JPH0920705A - シクロヘキサン系新規ホスト化合物 - Google Patents
シクロヘキサン系新規ホスト化合物Info
- Publication number
- JPH0920705A JPH0920705A JP19266995A JP19266995A JPH0920705A JP H0920705 A JPH0920705 A JP H0920705A JP 19266995 A JP19266995 A JP 19266995A JP 19266995 A JP19266995 A JP 19266995A JP H0920705 A JPH0920705 A JP H0920705A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- group
- cis
- cyclohexane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 次の一般式（１）で表されるシクロヘキサン
系新規ホスト化合物。 【化１】 （式中Ａｒ1 、Ａｒ2 は、単環式アリール基、または多
環式アリール基である。式中の波線は、シクロヘキサン
の１，４位の置換基がｃｉｓまたはｔｒａｎｓ位置にあ
ることを示す。） 特に、Ａｒ1 、Ａｒ2 が共にフェニル基であるｃｉｓ及
び／又はｔｒａｎｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロキ
シメチル）−シクロヘキサン。 【効果】 本発明のシクロアルカン系新規ホスト化合物
は、従来のホスト化合物に比べて非常に広範囲のゲスト
化合物と包接化合物を形成する有効な新規ホスト化合物
である。
系新規ホスト化合物。 【化１】 （式中Ａｒ1 、Ａｒ2 は、単環式アリール基、または多
環式アリール基である。式中の波線は、シクロヘキサン
の１，４位の置換基がｃｉｓまたはｔｒａｎｓ位置にあ
ることを示す。） 特に、Ａｒ1 、Ａｒ2 が共にフェニル基であるｃｉｓ及
び／又はｔｒａｎｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロキ
シメチル）−シクロヘキサン。 【効果】 本発明のシクロアルカン系新規ホスト化合物
は、従来のホスト化合物に比べて非常に広範囲のゲスト
化合物と包接化合物を形成する有効な新規ホスト化合物
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ゲスト化合物と包接化
合物を形成する新規なホスト化合物に関するものであ
り、特に本発明のホスト化合物により得られる包接化合
物は、有用生理活性化合物の分離・精製、徐放性の芳香
剤、殺虫剤、防虫剤、抗菌剤等の分野において有用なも
のである。
合物を形成する新規なホスト化合物に関するものであ
り、特に本発明のホスト化合物により得られる包接化合
物は、有用生理活性化合物の分離・精製、徐放性の芳香
剤、殺虫剤、防虫剤、抗菌剤等の分野において有用なも
のである。
【０００２】
【従来の技術】包接化合物とは、ホスト分子の３次元構
造の内部の空孔内にゲスト分子が一定の組成比で入り込
んでいる物質であり、選択的分離、化学的安定化、不揮
発化、粉末化などの技術分野における利用が期待されて
いる。従来の包接化合物のホスト化合物としては、１，
１，６，６−テトラフェニル−２，４−ヘキサンジイン
−１，６−ジオール（ＴＨＰ）等のプロパルギルアルコ
ール系分子や２，５−ジフェニルヒドロキノン等のヒド
ロキノン系分子など、数十種類が設計、合成されてい
る。
造の内部の空孔内にゲスト分子が一定の組成比で入り込
んでいる物質であり、選択的分離、化学的安定化、不揮
発化、粉末化などの技術分野における利用が期待されて
いる。従来の包接化合物のホスト化合物としては、１，
１，６，６−テトラフェニル−２，４−ヘキサンジイン
−１，６−ジオール（ＴＨＰ）等のプロパルギルアルコ
ール系分子や２，５−ジフェニルヒドロキノン等のヒド
ロキノン系分子など、数十種類が設計、合成されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、我々本
発明者らが検討した結果、これら従来のホスト化合物
は、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシドに対
しては包接能力を持つものが多いがアルコール類に対す
る包接能力が無かったり、テトラヒドロフランやアセト
ニトリルを包接しないなど広範なゲスト化合物に対して
包接化合物を形成するものが無かった。徐放性の芳香
剤、殺虫剤、防虫剤、抗菌剤としてのホスト化合物の応
用、また有機化合物の回収というホスト化合物の応用を
考えた場合、広範なゲスト化合物と包接化合物を形成す
ることができるホスト化合物が求められていた。本発明
はこのような問題点を解決し、従来のホスト化合物では
カバーできなかった広範な種々の有機化合物と包接化合
物を形成することができる新規なホスト化合物を提供す
ることを目的とする。
発明者らが検討した結果、これら従来のホスト化合物
は、ジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシドに対
しては包接能力を持つものが多いがアルコール類に対す
る包接能力が無かったり、テトラヒドロフランやアセト
ニトリルを包接しないなど広範なゲスト化合物に対して
包接化合物を形成するものが無かった。徐放性の芳香
剤、殺虫剤、防虫剤、抗菌剤としてのホスト化合物の応
用、また有機化合物の回収というホスト化合物の応用を
考えた場合、広範なゲスト化合物と包接化合物を形成す
ることができるホスト化合物が求められていた。本発明
はこのような問題点を解決し、従来のホスト化合物では
カバーできなかった広範な種々の有機化合物と包接化合
物を形成することができる新規なホスト化合物を提供す
ることを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、特定の構造を有するこ
とを特徴とする新規ホスト化合物を合成することに成功
し、この化合物が非常に広範なゲスト化合物と包接化合
物を形成することを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。
を達成すべく鋭意研究した結果、特定の構造を有するこ
とを特徴とする新規ホスト化合物を合成することに成功
し、この化合物が非常に広範なゲスト化合物と包接化合
物を形成することを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。
【０００５】すなわち、本発明は、下記式（１）
【化２】 （式中Ａｒ1 、Ａｒ2 は、単環式アリール基または、多
環式アリール基であり、式中の波線は、シクロヘキサン
の１，４位の置換基がｃｉｓまたはｔｒａｎｓ位置にあ
ることを示す。）で示されるシクロヘキサンの１，４位
にジアリールヒドロキシメチル基を有することを特徴と
する新規ホスト化合物を提供するものである。さらに、
式（１）中のＡｒ1 、Ａｒ2 がともにフェニル基である
上記の新規ホスト化合物に関するものである。
環式アリール基であり、式中の波線は、シクロヘキサン
の１，４位の置換基がｃｉｓまたはｔｒａｎｓ位置にあ
ることを示す。）で示されるシクロヘキサンの１，４位
にジアリールヒドロキシメチル基を有することを特徴と
する新規ホスト化合物を提供するものである。さらに、
式（１）中のＡｒ1 、Ａｒ2 がともにフェニル基である
上記の新規ホスト化合物に関するものである。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。式（１）
におけるＡｒ1 、およびＡｒ2 をより具体的に例示する
と、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基等の単環式アリール基、インデニル基、ナフ
チル基、アンスリル基、フェナンスリル基等の多環式ア
リール基である。また、これらの基にアルコキシ基、ジ
アルキルアミノ基、アルキル基、シクロアルキル基、ハ
ロゲノ基等が任意の位置に置換していてもよい。
におけるＡｒ1 、およびＡｒ2 をより具体的に例示する
と、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基等の単環式アリール基、インデニル基、ナフ
チル基、アンスリル基、フェナンスリル基等の多環式ア
リール基である。また、これらの基にアルコキシ基、ジ
アルキルアミノ基、アルキル基、シクロアルキル基、ハ
ロゲノ基等が任意の位置に置換していてもよい。
【０００７】アルコキシ基としては、炭素数が１〜５個
のものが好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓ
ｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペントキシ
基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミ
ノ基等が好ましい。
のものが好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓ
ｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペントキシ
基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミ
ノ基等が好ましい。
【０００８】アルキル基としては、炭素数が１〜５個の
ものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基
等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が
好ましい。
ものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基
等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が
好ましい。
【０００９】また、ハロゲノ基としては、フッ素、塩
素、臭素などが好ましい。これらの原子団がＡｒ1 、Ａ
ｒ2 に置換している個数は特に制限はない。また、前記
した、Ａｒ1 、Ａｒ2 として、その入手し易さの点から
フェニル基、ｐ−トリル基などが特に好ましく、具体的
には下記の式で示される化合物が挙げられる。
素、臭素などが好ましい。これらの原子団がＡｒ1 、Ａ
ｒ2 に置換している個数は特に制限はない。また、前記
した、Ａｒ1 、Ａｒ2 として、その入手し易さの点から
フェニル基、ｐ−トリル基などが特に好ましく、具体的
には下記の式で示される化合物が挙げられる。
【００１０】
【化３】
【００１１】
【化４】
【００１２】本発明の化合物は、例えば下記式（２）で
示されるｃｉｓ−およびｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘ
キサンジカルボン酸ジメチルを原料として次のようにし
て合成することができる。原料のｃｉｓ体およびｔｒａ
ｎｓ体は、市販の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸
ジメチルのｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物を結晶分別するこ
とによりそれぞれ高純度品を得ることができる。
示されるｃｉｓ−およびｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘ
キサンジカルボン酸ジメチルを原料として次のようにし
て合成することができる。原料のｃｉｓ体およびｔｒａ
ｎｓ体は、市販の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸
ジメチルのｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混合物を結晶分別するこ
とによりそれぞれ高純度品を得ることができる。
【００１３】
【化５】 （式中、波線は式（１）と同じ意味） すなわち、式（２）の化合物にＡｒ1 −Ｘ（Ｘはクロル
基、ブロモ基等のハロゲノ基を示す）と金属リチウムま
たはアルキルリチウムなどの有機リチウム試薬とを反応
させて得られるＡｒ1 −Ｌｉを反応させ、その後、加水
分解し、下記式（３）で示される化合物を得る。
基、ブロモ基等のハロゲノ基を示す）と金属リチウムま
たはアルキルリチウムなどの有機リチウム試薬とを反応
させて得られるＡｒ1 −Ｌｉを反応させ、その後、加水
分解し、下記式（３）で示される化合物を得る。
【００１４】
【化６】 （式中Ａｒ1 、波線は式（１）と同じ意味）
【００１５】次いで、Ａｒ2 −Ｘ（Ｘは上記と同じ意
味）から上記と同様にして得られるＡｒ2 −Ｌｉ、又は
Ａｒ2 −Ｘと金属マグネシウムとの反応から得られるＡ
ｒ2 −ＭｇＸを式（３）の化合物と反応させて前記式
（１）の化合物を得ることができる。ここで用いられる
有機リチウム化合物としては、第１級ブチルリチウム、
メチルリチウム、第３級ブチルリチウム、リチウムジイ
ソプロピルアミド、リチウムアミドなどを用いることが
できる。
味）から上記と同様にして得られるＡｒ2 −Ｌｉ、又は
Ａｒ2 −Ｘと金属マグネシウムとの反応から得られるＡ
ｒ2 −ＭｇＸを式（３）の化合物と反応させて前記式
（１）の化合物を得ることができる。ここで用いられる
有機リチウム化合物としては、第１級ブチルリチウム、
メチルリチウム、第３級ブチルリチウム、リチウムジイ
ソプロピルアミド、リチウムアミドなどを用いることが
できる。
【００１６】Ａｒ1 −Ｌｉ、Ａｒ2 −ＬｉまたはＡｒ2
−ＭｇＸの式（２）および式（３）の化合物に対する使
用量は、１等量以上５等量以下が好ましく、更に好まし
くは１等量以上４等量以下である。さらに、Ａｒ1 とＡ
ｒ2 が同じ場合には、式（２）の化合物に対して４等量
以上１０等量以下のＡｒ1 −ＭｇＸを反応させて一段で
目的化合物式（１）を得ることもできる。
−ＭｇＸの式（２）および式（３）の化合物に対する使
用量は、１等量以上５等量以下が好ましく、更に好まし
くは１等量以上４等量以下である。さらに、Ａｒ1 とＡ
ｒ2 が同じ場合には、式（２）の化合物に対して４等量
以上１０等量以下のＡｒ1 −ＭｇＸを反応させて一段で
目的化合物式（１）を得ることもできる。
【００１７】反応は、適当な溶媒中で行ってもよい。溶
媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどが好ましい。これらの溶媒は、できる限り無水
の状態であることが好ましい。また、本反応の反応温度
は特に制限は無いが、より短時間で目的物を得るために
溶媒の沸点で反応を行ってもよい。また本反応は、乾燥
不活性気体中、例えば窒素、アルゴンなどの気体中で、
実質的に無水の雰囲気で行うことが好ましい。また、本
反応における反応時間は、上記温度において０．５時間
以上５０時間以下の間、反応混合物を撹拌することが好
ましい。さらに好ましくは、１時間以上１０時間以下で
ある。
媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テルなどが好ましい。これらの溶媒は、できる限り無水
の状態であることが好ましい。また、本反応の反応温度
は特に制限は無いが、より短時間で目的物を得るために
溶媒の沸点で反応を行ってもよい。また本反応は、乾燥
不活性気体中、例えば窒素、アルゴンなどの気体中で、
実質的に無水の雰囲気で行うことが好ましい。また、本
反応における反応時間は、上記温度において０．５時間
以上５０時間以下の間、反応混合物を撹拌することが好
ましい。さらに好ましくは、１時間以上１０時間以下で
ある。
【００１８】所定時間反応を行った後、反応混合物に
水、希塩酸水溶液などを加えることにより反応を終了さ
せる。通常の単離方法、例えば、反応混合物にトルエン
などの非水溶性有機溶媒を加え抽出後、有機溶媒を留去
することにより本発明のシクロヘキサン系新規ホスト化
合物を単離することができる。さらに必要であればメタ
ノールなどの溶媒から再結晶してもよい。また、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーなどを用いて精製するこ
とも好ましい。
水、希塩酸水溶液などを加えることにより反応を終了さ
せる。通常の単離方法、例えば、反応混合物にトルエン
などの非水溶性有機溶媒を加え抽出後、有機溶媒を留去
することにより本発明のシクロヘキサン系新規ホスト化
合物を単離することができる。さらに必要であればメタ
ノールなどの溶媒から再結晶してもよい。また、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーなどを用いて精製するこ
とも好ましい。
【００１９】本発明のホスト化合物は、ゲスト有機化合
物、もしくはゲスト有機化合物を含む溶液と−５０℃〜
ゲスト化合物の沸点の範囲で数分間〜数時間撹拌混合す
ることにより容易に包接化合物を得ることができる。ま
た、好ましくは本発明のゲスト有機化合物を加熱しなが
ら本発明のホスト化合物を溶解し、冷却することにより
包接化合物の結晶を得ることができる。
物、もしくはゲスト有機化合物を含む溶液と−５０℃〜
ゲスト化合物の沸点の範囲で数分間〜数時間撹拌混合す
ることにより容易に包接化合物を得ることができる。ま
た、好ましくは本発明のゲスト有機化合物を加熱しなが
ら本発明のホスト化合物を溶解し、冷却することにより
包接化合物の結晶を得ることができる。
【００２０】本発明のホスト化合物は、非常に広範な有
機化合物と包接化合物を形成することができる点で特徴
的である。ゲスト有機化合物としては、例えば、メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、シク
ロペンタノン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類等であり、さらにはアセトニトリ
ル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ベンゼ
ン、ナフタレン等の芳香族類、四塩化炭素、クロロホル
ム等のハロゲン化合物等が挙げられる。
機化合物と包接化合物を形成することができる点で特徴
的である。ゲスト有機化合物としては、例えば、メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、シク
ロペンタノン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類等であり、さらにはアセトニトリ
ル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ベンゼ
ン、ナフタレン等の芳香族類、四塩化炭素、クロロホル
ム等のハロゲン化合物等が挙げられる。
【００２１】多くの場合、本発明のホスト化合物と前記
したゲスト化合物とが包接化合物を形成すると、本発明
のホスト化合物のＯＨ基のＩＲスペクトルにおけるＯＨ
伸縮振動の吸収位置が低波数側にシフトする。このこと
から包接化合物の形成を確認することができる。
したゲスト化合物とが包接化合物を形成すると、本発明
のホスト化合物のＯＨ基のＩＲスペクトルにおけるＯＨ
伸縮振動の吸収位置が低波数側にシフトする。このこと
から包接化合物の形成を確認することができる。
【００２２】また、本発明の包接化合物は、常圧下また
は減圧下で加熱するとゲスト化合物を容易に放出する。
加熱温度と放出量の関係は、包接化合物を形成していな
い場合にはゲスト化合物の沸点で急激に放出量が増加す
るが、包接化合物を形成している場合には、ゲスト化合
物の沸点での放出量の大きな増加は見られない。さらに
高温になると個々の包接化合物特有の温度においてゲス
ト化合物の放出が始まる。このことからも包接化合物の
形成を確認することができ、またその放出量から本発明
のホスト化合物中のＯＨ基とゲスト化合物との包接比を
算出することもでき、この比が整数比になることからも
包接化合物の形成を確認することができる。また、本発
明の化合物をホストとする包接化合物は、包接状態で化
学反応、例えば、光反応を行いゲスト分子を他の分子に
誘導することができる。
は減圧下で加熱するとゲスト化合物を容易に放出する。
加熱温度と放出量の関係は、包接化合物を形成していな
い場合にはゲスト化合物の沸点で急激に放出量が増加す
るが、包接化合物を形成している場合には、ゲスト化合
物の沸点での放出量の大きな増加は見られない。さらに
高温になると個々の包接化合物特有の温度においてゲス
ト化合物の放出が始まる。このことからも包接化合物の
形成を確認することができ、またその放出量から本発明
のホスト化合物中のＯＨ基とゲスト化合物との包接比を
算出することもでき、この比が整数比になることからも
包接化合物の形成を確認することができる。また、本発
明の化合物をホストとする包接化合物は、包接状態で化
学反応、例えば、光反応を行いゲスト分子を他の分子に
誘導することができる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるも
のではない。 （参考例１） 《高純度ｃｉｓ及びｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン酸ジメチルの合成》市販の１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸ジメチル（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混
合物）を常温でろ過し、得られた結晶を融点が６７℃に
なるまでエーテルから再結晶を繰り返した。得られた結
晶は、高速液体クロマトグラフィー、及び 1Ｈ−ＮＭＲ
からの結果からみてｔｒａｎｓ体の純度が１００％であ
った。一方、市販品を常温でろ過したろ液を１５℃まで
冷却し、ろ過し、ろ液を−１０℃まで冷却してろ過し
た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー、及び
1Ｈ−ＮＭＲで分析したところｃｉｓ体の純度が８５％
であった。
するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるも
のではない。 （参考例１） 《高純度ｃｉｓ及びｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン酸ジメチルの合成》市販の１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸ジメチル（ｃｉｓ，ｔｒａｎｓ混
合物）を常温でろ過し、得られた結晶を融点が６７℃に
なるまでエーテルから再結晶を繰り返した。得られた結
晶は、高速液体クロマトグラフィー、及び 1Ｈ−ＮＭＲ
からの結果からみてｔｒａｎｓ体の純度が１００％であ
った。一方、市販品を常温でろ過したろ液を１５℃まで
冷却し、ろ過し、ろ液を−１０℃まで冷却してろ過し
た。得られた結晶を高速液体クロマトグラフィー、及び
1Ｈ−ＮＭＲで分析したところｃｉｓ体の純度が８５％
であった。
【００２４】《ｃｉｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロ
キシメチル）−シクロヘキサン（化合物１）の合成》金
属マグネシウム（１０．０ｇ、０．４１１ｍｏｌ）とフ
ェニルブロミド（７７．５ｇ、０．４９４ｍｏｌ）から
調整したフェニルマグネシウムブロミドのジエチルエー
テル溶液４００ｍｌ（１．０Ｍ）に参考例１で合成した
ｃｉｓ−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル（１０．
０ｇ、０．０５０ｍｏｌ）をジエチルエーテル１０ｍｌ
に溶解した溶液を還流が続く程度の速度で徐々に滴下し
た。滴下終了後、１２時間室温で撹拌した。反応液を氷
冷希塩酸に加え、トルエンで抽出した。トルエン層を
水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。トルエンを留去し、析出した結晶をア
セトンに溶解し、析出した結晶をアセトンで再結晶し、
ｃｉｓ体の目的物をアセトン包接結晶体として得た。同
時にろ液のアセトンを留去し、ｔｒａｎｓ体の目的物が
得られた。ｃｉｓ体、ｔｒａｎｓ体のアセトン包接結晶
は、それぞれ１２０℃、２時間加熱することによりアセ
トンを脱包接した。
キシメチル）−シクロヘキサン（化合物１）の合成》金
属マグネシウム（１０．０ｇ、０．４１１ｍｏｌ）とフ
ェニルブロミド（７７．５ｇ、０．４９４ｍｏｌ）から
調整したフェニルマグネシウムブロミドのジエチルエー
テル溶液４００ｍｌ（１．０Ｍ）に参考例１で合成した
ｃｉｓ−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル（１０．
０ｇ、０．０５０ｍｏｌ）をジエチルエーテル１０ｍｌ
に溶解した溶液を還流が続く程度の速度で徐々に滴下し
た。滴下終了後、１２時間室温で撹拌した。反応液を氷
冷希塩酸に加え、トルエンで抽出した。トルエン層を
水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。トルエンを留去し、析出した結晶をア
セトンに溶解し、析出した結晶をアセトンで再結晶し、
ｃｉｓ体の目的物をアセトン包接結晶体として得た。同
時にろ液のアセトンを留去し、ｔｒａｎｓ体の目的物が
得られた。ｃｉｓ体、ｔｒａｎｓ体のアセトン包接結晶
は、それぞれ１２０℃、２時間加熱することによりアセ
トンを脱包接した。
【００２５】ｃｉｓ体収量９．３ｇ、収率４９％。ｔｒ
ａｎｓ体収量２．６４ｇ。ｃｉｓ体の融点は、１８９−
１９０℃であり、元素分析値はＣ：８５．４７（８５．
６８）、Ｈ：７．３８（７．１９）（括弧内は計算値）
であった。図１に本化合物のヌジョール法によるＩＲス
ペクトル、図２に 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ３）を示
した。以上の諸データより、本化合物がｃｉｓ−１，４
−ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）−シクロヘキサン
であることを確認した。
ａｎｓ体収量２．６４ｇ。ｃｉｓ体の融点は、１８９−
１９０℃であり、元素分析値はＣ：８５．４７（８５．
６８）、Ｈ：７．３８（７．１９）（括弧内は計算値）
であった。図１に本化合物のヌジョール法によるＩＲス
ペクトル、図２に 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ３）を示
した。以上の諸データより、本化合物がｃｉｓ−１，４
−ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）−シクロヘキサン
であることを確認した。
【００２６】（実施例２） 《ｔｒａｎｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロキシメチ
ル）−シクロヘキサン（化合物２）の合成》原料に参考
例１で合成したｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジカルボン
酸ジメチルを用いた以外は、実施例１と同様にして、ｔ
ｒａｎｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）
−シクロヘキサン（１７．２７ｇ、収率７７％）を得
た。
ル）−シクロヘキサン（化合物２）の合成》原料に参考
例１で合成したｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジカルボン
酸ジメチルを用いた以外は、実施例１と同様にして、ｔ
ｒａｎｓ−１，４−ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）
−シクロヘキサン（１７．２７ｇ、収率７７％）を得
た。
【００２７】ｔｒａｎｓ体の融点は、２６２−２６３℃
であり、元素分析値はＣ：８５．５１（８５．６８）、
Ｈ：７．２３（７．１９）（括弧内は計算値）であっ
た。図３に本化合物のヌジョール法によるＩＲスペクト
ル、図４に 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ３）を示した。
以上の諸データより、本化合物がｔｒａｎｓ−１，４−
ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）−シクロヘキサンで
あることを確認した。
であり、元素分析値はＣ：８５．５１（８５．６８）、
Ｈ：７．２３（７．１９）（括弧内は計算値）であっ
た。図３に本化合物のヌジョール法によるＩＲスペクト
ル、図４に 1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＣＤＣｌ３）を示した。
以上の諸データより、本化合物がｔｒａｎｓ−１，４−
ジ（ジフェニルヒドロキシメチル）−シクロヘキサンで
あることを確認した。
【００２８】（参考例１、２） 《包接化合物の製造》実施例１及び２で得たホスト化合
物の５０ｍｇに表１に示すゲスト化合物３ｍｌを加え、
撹拌混合した後風乾し、包接化合物を製造した。包接化
合物の水素結合に由来するＩＲのＯＨ伸縮振動の吸収位
置を表１に示す。また、熱重量分析装置により測定した
ホスト分子とゲスト分子のモル比を表２に示す。
物の５０ｍｇに表１に示すゲスト化合物３ｍｌを加え、
撹拌混合した後風乾し、包接化合物を製造した。包接化
合物の水素結合に由来するＩＲのＯＨ伸縮振動の吸収位
置を表１に示す。また、熱重量分析装置により測定した
ホスト分子とゲスト分子のモル比を表２に示す。
【００２９】これらの結果からここで試験した全てのゲ
スト化合物に対してＩＲのＯＨ伸縮振動の吸収位置が低
波数側へシフトしていることから包接化合物であること
が確認された。さらに熱重量分析の結果からホスト／ゲ
ストのモル比が整数値になっており、またゲスト分子の
沸点に於けるゲスト分子の放出量の増大が見られなかっ
たことからも包接化合物であることが確認された。
スト化合物に対してＩＲのＯＨ伸縮振動の吸収位置が低
波数側へシフトしていることから包接化合物であること
が確認された。さらに熱重量分析の結果からホスト／ゲ
ストのモル比が整数値になっており、またゲスト分子の
沸点に於けるゲスト分子の放出量の増大が見られなかっ
たことからも包接化合物であることが確認された。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】（参考比較例１）１，１，６，６−テトラ
フェニル−２，４−ヘキサンジイン−１，６−ジオール
（ＴＨＰ）と参考例１で試験したのと同じゲスト化合物
を同様に処理して固体を得、熱重量分析装置により包接
化合物が形成されているか否かを検討した。その結果、
ＴＨＰの場合には、メタノール、四塩化炭素で包接化合
物が形成されていないことが明らかになった。
フェニル−２，４−ヘキサンジイン−１，６−ジオール
（ＴＨＰ）と参考例１で試験したのと同じゲスト化合物
を同様に処理して固体を得、熱重量分析装置により包接
化合物が形成されているか否かを検討した。その結果、
ＴＨＰの場合には、メタノール、四塩化炭素で包接化合
物が形成されていないことが明らかになった。
【００３３】
【発明の効果】本発明のシクロヘキサン系新規ホスト化
合物は、これまで知られているホスト化合物に比較して
非常に広範なゲスト化合物と包接化合物を形成する能力
を有している。従って本発明の新規ホスト化合物は、有
用生理活性化合物の分離・精製、徐放性の芳香剤、殺虫
剤、防虫剤、抗菌剤等の分野において種々の応用が期待
でき、産業上意義が極めて大きい。
合物は、これまで知られているホスト化合物に比較して
非常に広範なゲスト化合物と包接化合物を形成する能力
を有している。従って本発明の新規ホスト化合物は、有
用生理活性化合物の分離・精製、徐放性の芳香剤、殺虫
剤、防虫剤、抗菌剤等の分野において種々の応用が期待
でき、産業上意義が極めて大きい。
【図１】化合物１のＩＲスペクトルである。
【図２】化合物１の 1Ｈ−ＮＭＲである。
【図３】化合物２のＩＲスペクトルである。
【図４】化合物２の 1Ｈ−ＮＭＲである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸田 芙三夫 愛媛県温泉郡重信町牛渕1431−３
Claims (2)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （式中Ａｒ1 、Ａｒ2 は、単環式アリール基または、多
環式アリール基であり、式中の波線は、シクロヘキサン
の１，４位の置換基がｃｉｓまたはｔｒａｎｓ位置にあ
ることを示す。）で示されるシクロヘキサンの１，４位
にジアリールヒドロキシメチル基を有することを特徴と
する新規ホスト化合物。 - 【請求項２】 式（１）中のＡｒ1 、Ａｒ2 がともにフ
ェニル基である請求項１記載の新規ホスト化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19266995A JPH0920705A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | シクロヘキサン系新規ホスト化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19266995A JPH0920705A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | シクロヘキサン系新規ホスト化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0920705A true JPH0920705A (ja) | 1997-01-21 |
Family
ID=16295080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19266995A Withdrawn JPH0920705A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | シクロヘキサン系新規ホスト化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0920705A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010270093A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Iwatani Industrial Gases Corp | トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造方法及び高純度トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル |
-
1995
- 1995-07-06 JP JP19266995A patent/JPH0920705A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010270093A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Iwatani Industrial Gases Corp | トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造方法及び高純度トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2003042139A1 (fr) | Procede de preparation de dihalogenoadamantanes | |
| US20040106818A1 (en) | Process for the preparation of cyclohexanol derivatives | |
| KR960000758B1 (ko) | 광학적 활성 히드록시벤질아민 유도체 및 그의 제조방법 | |
| WO2002100816A1 (en) | Process for producing 2-alkyl-2-adamantyl (meth)acrylate | |
| JP3992806B2 (ja) | ドネペジル中間体の製造法 | |
| JPH0920705A (ja) | シクロヘキサン系新規ホスト化合物 | |
| JP3844639B2 (ja) | 不斉合成触媒用組成物を用いた不斉シアノシリル化物の製造法 | |
| KR100521062B1 (ko) | (3-알콕시페닐)마그네슘클로라이드의제조방법및당해클로라이드를사용한알콜제조방법 | |
| JP3477631B2 (ja) | １，３−ビス（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラオルガノジシロキサンの精製方法 | |
| WO2003014067A1 (en) | PROCESS FOR PRODUCING ß-OXONITRILE COMPOUND OR ALKALI METAL SALT THEREOF | |
| JPH11222452A (ja) | ６−ビニル−２−ｔ−ブトキシナフタレン及びその製造方法 | |
| JP3505991B2 (ja) | ４，５−ジ置換アントラニルアミドの製造法 | |
| JPH08259480A (ja) | シクロアルカン−１，３−ジオール新規ホスト化合物 | |
| JP3010756B2 (ja) | 光学活性アルコールの製造方法 | |
| JPH09227472A (ja) | 光学活性アミノアルコールの製造方法 | |
| CN118206421A (zh) | 二氢富烯衍生物及其制备方法 | |
| JP3340761B2 (ja) | パラ−第三級ブトキシ−α−メチルスチレンの製造法 | |
| US6414206B2 (en) | Process for preparing bisindenylalkanes | |
| JP2864985B2 (ja) | トリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法 | |
| JPH05320085A (ja) | パラ−第三級ブトキシフェニルジメチルカルビノールおよびその製造法 | |
| JP3696529B2 (ja) | アルドール化合物の製造方法 | |
| JP2737304B2 (ja) | キラルなフェロセン誘導体 | |
| KR20040019717A (ko) | 풀벤계 화합물 및 이의 제조방법 | |
| KR950013099B1 (ko) | 광학적 활성 화합물의 제조방법. | |
| JP4243397B2 (ja) | 新規な不飽和２級アルコールおよびその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |