JPH09243339A - 反射面を有するワークの検査方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】反射鏡上の欠陥を検査する。 【解決手段】内壁２９が黒色とされた暗室２７内に反射
鏡１５を配置し、反射鏡１５の反射面１６に斜め上方か
ら平行光Ｌを照射する。主走査方向（紙面と直交する方
向）Ａに光電変換画素が連結されたＣＣＤリニアセンサ
２２を反射面１６に対向して配置し、反射鏡１５を副走
査方向Ｂに搬送することで、反射面１６の全面を撮像す
るようにしている。この場合、ＣＣＤリニアセンサ２２
には、正反射光ＬＲが入射せず、キズを原因とする反射
面１６からの散乱光ＬＳのみが入射する。したがって、
散乱光ＬＳの電気信号のレベルにより反射鏡１５の欠陥
の程度を判定することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、反射面を有する
ワーク（被検査試料）、例えば、反射鏡（コンパクト、
車両用のドアミラー、バックミラー、サイドアンダーミ
ラー、平滑な表面を有する金属等も含む。）に適用して
好適な反射面を有するワークの検査方法およびその装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】平滑な表面を有する基板を検査する従来
技術が、特開平２−９３３１２号公報に公表されてい
る。

【０００３】この技術は、図９に示すように、ランプ１
から出射した光を反射鏡２で集光し、集光した反射光を
フィルタ３によりワークとしての基板４を感光しない程
度の輝度に低下させてからこの基板４に斜め上方から照
射する。

【０００４】この場合、基板４の表面の滑らかな部分で
正反射した前記集光光がレンズ５を通じてカメラ６に入
射しないように各光学系要素が配置されている。したが
って、基板４の表面にキズや異物付着があると、この部
分で光が散乱し、散乱光の一部がレンズ５を通じてカメ
ラ６に入射して像を結ぶことになる。

【０００５】そこで、この技術では、この像を画像処理
部７で処理し周囲の明るさとの対比によって欠陥を検出
することができるとされている。そして、欠陥のない平
滑表面（上述の周囲の明るさによって撮像される面）と
欠陥部分（前記集光光の散乱光によって撮像される部
位）では、レンズ５を通してカメラ６に入射する明るさ
が全く異なるが、欠陥部分の大小による明るさの差は従
来のように大きくなく、したがって欠陥部分の大小にか
かわりなく安定した検出感度で欠陥部分を検出すること
ができるとも記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の技術では、周囲光によって照明されている基板
４の表面をカメラ６で撮像するとともに、ランプ１によ
って照明されている基板４の表面の欠陥部分を同時にカ
メラ６で撮像するようにしていることから、実際には、
カメラ６とその保持具の基板４の表面での反射像が、カ
メラ６の撮像面に写り込まれてしまい、特にワークとし
ての基板４が鏡面反射面を有する反射鏡である場合には
前記反射像の多重像の写り込みが発生して、表面上のキ
ズ（小さな凹凸）、汚れ等の欠陥を安定して正確に検出
することができないという問題があった。

【０００７】その上、検査対象である基板４には感光し
ない程度の光を照射する必要があることから、基板４の
正常な部分からの表面の明るさのレベルと欠陥部分から
の散乱光の明るさのレベルとの差をそれ程大きくするこ
とができず、結果として、画像信号上で基板４の正常部
分と欠陥部分とを明確に分離することが困難であるとい
う問題がある。

【０００８】この発明はこのような課題を考慮してなさ
れたものであり、ワークの反射面のキズ等の欠陥を安定
して、かつ正確に検出することを可能とする反射面を有
するワークの検査方法およびその装置を提供することを
目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明は、例えば、図
１等に示すように、内壁２９が黒色とされた暗室２７内
に反射面１６を有するワーク１５を配置し、反射面に斜
め上方から平行光Ｌを照射し、主走査方向Ａに光電変換
画素Ｐが連結されたリニアセンサ２２を反射面に対向し
て配置し、反射面に対してリニアセンサを電気的に主走
査させるとともに、リニアセンサを主走査方向と略直交
する副走査方向Ｂに相対的に移動させて、反射面を２次
元的に走査し、反射面からの散乱光ＬＳ（図５Ｅをも参
照）を受光して電気信号に変換し、この電気信号のレベ
ルにより反射面を有するワークの欠陥を判定することを
特徴とする。

【００１０】この発明によれば、内壁が黒色とされた暗
室内に反射面を有するワークを配置し、ワークの反射面
に斜め上方から平行光を照射し、主走査方向に光電変換
画素が連結されたリニアセンサを反射面に対向して配置
して、前記反射面を撮像するようにしているので、リニ
アセンサには、反射面からの散乱光のみが入射する。し
たがって、散乱光の電気信号のレベルによりワークの欠
陥の程度を判定することができる。

【００１１】この場合、前記暗室の上面から前記暗室内
に清浄空気を送り出し、前記暗室の側面下部に前記清浄
空気の前記暗室外への連通路を設けることで、反射面上
のごみを払拭できるとともに、暗室内の塵埃による散乱
光にもとづく誤検出のおそれも回避される。

【００１２】また、反射面に斜め上方から平行光を照射
する平行光照射手段を、第１および第２の平行光照射手
段から構成し、これら第１および第２の平行光照射手段
を、反射面を平面視的に見たとき、相互に直交する位置
に配置することで、前記反射面上に斜め上方の直交する
位置から平行光が照射されることになり、前記反射面上
のキズの形状・方向が種々異なったものであっても、そ
れらキズの形状・方向とは無関係に、当該キズ、すなわ
ち欠陥を検出することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態に
ついて図面を参照して説明する。

【００１４】図１は、この実施の形態が適用された反射
鏡の検査装置の概略的な一部断面構成を示している。

【００１５】この反射鏡の検査装置は、ベース１１上に
矢印Ｂ方向（副走査方向Ｂという。）に治具１２を移送
するコンベア１３が配置されている。コンベア１３は、
後述するサーボモータにより駆動される。

【００１６】治具１２上には、反射面（平面にかぎら
ず、円筒面、球面等の曲面でもよい。）を有するワーク
（被検査試料）である反射鏡１５が位置決め配置固定さ
れている。なお、ワークとしての反射鏡１５には、表面
が研磨された金属も含まれる。

【００１７】この実施の形態において、反射鏡１５は、
表面が平滑なガラスの一面（裏面側）に誘電体層薄膜や
金属薄膜が蒸着された略平板状のものを使用している。

【００１８】ベース１１上には、支柱２１が固定され、
この支柱２１に電荷転送手段からなるＣＣＤリニアセン
サ（ライン状撮像手段）２２を有するＣＣＤカメラ２３
が位置決め固定されている。ＣＣＤリニアセンサ２２
は、主走査方向（図１において、紙面と直交する方向）
Ａに約５０００個の光電変換画素（撮像素子、電荷転送
素子）が連結された構成を有している。

【００１９】ＣＣＤリニアセンサ２２の撮像面は、反射
鏡１５の反射面（上記のように反射鏡１５は、ガラスの
一面に反射膜としての薄膜が蒸着されており、そのガラ
スに欠陥のない場合、光は、そのガラスに入射して薄膜
で反射し、その反射光がガラスから出射するが、そのガ
ラス側から見た薄膜の面）１６に撮像レンズ２４を介し
て対向（平行）する構成になっている。

【００２０】図１に示す反射面１６の撮像状態におい
て、反射鏡１５の真上にＣＣＤカメラ２３の光軸が配置
されており、また、反射鏡１５の反射面１６に対して斜
め上方に配置された光源（平行光照射手段）２５から平
行光Ｌが照射されている。

【００２１】光源２５は、この実施の形態において、放
物面鏡を有する光源が採用され、ランプとしてはキセノ
ンランプが用いられて、いわゆる人工太陽光照明がなさ
れている。平行光Ｌの波長は３８０〜７６０ｎｍ（ナノ
メータ）の可視光である。また、平行光Ｌの色温度は５
０００〜６０００Ｋ（ケルビン）の範囲である。

【００２２】光源２５は、支柱２６の一端部に設けられ
た軸３４を基準に矢印方向Ｃに回動自在に構成されてお
り、支柱２６の他端部は、暗室２７の天井（上面ともい
う。）２８に固定されている。

【００２３】暗室２７は、内壁２９が黒色とされ、でき
るだけ光を反射しないように構成されている。なお、治
具１２は、平面的に見て、図２に示すように、ハッチン
グを施した中央部位（載置面ともいう。：この部位は黒
色である。）１２Ａを除く表面が艶消しの白色（白色部
位１２Ｂという。）とされている。載置面１２Ａは、反
射鏡１５が、複数の白色のボス１８で位置決め固定され
る部分である。暗室２７に配置される部材の表面は、こ
の白色部位１２Ｂと、光源２５の内側に配置されている
図示しないランプから出射する光を平行光Ｌとして反射
する反射面（上述の放物面鏡）以外の、全ての部材の表
面が、黒色になっていることが好ましい。

【００２４】図１において、暗室２７の上面２８には、
開口部３０が設けられ、この開口部３０には、エアクリ
ーナ（空気清浄機）３１の送風口３２が臨む。エアクリ
ーナ３１の送風口３２から送り出されるクリーンエア
（清浄空気）３３は、暗室２７内を下方に進み、暗室２
７内に漂う塵埃や、反射面１６に載っているごみととも
に、暗室２７の側面下部に設けられた外気との連通路３
５、３６から暗室２７の外に流れるように構成されてい
る。

【００２５】なお、連通路３５、３６は、それぞれ、反
射鏡１５が固定された治具１２の暗室２７内への挿入口
（搬入口）と排出口を兼用している。

【００２６】図３は、図１に示す反射鏡の検査装置の電
気的・制御的構成を示している。なお、図３において、
図１に示したものと同一のものには同一の符号を付けて
その詳細な説明を省略する。

【００２７】反射鏡１５を載せた治具１２がコンベア１
３により副走査方向Ｂに搬送される。この場合、コンベ
ア１３の副走査方向Ｂに沿って、所定箇所に複数個のリ
ミットスイッチ等の位置センサ（リミットスイッチとも
いう。）１９が配置され、その複数個の位置センサ１９
の出力信号がシーケンサ５１に供給されるようになって
いる。

【００２８】ＣＣＤカメラ２３を構成する信号処理・駆
動回路４７により、ＣＣＤリニアセンサ２２を構成する
光電変換画素群が走査されることで、反射面１６上の主
走査方向Ａ上の撮像が行われる。この場合、平行光Ｌが
反射面１６に対して斜め上方から照射されているので、
正反射光ＬＲは、ＣＣＤカメラ２３の視野範囲に入らな
い。したがって、正反射光ＬＲは受光されないが、反射
面１６上のキズ等によって乱反射した散乱光ＬＳがＣＣ
Ｄカメラ２３を構成するＣＣＤリニアセンサ２２により
受光（撮像）されることになる。この場合、ＣＣＤカメ
ラ２３も黒色とされており、また、このＣＣＤカメラ２
３には光が当たらないことから、同様に、反射鏡１５の
反射面１６に写ることがなく、ＣＣＤカメラ２３自体の
写り込みが発生することがない。

【００２９】信号処理・駆動回路４７は、コンピュータ
４１からの指示に基づき、ＣＣＤリニアセンサ２２の読
み出しタイミング、電子シャッタ時間等の各種タイミン
グを制御したり、ＣＣＤリニアセンサ２２を電気的に走
査して得られる光電変換信号を電気信号（アナログ電気
信号）Ｓ１に変換してＡ／Ｄ変換器４８に供給する。

【００３０】アナログ電気信号Ｓ１は、８ビットのＡ／
Ｄ変換器４８を通じてデジタル電気信号（繁雑さを避け
るためにアナログ電気信号とデジタル電気信号の符号を
同一の符号とする。）Ｓ１に変換され、コンピュータ４
１に接続されているメモリ（記憶手段）であるＨＤ（ハ
ードディスク）４２に主走査線毎にかつ光電変換画素毎
に必要に応じて記憶される。なお、電気信号Ｓ１は、光
電変換信号または光電変換電気信号ともいう。

【００３１】コンピュータ４１は、駆動・制御・処理・
判断（判定）手段等として機能し、周知のように、図示
しない中央処理装置（ＣＰＵ）と、このＣＰＵに接続さ
れ、制御プログラム・システムプログラム・ルックアッ
プテーブル等が予め書き込まれる読み出し専用メモリ
（ＲＯＭ）と、処理データを一時的に保存等するランダ
ムアクセスメモリ（ＲＡＭであり、書き込み・読み出し
メモリ）等を有している。

【００３２】コンピュータ４１には、それぞれ、入力手
段またはポインティングデバイスとして機能するキーボ
ード４３、マウス４４が接続されている。コンピュータ
４１には、また、文字画像等の出力手段として機能する
表示手段であるＣＲＴ等のディスプレイ４５と、同様に
文字画像等の出力手段として機能し、ハードコピーを出
力するプリンタ４６が接続されている。

【００３３】コンピュータ４１は、機械に関する駆動・
制御・処理・判断（判定）・記憶手段等として機能する
シーケンサ５１に接続されている。

【００３４】シーケンサ５１は、コンピュータ４１によ
るＣＣＤカメラ２３の撮像制御に同期してコンベア１３
の副走査方向Ｂへの搬送を制御するサーボモータ１４を
駆動するサーボアンプ５３を制御する。サーボモータ１
４には、その回転軸に位置検出手段としてのロータリー
エンコーダ５４が軸着され、そのロータリーエンコーダ
５４の出力パルス信号がシーケンサ５１に供給されるこ
とで、いわゆる位置制御のフィードバック制御が行われ
る。なお、コンベア１３は、例えば、サーボモータ１４
の回転軸に一体的に形成されるボールネジとこのボール
ネジに螺合して副走査方向Ｂに移動する部材とにより構
成される。

【００３５】シーケンサ５１には、コンピュータ４１に
よりワークである反射鏡１５が不良と判定されたときに
赤く明滅する警告灯５２が接続されている。

【００３６】また、シーケンサ５１には、制御電源５５
を通じて光源２５が接続されており、シーケンサ５１に
より光源２５から出射する平行光Ｌの明るさおよびその
照射方向の制御が行われる。

【００３７】次に、上記実施の形態の動作を図４に示す
フローチャートに基づいて説明する。

【００３８】まず、図示しない他の制御機械により、治
具１２の栽置面１２Ａ上にワークとしての反射鏡１５を
位置決め配置する（ステップＳ１）。

【００３９】前記他の制御機械から、位置決め配置を知
らせる信号がシーケンサ５１に供給されると、シーケン
サ５１は、サーボアンプ５３、サーボモータ１４を介し
てコンベア１３を高速で移送動作させ、反射鏡１５を載
せた治具１２を副走査方向Ｂに高速送りして挿入口３５
から暗室２７内に供給する（ステップＳ２）。

【００４０】次に、シーケンサ５１は、治具１２が図示
しない撮像開始位置の手前位置を表すリミットスイッチ
（ＬＳＷ）１９が配置されている位置に到達したとき
（ステップＳ３：ＹＥＳ）、そのリミットスイッチ１９
からの信号により撮像のための低速送りを開始するとと
ともに（ステップＳ４）、コンピュータ４１に電気的な
主走査開始信号（主走査開始パルスともいう。）ＳＰ
（図５Ａ参照）を送出する。

【００４１】この主走査開始信号ＳＰにより、図３に示
すように、ＣＣＤカメラ２３を構成するＣＣＤリニアセ
ンサ２２による主走査方向Ａの撮像が開始される。この
場合、主走査方向Ａの撮像が主走査線６１（図６参照）
に沿って主走査停止信号ＥＰ（図５Ａ参照）の発生まで
なされるとともに、コンベア１３により治具１２が副走
査方向Ｂに搬送され、かつ搬送される毎に主走査方向Ａ
の撮像が繰り返し行われることで、治具１２上の白色部
位１２Ｂを含む反射面１６の全面が２次元的に走査さ
れ、反射面１６の全面の映像（電気信号）がＣＣＤリニ
アセンサ２２を通じてコンピュータ４１のハードディス
ク４２に必要に応じて取り込まれる（ステップＳ５）。

【００４２】このとき、主走査線６１毎に、主走査開始
パルスＳＰ（図５Ａ参照）により、ＣＣＤリニアセンサ
２２を構成する各光電変換画素Ｐ（図５Ｅ参照）毎の光
電変換信号Ｓ１（図５Ｂ参照）がコンピュータ４１に供
給開始され、主走査停止パルスＥＰの発生時点まで供給
される。なお、コンピュータ４１に供給される光電変換
信号Ｓ１は、デジタル信号であるが、ここでは、理解の
容易化のために、アナログ信号により説明する。

【００４３】この実施の形態においては、Ａ／Ｄ変換器
４８の分解能である２５６階調を電圧レベル０Ｖと５Ｖ
に割り当てているので、図５Ｅに示す治具１２の白色部
位１２Ｂからの拡散光の光電変換レベルが５Ｖに、反射
面１６の光電変換レベルが０Ｖになるように、そのＡ／
Ｄ変換器４８のオフセットレベルと利得とが調整・処理
されている（ステップＳ６）。したがって、光電変換信
号Ｓ１のローレベルが０Ｖに、ハイレベルが５Ｖに対応
することになる。なお、Ａ／Ｄ変換器４８のオフセット
レベルと利得の調整はコンピュータ４１により自動的に
行うことができる。

【００４４】次に、この光電変換信号Ｓ１に基づく判定
処理が行われる（ステップＳ７）。

【００４５】この場合、図５Ｂに示すように、主走査区
間ＭＳ（図６も参照）の反射面１６に対応する部分にキ
ズ６２（図５Ｅ参照）を原因とする散乱光ＬＳによるキ
ズ信号ＳＣ（図５Ｄ参照）が存在しない場合には、その
主走査区間ＭＳでは反射面１６は正常と判定される。

【００４６】なお、図５Ｂ〜図５Ｄに示す光電変換信号
Ｓ１のうち、治具１２の両側の白色部位１２Ｂの拡散光
に基づく５Ｖ部分の方形波信号は、コンピュータ４１に
よる判定処理の際に、ＣＣＤリニアセンサ２２の光電変
換画素Ｐの５Ｖ発生部分に対応する一定箇数の光電変換
信号Ｓ１を取り込まないようにプログラムしているの
で、判定外の範囲の信号となる。

【００４７】また、図５Ｃに示すように、コンピュータ
４１に予め設定されている閾値レベルＴＬであるＴＬ＝
１．５Ｖ（２５６階調のレベルでは、「７７」）以下の
キズ６２を原因とする散乱光ＬＳによるキズ信号ＳＢが
存在しても、その主走査区間ＭＳでの反射面１６も正常
と判定される。

【００４８】しかし、図５Ｄに示すように、キズ６２を
原因とする散乱光ＬＳによるキズ信号ＳＢのレベルが、
閾値レベルＴＬを超えるレベルである場合、その主走査
区間ＭＳでの反射面１６は不良と判定される。

【００４９】不良と判定された場合、コンピュータ４１
からシーケンサ５１に対して不良判定信号が供給され
る。このとき、シーケンサ５１は警告灯５２を明滅させ
るとともに、コンベア１３を高速送りに切り替えて不良
と判定された反射鏡１５の排出口３６への高速での払い
出しを行う（ステップＳ９）。

【００５０】反射面１６の全面が正常と判定された反射
鏡１５は、治具１２が撮像停止位置を表すリミットスイ
ッチ１９が配置されている位置に到達したとき（ステッ
プＳ８：ＹＥＳ）、高速で払い出しが行われる（ステッ
プＳ９）。

【００５１】なお、反射鏡１５に存在するキズ６２とし
ては、反射鏡１５の表面ガラスの欠け、表面ガラスの裏
側に蒸着されている金属薄膜の欠け等が存在するが、薄
膜の欠けがあった場合には、いわゆるピンホールとな
り、その反射鏡１５の裏面対向部材、すなわち、治具１
２の表面が白色であると、製品としては合格となる小さ
なピンホールであっても、その白色面（治具１２の表
面）が撮像されることにより、光電変換電気信号Ｓ１の
レベルが略５Ｖに近いキズ信号ＳＣが表れて不合格とな
ってしまう。しかし、この実施の形態では、黒色の載置
面１２Ａとしているので、小さなピンホールは、そのレ
ベルが１．５Ｖ以下のキズ信号ＳＢとなり合格と判定す
ることができる。

【００５２】一方、大きなピンホールの場合には、ガラ
スの厚みによるガラス側壁の乱反射により略５Ｖに近い
キズ信号ＳＣが表れて不合格と判定することができる。
このように、載置面１２Ａを黒色としておくことによ
り、製品仕様に応じた品質レベルでの判定を行うことが
できる。

【００５３】このように上述の実施の形態によれば、載
置面１２Ａ以外の表面が白色の治具１２上に配置した反
射鏡１５を暗室２７内に配置し、反射鏡１５と治具１２
の一部を平行光Ｌで照射する光源２５を斜め上方に配置
している。また、反射鏡１５の反射面１６に対向して暗
室２７内に、主走査区間ＭＳが反射鏡１５と治具１２の
表面の一部を撮像できるように配置されたＣＣＤカメラ
２３を配置固定している。このようにすれば、ＣＣＤカ
メラ２３を構成するＣＣＤリニアセンサ２２により、反
射面１６と反射面１６の両側面（端面）側に存在する白
色部位１２Ｂとを同時に撮像することができる。この場
合、白色部位１２Ｂからの拡散光の光電変換電気信号Ｓ
１がハイレベルの５Ｖとなり、反射面１６の正常部位で
の光電変換信号Ｓ１がローレベルの０Ｖとなるように、
Ａ／Ｄ変換器４８のオフセットと利得とを調整してお
く。

【００５４】そして、コンピュータ４１を２入力比較器
（２入力比較手段）として機能させ、一方の入力端子に
は、不良の判定レベル（合格の判定レベル）である閾値
レベル（合否判定レベル）ＴＬを設定し、他方の入力端
子には前記光電変換信号Ｓ１が供給されるように構成す
る。

【００５５】反射面１６にキズ６２が存在している場
合、そのキズ６２からの散乱光ＬＳがＣＣＤリニアセン
サ２２により受光される。その散乱光ＬＳの光電変換信
号Ｓ１のレベルと前記閾値レベルＴＬとを比較すること
により、反射面１６、すなわち反射鏡１５の合否（良
否）の判定を自動的に行うことができる。

【００５６】なお、他の実施の形態として、図７に示す
ように、反射面１６を平面視的に見たとき、反射面１６
に斜め上方から平行光Ｌを照射する光源２５と直交する
位置に別の光源２５Ａを配置し、反射面１６に対して平
行光Ｌを相互に直交する斜め上方向から照射するように
構成し、さらに、その平行光Ｌの反射面１６で正反射し
た反射光（平行光）ＬＲに対して、反射面１６が直交平
面となる正反射光ＬＲの反射用の反射鏡７１、７２を配
置する構成とすることもできる。

【００５７】この他の実施の形態によれば、図８に示す
ように、反射鏡１５上に斜め上方の相互に直交する４位
置から平行光Ｌ、ＬＲが照射されることになり、換言す
れば、平行光照射手段が実質的に４箇になり、反射面１
６、この場合、ガラス上のキズ６２の形状・方向がどの
ような形状・方向であっても、それらキズ６２の形状・
方向とは無関係に、当該キズ６２、すなわち欠陥を検出
するための散乱光ＬＳを発生させることができる。な
お、反射鏡７１、７２が存在しないで、平面的に相互に
直交する方向に配置した光源２５、２５Ａのみの場合に
おいても、キズ６２の形状・方向とはほとんど無関係に
当該キズ６２を検出することができる。

【００５８】また、この発明は上述の実施の形態に限ら
ず、この発明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採
り得ることはもちろんである。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、内壁が黒色とされた暗室内に反射面を有するワーク
を配置し、ワークの反射面に斜め上方から平行光を照射
し、主走査方向に光電変換画素が連結されたリニアセン
サを反射面に対向して配置して、前記反射面を撮像する
ようにしているので、リニアセンサから反射面を見たと
き、反射面にキズ等が存在しない場合には黒色に見え撮
像されない。また、リニアセンサは暗室内に配置されて
いるので、反射面に写ることもなく、リニアセンサの写
り込みも発生しない。結局、リニアセンサには、反射面
からのキズ等による散乱光のみが入射する。したがっ
て、散乱光の光電変換電気信号のレベルによりワークの
欠陥の程度を安定、かつ正確に判定することができると
いう効果が達成される。

【００６０】この場合、前記暗室の上面から前記暗室内
に清浄空気を送り出し、前記暗室の側面下部に前記清浄
空気の前記暗室外への連通路を設けることで、反射面上
のごみを払拭できるとともに、暗室内の塵埃による散乱
光にもとづく誤検出のおそれが回避されるという効果が
達成される。

【００６１】また、反射面に斜め上方から平行光を照射
する平行光照射手段を、反射面を平面視的に見たとき、
相互に直交する位置に配置することで、前記反射面上に
斜め上方の直交する位置から平行光が照射されることに
なり、前記反射面上のキズの形状・方向が種々の形状・
方向であっても、それらキズの形状・方向とは無関係
に、当該キズ、すなわち欠陥を検出することができると
いう効果が達成される。もちろん、平行光照射手段は、
さらにその数を多くしてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態の主に機械的構成を示
す一部断面図である。

【図２】反射鏡が載せられる治具の配置面（栽置面）の
構成の説明に供される平面図である。

【図３】この発明の一実施の形態の主に電気的・制御的
構成を示すブロック図である。

【図４】図１例、図３例の動作説明に供されるフローチ
ャートである。

【図５】反射鏡の良否判定処理に供される説明図であっ
て、Ａは、主走査開始停止信号の波形説明図、Ｂは、反
射面が正常な場合の光電変換電気信号の波形説明図、Ｃ
は、反射面に不良とは判定されないキズが存在する場合
の光電変換電気信号の波形説明図、Ｄは、反射面が不良
と判定される場合の光電変換電気信号の波形説明図、Ｅ
は、主走査区間等の説明に供される説明図である。

【図６】治具上の反射鏡をリニアセンサで撮像する際の
説明に供される斜視図である。

【図７】治具に載せられた反射鏡に直交する４方向から
平行光を照射する他の実施の形態の構成説明に供される
平面視的図である。

【図８】種々の形状のキズとその散乱光の説明に供され
る説明図である。

【図９】従来の技術の構成を示す線図である。

【符号の説明】

１２ 治具 １３ コンベア １４ サーボモータ １５ 反射鏡 １６ 反射面 ２２ ＣＣＤリニ
アセンサ ２３ ＣＣＤカメラ ２４ レンズ ２５、２５Ａ 光源 ２７ 暗室 ３１ エアクリーナ ４１ コンピュー
タ ５１ シーケンサ Ａ 主走査方向 Ｂ 副走査方向 Ｌ 平行光 ＬＳ 散乱光

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】内壁が黒色とされた暗室内に反射面を有す
   るワークを配置し、 前記反射面に斜め上方から平行光を照射し、 主走査方向に光電変換画素が連結されたリニアセンサを
   前記反射面に対向して配置し、 前記反射面に対して前記リニアセンサを電気的に主走査
   させるとともに、前記リニアセンサを前記主走査方向と
   略直交する副走査方向に相対的に移動させて、前記反射
   面を２次元的に走査し、前記反射面からの散乱光を受光
   して電気信号に変換し、この電気信号のレベルにより前
   記反射面を有するワークの欠陥を判定することを特徴と
   する反射面を有するワークの検査方法。
2. 【請求項２】前記暗室の上面から前記暗室内に清浄空気
   を送り出し、前記暗室の側面下部に前記清浄空気の前記
   暗室外への連通路を設けたことを特徴とする請求項１記
   載の反射面を有するワークの検査方法。
3. 【請求項３】内壁が黒色とされ、反射面を有するワーク
   が配置される暗室と、 前記反射面に斜め上方から平行光を照射する平行光照射
   手段と、 前記反射面に対向して配置され、主走査方向に光電変換
   画素が連結されたリニアセンサと、 前記反射面に対して前記リニアセンサを前記主走査方向
   と略直交する副走査方向に相対的に移動させる移動手段
   と、 前記リニアセンサに接続される判定手段とを有し、 前記リニアセンサが前記反射面上を電気的に主走査する
   とともに、前記移動手段が前記リニアセンサを前記反射
   面に対して副走査方向に相対的に移動させることで前記
   リニアセンサにより前記反射面の全面を２次元的に走査
   し、前記反射面からの散乱光を前記リニアセンサにより
   受光して電気信号に変換し、前記判定手段が前記電気信
   号のレベルと予め設定したレベルとを比較して前記反射
   面を有するワークの欠陥を判定することを特徴とする反
   射面を有するワークの検査装置。
4. 【請求項４】前記反射面に斜め上方から平行光を照射す
   る平行光照射手段は、第１および第２の平行光照射手段
   からなり、前記第１および第２の平行光照射手段が、前
   記反射面を平面視的に見たとき、相互に直交する位置に
   配置されることを特徴とする請求項３記載の反射面を有
   するワークの検査装置。