力は1×10-8Torr以下、H2O分圧
は1×10-9Torr以下とした。
1.5W/cm2、周波数13.56MHzの高周波電
力(又は、電力密度4W/cm2の直流電力)を、Al
ターゲット127が配置されたカソード128に供給
し、プラズマを発生させ、加熱された基体(150℃)
125上に厚さ200nmのアルミニウム膜を形成し
た。
膜に含有させるコンタミ量を、SIMS(パーキンエル
マ社製、SIMS6600)で調べた。
(図1〜図4)の代わりに一重のOリング(図6〜図
8)631、632を用いた点が実施例1と異なる。す
なわち、実施例1の中間排気を行わなかった。他の点
は、実施例1と同様とした。
間の空間134を排気手段で排気しなかった点が実施例
1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
2bの断面径は5mmに固定したまま、内側Oリング1
32aの断面径を外側Oリング132bの断面径で割っ
た値が0.8となる内側Oリング132a用いた点が実
施例1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
2bの断面径は5mmに固定したまま、内側Oリング1
32aの断面径を外側Oリング132bの断面径で割っ
た値が0.5となる内側Oリング132a用いた点が実
施例1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
2bの断面径は5mmに固定したまま、内側Oリング1
32aの断面径を外側Oリング132bの断面径で割っ
た値が0.25となる内側Oリング132a用いた点が
実施例1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
2bの断面径は5mmに固定したまま、内側Oリング1
32aの断面径を外側Oリング132bの断面径で割っ
た値が2となる内側Oリング132a用いた点が実施例
1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
2bの断面径は5mmに固定したまま、内側Oリング1
32aの断面径を外側Oリング132bの断面径で割っ
た値が3となる内側Oリング132a用いた点が実施例
1と異なる。他の点は、実施例1と同様とした。
ルミニウム膜に含まれたコンタミ量を測定した結果であ
る。図5において、●印は炭素原子、▲印は酸素原子、
■印は窒素原子の値を示す。但し、縦軸は、比較例1の
試料で観測された量(炭素原子=4×1018[atms
/cm3]、酸素原子=5×1018[atms/c
m3]、窒素原子=2×1017[atms/cm3])で
規格化した数値で示した。
のOリング(比較例2)に代えただけではコンタミ量は
変化せず、さらに二重のOリングの間の空間134を排
気する排気手段を設けた(実施例1)ときコンタミ量が
減少することが分かった。
グの断面径で割った値が1より大きい場合(実施例5、
6)は、一重のOリング(比較例1)の場合よりコンタ
ミ量が増加する。一方、内側Oリングの断面径を外側O
リングの断面径で割った値が1以下の場合(実施例1〜
4)は、コンタミ量が減少する。特に、内側Oリングの
断面径を外側Oリングの断面径で割った値が0.25以
上の時、不純物コンタミ量が低くてかつ安定な状態が得
られることが分かった。
成膜装置の内部への不純物コンタミを防止できる成膜装
置が得られる。
重Oリングを設置したクラスターツール型の成膜装置の
模式的な平面図である。
に含まれたコンタミ量の測定結果を示すグラフである。
一重Oリングを設置したクラスターツール型の成膜装置
の模式的な断面図である。
ング、 133 不図示の中間排気手段に通ずる配管、 134 二重のOリングの間の空間、 631、632 一重のOリング。
Claims (2)
- 【請求項1】 シール部に二重のOリングを有し、前記
二重のOリングの間を排気するための排気手段を備え、
前記二重のOリングを構成する外側Oリングの断面径が
内側Oリングの断面径以上であることを特徴とする成膜
装置。 - 【請求項2】 前記内側Oリングの断面径を前記外側O
リングの断面径で割った値が、0.25以上であること
を特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
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---|---|---|---|
JP07691996A JP3644556B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | 成膜装置 |
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-
1996
- 1996-03-29 JP JP07691996A patent/JP3644556B2/ja not_active Expired - Fee Related
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