JPH09222692A - つや消し放射線感応性記録材料およびその製造法 - Google Patents
つや消し放射線感応性記録材料およびその製造法Info
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- JPH09222692A JPH09222692A JP8237816A JP23781696A JPH09222692A JP H09222692 A JPH09222692 A JP H09222692A JP 8237816 A JP8237816 A JP 8237816A JP 23781696 A JP23781696 A JP 23781696A JP H09222692 A JPH09222692 A JP H09222692A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 密着焼付法で画像が形成され、その表面上
に、単分散粒子を含んでなる不連続のつや消し層が存在
する、シート状放射線感応性記録材料、およびつや消し
層を施す方法の提供。 【解決手段】 つや消し層は、つや消し液を噴霧するこ
とにより製造できる。この目的には、振動発生機を含ん
でなる装置が適当であり、この装置は振動発生機が装置
中の液体に振動を伝達し、直径が５〜２５０μm の少な
くとも１個の孔を有するオリフィスプレートを有してお
り、その孔から液体が少なくとも一つの薄層自由ジェッ
トの形態で放出され、このジェットが崩壊して単分散滴
になる。振動発生機は好ましくは圧電セラミックであ
る。
に、単分散粒子を含んでなる不連続のつや消し層が存在
する、シート状放射線感応性記録材料、およびつや消し
層を施す方法の提供。 【解決手段】 つや消し層は、つや消し液を噴霧するこ
とにより製造できる。この目的には、振動発生機を含ん
でなる装置が適当であり、この装置は振動発生機が装置
中の液体に振動を伝達し、直径が５〜２５０μm の少な
くとも１個の孔を有するオリフィスプレートを有してお
り、その孔から液体が少なくとも一つの薄層自由ジェッ
トの形態で放出され、このジェットが崩壊して単分散滴
になる。振動発生機は好ましくは圧電セラミックであ
る。
Description
【０００１】本発明は、密着焼付法で画像が形成され、
その表面上に不連続のつや消し層が存在する、シート状
放射線感応性記録材料、およびつや消し層を施す方法に
関する。
その表面上に不連続のつや消し層が存在する、シート状
放射線感応性記録材料、およびつや消し層を施す方法に
関する。
【０００２】つや消し層は従来、特に密着焼付法で使用
されている。この方法では、通常いわゆる真空密着焼枠
中で、原画を放射線感応性記録材料の上に直接置く。原
画と記録材料を、その間に存在する空気を吸引すること
により、直接密着させる。しかし、表面が非常に平滑で
ある場合、一定真空に達するまでに長い時間がかかる。
さらに、後に空気が閉じ込められて残り、側光につなが
ることがある。記録材料は、放射線に露出することによ
り化学反応を起こし、ガス、例えば窒素、を放出する化
合物も含有することが多い。表面が平滑である場合、そ
の様なガスの除去も問題となる。
されている。この方法では、通常いわゆる真空密着焼枠
中で、原画を放射線感応性記録材料の上に直接置く。原
画と記録材料を、その間に存在する空気を吸引すること
により、直接密着させる。しかし、表面が非常に平滑で
ある場合、一定真空に達するまでに長い時間がかかる。
さらに、後に空気が閉じ込められて残り、側光につなが
ることがある。記録材料は、放射線に露出することによ
り化学反応を起こし、ガス、例えば窒素、を放出する化
合物も含有することが多い。表面が平滑である場合、そ
の様なガスの除去も問題となる。
【０００３】これらの欠点は、粗い表面を有する複写材
料を使用することにより実質的に避けることができる。
その様な表面は、例えば放射線感応性層に細かく粉砕さ
れた粉体を散布することにより達成される。しかし、こ
れは原則的に不均質な粗さをもたらす。その上、粉体が
表面から離脱し、真空ポンプを汚染することがある。
料を使用することにより実質的に避けることができる。
その様な表面は、例えば放射線感応性層に細かく粉砕さ
れた粉体を散布することにより達成される。しかし、こ
れは原則的に不均質な粗さをもたらす。その上、粉体が
表面から離脱し、真空ポンプを汚染することがある。
【０００４】粗い表面は、記録材料をローラーでエンボ
ス加工しても得ることができる。
ス加工しても得ることができる。
【０００５】ある一定の大きさを有する無機または有機
の粒子を放射線感応性層の製造に使用される溶液または
分散液に加えることにより、乾燥後に完成した層の表面
からこれらの粒子が突出し、同様に粗い表面を形成する
ことができる。これらの粒子がプリント層の中に存在す
る場合、「マイクロピグメンテーション」の用語が使用
されるが、コピー層上に存在する場合、「つや消し」の
用語が使用される。
の粒子を放射線感応性層の製造に使用される溶液または
分散液に加えることにより、乾燥後に完成した層の表面
からこれらの粒子が突出し、同様に粗い表面を形成する
ことができる。これらの粒子がプリント層の中に存在す
る場合、「マイクロピグメンテーション」の用語が使用
されるが、コピー層上に存在する場合、「つや消し」の
用語が使用される。
【０００６】つや消し層は、表面を完全に覆うもの（＝
連続つや消し層）および表面を部分的にのみ覆うもの
（＝不連続つや消し層）に分けられる。不連続層は多か
れ少なかれ半球形の突出部（＝「キュロット」）を含ん
でなることが多い。
連続つや消し層）および表面を部分的にのみ覆うもの
（＝不連続つや消し層）に分けられる。不連続層は多か
れ少なかれ半球形の突出部（＝「キュロット」）を含ん
でなることが多い。
【０００７】ＤＥ−Ａ ３００３１３１（＝ＵＳ−Ａ
４２８８５２１）号明細書には、サイクロンを使用して
固体のつや消し剤を散布し、続いて熱的または化学的に
固定して不連続層を形成する方法が開示されている。
４２８８５２１）号明細書には、サイクロンを使用して
固体のつや消し剤を散布し、続いて熱的または化学的に
固定して不連続層を形成する方法が開示されている。
【０００８】ＤＥ−Ａ ２６０６７９３（＝ＵＳ−Ａ
４２１６２８９）号明細書では、エンボス加工ロールを
経由して、被覆溶液を、細かい、不均質なパターンを有
する弾性材料を含んでなる被覆ロールに塗布する。次い
で、この被覆ロールから被覆溶液を支持体に転写し、つ
や消しを行なうことができる。
４２１６２８９）号明細書では、エンボス加工ロールを
経由して、被覆溶液を、細かい、不均質なパターンを有
する弾性材料を含んでなる被覆ロールに塗布する。次い
で、この被覆ロールから被覆溶液を支持体に転写し、つ
や消しを行なうことができる。
【０００９】ＤＥ−Ａ ３１３１５７０（＝ＧＢ−Ａ
２０８１９１９）号明細書には、溶解または分散した形
態の樹脂を含む水性液体を噴霧する方法が記載されてい
る。噴霧は、少なくとも５kVの静電気電圧により促進さ
れる（ＥＰ−Ａ ０３４４９８５号、ＥＰ−Ａ ０６４
９０６３号各明細書）。
２０８１９１９）号明細書には、溶解または分散した形
態の樹脂を含む水性液体を噴霧する方法が記載されてい
る。噴霧は、少なくとも５kVの静電気電圧により促進さ
れる（ＥＰ−Ａ ０３４４９８５号、ＥＰ−Ａ ０６４
９０６３号各明細書）。
【００１０】しかし、これらのすべての方法では、単位
面積あたりのつや消し粒子の高さ、直径および数がある
程度変動するので、密着焼付の際の挙動が信頼性良く再
現されない。
面積あたりのつや消し粒子の高さ、直径および数がある
程度変動するので、密着焼付の際の挙動が信頼性良く再
現されない。
【００１１】そこで本発明の目的は、上記の問題が最早
生じないつや消し方法を提供することである。
生じないつや消し方法を提供することである。
【００１２】この目的は、溶液または分散液の上に、単
分散滴の形態の樹脂を噴霧することにより達成される。
「単分散」とは、滴の大きさが実質的に等しいこと、す
なわち液体噴霧の滴分布が広くないこと、を意味する。
さらに、表面に向かって移動する滴の速度が、すべての
滴に関して事実上等しい。したがって、乾燥後に、表面
上に噴霧された滴から形成されるつや消し粒子（「キュ
ロット」）は実質的に同じ大きさを有する。数学的な意
味における「単分散」は、分布幅がゼロである粒子の群
を意味する。対照的に、他のすべての粒子群は「多分
散」である。しかし、実際には、数学的に単分散の粒子
群は存在しない。したがって実際には、個々の粒子の平
均直径との差が１０％未満である粒子群を「単分散」と
して定義するのが一般的である（ＶＤＩ指針、No. ３４
９１［１９８０］、３．３．７項）。この定義を本発明
でも採用する。
分散滴の形態の樹脂を噴霧することにより達成される。
「単分散」とは、滴の大きさが実質的に等しいこと、す
なわち液体噴霧の滴分布が広くないこと、を意味する。
さらに、表面に向かって移動する滴の速度が、すべての
滴に関して事実上等しい。したがって、乾燥後に、表面
上に噴霧された滴から形成されるつや消し粒子（「キュ
ロット」）は実質的に同じ大きさを有する。数学的な意
味における「単分散」は、分布幅がゼロである粒子の群
を意味する。対照的に、他のすべての粒子群は「多分
散」である。しかし、実際には、数学的に単分散の粒子
群は存在しない。したがって実際には、個々の粒子の平
均直径との差が１０％未満である粒子群を「単分散」と
して定義するのが一般的である（ＶＤＩ指針、No. ３４
９１［１９８０］、３．３．７項）。この定義を本発明
でも採用する。
【００１３】そこで本発明は、密着焼付法で画像が形成
され、表面上に不連続のつや消し層が存在する、シート
状放射線感応性記録材料に関する。該記録材料におい
て、つや消し層は単分散粒子を含んでなる。さらに、粒
子は表面上に互いに事実上等しい間隔を置いて配置され
る。
され、表面上に不連続のつや消し層が存在する、シート
状放射線感応性記録材料に関する。該記録材料におい
て、つや消し層は単分散粒子を含んでなる。さらに、粒
子は表面上に互いに事実上等しい間隔を置いて配置され
る。
【００１４】原則的に、記録材料は板、フィルムまたは
テープの形態である。一般的に、記録材料は、金属、プ
ラスチックまたは他の物質を含んでなることができる支
持体、および放射線感応性層を含んでなる。金属ホイル
またはプラスチックフィルム、好ましくはアルミニウム
ホイルまたはポリエステルフィルムを含んでなる支持体
を有し、その上に放射線感応性層が存在する放射線感応
性記録材料が特に好ましい。後者の場合、不連続で単分
散のつや消し層は、放射線感応性層の上、ならびにプラ
スチックフィルムの被覆された背面上に存在することが
できる。しかし、プラスチックフィルム支持体は、画像
形成効果を有する放射線に対して透明であることが不可
欠である。単分散粒子を含んでなる不連続つや消し層
は、記録材料の、画像を有する原画と接触する方の側の
上に常に配置される。記録材料は、例えば、青写真材料
またはベシキュラーフィルムである（ベシキュラーフィ
ルムは例えばマイクロフィルム複写に使用される）。そ
の他の例は、多色印刷用の色校正フィルム印刷版を製造
できる記録材料である。本発明のつや消し層は、フィル
ム原画と記録材料の間をより密に、より一様に接触させ
る。さらに、つや消しにより、記録材料に対するフィル
ム原画の好ましくない密着（ブロッキング）が防止され
る。ブロッキングは、平滑なフィルムの場合に一般的に
起こる問題である。
テープの形態である。一般的に、記録材料は、金属、プ
ラスチックまたは他の物質を含んでなることができる支
持体、および放射線感応性層を含んでなる。金属ホイル
またはプラスチックフィルム、好ましくはアルミニウム
ホイルまたはポリエステルフィルムを含んでなる支持体
を有し、その上に放射線感応性層が存在する放射線感応
性記録材料が特に好ましい。後者の場合、不連続で単分
散のつや消し層は、放射線感応性層の上、ならびにプラ
スチックフィルムの被覆された背面上に存在することが
できる。しかし、プラスチックフィルム支持体は、画像
形成効果を有する放射線に対して透明であることが不可
欠である。単分散粒子を含んでなる不連続つや消し層
は、記録材料の、画像を有する原画と接触する方の側の
上に常に配置される。記録材料は、例えば、青写真材料
またはベシキュラーフィルムである（ベシキュラーフィ
ルムは例えばマイクロフィルム複写に使用される）。そ
の他の例は、多色印刷用の色校正フィルム印刷版を製造
できる記録材料である。本発明のつや消し層は、フィル
ム原画と記録材料の間をより密に、より一様に接触させ
る。さらに、つや消しにより、記録材料に対するフィル
ム原画の好ましくない密着（ブロッキング）が防止され
る。ブロッキングは、平滑なフィルムの場合に一般的に
起こる問題である。
【００１５】最後に、本発明は、本発明のつや消し記録
材料の製造法であって、つや消し液の上に単分散滴の形
態で噴霧することを含んでなる方法に関する。通常、乾
燥は噴霧工程の後にも行なう。一般的に乾燥は対流乾燥
機中で、または赤外放射線に露出することにより行なわ
れる。
材料の製造法であって、つや消し液の上に単分散滴の形
態で噴霧することを含んでなる方法に関する。通常、乾
燥は噴霧工程の後にも行なう。一般的に乾燥は対流乾燥
機中で、または赤外放射線に露出することにより行なわ
れる。
【００１６】本発明の記録材料のつや消し材料を噴霧で
きる装置は、ＤＥ−Ａ ４４４１５５３号明細書に記載
されている。この装置は、液体ジェットを制御しながら
崩壊させる原理にしたがって運転される。装置内の液体
中の気泡が誤作動につながることがあるので、気泡は除
去する必要がある。装置中の液体カラム中で、縦方向の
振動が発生する。これらの振動の周波数は好ましくは１
〜３００ kHz、特に好ましくは２〜１５０ kHz、であ
る。振動は、圧電性セラミックにより発生させるのが有
利である。振動により、液体カラム中に周期的な圧力変
動が生じる。最後にオリフィスプレートにある孔から液
体が自由薄層（laminar ）状ジェットの形態で放出さ
れ、次いで周期的な変動の結果、単分散滴の鎖に崩壊す
る。したがって、オリフィスプレートは１個またはそれ
より多い、直径（ｄ）がそれぞれの場合に５〜２５０μ
m 、好ましくは１０〜１００μm 、の小さな孔を有す
る。これらの孔は、好ましくはレーザー工具を使用して
加工する。個々の孔はできる限りすべて同じ直径を有す
る様にすべきである。滴発生装置中の縦方向振動の周波
数（ｆ）は、液体が流出する速度（Ｕ）に、ならびに出
口孔の直径（ｄ）に適合させなければならない。孔の直
径が１０μm である場合、周波数は４０〜１３０ kHzで
ある。液体ジェットは、加えられた振動（＝「干渉
波」）に対して不安定でなければならない。このため、
干渉波の長さは、孔から出た直後の液体ジェットの円周
より長くなければならない。
きる装置は、ＤＥ−Ａ ４４４１５５３号明細書に記載
されている。この装置は、液体ジェットを制御しながら
崩壊させる原理にしたがって運転される。装置内の液体
中の気泡が誤作動につながることがあるので、気泡は除
去する必要がある。装置中の液体カラム中で、縦方向の
振動が発生する。これらの振動の周波数は好ましくは１
〜３００ kHz、特に好ましくは２〜１５０ kHz、であ
る。振動は、圧電性セラミックにより発生させるのが有
利である。振動により、液体カラム中に周期的な圧力変
動が生じる。最後にオリフィスプレートにある孔から液
体が自由薄層（laminar ）状ジェットの形態で放出さ
れ、次いで周期的な変動の結果、単分散滴の鎖に崩壊す
る。したがって、オリフィスプレートは１個またはそれ
より多い、直径（ｄ）がそれぞれの場合に５〜２５０μ
m 、好ましくは１０〜１００μm 、の小さな孔を有す
る。これらの孔は、好ましくはレーザー工具を使用して
加工する。個々の孔はできる限りすべて同じ直径を有す
る様にすべきである。滴発生装置中の縦方向振動の周波
数（ｆ）は、液体が流出する速度（Ｕ）に、ならびに出
口孔の直径（ｄ）に適合させなければならない。孔の直
径が１０μm である場合、周波数は４０〜１３０ kHzで
ある。液体ジェットは、加えられた振動（＝「干渉
波」）に対して不安定でなければならない。このため、
干渉波の長さは、孔から出た直後の液体ジェットの円周
より長くなければならない。
【００１７】滴の直径（ｄp ）は周波数によって異な
り、したがって調節できる。直径は、等式ｄp ＝（６Ｑ
／π・ｆ）1/3 により、流出する液体の体積流量（Ｑ）
および加えられた干渉波の周波数（ｆ）から計算でき
る。等間隔の主要滴同士の間における（好ましくない）
小さな滴の形成は、周波数の適切な選択によっても防止
することができる。周波数は容易に適合させることがで
きる。
り、したがって調節できる。直径は、等式ｄp ＝（６Ｑ
／π・ｆ）1/3 により、流出する液体の体積流量（Ｑ）
および加えられた干渉波の周波数（ｆ）から計算でき
る。等間隔の主要滴同士の間における（好ましくない）
小さな滴の形成は、周波数の適切な選択によっても防止
することができる。周波数は容易に適合させることがで
きる。
【００１８】液体中にある不純物は、オリフィスプレー
トの孔を閉塞させることがある。したがって、適度に細
かいフィルターを上流に配置するのが有利である。細孔
径が１．２μm 以下のメンブランを通して液体を濾過し
た場合、直径１０μm の微細孔を有するオリフィスプレ
ートでも、閉塞の恐れなしに使用できる。この装置は溶
液ならびに分散液を単分散滴に形成するのに使用でき
る。分散液は、好ましくは直径が数百ナノメートルまで
の粒子を含むことができる。
トの孔を閉塞させることがある。したがって、適度に細
かいフィルターを上流に配置するのが有利である。細孔
径が１．２μm 以下のメンブランを通して液体を濾過し
た場合、直径１０μm の微細孔を有するオリフィスプレ
ートでも、閉塞の恐れなしに使用できる。この装置は溶
液ならびに分散液を単分散滴に形成するのに使用でき
る。分散液は、好ましくは直径が数百ナノメートルまで
の粒子を含むことができる。
【００１９】自由ジェットと、つや消しすべき表面の垂
線の間の傾斜角度（α）は０〜９０°未満、好ましくは
０〜８０°、である。つまり、滴は常に表面に直角（α
＝０）に衝突する必要はなく、斜めに衝突してもよい。
線の間の傾斜角度（α）は０〜９０°未満、好ましくは
０〜８０°、である。つまり、滴は常に表面に直角（α
＝０）に衝突する必要はなく、斜めに衝突してもよい。
【００２０】滴の速度および直径は、相ドップラー風速
計（ＰＤＡ）を使用して測定することができる。そこで
は、２本のレーザー光線の交差点を通過する際の滴によ
り放射される散乱光信号を使用する。この前提条件は滴
が球形であることである。この条件は、Ohnesorge 数(O
h)が０．０１以上である場合に満たされる。次いで、薄
層の液体ジェットは、オリフィスプレート（１）から数
センチメートル離れただけで崩壊し、単分散の球形滴の
鎖になる。Ohは、式Oh＝μ／（σ・ｄp ・ρ）により、
液体の動的粘度（μ）、表面張力（σ）および密度
（ρ）の関数である。
計（ＰＤＡ）を使用して測定することができる。そこで
は、２本のレーザー光線の交差点を通過する際の滴によ
り放射される散乱光信号を使用する。この前提条件は滴
が球形であることである。この条件は、Ohnesorge 数(O
h)が０．０１以上である場合に満たされる。次いで、薄
層の液体ジェットは、オリフィスプレート（１）から数
センチメートル離れただけで崩壊し、単分散の球形滴の
鎖になる。Ohは、式Oh＝μ／（σ・ｄp ・ρ）により、
液体の動的粘度（μ）、表面張力（σ）および密度
（ρ）の関数である。
【００２１】固体含有量２５％の分散液、１０μm の孔
を有するオリフィスプレートから、周波数１２４．１ k
Hz、および流量（Ｑ）０．０９９ml/minで製造される滴
の直径（ｄp ）の分布を図１に示す。この例における平
均滴直径（Ｄ10）は２２．８μm である。
を有するオリフィスプレートから、周波数１２４．１ k
Hz、および流量（Ｑ）０．０９９ml/minで製造される滴
の直径（ｄp ）の分布を図１に示す。この例における平
均滴直径（Ｄ10）は２２．８μm である。
【００２２】個々の滴の速度（ＵT ）の関連する分布を
図２に示す。平均速度（Ｕmean）は１２．３ m/sであ
る。
図２に示す。平均速度（Ｕmean）は１２．３ m/sであ
る。
【００２３】各図から、平均値の散らばりは、それぞれ
の場合、非常に小さいことがはっきりとわかる。
の場合、非常に小さいことがはっきりとわかる。
【００２４】周波数範囲は、位置および幅により予め決
定され、商Ｕd と共に変化する。液体の流量（Ｑ）から
独立して滴の直径（ｄp ）を選択することは不可能であ
る。しかし、周波数範囲の幅に応じて、周波数を±２０
％まで変化させることにより、直径（ｄp ）変えること
ができる。
定され、商Ｕd と共に変化する。液体の流量（Ｑ）から
独立して滴の直径（ｄp ）を選択することは不可能であ
る。しかし、周波数範囲の幅に応じて、周波数を±２０
％まで変化させることにより、直径（ｄp ）変えること
ができる。
【００２５】テープ状記録材料は、滴発生機をテープ速
度（Ｕb ）で通過させることが多い。次いで滴は、等式
δT ＝Ｕb ／ｆにしたがって、周波数（ｆ）およびテー
プ速度（Ｕb ）により決定される距離（δT ）で衝突す
る。距離（δT ）が小さい程、被覆密度が高いことを意
味する。滴の距離を例えば３００μm にする場合、上記
の等式により、１ m/sのテープ速度（Ｕb ）で３．３ k
Hzの周波数が必要となる。周波数が高いと、滴距離は短
くなり、したがって被覆の密度が高くなる。したがっ
て、この滴距離を達成するには、滴発生機をテープ状材
料全体にわたって、テープの走行方向で、またはそれに
対して横方向で前後に移動させなければならない。さら
に滴距離は回転運動の重なりによっても影響される。
度（Ｕb ）で通過させることが多い。次いで滴は、等式
δT ＝Ｕb ／ｆにしたがって、周波数（ｆ）およびテー
プ速度（Ｕb ）により決定される距離（δT ）で衝突す
る。距離（δT ）が小さい程、被覆密度が高いことを意
味する。滴の距離を例えば３００μm にする場合、上記
の等式により、１ m/sのテープ速度（Ｕb ）で３．３ k
Hzの周波数が必要となる。周波数が高いと、滴距離は短
くなり、したがって被覆の密度が高くなる。したがっ
て、この滴距離を達成するには、滴発生機をテープ状材
料全体にわたって、テープの走行方向で、またはそれに
対して横方向で前後に移動させなければならない。さら
に滴距離は回転運動の重なりによっても影響される。
【００２６】幅の広いテープ状記録材料（場合により数
メートルの）をつや消しする場合、それに応じて、微細
孔が列になって配置された広いオリフィスプレートを使
用するのが有利である。孔の間隔は、所望のつや消しの
個々の種類により異なる。すべての孔で同じ圧力および
体積流量が得られる様に、全幅にわたって個々の孔に液
体を均一に供給する必要がある。これは、分配室により
達成される。この実施態様における滴発生機では、振動
発生機による励起を、分配室の上にある液体の中で直接
行なうことができる。幅の広いテープ状記録材料には、
ＤＥ−Ａ ４４４１５５３号明細書に記載されている滴
発生機も同様に使用できる。しかし、その場合、確実に
滴で均一に被覆するためには、移動できる様に配置しな
ければならない。ここで滴発生機は走査移動する。
メートルの）をつや消しする場合、それに応じて、微細
孔が列になって配置された広いオリフィスプレートを使
用するのが有利である。孔の間隔は、所望のつや消しの
個々の種類により異なる。すべての孔で同じ圧力および
体積流量が得られる様に、全幅にわたって個々の孔に液
体を均一に供給する必要がある。これは、分配室により
達成される。この実施態様における滴発生機では、振動
発生機による励起を、分配室の上にある液体の中で直接
行なうことができる。幅の広いテープ状記録材料には、
ＤＥ−Ａ ４４４１５５３号明細書に記載されている滴
発生機も同様に使用できる。しかし、その場合、確実に
滴で均一に被覆するためには、移動できる様に配置しな
ければならない。ここで滴発生機は走査移動する。
【００２７】本発明の記録材料は極めて均一につや消し
されている。このことは、つや消し粒子の間隔および高
さと直径の両方にあてはまる。高度のハーフトーン区域
も、きわどい条件下でも、著しい側光なしに正確に転写
される。この場合、つや消し粒子は高さが好ましくは１
０μm 以下である。１０μm を超える高さでは、フィル
ム原画の細かい図形の再現性が損なわれる。記録材料１
平方センチメートル毎に、１，０００〜１００μm の均
一な間隔で約１００〜１０，０００個のキュロットがあ
る。
されている。このことは、つや消し粒子の間隔および高
さと直径の両方にあてはまる。高度のハーフトーン区域
も、きわどい条件下でも、著しい側光なしに正確に転写
される。この場合、つや消し粒子は高さが好ましくは１
０μm 以下である。１０μm を超える高さでは、フィル
ム原画の細かい図形の再現性が損なわれる。記録材料１
平方センチメートル毎に、１，０００〜１００μm の均
一な間隔で約１００〜１０，０００個のキュロットがあ
る。
【００２８】単分散滴を形成するための溶液または分散
液は、その総重量に対して一般的に０．５〜５０重量
％、好ましくは５〜４０重量％、の固体を含有する。固
体含有量は、溶剤の種類または連続相（分散液の場合）
の種類、単分散滴が覆うべき間隔、周囲の温度、微細孔
の直径、振動発生機の周波数、およびつや消し粒子の望
ましい大きさにより異なる。溶剤または連続相の沸点
は、好ましくは約４０〜２５０℃である。水に加えて、
有機溶剤、例えば脂肪族化合物、芳香族化合物、ケトン
（例えばアセトン）、エーテル（例えばテトラヒドロフ
ラン）、グリコールエーテル（特にエチレングリコール
モノ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテル、エチレングリコ
ールジ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテル、プロピレング
リコールモノ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテルまたはプ
ロピレングリコールジ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテ
ル）、または極性非プロトン性溶剤（例えばＮ−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ガンマ−ブチロラ
クトンまたはジメチルスルホキシド）、も適当である。
液は、その総重量に対して一般的に０．５〜５０重量
％、好ましくは５〜４０重量％、の固体を含有する。固
体含有量は、溶剤の種類または連続相（分散液の場合）
の種類、単分散滴が覆うべき間隔、周囲の温度、微細孔
の直径、振動発生機の周波数、およびつや消し粒子の望
ましい大きさにより異なる。溶剤または連続相の沸点
は、好ましくは約４０〜２５０℃である。水に加えて、
有機溶剤、例えば脂肪族化合物、芳香族化合物、ケトン
（例えばアセトン）、エーテル（例えばテトラヒドロフ
ラン）、グリコールエーテル（特にエチレングリコール
モノ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテル、エチレングリコ
ールジ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテル、プロピレング
リコールモノ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテルまたはプ
ロピレングリコールジ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルエーテ
ル）、または極性非プロトン性溶剤（例えばＮ−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ガンマ−ブチロラ
クトンまたはジメチルスルホキシド）、も適当である。
【００２９】原則的に、固体は有機重合体（＝樹脂）を
含む。重合体は、その後の処理の際に好ましくない接着
を避けるために、少なくとも４０℃のガラス転移温度を
有するのが好ましい。重縮合物、例えばポリエステル、
ポリアミド、ポリウレタンまたはポリ尿素、が特に適当
である。重合体、特にアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテ
ル、ビニルアルコール、ビニルアセタールおよびビニル
アミドの単位を有する単独重合体および共重合体、も適
当である。
含む。重合体は、その後の処理の際に好ましくない接着
を避けるために、少なくとも４０℃のガラス転移温度を
有するのが好ましい。重縮合物、例えばポリエステル、
ポリアミド、ポリウレタンまたはポリ尿素、が特に適当
である。重合体、特にアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステル、ビニル芳香族化合物、ビニルエーテ
ル、ビニルアルコール、ビニルアセタールおよびビニル
アミドの単位を有する単独重合体および共重合体、も適
当である。
【００３０】放射線感応性記録材料、特にオフセット印
刷版を製造するための記録材料は、放射線で像様露光し
た後、一般的に水性アルカリ現像剤で現像する。現像剤
が確実につや消し層も同時に除去される様に、酸および
／または塩の基を含む樹脂を使用するのが好ましい。塩
は一般的にナトリウム、カリウム、アンモニウム、カル
シウム、亜鉛またはアルミニウム塩である。樹脂は０．
０３〜０．７５mmol/gの酸および／または塩の基を含む
のが好ましい。その様な樹脂はＥＰ−Ａ ０６４９０６
３号明細書に記載されている。
刷版を製造するための記録材料は、放射線で像様露光し
た後、一般的に水性アルカリ現像剤で現像する。現像剤
が確実につや消し層も同時に除去される様に、酸および
／または塩の基を含む樹脂を使用するのが好ましい。塩
は一般的にナトリウム、カリウム、アンモニウム、カル
シウム、亜鉛またはアルミニウム塩である。樹脂は０．
０３〜０．７５mmol/gの酸および／または塩の基を含む
のが好ましい。その様な樹脂はＥＰ−Ａ ０６４９０６
３号明細書に記載されている。
【００３１】さらに、溶液または分散液は、記録材料表
面上の湿潤挙動に影響する界面活性剤、特に陰イオン系
および／または非イオン系界面活性剤、も含有すること
ができる。
面上の湿潤挙動に影響する界面活性剤、特に陰イオン系
および／または非イオン系界面活性剤、も含有すること
ができる。
【００３２】下記の諸例は、本発明をより詳細に説明す
るためのものであって、本発明を制限するものではな
い。他に指示がない限り、量は重量部で表示する。
るためのものであって、本発明を制限するものではな
い。他に指示がない限り、量は重量部で表示する。
【００３３】例１ （現像可能な色校正材料の乾燥）両面を接着促進剤で前
処理した、５０μm 厚の、二軸延伸し、熱固定されたポ
リエステルフィルム（ RMelinex 505)をそれぞれ下記の
４種類の放射線感応性混合物で被覆した。 シアン マゼンタ イエロー ブラック ジペンタエリスリチル ペンタアクリレート 19.9 25.0 21.6 19.9 2,3-ビス（4-メトキシ− フェニル）キノキサリン 5.1 6.1 5.4 5.3 ポリビニルホルマール 16.3 23.0 18.4 14.2 ポリエーテル変性 ポリシロキサン* 0.2 0.2 0.2 0.2 R Hostaperm blue B2G (C.I. 74160) 9.7 - - - Permanent Red FBB (C.I. 12485) - 12.9 - - Permanent Yellow (C.I. 21100) - - 8.6 - カーボンブラック （ RPrintex 25) - - - 13.6 テトラヒドロフラン 398.6 363.9 382.4 378.8 ジアセトンアルコール 113.9 121.3 124.3 123.1 1-メトキシ-2- プロパノール 360.6 326.5 353.7 331.5ガンマ−ブチロラクトン 75.9 121.3 86.0 113.6 * ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定して、分 子量６５００を有する。
処理した、５０μm 厚の、二軸延伸し、熱固定されたポ
リエステルフィルム（ RMelinex 505)をそれぞれ下記の
４種類の放射線感応性混合物で被覆した。 シアン マゼンタ イエロー ブラック ジペンタエリスリチル ペンタアクリレート 19.9 25.0 21.6 19.9 2,3-ビス（4-メトキシ− フェニル）キノキサリン 5.1 6.1 5.4 5.3 ポリビニルホルマール 16.3 23.0 18.4 14.2 ポリエーテル変性 ポリシロキサン* 0.2 0.2 0.2 0.2 R Hostaperm blue B2G (C.I. 74160) 9.7 - - - Permanent Red FBB (C.I. 12485) - 12.9 - - Permanent Yellow (C.I. 21100) - - 8.6 - カーボンブラック （ RPrintex 25) - - - 13.6 テトラヒドロフラン 398.6 363.9 382.4 378.8 ジアセトンアルコール 113.9 121.3 124.3 123.1 1-メトキシ-2- プロパノール 360.6 326.5 353.7 331.5ガンマ−ブチロラクトン 75.9 121.3 86.0 113.6 * ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定して、分 子量６５００を有する。
【００３４】顔料は、バインダーおよびブチロラクトン
の一部を使用して分散させた。粒子径は２００nm未満で
あった。
の一部を使用して分散させた。粒子径は２００nm未満で
あった。
【００３５】塗布した層の重量は、１１０℃で乾燥後、
約０．７ g/m2 であった。次いで、それぞれの場合、５
０重量部の酢酸ビニル／クロトン酸共重合体（９５／
５）、２５２重量部の水、２４重量部のエタノールおよ
び５重量部の、２５重量％濃度のアンモニア水溶液から
なる溶液を乾燥した放射線感応性層に塗布し、１００℃
で乾燥させた。この様にして塗布した接着促進層の重量
は６ g/m2 であった。最後に、この接着促進層にさらに
透明な保護フィルムをラミネートした。
約０．７ g/m2 であった。次いで、それぞれの場合、５
０重量部の酢酸ビニル／クロトン酸共重合体（９５／
５）、２５２重量部の水、２４重量部のエタノールおよ
び５重量部の、２５重量％濃度のアンモニア水溶液から
なる溶液を乾燥した放射線感応性層に塗布し、１００℃
で乾燥させた。この様にして塗布した接着促進層の重量
は６ g/m2 であった。最後に、この接着促進層にさらに
透明な保護フィルムをラミネートした。
【００３６】それぞれの場合、フィルム支持体の裏面半
分に本発明の不連続つや消し層を施した。残りの半分は
比較のためにつや消しにしなかった。
分に本発明の不連続つや消し層を施した。残りの半分は
比較のためにつや消しにしなかった。
【００３７】つや消し処理は、固体含有量が約２０重量
％の水性分散液で行なった。固体分は実質的に、８０重
量％の塩化ビニリデン、５重量％のアクリロニトリル、
１２重量％のメタクリル酸メチルおよび３重量％のアク
リル酸の共重合体を含んでなる。
％の水性分散液で行なった。固体分は実質的に、８０重
量％の塩化ビニリデン、５重量％のアクリロニトリル、
１２重量％のメタクリル酸メチルおよび３重量％のアク
リル酸の共重合体を含んでなる。
【００３８】分散液はドデシルベンゼンスルホン酸塩で
安定化した。分散液の動的粘度（μ）は３ mPa・s 、密
度（ρ）は１．１g/ml、表面張力は４３mN/mであった。
安定化した。分散液の動的粘度（μ）は３ mPa・s 、密
度（ρ）は１．１g/ml、表面張力は４３mN/mであった。
【００３９】滴発生機は、フィルム上を走査移動する様
に誘導した。滴発生機のオリフィスプレートは直径が１
０μm であった。分散液を滴発生機中、周波数３９．７
kHzで励起した。平均滴直径（Ｄ10）は４０．２μm 、
フィルム表面上のキュロット間の間隔（δT ）は２００
μm 、フィルム表面上のキュロットの最大高さは３μm
、キュロットの直径は７５μm であった。
に誘導した。滴発生機のオリフィスプレートは直径が１
０μm であった。分散液を滴発生機中、周波数３９．７
kHzで励起した。平均滴直径（Ｄ10）は４０．２μm 、
フィルム表面上のキュロット間の間隔（δT ）は２００
μm 、フィルム表面上のキュロットの最大高さは３μm
、キュロットの直径は７５μm であった。
【００４０】色校正フィルムの処理：保護フィルムを剥
離した後、カラーフィルムを、プラスチック被覆した特
殊紙に８５℃でラミネートし、密着プリンター中で、６
０線スクリーンを有し、２０％区域が覆われたポジフィ
ルムの下で露光した。フィルム支持体を１８０°の角度
で剥離した後、対応する色の校正が得られた。全４色の
場合で同じ結果が得られた。すなわち、つや消しフィル
ム支持体を通して露光した半分では均一なハーフトーン
が再現されたのに対し、つや消しされていないフィルム
支持体を通して露光した他の半分では、明らかに不均質
なハーフトーン画像が得られた。
離した後、カラーフィルムを、プラスチック被覆した特
殊紙に８５℃でラミネートし、密着プリンター中で、６
０線スクリーンを有し、２０％区域が覆われたポジフィ
ルムの下で露光した。フィルム支持体を１８０°の角度
で剥離した後、対応する色の校正が得られた。全４色の
場合で同じ結果が得られた。すなわち、つや消しフィル
ム支持体を通して露光した半分では均一なハーフトーン
が再現されたのに対し、つや消しされていないフィルム
支持体を通して露光した他の半分では、明らかに不均質
なハーフトーン画像が得られた。
【００４１】例２ （ベシキュラーフィルム支持体）１２５μｍ厚の、二軸
延伸し、熱固定した透明ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムに、１．１５重量部の、水酸基を含む線状飽和ポ
リエステル（ RDynapol LH 812）、０．６５重量部の塩
化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体（７０／３
０）（RSaran F310）および９８．２重量部のメチルエ
チルケトンの溶液を塗布することにより、接着促進層を
施し、１１０℃で乾燥させた。接着促進層の重量は０．
２５ g/m2 であった。
延伸し、熱固定した透明ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムに、１．１５重量部の、水酸基を含む線状飽和ポ
リエステル（ RDynapol LH 812）、０．６５重量部の塩
化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体（７０／３
０）（RSaran F310）および９８．２重量部のメチルエ
チルケトンの溶液を塗布することにより、接着促進層を
施し、１１０℃で乾燥させた。接着促進層の重量は０．
２５ g/m2 であった。
【００４２】乾燥した接着促進層に、１２．７重量部の
塩化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体（３０／７
０）、３．３重量部の塩化ビニリデン／アクリロニトリ
ル共重合体（８０／２０）、０．８重量部の２，５−ジ
エトキシ−４−モルホリノベンゼンジアゾニウムテトラ
フルオロホウ酸塩、０．７重量部のクエン酸、０．３重
量部のジオクチルスルホコハク酸ナトリウムおよび８
３．０重量部のメチルエチルケトンの溶液を塗布し、１
００℃で乾燥させた。こうして得た放射線感応性層の重
量は６ g/m2 であった。次いで、この層の半分の上に本
発明の不連続つや消し層をスプレーした。この目的に
は、固体含有量１０重量％、動的粘度（μ）２．５ mPa
・s 、密度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）３８
mN/mの分散液を使用した。固体は、メタクリル酸含有量
４．６重量％、ガラス転移温度（Ｔg ）約７５℃である
メタクリル酸／スチレン／アクリル酸エチルのターポリ
マーを含んでなり、これを水中に亜鉛アンモニア錯塩と
して分散させてある。分散液中の粒子径は１００nm未満
である。
塩化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体（３０／７
０）、３．３重量部の塩化ビニリデン／アクリロニトリ
ル共重合体（８０／２０）、０．８重量部の２，５−ジ
エトキシ−４−モルホリノベンゼンジアゾニウムテトラ
フルオロホウ酸塩、０．７重量部のクエン酸、０．３重
量部のジオクチルスルホコハク酸ナトリウムおよび８
３．０重量部のメチルエチルケトンの溶液を塗布し、１
００℃で乾燥させた。こうして得た放射線感応性層の重
量は６ g/m2 であった。次いで、この層の半分の上に本
発明の不連続つや消し層をスプレーした。この目的に
は、固体含有量１０重量％、動的粘度（μ）２．５ mPa
・s 、密度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）３８
mN/mの分散液を使用した。固体は、メタクリル酸含有量
４．６重量％、ガラス転移温度（Ｔg ）約７５℃である
メタクリル酸／スチレン／アクリル酸エチルのターポリ
マーを含んでなり、これを水中に亜鉛アンモニア錯塩と
して分散させてある。分散液中の粒子径は１００nm未満
である。
【００４３】滴発生機は、フィルム上を走査移動する様
に誘導した。オリフィスプレートにある孔の直径（ｄ）
は１０μm 、周波数（ｆ）は１００ kHz、平均滴直径
（Ｄ10）は２６μm 、フィルム表面上のキュロット間の
間隔（δT ）は１００μm 、キュロットの高さ（ｈ）は
２μm 、キュロットの直径（ｓ）は４０μm であった。
に誘導した。オリフィスプレートにある孔の直径（ｄ）
は１０μm 、周波数（ｆ）は１００ kHz、平均滴直径
（Ｄ10）は２６μm 、フィルム表面上のキュロット間の
間隔（δT ）は１００μm 、キュロットの高さ（ｈ）は
２μm 、キュロットの直径（ｓ）は４０μm であった。
【００４４】ベシキュラーフィルムの処理：密着法によ
り、２０％表面被覆した６０線ハーフトーンネガの下で
露光した後、材料を１３０℃に加熱して現像した。つや
消し層を通して露光したフィルム半分では、均質なハー
フトーン画像が再現された。他の半分では、ハーフトー
ン区域が不均質であった。この材料は、透過光で見た時
に、透過性に明らかな差を示していた。
り、２０％表面被覆した６０線ハーフトーンネガの下で
露光した後、材料を１３０℃に加熱して現像した。つや
消し層を通して露光したフィルム半分では、均質なハー
フトーン画像が再現された。他の半分では、ハーフトー
ン区域が不均質であった。この材料は、透過光で見た時
に、透過性に明らかな差を示していた。
【００４５】例３ （青写真材料）１７５μm 厚の、二軸延伸され、熱固定
された透明ポリエチレンテレフタレートフィルムに、
０．２３４重量部の、平均分子量Ｍw が１９，０００
（ＧＰＣで測定）である、テレフタル酸、ネオペンチル
グリコールおよびエチレングリコールからなるポリエス
テル、１０．０重量部の、セルロース、酢酸およびプロ
ピオン酸のエステル（セルロースの水酸基の３．５％が
酢酸により、４５％がプロピオン酸によりエステル化さ
れている）、０．１３重量部の塩化ビニリデン／アクリ
ロニトリル共重合体（８０／２０）および２４０重量部
のエチレングリコールモノメチルエーテルの溶液を塗布
し、１２０℃で乾燥させた。こうして形成させた接着促
進層の重量は約３ g/m2 であった。その接着促進層に、
３．５重量部の上記酢酸プロピオン酸セルロース、１．
３重量部の２−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）ナフタレン−３−カルボキサミド、２．３重量部の
２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムテトラフルオロホウ酸塩、０．１重量部の２−ヒド
ロキシ−５−スルホ安息香酸（＝スルホサリチル酸）、
０．０５重量部のポリエーテル変性されたポリジメチル
シロキサン（ REdaplanLA 411）、３０重量部のエチレ
ングリコールモノメチルエーテルおよび１２０重量部テ
トラヒドロフランの溶液を塗布し、１０５℃で乾燥させ
た。こうして形成させた放射線感応性層の重量は７．５
g/m2 であった。次いで、放射線感応性記録材料の半分
の上に本発明の不連続つや消しを施した。この目的に
は、固体含有量約２０重量％、動的粘度（μ）４．５ m
Pa・s 、密度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）４
１mN/mである、スチレン／アクリル酸ブチル／エチレン
スルホン酸ナトリウムターポリマー（７０／２４．４／
５．６）の水性分散液を、滴発生機を使用してスプレー
した。滴発生機は、オリフィスプレートにある孔の直径
（ｄ）が１０μm であり、周波数４５ kHzで運転され、
発生した単分散滴は直径Ｄ10が３８μm である。滴発生
機は、フィルム上を走査移動する様に誘導した。この様
にして、平均高さ（ｈ）が３μm 、平均直径（ｓ）が７
０μm 、相互の平均間隔（δT ）が２００μm である単
分散キュロットが放射線感応性層の表面に塗布された。
された透明ポリエチレンテレフタレートフィルムに、
０．２３４重量部の、平均分子量Ｍw が１９，０００
（ＧＰＣで測定）である、テレフタル酸、ネオペンチル
グリコールおよびエチレングリコールからなるポリエス
テル、１０．０重量部の、セルロース、酢酸およびプロ
ピオン酸のエステル（セルロースの水酸基の３．５％が
酢酸により、４５％がプロピオン酸によりエステル化さ
れている）、０．１３重量部の塩化ビニリデン／アクリ
ロニトリル共重合体（８０／２０）および２４０重量部
のエチレングリコールモノメチルエーテルの溶液を塗布
し、１２０℃で乾燥させた。こうして形成させた接着促
進層の重量は約３ g/m2 であった。その接着促進層に、
３．５重量部の上記酢酸プロピオン酸セルロース、１．
３重量部の２−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）ナフタレン−３−カルボキサミド、２．３重量部の
２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムテトラフルオロホウ酸塩、０．１重量部の２−ヒド
ロキシ−５−スルホ安息香酸（＝スルホサリチル酸）、
０．０５重量部のポリエーテル変性されたポリジメチル
シロキサン（ REdaplanLA 411）、３０重量部のエチレ
ングリコールモノメチルエーテルおよび１２０重量部テ
トラヒドロフランの溶液を塗布し、１０５℃で乾燥させ
た。こうして形成させた放射線感応性層の重量は７．５
g/m2 であった。次いで、放射線感応性記録材料の半分
の上に本発明の不連続つや消しを施した。この目的に
は、固体含有量約２０重量％、動的粘度（μ）４．５ m
Pa・s 、密度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）４
１mN/mである、スチレン／アクリル酸ブチル／エチレン
スルホン酸ナトリウムターポリマー（７０／２４．４／
５．６）の水性分散液を、滴発生機を使用してスプレー
した。滴発生機は、オリフィスプレートにある孔の直径
（ｄ）が１０μm であり、周波数４５ kHzで運転され、
発生した単分散滴は直径Ｄ10が３８μm である。滴発生
機は、フィルム上を走査移動する様に誘導した。この様
にして、平均高さ（ｈ）が３μm 、平均直径（ｓ）が７
０μm 、相互の平均間隔（δT ）が２００μm である単
分散キュロットが放射線感応性層の表面に塗布された。
【００４６】ジアゾ型フィルムの処理：密着法により、
２０％区域被覆した６０線ハーフトーンポジの下で露光
した後、乾燥状態で（気体状の）アンモニアを使用して
現像した。例１および２と同様に、この場合も、つや消
し層を通して露光した半分においてのみ均質なハーフト
ーンが再現された。
２０％区域被覆した６０線ハーフトーンポジの下で露光
した後、乾燥状態で（気体状の）アンモニアを使用して
現像した。例１および２と同様に、この場合も、つや消
し層を通して露光した半分においてのみ均質なハーフト
ーンが再現された。
【００４７】例４ （オフセット印刷版）塩酸中で電気分解により粗面化
（ＤＩＮ ４７６８によるＲz 値：５．０μm）され、
硫酸中で酸洗され、次いで硫酸中で陽極酸化（酸化物重
量４．０ g/m2）された０．３mm厚のアルミニウムホイ
ルを、ポリビニルホスホン酸で親水性付与し、次いで
５．００重量部の、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４０に
よるヒドロキシル価が４２０、平均分子量Ｍw が１０，
０００（ポリスチレン標準を使用し、ＧＰＣにより測
定）であるクレゾール／ホルムアルデヒドノボラック、
１．２０重量部の、２−ジアジド−１，２−ナフトキノ
ン−５−スルホニルクロライド３モルおよび２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルのエステル、
０．１５重量部の２−ジアジド−１，２−ナフトキノン
−４−スルホニルクロライド、０．０５重量部のVictor
ia Sky Blue(C.I. 44045) および０．００５重量部のポ
リエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ REdaplan L
A）、および９３．５９５重量部の、メチルエチルケト
ンとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物
（４０／６０）の溶液で被覆し、１２５℃で乾燥させ
た。こうして形成された放射線感応性層の重量は２．４
g/m2 であった。
（ＤＩＮ ４７６８によるＲz 値：５．０μm）され、
硫酸中で酸洗され、次いで硫酸中で陽極酸化（酸化物重
量４．０ g/m2）された０．３mm厚のアルミニウムホイ
ルを、ポリビニルホスホン酸で親水性付与し、次いで
５．００重量部の、ＤＩＮ ５３７８３／５３２４０に
よるヒドロキシル価が４２０、平均分子量Ｍw が１０，
０００（ポリスチレン標準を使用し、ＧＰＣにより測
定）であるクレゾール／ホルムアルデヒドノボラック、
１．２０重量部の、２−ジアジド−１，２−ナフトキノ
ン−５−スルホニルクロライド３モルおよび２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルのエステル、
０．１５重量部の２−ジアジド−１，２−ナフトキノン
−４−スルホニルクロライド、０．０５重量部のVictor
ia Sky Blue(C.I. 44045) および０．００５重量部のポ
リエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ REdaplan L
A）、および９３．５９５重量部の、メチルエチルケト
ンとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物
（４０／６０）の溶液で被覆し、１２５℃で乾燥させ
た。こうして形成された放射線感応性層の重量は２．４
g/m2 であった。
【００４８】こうして製造された記録材料を３つの部分
に切断した。Ａ部分はそれ以上処理しなかったのに対
し、ＢおよびＣ部分は、水に分散させた２０重量％の固
体を含む分散液でつや消し処理を行なった。この固体は
実質的に、メタクリル酸含有量が４．６重量％である、
メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル
のターポリマーであった。分散液はノニル−フェノール
オクタグリコールスルホン酸のナトリウム塩で安定化さ
せた。分散液は、動的粘度（μ）が３．０ mPa・s 、密
度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）３９mN/mであ
った。
に切断した。Ａ部分はそれ以上処理しなかったのに対
し、ＢおよびＣ部分は、水に分散させた２０重量％の固
体を含む分散液でつや消し処理を行なった。この固体は
実質的に、メタクリル酸含有量が４．６重量％である、
メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル
のターポリマーであった。分散液はノニル−フェノール
オクタグリコールスルホン酸のナトリウム塩で安定化さ
せた。分散液は、動的粘度（μ）が３．０ mPa・s 、密
度（ρ）約１g/ml、および表面張力（σ）３９mN/mであ
った。
【００４９】分散液は、公知の方法（ＥＰ−Ａ ０６４
９０６３号明細書）で、高速度で回転する噴霧ベル
（「高速ベル」）を使用し、静電気的に補助しながら、
部分Ｂの上にスプレーした。使用した噴霧ベルは、直径
が６cmで、速度が２０，０００回転／分であった。噴霧
ベルと記録材料表面の間隔は１５cmであった。ベルト記
録材料の間の静電気的電位差は４０kVであった。次い
で、こうして形成された不連続つや消し層を赤外線で乾
燥させた。
９０６３号明細書）で、高速度で回転する噴霧ベル
（「高速ベル」）を使用し、静電気的に補助しながら、
部分Ｂの上にスプレーした。使用した噴霧ベルは、直径
が６cmで、速度が２０，０００回転／分であった。噴霧
ベルと記録材料表面の間隔は１５cmであった。ベルト記
録材料の間の静電気的電位差は４０kVであった。次い
で、こうして形成された不連続つや消し層を赤外線で乾
燥させた。
【００５０】つや消し層は１平方センチメートル毎に平
均２，３００個のキュロットを有し、キュロットの平均
高さは４μm 、最大高さは９μm であった。キュロット
の平均直径は３５μm で、最大直径は７０μm であっ
た。したがって、このつや消しは「単分散」ではなかっ
た。
均２，３００個のキュロットを有し、キュロットの平均
高さは４μm 、最大高さは９μm であった。キュロット
の平均直径は３５μm で、最大直径は７０μm であっ
た。したがって、このつや消しは「単分散」ではなかっ
た。
【００５１】部分Ｃは、本発明により、滴発生機を使用
してつや消しを行なった。滴発生機は、記録材料上を走
査移動する様に誘導した。滴発生機のオリフィスプレー
トにある孔の直径（ｄ）は１０μm 、励起周波数（ｆ）
は１００ kHz、平均滴直径（Ｄ10）は２６μm 、キュロ
ット間の間隔（δT ）は５０μm 、キュロットの高さは
４μm 、キュロットの直径（ｓ）は４０μm であった。
つや消し層は部分Ｂの場合と同様に乾燥させた。
してつや消しを行なった。滴発生機は、記録材料上を走
査移動する様に誘導した。滴発生機のオリフィスプレー
トにある孔の直径（ｄ）は１０μm 、励起周波数（ｆ）
は１００ kHz、平均滴直径（Ｄ10）は２６μm 、キュロ
ット間の間隔（δT ）は５０μm 、キュロットの高さは
４μm 、キュロットの直径（ｓ）は４０μm であった。
つや消し層は部分Ｂの場合と同様に乾燥させた。
【００５２】密着法により、２０％区域被覆した６０線
ハーフトーンポジの下で露光した後、部分Ａ、Ｂおよび
Ｃを、浸漬浴現像装置中で、０．４５ mol/lのＮａ2 Ｓ
ｉＯ3 、１０ g/lの安息香酸および１ g/lのＨＬＢ（親
水性−親油性バランス）値１３を有するノニルフェノー
ルエトキシレートを含む水性アルカリ現像剤で２０秒間
現像し、オフセット印刷印刷版を製造した。
ハーフトーンポジの下で露光した後、部分Ａ、Ｂおよび
Ｃを、浸漬浴現像装置中で、０．４５ mol/lのＮａ2 Ｓ
ｉＯ3 、１０ g/lの安息香酸および１ g/lのＨＬＢ（親
水性−親油性バランス）値１３を有するノニルフェノー
ルエトキシレートを含む水性アルカリ現像剤で２０秒間
現像し、オフセット印刷印刷版を製造した。
【００５３】この様にして得た３種類の印刷版を比較
し、版Ａは非常に不均質なハーフトーン画像を与え、不
合格であった。版Ｂは、ハーフトーンの不均質性が、低
くはあるが、なお認められるので、同様に不合格であっ
た。版Ｃだけがハーフトーン画像を均一に再現した。
し、版Ａは非常に不均質なハーフトーン画像を与え、不
合格であった。版Ｂは、ハーフトーンの不均質性が、低
くはあるが、なお認められるので、同様に不合格であっ
た。版Ｃだけがハーフトーン画像を均一に再現した。
【図１】本発明の方法による滴の直径の分布図。
【図２】本発明の方法による滴の速度の分布図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレアス、エルスエッサー ドイツ連邦共和国イートシュタイン、アド ルフ‐コルピング‐ウェーク、13 (72)発明者 オトフリート、ガシュラー ドイツ連邦共和国ウィースバーデン、ケー ルシュトラーセ、21 (72)発明者 ギュンター、フルチュ ドイツ連邦共和国ウィースバーデン、フォ ルカーシュトラーセ、42 (72)発明者 クラウス、イエルク ドイツ連邦共和国インゲルハイム、イン、 デル、ブリッツ、５
Claims (16)
- 【請求項１】密着焼付法で画像が形成され、表面上に不
連続のつや消し層が存在する、シート状放射線感応性記
録材料であって、つや消し層が単分散粒子を含んでなる
ことを特徴とする記録材料。 - 【請求項２】単分散粒子を含んでなる不連続つや消し層
が、画像を有する原画と接触する側に配置されている、
請求項１に記載の記録材料。 - 【請求項３】支持体、好ましくは金属製またはプラスチ
ック製の支持体、および放射線感応性層を含んでなる、
請求項１または２に記載の記録材料。 - 【請求項４】支持体がアルミニウムホイルまたはポリエ
ステルフィルムである、請求項１〜３のいずれか１項に
記載の記録材料。 - 【請求項５】単分散滴の形態のつや消し液を噴霧するこ
とを含んでなることを特徴とする、成形品上に不連続つ
や消し層を形成させる方法。 - 【請求項６】つや消し液が、装置中の液体に振動を伝達
することができる振動発生機、および直径が５〜２５０
μm の少なくとも１個の孔を有し、この孔から液体が少
なくとも一つの薄層自由ジェットの形態で放出され、こ
のジェットが崩壊して単分散滴になるオリフィスプレー
ト、を具備してなる装置を使用して噴霧される、請求項
５に記載の方法。 - 【請求項７】振動発生機が１〜２００ kHz、好ましくは
２〜１５０ kHz、の周波数を有する振動を伝達する、請
求項５または６に記載の方法。 - 【請求項８】振動発生機か圧電セラミックである、請求
項５〜７のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項９】個々の孔の直径が１０〜１００μm であ
る、請求項５〜８のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１０】つや消し液が溶液または分散液である、
請求項５〜９のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１１】溶液または分散液中の溶剤または連続相
の沸点が約４０〜２５０℃である、請求項１０に記載の
方法。 - 【請求項１２】溶液または分散液のOhnesorge 数(Oh)が
０．０１またはそれを超える、請求項１０または１１に
記載の方法。 - 【請求項１３】溶液または分散液が、その総重量に対し
て０．５〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量％、の
固体を含有する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記
載の方法。 - 【請求項１４】固体が有機重合体、好ましくは少なくと
も４０℃のガラス転移温度Ｔg を有する重合体、を含
む、請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１５】自由ジェットと、つや消しすべき表面の
垂線の間の傾斜角度（α）が０〜９０°未満、好ましく
は０〜８０°、である、請求項５〜１４のいずれか１項
に記載の方法。 - 【請求項１６】つや消し層が、噴霧された後に乾燥され
る、請求項５〜１５のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19533021.8 | 1995-09-07 | ||
| DE19533021A DE19533021A1 (de) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | Mattiertes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zu dessen Herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09222692A true JPH09222692A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=7771488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8237816A Pending JPH09222692A (ja) | 1995-09-07 | 1996-09-09 | つや消し放射線感応性記録材料およびその製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5994029A (ja) |
| EP (1) | EP0762211A1 (ja) |
| JP (1) | JPH09222692A (ja) |
| DE (1) | DE19533021A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6595202B2 (en) | 1996-05-13 | 2003-07-22 | Universidad De Sevilla | Device and method for creating aerosols for drug delivery |
| US6405936B1 (en) | 1996-05-13 | 2002-06-18 | Universidad De Sevilla | Stabilized capillary microjet and devices and methods for producing same |
| US6116516A (en) * | 1996-05-13 | 2000-09-12 | Universidad De Sevilla | Stabilized capillary microjet and devices and methods for producing same |
| JP2000029204A (ja) | 1998-07-14 | 2000-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料及びそのマット化方法 |
| US6378780B1 (en) * | 1999-02-09 | 2002-04-30 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Delivery system for dispensing volatiles |
| DE10029157A1 (de) * | 2000-06-19 | 2001-12-20 | Agfa Gevaert Nv | Vorsensibilisierte Druckplatte mit Rückseitenbeschichtung |
| US6482863B2 (en) | 2000-12-15 | 2002-11-19 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Insect repellant formulation deliverable by piezoelectric device |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1278645A (en) * | 1968-10-18 | 1972-06-21 | Mead Corp | Printing or similar image recording apparatus |
| US3790079A (en) * | 1972-06-05 | 1974-02-05 | Rnb Ass Inc | Method and apparatus for generating monodisperse aerosol |
| GB1542131A (en) * | 1975-02-19 | 1979-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light-sensitive printing plate precursors and process for the production thereof |
| JPS55101951A (en) * | 1979-01-30 | 1980-08-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Manufacture of photosensitive printing plate |
| JPS5734558A (en) * | 1980-08-11 | 1982-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive printing plate |
| JPS58137469A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 記録材料のマツト化方法 |
| DE3433247A1 (de) * | 1984-09-11 | 1986-03-20 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
| GB8813154D0 (en) * | 1988-06-03 | 1988-07-06 | Vickers Plc | Improvements in/relating to radiation sensitive devices |
| GB8926281D0 (en) * | 1989-11-21 | 1990-01-10 | Du Pont | Improvements in or relating to radiation sensitive devices |
| DE4335425A1 (de) * | 1993-10-18 | 1995-04-20 | Hoechst Ag | Mattiertes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| DE9318818U1 (de) * | 1993-12-08 | 1994-02-17 | Brenn, Günter, Dr.-Ing., 91052 Erlangen | Generator zur Erzeugung monodisperser Tropfen einstellbaren Durchmessers aus Flüssigkeiten unter Vordruck |
-
1995
- 1995-09-07 DE DE19533021A patent/DE19533021A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-08-29 EP EP96113802A patent/EP0762211A1/de not_active Withdrawn
- 1996-09-09 JP JP8237816A patent/JPH09222692A/ja active Pending
-
1998
- 1998-03-30 US US09/050,004 patent/US5994029A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19533021A1 (de) | 1997-03-13 |
| EP0762211A1 (de) | 1997-03-12 |
| US5994029A (en) | 1999-11-30 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |