JPH092628A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】両端のみを支持した薄板の平面性を修正して搬
送できるようにする。 【構成】基板１の両端縁を水平に保持して回転する少な
くとも一対の搬送ローラ２を有する基板搬送装置におい
て、基板１の上面中央領域に近接配置して当該基板１の
上面の空気を吸い上げる吸引口５ａと、吸引口５ａと基
板１との間隙を一定値に保持すると共に搬送ローラ２か
らの基板１の浮き上がりを抑制する間隙保持ローラ５ｂ
とからなる吸引ヘッド５を備え、吸引ヘッド５により基
板１の中央領域の空気を吸い上げて上方に持ち上げ、基
板１を搬送ローラにより撓みなく搬送させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板等の薄板状
部材（以下、単に基板とも言う）をその平面を上下に向
けて横方向に搬送する基板搬送装置にかかり、例えば液
晶表示装置用の大判サイズあるいは薄肉のガラス基板の
洗浄、レジスト塗布、現像、ベーキング、その他の処理
を施すための処理ステーションに当該基板を撓みなく搬
入するようにした基板搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ガラス板等の薄い基板を、その両端のみ
を支持して搬送する場合には、当該基板の自重により中
央部が下方に撓んでしまい、表面を平坦な状態で搬送す
ることは困難である。

【０００３】例えば、液晶表示装置を構成するガラス基
板にカラーフィルタを形成する工程において、当該カラ
ーフィルタのフォトリソエッチング処理等の前段階とし
てガラス基板に所定のレジストを一様な厚さで塗布する
必要がある。

【０００４】従来のこの種のレジスト塗布は、溝付きゴ
ムローラによってレジスト溶液を塗布するロールコート
法、あるいはガラス基板を回転させながらレジスト溶液
を遠心力で引延して塗布するスピンコート法、その他種
々の方法があるが、前者では塗膜の平滑性に限界があ
り、また、後者ではレジスト溶液の利用率が極めて低
く、多数のガラス基板を効率よく処理することが困難で
あるという問題がある。

【０００５】これに対して、例えば特開平２−２５８０
８１号公報、特開平４−２７０３４６号公報に開示され
たようなワイヤー巻回ロッド（以下、ロールバーと称す
る）を用いて平面搬送されるガラス基板の下面からレジ
スト溶液を塗布する、所謂ロッドコート法を用いること
で、連続して搬送される多数のガラス基板に均一なレジ
ストの塗膜を形成することができる。

【０００６】図８はガラス板等の薄い平板部材の搬送装
置の一例としてのレジスト塗布装置の構成を説明する要
部模式図であって、１はガラス基板、２は搬送ローラ、
３ａはロールバー、３ｂはニップロール、３ｃは受け
皿、３ｄはロールバー支持部材、３ｅはレジストであ
る。

【０００７】同図において、このレジスト塗布装置は液
晶パネル用のガラス基板の面にカラーフィルタ用のレジ
ストを塗布するものであって、厚さが０．７ｍｍ、ある
いは１．１ｍｍ程度の薄いガラス基板１の両端を搬送ロ
ーラ２で支持して同図の左方向から右方向に搬送しなが
ら、その下面にレジスト塗布部でレジストを均一に塗布
する装置である。

【０００８】レジストの塗布部はニップロール３ｂ、ロ
ールバー３ａ、レジスト３ｅを貯留する受け皿３ｃ、ロ
ールバー支持部材３ｄとから構成され、ロールバー３ａ
とこのロールバー３ａを押圧するごとく配置されたニッ
プロール３ｂの対向部に図示矢印Ａ方向からガラス基板
１が搬入され、その移動に伴ってロールバー３ａで汲み
上げられたレジスト３ｅが当該ガラス基板１の下面に塗
布される。

【０００９】レジストが塗布されたガラス基板１は、同
図の右側に設置された基板送り出し搬送機構の搬送ロー
ラ２により両端縁を支持されてさらに搬送され、次段の
乾燥ステージ等に送り込まれる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のような薄い基板
を、その両端部のみを支持して搬送する形式の基板搬送
装置においては、その中央領域（中央部）が自重によっ
て下方に撓む。

【００１１】例えば、搬送方向と直角方向の幅が３００
ｍｍで、厚さ０．７ｍｍのガラス基板を、その幅方向の
両端部で支持した場合、その中央の撓み量は約１．５ｍ
ｍに達する。

【００１２】図９は図８の基板搬送装置で搬送されるガ
ラス基板を搬送方向からみた撓み発生状態の説明図であ
る。

【００１３】同図において、ガラス基板１の両端は搬送
ローラ２で支持され、中央が下方に垂下するごとく撓ん
でいる様子を示している。

【００１４】図１０は図９のＹ−Ｙ’線に沿ったガラス
基板の中央部がロールバーとニップロールの対向部に進
入した状態を説明する要部模式図である。

【００１５】同図に示したように、ガラス基板１に撓み
がなければ当該ガラス基板は、その先端縁の全域がロー
ルバー３ａとニップロール３ｂの対向部にスムーズに進
入する。しかし、ガラス基板１の中央には図９に示した
ような撓みがあるため、当該中央部は同図にＢで示した
ように両端領域よりも先にロールバー３ａに接触し、さ
らに当該中央部がロールバー３ａに衝突することがあ
る。

【００１６】この撓みはガラス基板１のサイズが大型化
する程大きくなり、極端な場合はガラス基板がロールバ
ー３ａとニップロール３ｂの対向部に進入できなくな
る。

【００１７】図１１は中央に撓みのあるガラス基板がロ
ールバーとニップローラの対向部に進入した際のレジス
トの付着状態を説明する模式図であって、（ａ）は正面
図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ’線に沿った断面図であ
る。なお、同図（ａ）ではロールバー支持部材３ｄは図
示を省略してある。

【００１８】同図に示したように、中央に撓みを持つガ
ラス基板１が進入すると、ロールバー３ａで汲み上げら
れているレジスト３ｅはガラス基板１の垂下した撓み部
分に先に付着する。その後、ニップローラ３ｂとの挟持
でガラス基板１が搬送されるため、ガラス基板１の後続
する領域はロールバー３ａで汲み上げられたレジストと
略ゝ均一に接触する。

【００１９】したがって、レジスト塗布後のガラス基板
の当該先端部のレジスト膜厚が大となる。

【００２０】図１２は従来の基板搬送装置を用いてレジ
スト塗布部にガラス基板を通した場合に発生する基板先
端領域における塗布ムラの状態の説明図である。

【００２１】図示されたように、レジスト塗布後のガラ
ス基板を凸レンズで観察すると、ガラス基板１の先端領
域に図示したようなニュートンリングが見られる。

【００２２】前記した構成の基板搬送装置を用いて実際
にレジストの塗布を行ったところ、ガラス基板の上記先
端部分のレジストの塗布膜厚は、他の部分に比べて５〜
１０％増加していた。

【００２３】図１３はガラス基板を両端支持で搬送する
際の中央部の撓みを補正する従来の一手段の説明図であ
って、４は補助ローラである。

【００２４】この構成では、ガラス基板の下面に当接し
て回転する二個の補助ローラ４を設けて垂下する部分を
持ち上げながら搬送するものである。

【００２５】これにより、前記した基板先端部での膜厚
増加を抑制することはできるが、ガラス基板１の下面に
不純物を付着させたり、また当該表面にパターンが形成
されている場合には、そのパターンにダメージを与える
ことがあり、好ましい対策ではない。

【００２６】本発明の目的は、上記従来技術の問題を解
消し、搬送方向と平行な両端縁を支持して搬送される薄
板の下面に機械的な支持手段を当接することなしに撓み
補正を施す手段を設けて、当該薄板の平面性を保持して
搬送できるようにした基板搬送装置を提供することにあ
る。

【００２７】

【課題を解決するための手段】以下、本発明の構成を図
面を参照して開示する。

【００２８】上記目的を達成するために、請求項１に記
載の第１の発明は、図１に示したように、基板１の両端
縁を水平に保持して回転する少なくとも一対の搬送ロー
ラ２を有する基板搬送装置において、前記基板１の上面
中央領域に近接配置して当該基板１の上面の空気を吸い
上げる吸引口５ａと、前記吸引口５ａと前記基板１との
間隙を一定値に保持すると共に前記搬送ローラ２からの
前記基板１の浮き上がりを抑制する間隙保持ローラ５ｂ
とからなる吸引ヘッド５を備え、前記吸引ヘッド５によ
り前記基板１の中央領域の空気を吸い上げて前記基板１
の中央領域を上方に持ち上げ、前記基板１を前記搬送ロ
ーラにより撓みなく搬送するごとく構成したことを特徴
とする。

【００２９】また、請求項２に記載の第２の発明は、第
１の発明において、前記吸引ヘッド５の吸引力に応じて
当該吸引ヘッド５を前記基板１に対して近接または退避
する方向に移動させるダンパー５ｃを備えたことを特徴
とする。

【００３０】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
図２に示したように、基板１の両端縁を水平に保持して
回転する少なくとも一対の搬送ローラ２を有する基板搬
送装置において、前記基板１の下面中央領域に近接配置
して当該基板１の下面に空気を吹き上げる吹上口６ａ
と、前記吹上口６ａの空気吹き出し部に設置した多孔質
プレート６ｃとからなる吹上ヘッド６を備え、前記吹上
ヘッド６からの空気流により前記基板１の中央領域を上
方に持ち上げ、前記基板１を前記搬送ローラにより撓み
なく搬送するごとく構成したことを特徴とする。

【００３１】さらに、請求項４に記載の第４の発明は、
第３の発明において、前記吹上口６ａと前記基板１との
間の間隙を調整する上下駆動装置６ｄを備えたことを特
徴とする。

【００３２】そして、請求項５に記載の第５の発明は、
図３に示したように、基板１の両端縁を水平に保持して
回転する少なくとも一対の搬送ローラ２を有する基板搬
送装置において、前記基板１の上面中央領域に近接配置
して当該基板１の上面に空気流を吹き付ける吹付け口７
ａと、前記吹付け口７ａの周囲に配置して前記吹付け口
７ａからの空気流を回収する回収口７ｂとからなるベル
ヌーイヘッド７を備え、前記ベルヌーイヘッド７により
前記基板１の中央領域を上方に吸い上げて前記基板１を
前記搬送ローラにより撓みなく搬送するごとく構成した
ことを特徴とする。

【００３３】なお、上記各発明を液晶パネルを構成する
ガラス基板にカラーフィルタを形成するためのレジスト
塗布装置に適用して好適であり、当該レジスト塗布装置
は下記のような構成となる。

【００３４】すなわち、搬送されるガラス基板の裏面に
レジストを塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布
機構にガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構と、
レジスト塗布機構でレジストを塗布したガラス基板を送
り出す基板送り出し搬送機構とを少なくとも有するレジ
スト塗布装置において、前記レジスト塗布機構が、レジ
ストを貯留する受け皿と、前記レジストの液面に周面の
少なくとも一部を接触して回転するロールバーと、前記
受け皿に没設して前記ロールバーの周面を回転可能に支
持するロールバー支持部材と、前記ロールバーの上方に
対向配置して前記ガラス基板のレジスト塗布有効領域を
含んで前記ロールバーとの間にガラス基板を通過させる
ごとく設置したニップロールとからなり、前記基板送り
込み搬送機構が、前記ニップロールと前記ロールバーの
間に前記ガラス基板の搬送方向と平行方向の塗布有効領
域外両端縁を支持して搬送する複数の搬送ローラを有
し、前記レジスト塗布機構を構成する前記ロールバーと
ニップロールの対向部の上流に設置して、搬送される前
記ガラス基板の中央部の撓みを修正する前記請求項１〜
５の何れかに記載の基板搬送装置を備えたことを特徴と
する。

【００３５】本発明は、上記のレジスト塗布装置への適
用に限るものではなく、液晶パネルの製造におけるガラ
ス基板の洗浄、露光、現像、あるおいはベーキング、そ
の他の各種の処理ステーションへのガラス基板の搬入機
構、またはそこからのガラス基板の搬出機構に適用でき
ると共に、液晶パネルのガラス基板以外の薄板の搬送に
応用可能である。

【００３６】

【作用】ガラス基板、その他の薄い板体の両端縁のみを
支持して水平搬送する場合には、その中央部に自重によ
る垂下（撓み）が発生する。

【００３７】搬送される基板の表面に薬液塗布などの処
理を施す場合に、このような撓みが生じると、当該基板
の中央部と周縁部とでは処理条件が異なってしまい、均
一な処理を施すことは困難である。

【００３８】例えば、液晶パネルを構成するためのガラ
ス基板として、薄型で大版サイズのガラス基板に各種の
レジスト等を塗布する塗布装置において、当該塗布装置
を構成する基板搬送装置が基板の搬送方向と平行方向の
両端を搬送ローラ等で支持して搬送するような構成であ
る場合には、搬送ローラで支持した基板の中央部分に基
板の自重による撓みが生じ、塗布されるレジストの膜厚
が中央部と周縁部とで異なってしまう。

【００３９】前記第１の発明の構成において、前記吸引
ヘッド５を構成する吸引口５ａは、前記基板１の上面中
央領域に近接配置して当該基板１の上面の空気を吸い上
げて中央部の撓みを修正する。

【００４０】また、間隔保持ローラ５ｂは、前記吸引口
５ａと前記基板１との間隙を一定値に保持すると共に前
記搬送ローラ２からの前記基板１の浮き上がりを抑制し
て当該基板の搬送力を確保する。

【００４１】また、前記第２の発明の構成において、ダ
ンパー５ｃは、前記吸引ヘッド５の吸引力に応じて当該
吸引ヘッド５を前記基板１に対して近接または退避する
方向に移動させることにより、吸引力を調整して前記吸
引口５ａと前記基板１との間隙を一定値に保持する。

【００４２】さらに、前記第３の発明の構成において、
吹上ヘッド６の前記吹上口６ａは、前記基板１の下面中
央領域に近接配置して当該基板１の下面に空気を吹き上
げる。

【００４３】なお、吹上口６ａの外側に回収口ｃを設置
することで空気システムを閉鎖系として装置周囲の雰囲
気に擾乱を与えることなく、クリーンな環境とすること
ができる。

【００４４】この吹上口６ａの空気吹き出し部に設置し
た多孔質プレート６ｃは、吹き上げ面積を大きくして浮
上力を確保し、前記基板１の中央領域を上方に持ち上
げ、前記基板１を前記搬送ローラにより撓みなく搬送す
る。なお、この多孔質プレート６ｃはテフロン、その他
のプラスチック材料、アルミニウム、ステンレス等の金
属材料、あるいはセラミックスなどで構成できるが、静
電気特性や耐溶剤性を考慮する場合はステンレスが望ま
しい。

【００４５】さらに、前記第４の発明の構成において、
前記上下駆動装置６ｄは、前記吹上口６ａと前記基板１
との間の間隙を調整するものであり、当該間隙を小さく
すれば流量が減少し、大きくすれば増加する。

【００４６】これによって、吹き上げ空気の流量をコン
トロールして、基板１の撓みの大きさに応じた流量調整
を行う。

【００４７】そして、前記第５の発明の構成において、
ベルヌーイへッド７の吹付け孔７ａは、前記基板１の上
面中央領域に近接配置して当該基板１の上面に空気流を
吹き付ける。

【００４８】回収口７ｂは、前記吹付け口７ａの外側に
配置して前記吹付け口７ａからの空気流を回収する。

【００４９】このベルヌーイヘッド７により前記基板１
の中央領域を上方に吸い上げて当該基板１を前記搬送ロ
ーラにより撓みなく搬送することができる。

【００５０】なお、上記各発明を液晶パネルを構成する
ガラス基板にカラーフィルタを形成するためのレジスト
塗布装置に適用した構成において、レジストを貯留する
受け皿と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部
を接触して回転するロールバーと、前記受け皿に没設し
て前記ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバ
ー支持部材と、前記ロールバーの上方に対向配置して前
記ガラス基板のレジスト塗布有効領域を含んで前記ロー
ルバーとの間にガラス基板を通過させるごとく設置した
ニップロールとからレジスト塗布機構が構成される。

【００５１】基板送り込み搬送機構は複数の搬送ローラ
を有し、、前記レジスト塗布機構のニップロールとロー
ルバーの間に前記ガラス基板の搬送方向と平行方向の塗
布有効領域外両端縁を支持して搬送する。

【００５２】前記レジスト塗布機構を構成する前記ロー
ルバーとニップロールの対向部の上流に前記第１〜第５
の発明の構成からなる基板搬送装置を設置し、搬送され
る前記ガラス基板の中央部の撓みを修正することで、当
該ガラス基板の下面に均一なレジストが塗布される。

【００５３】本発明は上記のレジスト塗布装置への適用
に限るものではなく、液晶パネルの製造におけるガラス
基板の洗浄、露光、現像、あるいはベーキング、その他
の各種の処理ステーションへのガラス基板の搬入機構、
またはそこからのガラス基板の搬出機構に適用すること
により、ガラス基板の撓みを修正してその全面を同一条
件で処理することができる。

【００５４】液晶パネルのガラス基板以外の薄板の搬送
に応用した場合も同様の効果が期待できる。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。

【００５６】図４は本発明による基板搬送装置の一実施
例を説明する要部正面図であって、液晶パネル用のガラ
ス基板にカラーフィルタを形成用するための前記図８で
説明した形式のレジスト塗布装置に本発明を適用したも
のである。

【００５７】同図において、１はガラス基板、２は搬送
ローラ、３ａはロールバー、３ｂはニップローラ、３ｃ
は受け皿、３ｄはロールバー支持部材、３ｅはレジス
ト、５は吸引ヘッド、５ａは吸引口、５ｂは間隙保持ロ
ーラ、５ｂ−１はベアリング、５ｂ−２はシャフト、５
ｅはスリーブ、５ｇは排気路である。

【００５８】上記ロールバー３ａ、ニップローラ３ｂ、
受け皿３ｃ、ロールバー支持部材３ｄ、およびレジスト
３ｅでレジスト塗布部を構成する。

【００５９】また、図５は本発明による基板搬送装置の
一実施例を説明する図４の矢印Ｂ方向からみた要部側面
図であって、５ｆは吸引間隙、図４と同一符号は同一部
分に対応する。

【００６０】図４および図５において、ガラス基板１は
搬送ローラ２にその両端が載置され、平面を上下に向け
て図４の矢印Ｂ方向に水平搬送される。

【００６１】吸引ヘッド５はガラス基板１の上面中央領
域に近接配置して当該ガラス基板１の上面の空気を吸い
上げる吸引口５ａと、この吸引口５ａとガラス基板１と
の間隙を一定値に保持すると共に搬送ローラ２からのガ
ラス基板１の浮き上がりを抑制する間隙保持ローラ５ｂ
とから構成される。

【００６２】そして、吸引口５ａはガラス基板１の上面
中央領域に近接配置され、当該ガラス基板１の上面の空
気を吸い上げて中央部の撓みを修正する。

【００６３】また、間隙保持ローラ５ｂは前記吸引口５
ａとガラス基板１との間隙を一定値に保持してガラス基
板１の平面性を維持すると共に、搬送ローラ２からガラ
ス基板１が浮き上がるのを抑制して搬送ローラ２による
ガラス基板１の搬送力を確保する。吸引ヘッド５の吸引
口５ａには、当該吸引ヘッド５の内壁に沿って上下にス
ライドするごとく設置されたスリーブ５ｅが内挿されて
いる。このスリーブ５ｅは上記吸引口５ａに一端を開放
し、排気路５ｇ側に他端を開放して吸引口５ａから吸入
されて排気路５ｇに排気される空気流の圧力に応じて上
下し、空気圧の変動による吸引間隙５ｆの変化を抑制す
る。

【００６４】搬送ローラ２で搬送されてきたガラス基板
１は、レジスト塗布部の上流に配置された吸引ヘッド５
により、その中央部の撓みが修正され、水平状態でロー
ルバー３ａとニップローラ３ｂの対向部に進入する。

【００６５】この吸引ヘッド５はガラス基板１と対向す
る側に開口を有し、この開口の内壁に上下方向にスライ
ド可能に設置されたスリーブ５ｅを備えている。このス
リーブ５ｅは下端の開口端がガラス基板１との間に吸引
間隙５ｆを保つように吸引ヘッド５の内壁に沿ってスラ
イドする。

【００６６】また、間隙保持ローラ５ｂはベアリング５
ｂ−１でシャフト５ｂ−２に回転可能に取り付けられ、
その材質は樹脂、金属等でよいが、ガラス基板１との接
触で当該ガラス基板１にダメージを与えないで、かつ静
電気の発生を防止するために導電性樹脂とするのが望ま
しい。

【００６７】この構成により、吸引される空気による吸
引力は上記スリーブ５ｅの上下移動で一定値に保持され
るが、ガラス基板１の撓み量を検出するセンサーを設
け、このセンサーの検出出力で上記間隔５ｆをコントロ
ールするようにしてもよい。

【００６８】図６は本発明による基板搬送装置の一実施
例をさらに詳しく説明する要部正面図、また図７は図６
の矢印Ｃ方向からみた要部正面図であって、８は吸引ヘ
ッド上下微調整機構、８ａは調整ノブ、９は基板センサ
ー、１０はヘッド固定部材、１１は機枠である。

【００６９】同図において、吸引ヘッド５は機枠１１に
掛け渡されて固定されたヘッド固定部材１０に搭載さ
れ、ガラス基板１の搬送経路の中央部に位置するように
設置される。

【００７０】図６と図７において、吸引ヘッド５とヘッ
ド固定部材１０の間には吸引ヘッド上下微調整機構８が
設けてある。この吸引ヘッド上下微調整機構８はマクロ
メータを備え、その調整ノブ８ａを操作することによ
り、吸引ヘッド５の間隙保持ローラ５ｂとガラス基板１
の表面の間隙を微調整することができ、ガラス基板１の
撓み量の修正を精度よく行うことができるようにしてい
る。

【００７１】また、吸引ヘッド５のガラス基板１の搬送
方向上流側には基板センサー９が取り付けてあり、ガラ
ス基板１が矢印Ａ方向に搬送されてこの基板センサー９
で先端検知がなされたことに応じて吸引ヘッド５の吸引
を開始するように制御することで、吸引駆動のためのエ
ネルギーの低減になる。

【００７２】なお、吸引の停止も、この基板センサー９
の基板なし検知で行ってもよいし、ガラス基板１のサイ
ズに応じてセットされるタイマーを設けて行ってもよ
い。

【００７３】なお、上記実施例では、吸引ヘッド５をガ
ラス基板１の中央部に一個設置したものとして説明した
が、本発明はこれに限るものではなく、当該ガラス基板
１の撓みの状態や搬送バランス等を考慮して、ガラス基
板の両周辺部、あるいは搬送方向の複数個所に設置する
こともできる。

【００７４】以上の実施例は、前記図１で説明した吸引
ヘッドを用いたレジスト塗布装置に本発明を適用したも
のとして説明したが、前記図２〜図３に示した吹上ヘッ
ド、ベルヌーイヘッドを用いて上記実施例と同様の撓み
補正を行うようにすることもできる。

【００７５】吹上ヘッド、ベルヌーイヘッドを用いた実
施例は、上記した実施例における吸引ヘッドを吹上ヘッ
ド、またはベルヌーイヘッドと置き換えるものであり、
その他の構成は略ゝ同様であるので説明は省略する。

【００７６】また、上記実施例は本発明の基板搬送装置
をレジスト塗布装置に適用したものであるが、本発明は
これに限るものではなく、液晶パネル用のガラス基板の
洗浄工程、レジスト露光工程、現像工程、あるいはベー
キング工程での搬送機構に適用可能であり、さらにＩＴ
Ｏ薄膜の成膜工程、その他の薄板表面への各種処理工程
にも同様に適用できる。

【００７７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薄板基板の両端保持による搬送によって発生する基板中
央部の撓みを基板の下面に機械的な支持手段を当接する
ことなしに修正し平面性を保たせて各種の表面処理ステ
ージに送り込むことができるため、当該基板の全面に渡
って同一条件で表面処理を施すことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板搬送装置の第一構成を説明す
る要部正面図である。

【図２】本発明による基板搬送装置の第二構成を説明す
る要部正面図である。

【図３】本発明による基板搬送装置の第三構成を説明す
る要部正面図である。

【図４】本発明による基板搬送装置の一実施例を説明す
る要部正面図である。

【図５】本発明による基板搬送装置の一実施例を説明す
る図４の矢印Ｂ方向からみた要部側面図である。

【図６】本発明による基板搬送装置の一実施例をさらに
詳しく説明する要部正面図である。

【図７】図６の矢印Ｃ方向からみた要部正面図である。

【図８】ガラス板等の薄い平板部材の搬送装置の一例と
してのレジスト塗布装置の構成を説明する要部模式図で
ある。

【図９】図８の基板搬送装置で搬送されるガラス基板を
搬送方向からみた撓み発生状態の説明図である。

【図１０】図９のＹ−Ｙ’線に沿ったガラス基板の中央
部がロールバーとニップロールの対向部に進入した状態
を説明する要部模式図である。

【図１１】中央に撓みのあるガラス基板がロールバーと
ニップローラの対向部に進入した際のレジストの付着状
態を説明する模式図である。

【図１２】従来の基板搬送装置を用いてレジスト塗布部
にガラス基板を通した場合に発生する基板先端領域にお
ける塗布ムラの状態の説明図である。

【図１３】ガラス基板を両端支持で搬送する際の中央部
の撓みを補正する従来の一手段の説明図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ 搬送ローラ ３ａ ロールバー ３ｂ ニップローラ ３ｃ 受け皿 ３ｄ ロールバー支持部材 ３ｅ レジスト ４ 補助ローラ ５ 吸引ヘッド ５ａ 吸引口 ５ｂ 間隙保持ローラ ５ｂ−１ ベアリング ５ｂ−２ シャフト ５ｃ ダンパー ６ 吹上ヘッド ７ ベルヌーイヘッド ８ 吸引ヘッド上下微調整機構 ９ 基板センサー １０ ヘッド固定部材 １１ 機枠。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 廣瀬 秀幸 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 内藤 ▲隆▼匡 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板の両端縁を水平に保持して回転する少
   なくとも一対の搬送ローラを有する基板搬送装置におい
   て、 前記基板の上面中央領域に近接配置して当該基板の上面
   の空気を吸い上げる吸引口と、前記吸引口と前記基板と
   の間隙を一定値に保持すると共に前記搬送ローラからの
   前記基板の浮き上がりを抑制する間隙保持ローラとから
   なる吸引ヘッドを備え、 前記吸引ヘッドにより前記基板の中央領域の空気を吸い
   上げて前記基板の中央領域を上方に持ち上げ、前記基板
   を前記搬送ローラにより撓みなく搬送するごとく構成し
   たことを特徴とする基板搬送装置。
2. 【請求項２】請求項１において、前記吸引ヘッドの吸引
   力に応じて当該吸引ヘッドを前記基板に対して近接また
   は退避する方向に移動させるダンパーを備えたことを特
   徴とする基板搬送装置。
3. 【請求項３】基板の両端縁を水平に保持して回転する少
   なくとも一対の搬送ローラを有する基板搬送装置におい
   て、 前記基板の下面中央領域に近接配置して当該基板の下面
   に空気を吹き上げる吹上口と、前記吹上口の空気吹き出
   し部に設置した多孔質プレートとからなる吹上ヘッドを
   備え、 前記吹上ヘッドからの空気流により前記基板の中央領域
   を上方に持ち上げ、前記基板を前記搬送ローラにより撓
   みなく搬送するごとく構成したことを特徴とする基板搬
   送装置。
4. 【請求項４】請求項３において、前記吹上口と前記基板
   との間の間隙を調整する上下駆動装置を備えたことを特
   徴とする基板搬送装置。
5. 【請求項５】基板の両端縁を水平に保持して回転する少
   なくとも一対の搬送ローラを有する基板搬送装置におい
   て、 前記基板の上面中央領域に近接配置して当該基板の上面
   に空気流を吹き付ける吹付け口と、前記吹付け口の周囲
   に配置して前記吹付け口からの空気流を回収する回収口
   とからなるベルヌーイヘッドを備え、 前記ベルヌーイヘッドにより前記基板の中央領域を上方
   に吸い上げて前記基板を前記搬送ローラにより撓みなく
   搬送するごとく構成したことを特徴とする基板搬送装
   置。