JPH09241254A - アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体 - Google Patents
アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体Info
- Publication number
- JPH09241254A JPH09241254A JP8051593A JP5159396A JPH09241254A JP H09241254 A JPH09241254 A JP H09241254A JP 8051593 A JP8051593 A JP 8051593A JP 5159396 A JP5159396 A JP 5159396A JP H09241254 A JPH09241254 A JP H09241254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mmol
- photochromic material
- ring
- recording medium
- amorphous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 成膜時にバインダー樹脂を必要としないフォ
トクロミック材料を得る。 【解決手段】 アダマンチル基置換ヘテロ５員環を少な
くとも１つヘテロアリール部にもつジヘテロアリールエ
テン系化合物からなるアモルファス性フォトクロミック
材料。
トクロミック材料を得る。 【解決手段】 アダマンチル基置換ヘテロ５員環を少な
くとも１つヘテロアリール部にもつジヘテロアリールエ
テン系化合物からなるアモルファス性フォトクロミック
材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はアモルファスフォト
クロミック材料及びそれを用いた光記録媒体に関する。
クロミック材料及びそれを用いた光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】フォトクロミック材料とは、光の作用に
より化学結合状態の異なる２つの異性体を可逆的に生成
する分子または分子集合体を含む材料である。この際、
吸収スペクトルあるいは屈折率が変化する。この物性変
化を光記録に応用することが研究されている。従って吸
光度又は屈折率をいかに大きく変化させるかが研究の焦
点となっている。
より化学結合状態の異なる２つの異性体を可逆的に生成
する分子または分子集合体を含む材料である。この際、
吸収スペクトルあるいは屈折率が変化する。この物性変
化を光記録に応用することが研究されている。従って吸
光度又は屈折率をいかに大きく変化させるかが研究の焦
点となっている。
【０００３】かかる吸光度あるいは屈折率を大きく変化
させるためには２つの方法が考えられる。１つは分子自
体の吸光係数や屈折率を上げることであり、もう１つは
分子の存在密度を上げることである。従来のフォトクロ
ミック材料はそれ単独で膜を形成しようとすると、微細
な結晶状態となり、いわば基板上に粉がふいたような状
態になってしまうため、いずれもフォトクロミック性を
有する分子を固体高分子媒体中に分散させたものとして
使用されていた。このため、フォトクロミック性を有す
る分子の濃度を挙げることが困難であり、光吸収や屈折
率の十分な変化が得られにくいという問題があった。
させるためには２つの方法が考えられる。１つは分子自
体の吸光係数や屈折率を上げることであり、もう１つは
分子の存在密度を上げることである。従来のフォトクロ
ミック材料はそれ単独で膜を形成しようとすると、微細
な結晶状態となり、いわば基板上に粉がふいたような状
態になってしまうため、いずれもフォトクロミック性を
有する分子を固体高分子媒体中に分散させたものとして
使用されていた。このため、フォトクロミック性を有す
る分子の濃度を挙げることが困難であり、光吸収や屈折
率の十分な変化が得られにくいという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情に鑑みなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、高分子媒体を用いずともフォトクロミック反応す
る分子を得ることであり、さらにはかかるフォトクロミ
ック性を有する分子を用いた光記録媒体を提供すること
にある。
事情に鑑みなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、高分子媒体を用いずともフォトクロミック反応す
る分子を得ることであり、さらにはかかるフォトクロミ
ック性を有する分子を用いた光記録媒体を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者は、各種
物質を検討した結果、特定の置換基を有するフォトクロ
ミック性を有する分子が、アモルファス性を示し、その
結果高分子媒体を使用せずに薄膜を形成でき、フォトク
ロミック性を示すことを見出し本発明に到達した。
物質を検討した結果、特定の置換基を有するフォトクロ
ミック性を有する分子が、アモルファス性を示し、その
結果高分子媒体を使用せずに薄膜を形成でき、フォトク
ロミック性を示すことを見出し本発明に到達した。
【０００６】すなわち本発明の要旨は、アダマンチル基
置換ヘテロ５員環をヘテロアリール部にもつジヘテロア
リールエテン系化合物からなるアモルファスフォトクロ
ミック材料、より好ましくは該ヘテロ５員環がピロー
ル、チオフェン、フラン、セレノフェンのいずれかであ
る前述のフォトクロミック材料、さらに好ましくは該ジ
ヘテロアリールエテン系化合物が下記一般式（Ｉ）で表
される化合物である前述のフォトクロミック材料、
置換ヘテロ５員環をヘテロアリール部にもつジヘテロア
リールエテン系化合物からなるアモルファスフォトクロ
ミック材料、より好ましくは該ヘテロ５員環がピロー
ル、チオフェン、フラン、セレノフェンのいずれかであ
る前述のフォトクロミック材料、さらに好ましくは該ジ
ヘテロアリールエテン系化合物が下記一般式（Ｉ）で表
される化合物である前述のフォトクロミック材料、
【０００７】
【化２】
【０００８】（式中、Ｒ1はアルキル基又はアルコキシ
基を示し、Ｒ2は、アルキル基もしくは水素原子を示
す。）及び、光の照射により情報の記録、読み取りがで
きる記録部を設けた光記録媒体であって、記録部に前述
のアモルファスフォトクロミック材料が含まれることを
特徴とする光記録媒体、に存する。
基を示し、Ｒ2は、アルキル基もしくは水素原子を示
す。）及び、光の照射により情報の記録、読み取りがで
きる記録部を設けた光記録媒体であって、記録部に前述
のアモルファスフォトクロミック材料が含まれることを
特徴とする光記録媒体、に存する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明はアダマンチル基置換ヘテロ５員環をヘテロアリ
ール部にもつジヘテロアリールエテン系化合物が、アモ
ルファス状態でフォトクロミック性を示すことを見出し
たものである。このようなもののうち、好ましいもの
は、ヘテロ５員環がピロール、チオフェン、フラン、セ
レノフェンのいずれかであるものである。このようなも
のとして具体的には下記一般式で表される化合物が挙げ
られる。
本発明はアダマンチル基置換ヘテロ５員環をヘテロアリ
ール部にもつジヘテロアリールエテン系化合物が、アモ
ルファス状態でフォトクロミック性を示すことを見出し
たものである。このようなもののうち、好ましいもの
は、ヘテロ５員環がピロール、チオフェン、フラン、セ
レノフェンのいずれかであるものである。このようなも
のとして具体的には下記一般式で表される化合物が挙げ
られる。
【００１０】
【化３】
【００１１】（式中、Ｒ1はアルキル基又はアルコキシ
基を示し、Ｒ2は、アルキル基もしくは水素原子を示
す。） Ｒ1のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基などの低級アルキル基が挙げら
れ、好ましくはメチル基である。Ｒ1のアルコキシ基と
しては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの
低級アルキル基が挙げられ、好ましくはメトキシ基であ
る。Ｒ2のアルキルとしては、直鎖状または分岐状のア
ルキル基のいずれでもよく、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基などの低級アルキル
基が挙げられ、特に好ましくはメチル基である。
基を示し、Ｒ2は、アルキル基もしくは水素原子を示
す。） Ｒ1のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基などの低級アルキル基が挙げら
れ、好ましくはメチル基である。Ｒ1のアルコキシ基と
しては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの
低級アルキル基が挙げられ、好ましくはメトキシ基であ
る。Ｒ2のアルキルとしては、直鎖状または分岐状のア
ルキル基のいずれでもよく、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基などの低級アルキル
基が挙げられ、特に好ましくはメチル基である。
【００１２】本発明のアダマンチル基置換ヘテロ５員環
をヘテロアリール部にもつジヘテロアリールエテン系化
合物は、アモルファス状態でフォトクロミック性を示
す。従ってその分子の存在密度を高めるため、高分子媒
体を使用せずに膜として形成することが好ましい。上記
化合物は、トルエン等の溶媒に溶解し、塗布することに
より、膜として形成することができる。塗布方法として
は、通常用いられる方法が使用でき、例えばバーコー
ト、ロールコート、スピンコート等をもちいることがで
きるが、均一な薄膜が容易に得られる点から好ましくは
スピンコートである。
をヘテロアリール部にもつジヘテロアリールエテン系化
合物は、アモルファス状態でフォトクロミック性を示
す。従ってその分子の存在密度を高めるため、高分子媒
体を使用せずに膜として形成することが好ましい。上記
化合物は、トルエン等の溶媒に溶解し、塗布することに
より、膜として形成することができる。塗布方法として
は、通常用いられる方法が使用でき、例えばバーコー
ト、ロールコート、スピンコート等をもちいることがで
きるが、均一な薄膜が容易に得られる点から好ましくは
スピンコートである。
【００１３】このようにして得られた薄膜は、アモルフ
ァス状態となり、又、ほぼ１００％フォトクロミック材
料の膜となる。このような膜を光記録媒体として用いる
ことも可能である。
ァス状態となり、又、ほぼ１００％フォトクロミック材
料の膜となる。このような膜を光記録媒体として用いる
ことも可能である。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を越えない限り実施例によ
り限定されるものではない。 実施例１ アダマンチル基置換ジアリールエテンの合成 ２、４−ジメチルチオフェンの合成：
するが、本発明は、その要旨を越えない限り実施例によ
り限定されるものではない。 実施例１ アダマンチル基置換ジアリールエテンの合成 ２、４−ジメチルチオフェンの合成：
【００１５】
【化４】
【００１６】窒素置換したフラスコに３−メチルチオフ
ェン２５ｇ（２６０ｍｍｏｌ）、エーテル２００ｍｌ、
テトラメチルエチレンジアミン（ＴＥＭＥＤ）を入れ、
−６０℃まで冷却した。これにｎ−ブチルリチウム１７
５ｍｌ（２９０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で３時間撹拌
した。再度−６０℃まで冷却後、ヨウ化メチル１８ｍｌ
（２９０ｍｍｏｌ）を滴下し、ゆっくり温度を上げなが
ら終夜撹拌した。冷水を加えた後、エーテル抽出した。
希塩酸、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。エーテルを除去し、減圧蒸留（５８ｍｍＨｇ，５８
〜６３℃）により精製した。
ェン２５ｇ（２６０ｍｍｏｌ）、エーテル２００ｍｌ、
テトラメチルエチレンジアミン（ＴＥＭＥＤ）を入れ、
−６０℃まで冷却した。これにｎ−ブチルリチウム１７
５ｍｌ（２９０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で３時間撹拌
した。再度−６０℃まで冷却後、ヨウ化メチル１８ｍｌ
（２９０ｍｍｏｌ）を滴下し、ゆっくり温度を上げなが
ら終夜撹拌した。冷水を加えた後、エーテル抽出した。
希塩酸、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。エーテルを除去し、減圧蒸留（５８ｍｍＨｇ，５８
〜６３℃）により精製した。
【００１７】ＮＭＲにより、２、３−ジメチルチオフェ
ンと２、４−ジメチルチオフェンとの生成比率が１：４
であることを確認した。収量２．２ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、収率は７７％であった。 ２−（２−ヒドロキシ−２−アダマンチル）−３、５−
ジメチルチオフェンの合成
ンと２、４−ジメチルチオフェンとの生成比率が１：４
であることを確認した。収量２．２ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、収率は７７％であった。 ２−（２−ヒドロキシ−２−アダマンチル）−３、５−
ジメチルチオフェンの合成
【００１８】
【化５】
【００１９】窒素置換したフラスコに、２，４−ジメチ
ルチオフェン１．０ｇ（９．０ｍｍｏｌ）とエーテル２
５ｍｌを入れ、−３０℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチ
ウムを滴下後、１時間半還流撹拌した。再度−３０℃ま
で冷却後、２−アダマンタノンのエーテル溶液を滴下
し、室温で３時間撹拌した。水を加えた後エーテルで抽
出した。エーテル層を水で洗浄し無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。収量は２．３ｇであった。 ２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチルチオフェ
ンの合成
ルチオフェン１．０ｇ（９．０ｍｍｏｌ）とエーテル２
５ｍｌを入れ、−３０℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチ
ウムを滴下後、１時間半還流撹拌した。再度−３０℃ま
で冷却後、２−アダマンタノンのエーテル溶液を滴下
し、室温で３時間撹拌した。水を加えた後エーテルで抽
出した。エーテル層を水で洗浄し無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。収量は２．３ｇであった。 ２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチルチオフェ
ンの合成
【００２０】
【化６】
【００２１】フラスコにＬｉＡｌＨ4６５０ｍｇ（１
７．１ｍｍｏｌ）を入れて窒素置換後、ＡｌＣｌ3２４
ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を加えた。室温
で３０分撹拌後、２−（２−ヒドロキシ−２−アダマン
チル）−３、５−ジメチルチオフェン１．０ｇ（３．８
ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を加え、室温で終夜撹拌し
た。酢酸エチル水溶液で過剰のＬｉＡｌＨ4を分解し、
エーテル抽出した。エーテル層を希塩酸水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた粗生成物をカ
ラムクロマトグラフィ−で精製し、ＮＭＲにより２−
（２−アダマンチル）−３、５−ジメチルチオフェンの
生成を確認した。 ２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチル−４−ヨ
ードチオフェンの合成
７．１ｍｍｏｌ）を入れて窒素置換後、ＡｌＣｌ3２４
ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を加えた。室温
で３０分撹拌後、２−（２−ヒドロキシ−２−アダマン
チル）−３、５−ジメチルチオフェン１．０ｇ（３．８
ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を加え、室温で終夜撹拌し
た。酢酸エチル水溶液で過剰のＬｉＡｌＨ4を分解し、
エーテル抽出した。エーテル層を希塩酸水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた粗生成物をカ
ラムクロマトグラフィ−で精製し、ＮＭＲにより２−
（２−アダマンチル）−３、５−ジメチルチオフェンの
生成を確認した。 ２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチル−４−ヨ
ードチオフェンの合成
【００２２】
【化７】
【００２３】フラスコに、２−（２−アダマンチル）−
３、５−ジメチルチオフェン１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、
ベンゼン５０ｍｌを加えてよく撹拌した。ＨｇＯ９５０
ｍｇ（４．４ｍｍｏｌ）、ヨウ素１．２ｇ（４．４ｍｍ
ｏｌ）をそれぞれ加えて、室温で３時間撹拌した。Ｈｇ
Ｏを濾過後、エーテルで洗い込み、チオ硫酸ナトリウム
水溶液、水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、カラムクロマトグラフィー、再結晶により精製し
た。
３、５−ジメチルチオフェン１ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、
ベンゼン５０ｍｌを加えてよく撹拌した。ＨｇＯ９５０
ｍｇ（４．４ｍｍｏｌ）、ヨウ素１．２ｇ（４．４ｍｍ
ｏｌ）をそれぞれ加えて、室温で３時間撹拌した。Ｈｇ
Ｏを濾過後、エーテルで洗い込み、チオ硫酸ナトリウム
水溶液、水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、カラムクロマトグラフィー、再結晶により精製し
た。
【００２４】ＮＭＲ、マススペクトル（ＭＳ）、元素分
析により２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチル
−４−ヨードチオフェンが生成したことを確認した。 ｍ．ｐ． １０６．５〜１０８．８℃ 収量 １．３ｇ（３．５ｍｍｏｌ） 収率８７％ ２−メチル−１−ベンゾチオフェンの合成
析により２−（２−アダマンチル）−３、５−ジメチル
−４−ヨードチオフェンが生成したことを確認した。 ｍ．ｐ． １０６．５〜１０８．８℃ 収量 １．３ｇ（３．５ｍｍｏｌ） 収率８７％ ２−メチル−１−ベンゾチオフェンの合成
【００２５】
【化８】
【００２６】窒素置換したフラスコに、１−ベンゾチオ
フェン５．０ｍｇ（３７ｍｍｏｌ）、エーテル４０ｍ
ｌ、ＴＥＭＥＤ５．２ｍｌを入れ、−３０℃まで冷却し
た。ｎ−ブチルリチウム２６ｍｌ（４１ｍｍｏｌ）を滴
下後、室温で３時間撹拌した。−３０℃まで冷却後、ヨ
ウ化メチルを滴下し、徐々に温度を上げながら終夜撹拌
した。水を加えた後、エーテルで抽出した。エーテル層
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、カ
ラムクロマトグラフィにより精製した。
フェン５．０ｍｇ（３７ｍｍｏｌ）、エーテル４０ｍ
ｌ、ＴＥＭＥＤ５．２ｍｌを入れ、−３０℃まで冷却し
た。ｎ−ブチルリチウム２６ｍｌ（４１ｍｍｏｌ）を滴
下後、室温で３時間撹拌した。−３０℃まで冷却後、ヨ
ウ化メチルを滴下し、徐々に温度を上げながら終夜撹拌
した。水を加えた後、エーテルで抽出した。エーテル層
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、カ
ラムクロマトグラフィにより精製した。
【００２７】ＮＭＲにより２−メチル−１−ベンゾチオ
フェンの生成を確認した。 収量 ５．３ｇ（３６ｍｍｏｌ）、収率 ９７％ ２−メチル−３−ヨードベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
フェンの生成を確認した。 収量 ５．３ｇ（３６ｍｍｏｌ）、収率 ９７％ ２−メチル−３−ヨードベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
【００２８】
【化９】
【００２９】フラスコに、２−メチル−１−ベンゾチオ
フェン３．０ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、ベンゼン１５０ｍ
ｌを入れて撹拌し、ＨｇＯ４．３ｍｇ（２２ｍｍｏ
ｌ）、ヨウ素４．３ｇ（２２ｍｏｌ）を加えた。室温で
３時間撹拌後、ＨｇＯを濾過した。エーテルで洗い込み
をし、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、エ
ーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、カラムクロ
マトグラフィーにより精製した。
フェン３．０ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、ベンゼン１５０ｍ
ｌを入れて撹拌し、ＨｇＯ４．３ｍｇ（２２ｍｍｏ
ｌ）、ヨウ素４．３ｇ（２２ｍｏｌ）を加えた。室温で
３時間撹拌後、ＨｇＯを濾過した。エーテルで洗い込み
をし、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、エ
ーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、カラムクロ
マトグラフィーにより精製した。
【００３０】ＮＭＲにより目的物の生成を確認した。 収量 ５．０ｇ（１８ｍｍｏｌ）、収率 ９０％ ２−メチル−３−（ペルフルオロシクロペンテン−１−
イル）ベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
イル）ベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
【００３１】
【化１０】
【００３２】フラスコに２−メチル−３−ヨ−ドベンゾ
［ｂ］チオフェン２．７４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を入れて
窒素置換した。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を加えて
−６０℃まで冷却し、ｎ−ブチルリチウム７．０ｍｌ
（１１ｍｍｏｌ）を滴下した。−６０℃で保持して１時
間撹拌後、ペルフルオロシクロペンテン１．９ｍｌ（１
５ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に温度を上げながら終夜撹
拌した後、エーテルで抽出し、水で洗浄した。エーテル
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。カラムクロマト
グラフィーにより精製した。ＮＭＲ、ＭＳ、元素分析に
より目的物の生成を確認した。
［ｂ］チオフェン２．７４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を入れて
窒素置換した。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を加えて
−６０℃まで冷却し、ｎ−ブチルリチウム７．０ｍｌ
（１１ｍｍｏｌ）を滴下した。−６０℃で保持して１時
間撹拌後、ペルフルオロシクロペンテン１．９ｍｌ（１
５ｍｍｏｌ）を加えた。徐々に温度を上げながら終夜撹
拌した後、エーテルで抽出し、水で洗浄した。エーテル
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。カラムクロマト
グラフィーにより精製した。ＮＭＲ、ＭＳ、元素分析に
より目的物の生成を確認した。
【００３３】ｍ．ｐ． ７０．５〜７２．６℃ 収量 ２．７ｇ（８．０ｍｍｏｌ）、収率 ８０％ １−［２−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イル］
−２−［２−（２−アダマンチル）−３，５−ジメチル
チオフェン−４−イル］ペルフルオロシクロペンテンの
合成
−２−［２−（２−アダマンチル）−３，５−ジメチル
チオフェン−４−イル］ペルフルオロシクロペンテンの
合成
【００３４】
【化１１】
【００３５】フラスコに、２−（２−アダマンチル）−
３、５−ジメチル−４−ヨードチオフェン３７２ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）を入れて窒素置換後、ＴＨＦ１５ｍ
ｌを加え、−６０℃以下に保持した。ｎ−ブチルリチウ
ム０．７ｍｌ（１．１ｍｍｏｌ）を滴下して１時間撹拌
後、２−メチル−３−（ペルフルオロシクロペンテン−
１−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン２３．７４ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を滴下した。徐々に温
度を上げながら終夜撹拌した。エーテルで抽出後、水で
洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。カラムクロマトグラフィー、再結晶により精製し
た。目的物の生成を元素分析により確認した。
３、５−ジメチル−４−ヨードチオフェン３７２ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）を入れて窒素置換後、ＴＨＦ１５ｍ
ｌを加え、−６０℃以下に保持した。ｎ−ブチルリチウ
ム０．７ｍｌ（１．１ｍｍｏｌ）を滴下して１時間撹拌
後、２−メチル−３−（ペルフルオロシクロペンテン−
１−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン２３．７４ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を滴下した。徐々に温
度を上げながら終夜撹拌した。エーテルで抽出後、水で
洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。カラムクロマトグラフィー、再結晶により精製し
た。目的物の生成を元素分析により確認した。
【００３６】
【表１】 ｍ．ｐ １５７．０〜１５８．７℃ 収量 ２４２ｍｇ（０．４３ｍｍｏｌ）、収率 ４３％
【００３７】このようにして得られたアダマンチル置換
ヘテロ５員環をヘテロアリール部に有するジヘテロアリ
ールエテン系化合物をトルエンに溶解し、スピンコータ
ーにて塗布した。塗布膜は、膜厚２００ｎｍの安定した
アモルファス状態となった。
ヘテロ５員環をヘテロアリール部に有するジヘテロアリ
ールエテン系化合物をトルエンに溶解し、スピンコータ
ーにて塗布した。塗布膜は、膜厚２００ｎｍの安定した
アモルファス状態となった。
【００３８】実施例２ 実施例１により得られたアモルファス薄膜のフォトクロ
ミック反応等を調べた。閉環体のλｍａｘはヘキサン溶
液で５３５ｎｍであり、アモルファス状態で５３８ｎｍ
であった。量子収率は次の通り。
ミック反応等を調べた。閉環体のλｍａｘはヘキサン溶
液で５３５ｎｍであり、アモルファス状態で５３８ｎｍ
であった。量子収率は次の通り。
【００３９】
【表２】
【００４０】実施例３ アダマンチル基置換ジアリール
エテンの合成 ２−ヨードベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
エテンの合成 ２−ヨードベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
【００４１】
【化１２】
【００４２】窒素置換したフラスコに、２−メチルベン
ゾ［ｂ］チオフェン１．３４ｇ（１０ｍｍｏｌ）に、エ
ーテル２５ｍｌを入れて、−３０℃まで冷却した。ｎ−
ブチルリチウム７．０ｍｌ（１１ｍｍｏｌ）を滴下後、
室温で１時間撹拌した。再度−３０℃まで冷却した後、
ヨウ素３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を滴下
し、徐々に温度を上げながら終夜撹拌した。水を加えて
から、エーテルで抽出し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄した。エーテル層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、カラムクロマトグラフィにより精製した。
ゾ［ｂ］チオフェン１．３４ｇ（１０ｍｍｏｌ）に、エ
ーテル２５ｍｌを入れて、−３０℃まで冷却した。ｎ−
ブチルリチウム７．０ｍｌ（１１ｍｍｏｌ）を滴下後、
室温で１時間撹拌した。再度−３０℃まで冷却した後、
ヨウ素３．０ｇ（１２ｍｍｏｌ）のエーテル溶液を滴下
し、徐々に温度を上げながら終夜撹拌した。水を加えて
から、エーテルで抽出し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄した。エーテル層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、カラムクロマトグラフィにより精製した。
【００４３】ＮＭＲで目的物の生成を確認した。 収量 ２．０ｇ（７．６ｍｍｏｌ）、収率 ７６％ ２−メトキシベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
【００４４】
【化１３】
【００４５】２−ヨードベンゾ［ｂ］チオフェン１．０
ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を入れたフラスコに、メタノール
３０ｍｌを加えて、−３０℃まで冷却した。窒素気流下
で金属ナトリウム６１２ｍｇ（２６．６ｍｍｏｌ）を少
しずつ加えた。完全にナトリウムメトキシドとなった
後、室温でＣｒＯの３１６ｍｇ（４．６ｍｍｏｌ）とヨ
ウ化カリウム１３ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）を加えて、
６時間還流撹拌した。ＣｒＯを濾過後、メタノールを除
き、希硫酸でナトリウムメトキシドを分解した。クロロ
ホルムで抽出後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。カラムクロマトグラフィにより精製した。
ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を入れたフラスコに、メタノール
３０ｍｌを加えて、−３０℃まで冷却した。窒素気流下
で金属ナトリウム６１２ｍｇ（２６．６ｍｍｏｌ）を少
しずつ加えた。完全にナトリウムメトキシドとなった
後、室温でＣｒＯの３１６ｍｇ（４．６ｍｍｏｌ）とヨ
ウ化カリウム１３ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）を加えて、
６時間還流撹拌した。ＣｒＯを濾過後、メタノールを除
き、希硫酸でナトリウムメトキシドを分解した。クロロ
ホルムで抽出後、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。カラムクロマトグラフィにより精製した。
【００４６】ＮＭＲで目的物の生成を確認した。 収量 ５５０ｍｇ（３．１ｍｍｏｌ）、収率 ８２％ ２−メトキシ−３−（ペルフルオロシクロペンテン−１
−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
−イル）ベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
【００４７】
【化１４】
【００４８】フラスコに、２−メトキシベンゾ［ｂ］チ
オフェン４００ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換
後、エーテル３０ｍｌを加えて−３０℃まで冷却した。
ｎ−ブチルリチウム１．６ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）を滴
下後、１時間半還流撹拌した。再び−３０℃まで冷却
し、ペルフルオロシクロペンテン０．３７ｇ（３．３ｍ
ｍｏｌ）を加えて徐々に温度上げながら終夜撹拌した。
水を加えてからエーテル抽出し、水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、カラムクロマトグラフィによ
り精製した。ＮＭＲ，ＭＳ，元素分析により目的物の生
成を確認した。
オフェン４００ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換
後、エーテル３０ｍｌを加えて−３０℃まで冷却した。
ｎ−ブチルリチウム１．６ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）を滴
下後、１時間半還流撹拌した。再び−３０℃まで冷却
し、ペルフルオロシクロペンテン０．３７ｇ（３．３ｍ
ｍｏｌ）を加えて徐々に温度上げながら終夜撹拌した。
水を加えてからエーテル抽出し、水で洗浄した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、カラムクロマトグラフィによ
り精製した。ＮＭＲ，ＭＳ，元素分析により目的物の生
成を確認した。
【００４９】ｍ．ｐ． ７１．６〜７３．５ 収量 ５００ｇ（１．４ｍｍｏｌ）、収率 ６４％ １−［２−メトキシベンゾ［ｂ］チオフェン−３−イ
ル］−２−［２−（２−アダマンチル）−３，５−ジメ
チルチオフェン−４−イル］ペルフルオロシクロペンテ
ンの合成
ル］−２−［２−（２−アダマンチル）−３，５−ジメ
チルチオフェン−４−イル］ペルフルオロシクロペンテ
ンの合成
【００５０】
【化１５】
【００５１】フラスコに、２−（２−アダマンチル）−
３、５−ジメチル−４−ヨードチオフェン７０７ｍｇ
（１．９ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換後、ＴＨＦ６０ｍ
ｌを加え、−６０℃以下に保持した。ｎ−ＢｕＬｉ１．
３ｍｌ（２．１ｍｍｏｌ）を滴下して１時間撹拌後、２
−メトキシ−３−（ペルフルオロシクロペンテン−１−
イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン７５０ｍｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ溶液を滴下した。徐々に温度を上げなが
ら終夜撹拌した。エーテルで抽出した後、水で洗浄し、
エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。カラム
クロマトグラフィ、再結晶により精製した。元素分析で
目的物の生成を確認した。
３、５−ジメチル−４−ヨードチオフェン７０７ｍｇ
（１．９ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換後、ＴＨＦ６０ｍ
ｌを加え、−６０℃以下に保持した。ｎ−ＢｕＬｉ１．
３ｍｌ（２．１ｍｍｏｌ）を滴下して１時間撹拌後、２
−メトキシ−３−（ペルフルオロシクロペンテン−１−
イル）ベンゾ［ｂ］チオフェン７５０ｍｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ溶液を滴下した。徐々に温度を上げなが
ら終夜撹拌した。エーテルで抽出した後、水で洗浄し、
エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。カラム
クロマトグラフィ、再結晶により精製した。元素分析で
目的物の生成を確認した。
【００５２】
【表３】 ｍ．ｐ １３０．８〜１３３．６℃ 収量 ５００ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）、収率 ４５％
【００５３】
【発明の効果】本発明により、アモルファス状のフォト
クロミック材料を得ることができ、これにより従来必要
だった高分子媒体を使用することなくフォトクロミック
性を有する膜を形成できる。またこれを用いた光学記録
媒体を得ることもできる。
クロミック材料を得ることができ、これにより従来必要
だった高分子媒体を使用することなくフォトクロミック
性を有する膜を形成できる。またこれを用いた光学記録
媒体を得ることもできる。
Claims (4)
- 【請求項１】 アダマンチル基置換ヘテロ５員環を少な
くとも１つヘテロアリール部にもつジヘテロアリールエ
テン系化合物からなるアモルファスフォトクロミック材
料。 - 【請求項２】 該ヘテロ５員環がピロール環、チオフェ
ン環、フラン環、セレノフェン環のいずれかである請求
項１記載のアモルファスフォトクロミック材料。 - 【請求項３】 該ジヘテロアリールエテン系化合物が一
般式 【化１】 （式中、Ｒ1はアルキル基又はアルコキシ基を示し、Ｒ2
は、アルキル基もしくは水素原子を示す。）で表される
化合物である請求項１または２に記載のアモルファスフ
ォトクロミック材料。 - 【請求項４】 光の照射により情報の記録、読み取りが
できる記録部を設けた光記録媒体であって、記録部に請
求項１〜３のいずれか１項に記載されたアモルファスフ
ォトクロミック材料が含まれることを特徴とする光記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051593A JPH09241254A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051593A JPH09241254A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09241254A true JPH09241254A (ja) | 1997-09-16 |
Family
ID=12891218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8051593A Pending JPH09241254A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09241254A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11236309A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-08-31 | L'oreal Sa | 化粧料における光互変色材の用途と該色材を含む化粧料 |
| JP2001064276A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-13 | Kyocera Corp | フォトクロミック化合物およびそれを用いた光機能素子 |
| WO2004003107A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Qinetiq Limited | Potochromic liquid crystals |
| US6884553B2 (en) | 1999-03-11 | 2005-04-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Near-field optical recording medium and near-field optical recording method |
| WO2015125745A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-27 | 日本化薬株式会社 | 新規化合物、該化合物を含有する光酸発生剤及び該光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物 |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051593A patent/JPH09241254A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11236309A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-08-31 | L'oreal Sa | 化粧料における光互変色材の用途と該色材を含む化粧料 |
| US6884553B2 (en) | 1999-03-11 | 2005-04-26 | Mitsubishi Chemical Corporation | Near-field optical recording medium and near-field optical recording method |
| JP2001064276A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-13 | Kyocera Corp | フォトクロミック化合物およびそれを用いた光機能素子 |
| WO2004003107A1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-01-08 | Qinetiq Limited | Potochromic liquid crystals |
| US7416682B2 (en) | 2002-06-28 | 2008-08-26 | Chi Mei Optoelectronics Corporation | Photochromic liquid crystals |
| WO2015125745A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-27 | 日本化薬株式会社 | 新規化合物、該化合物を含有する光酸発生剤及び該光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物 |
| JPWO2015125745A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2017-03-30 | 日本化薬株式会社 | 新規化合物、該化合物を含有する光酸発生剤及び該光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2805188C (fr) | Utilisation d'un compose ionique derive du malononitrile comme photoinitiateur, amorceur radicalaire ou catalyseur dans les procedes de polymerisation, ou comme colorant cationique | |
| US5359085A (en) | Fulgimide derivatives | |
| CN104098555B (zh) | 咪唑‑噻吩芳杂环超短波长光致变色二芳基乙烯化合物的合成方法及应用 | |
| JPH07286107A (ja) | フタロシアニン化合物 | |
| JP2004002847A (ja) | フォトクロミック蛍光重合体およびその製造方法 | |
| JPH09241254A (ja) | アモルファスフォトクロミック材料とこれを用いた光記録媒体 | |
| JP3921675B2 (ja) | エチニル基を有するジアリールエテン系化合物 | |
| JP3390921B2 (ja) | 新規化合物及び該化合物を用いた光学的素子 | |
| US4312992A (en) | Substituted heterofulvalenes | |
| US6660868B2 (en) | Photo-induced phase transition organic material | |
| JP3228087B2 (ja) | ２，３−ジアリールキノン及びその製法 | |
| JP3757772B2 (ja) | 光学活性アモルファスフォトクロミック材料 | |
| JP2002275458A (ja) | フォトクロミックアモルファス材料及び高密度光記録媒体 | |
| JPH03261947A (ja) | 波長多重記録方法 | |
| KR100572920B1 (ko) | 산화된 디아릴에텐계 광변색 화합물 및 이의 중합체 | |
| JP3404156B2 (ja) | ペルフルオロシクロペンテン誘導体、フォトクロミック材料、光記録媒体及び光記録方法 | |
| JP3384087B2 (ja) | フォトクロミック光記録材料 | |
| JP2504801B2 (ja) | ビチエニリデンビスベンゾキノン類、およびその製造法 | |
| JP4390035B2 (ja) | 光学活性チオフェン誘導体及び該誘導体を含むフォトクロミック材料並びに光記録媒体 | |
| JPH10251251A (ja) | 分子磁性材料 | |
| JPH03148258A (ja) | フルギミド誘導体 | |
| JPH07286110A (ja) | フタロシアニン化合物 | |
| RO134560A0 (ro) | Procedeu de sinteză a unui donor pentru celule solare organice pe bază de beta - naftil, para-[5'- (2", 2"-dicianovinil) tiofen - 2' - il] fenil, fenilaminei decorat în poziţia 3' de pe nucleul tiofenic cu o grupare beta-hidroxietil | |
| JPH07286108A (ja) | フタロシアニン化合物 | |
| JP2551538B2 (ja) | メタロセン錯体およびラングミュア・ブロジェット膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921 Year of fee payment: 12 |