JPH09198641A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- Y10T428/265—1 mil or less
Abstract
(57)【要約】
【課題】磁性層に高保磁力材料(CoCrPt系,Co
NiCrTa系,CoCrTaPt系合金)を用いて、
高保磁力(2400 Oe≦Hc ≦3200) かつ、低ノイズしかも
高保磁力角形比(0.80 以上0.95以下) の磁気記録媒体を
提供する。 【解決手段】Al−Mg基体1上にNi−Pメッキ層2
を形成し、下地層3,多層膜磁性層7,保護層5,潤滑
層6を順次積層した磁気記録媒体において、磁性膜7a
に高保磁力材料(CoCrPt系,CoNiCrTa
系,CoCrTaPt系合金)を用い、これをCr−X
(X:Mo,Ta,Ti,W)合金からなる中間層7b
を介して2〜6層に積層形成する。
NiCrTa系,CoCrTaPt系合金)を用いて、
高保磁力(2400 Oe≦Hc ≦3200) かつ、低ノイズしかも
高保磁力角形比(0.80 以上0.95以下) の磁気記録媒体を
提供する。 【解決手段】Al−Mg基体1上にNi−Pメッキ層2
を形成し、下地層3,多層膜磁性層7,保護層5,潤滑
層6を順次積層した磁気記録媒体において、磁性膜7a
に高保磁力材料(CoCrPt系,CoNiCrTa
系,CoCrTaPt系合金)を用い、これをCr−X
(X:Mo,Ta,Ti,W)合金からなる中間層7b
を介して2〜6層に積層形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピューターの
外部記憶装置に搭載されるハードディスク等の磁気記録
媒体及びその製造方法に関し、特に、多層膜磁性層を備
えた磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
外部記憶装置に搭載されるハードディスク等の磁気記録
媒体及びその製造方法に関し、特に、多層膜磁性層を備
えた磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピューター用磁気記録媒体は
高記録密度化の進展が激しく、高記録密度の磁気記録媒
体には高保磁力(Hc)と低ノイズが要求されている。
図9は従来の一般的な磁気記録媒体の断面構造を示す断
面図である。この磁気記録媒体は、Al−Mg合金基体
1の上にNi−Pメッキ層2を形成し、そのメッキ層2
を機械加工により鏡面仕上げをしたのち、微小凹凸(テ
クスチャー)を施して基板を形成し、その基板上にスパ
ッタ法により下地Cr層3,磁性層4,保護層5を順次
成膜した後、最後に潤滑層6を塗布したものである。磁
性層4としては例えば単層膜構造のCoCrTa系合金
膜が形成されている。
高記録密度化の進展が激しく、高記録密度の磁気記録媒
体には高保磁力(Hc)と低ノイズが要求されている。
図9は従来の一般的な磁気記録媒体の断面構造を示す断
面図である。この磁気記録媒体は、Al−Mg合金基体
1の上にNi−Pメッキ層2を形成し、そのメッキ層2
を機械加工により鏡面仕上げをしたのち、微小凹凸(テ
クスチャー)を施して基板を形成し、その基板上にスパ
ッタ法により下地Cr層3,磁性層4,保護層5を順次
成膜した後、最後に潤滑層6を塗布したものである。磁
性層4としては例えば単層膜構造のCoCrTa系合金
膜が形成されている。
【0003】磁性層4として単層膜構造のCoCrTa
系合金を用いた磁気記録媒体は、低ノイズ媒体であるも
のの、保磁力Hcは2200Oe が限界である。これに
対して高保磁力の磁性材料としてはCoCrPt系,C
oNiCrTa系,CoCrTaPt系があるが、Co
CrTa系に比べてノイズが高く、そのままでは今後の
高記録密度化に対応することは困難である。
系合金を用いた磁気記録媒体は、低ノイズ媒体であるも
のの、保磁力Hcは2200Oe が限界である。これに
対して高保磁力の磁性材料としてはCoCrPt系,C
oNiCrTa系,CoCrTaPt系があるが、Co
CrTa系に比べてノイズが高く、そのままでは今後の
高記録密度化に対応することは困難である。
【0004】そこでこれらの課題を解決するため、本発
明の発明者らにより、上記高保磁力磁性材料を用いた磁
性層4を単層構造ではなく、非磁性中間膜を介して積層
されてなる多層構造とする研究がなされてきた。
明の発明者らにより、上記高保磁力磁性材料を用いた磁
性層4を単層構造ではなく、非磁性中間膜を介して積層
されてなる多層構造とする研究がなされてきた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この多層膜磁性層によ
り、高保磁力かつ低ノイズな媒体を提供することが可能
となった。しかし、多層膜磁性層は各層が薄く、非磁性
中間層と磁性層の結晶格子ミスマッチによる結晶配向性
が不十分であるため、保磁力角形比S* が小さく(0.80
以下)、O/W・Pw50等の記録・再生特性が不十分
であり、かつ本来の磁気特性が持つ保磁力の上限を抑制
しているという問題があった。
り、高保磁力かつ低ノイズな媒体を提供することが可能
となった。しかし、多層膜磁性層は各層が薄く、非磁性
中間層と磁性層の結晶格子ミスマッチによる結晶配向性
が不十分であるため、保磁力角形比S* が小さく(0.80
以下)、O/W・Pw50等の記録・再生特性が不十分
であり、かつ本来の磁気特性が持つ保磁力の上限を抑制
しているという問題があった。
【0006】そこで上記問題点に鑑み、本発明の目的
は、高保磁力材料(CoCrPt系合金,CoNiCr
Ta系合金,CoCrTaPt系合金)を用いた多層膜
構造の磁性層を有する磁気記録媒体であって、高保磁力
(2400 Oe≦Hc ≦3200 Oe)かつ高保磁力角形比(0.80≦
S* ≦0.95) で、しかも低ノイズCoCrTa系媒体と
同等、又はそれ以下の低ノイズ特性を持つ磁気記録媒体
を提供することにある。
は、高保磁力材料(CoCrPt系合金,CoNiCr
Ta系合金,CoCrTaPt系合金)を用いた多層膜
構造の磁性層を有する磁気記録媒体であって、高保磁力
(2400 Oe≦Hc ≦3200 Oe)かつ高保磁力角形比(0.80≦
S* ≦0.95) で、しかも低ノイズCoCrTa系媒体と
同等、又はそれ以下の低ノイズ特性を持つ磁気記録媒体
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、磁気記録媒体の磁性層を単層構造の磁性
層ではなく、Cr−X(X:Mo,Ta,Ti,W)か
らなる非磁性中間層を介して積層された多層膜構造の磁
性層とするものである。前記磁性層材料としては、上述
の高保磁力材料(CoCrPt系合金,CoNiCrT
a系合金,CoCrTaPt系合金)を用い、これを非
磁性中間層Cr−Xを介した2〜6層の多層膜磁性層と
するのが望ましい。
に、本発明は、磁気記録媒体の磁性層を単層構造の磁性
層ではなく、Cr−X(X:Mo,Ta,Ti,W)か
らなる非磁性中間層を介して積層された多層膜構造の磁
性層とするものである。前記磁性層材料としては、上述
の高保磁力材料(CoCrPt系合金,CoNiCrT
a系合金,CoCrTaPt系合金)を用い、これを非
磁性中間層Cr−Xを介した2〜6層の多層膜磁性層と
するのが望ましい。
【0008】さらに前記非磁性中間層の膜厚を5Å以上
50Å以下、及び各磁性膜の膜厚比(各々任意に選ばれ
た磁性膜の膜厚の比)を80%以上120%以下とする
ことが望ましい。また各磁性膜の保磁力は同一になるよ
う成膜を行うのが良い。このように、非磁性中間層を介
して磁性膜同士がり離層分離した構造を有しているの
で、磁性膜内の垂直方向の磁気的相互作用が低減され
る。また非磁性中間膜を薄くし、島状構造にすることに
より、磁性粒子間の磁気的相互作用を弱めることができ
る。これら2つの要因により、媒体ノイズが低減され
る。さらに、非磁性中間膜を介して各磁性層が分離して
いるので、各磁性膜の膜厚が減少し、磁性粒子間の孤立
性を高めるため、保磁力が向上する。さらには、非磁性
中間層に、Cr−X(X:Mo,Ta,Ti,W)を用
い、Co磁性層の結晶配向性を高めることにより、高保
磁力角形比も達成された。
50Å以下、及び各磁性膜の膜厚比(各々任意に選ばれ
た磁性膜の膜厚の比)を80%以上120%以下とする
ことが望ましい。また各磁性膜の保磁力は同一になるよ
う成膜を行うのが良い。このように、非磁性中間層を介
して磁性膜同士がり離層分離した構造を有しているの
で、磁性膜内の垂直方向の磁気的相互作用が低減され
る。また非磁性中間膜を薄くし、島状構造にすることに
より、磁性粒子間の磁気的相互作用を弱めることができ
る。これら2つの要因により、媒体ノイズが低減され
る。さらに、非磁性中間膜を介して各磁性層が分離して
いるので、各磁性膜の膜厚が減少し、磁性粒子間の孤立
性を高めるため、保磁力が向上する。さらには、非磁性
中間層に、Cr−X(X:Mo,Ta,Ti,W)を用
い、Co磁性層の結晶配向性を高めることにより、高保
磁力角形比も達成された。
【0009】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を添付図面
に基づいて説明する。図1は本発明の実施例に係る磁気
記録媒体の断面構造を示す模式図である。本実施例の磁
気記録媒体は、ディスク状Al−Mg合金基体1の上に
Ni−Pメッキ層2を形成し、そのメッキ層2を機械加
工により鏡面仕上げした後、基板円周方向に沿って微小
凹凸(テクスチャー)を施して基板を形成し、その基板
上にスパッタ法により下地Cr層3,多層膜磁性層7,
保護層5を順次成膜した後、最後に潤滑層6を塗布した
ものである。前記基板表面へのテクスチャー加工は、そ
の上に成膜される磁性膜の磁気異方性をそろえて保磁力
向上させるとともに、基板表面の凹凸形状が成膜後の媒
体表面に反映されて、媒体表面と磁気ヘッド間の摩擦低
減に寄与するものである。
に基づいて説明する。図1は本発明の実施例に係る磁気
記録媒体の断面構造を示す模式図である。本実施例の磁
気記録媒体は、ディスク状Al−Mg合金基体1の上に
Ni−Pメッキ層2を形成し、そのメッキ層2を機械加
工により鏡面仕上げした後、基板円周方向に沿って微小
凹凸(テクスチャー)を施して基板を形成し、その基板
上にスパッタ法により下地Cr層3,多層膜磁性層7,
保護層5を順次成膜した後、最後に潤滑層6を塗布した
ものである。前記基板表面へのテクスチャー加工は、そ
の上に成膜される磁性膜の磁気異方性をそろえて保磁力
向上させるとともに、基板表面の凹凸形状が成膜後の媒
体表面に反映されて、媒体表面と磁気ヘッド間の摩擦低
減に寄与するものである。
【0010】多層膜磁性層7は、非磁性中間膜7bを挟
んで積層された2〜6層の磁性膜7aから成る。この磁
性膜7aの磁性材料として、高保磁力材料であるCoC
rTaPt系合金(Cr:11%, Ta:4%, Pt:3%, Co:82%)を用
いた。図2は、非磁性中間層7bが、18ÅのCr−8a
t%W中間層である場合について、多層膜磁性層7のCo
CrTaPt系磁性膜7aの膜数を変化させ、規格化
(膜数1のときを1)した媒体ノイズの変化を示すグラ
フである。膜数2以上で急激にノイズが低下しており、
膜数6以上で飽和する。磁性膜数をこれより多くしても
媒体ノイズ減少の効果は顕著でなく、成膜回数の増加に
よるコストアップを招いてしまうので、磁性膜数として
は2以上6以下が好適である。
んで積層された2〜6層の磁性膜7aから成る。この磁
性膜7aの磁性材料として、高保磁力材料であるCoC
rTaPt系合金(Cr:11%, Ta:4%, Pt:3%, Co:82%)を用
いた。図2は、非磁性中間層7bが、18ÅのCr−8a
t%W中間層である場合について、多層膜磁性層7のCo
CrTaPt系磁性膜7aの膜数を変化させ、規格化
(膜数1のときを1)した媒体ノイズの変化を示すグラ
フである。膜数2以上で急激にノイズが低下しており、
膜数6以上で飽和する。磁性膜数をこれより多くしても
媒体ノイズ減少の効果は顕著でなく、成膜回数の増加に
よるコストアップを招いてしまうので、磁性膜数として
は2以上6以下が好適である。
【0011】多層膜磁性層7の製作においては、スパッ
タ法により磁性膜7aの上に非磁性中間膜7bを形成す
る工程を繰り返して行うが、ここで各磁性膜間の保磁力
を同一にすることが重要である。図3は、多層膜磁性層
7が2層膜の場合における磁化曲線(B−Hループ)を
示す。図3(a)に示すように、段差のある磁化曲線
(B−Hループ)となってしまうと、記録再生特性のオ
ーバーライト(O/W)特性、媒体ノイズ等が悪化して
しまう。そこで、多層膜磁性層7の各磁性膜7aの成膜
条件(例えばスパッタ装置のバイアス電流,磁性体カソ
ードのマグネット電流)を調整して各磁性膜7a間の保
磁力が同一になるように設定することによって、図3
(b)に示すような段差のない磁化曲線を実現すること
ができた。このことは、図2のように優れた磁気特性を
得るための必要条件である。
タ法により磁性膜7aの上に非磁性中間膜7bを形成す
る工程を繰り返して行うが、ここで各磁性膜間の保磁力
を同一にすることが重要である。図3は、多層膜磁性層
7が2層膜の場合における磁化曲線(B−Hループ)を
示す。図3(a)に示すように、段差のある磁化曲線
(B−Hループ)となってしまうと、記録再生特性のオ
ーバーライト(O/W)特性、媒体ノイズ等が悪化して
しまう。そこで、多層膜磁性層7の各磁性膜7aの成膜
条件(例えばスパッタ装置のバイアス電流,磁性体カソ
ードのマグネット電流)を調整して各磁性膜7a間の保
磁力が同一になるように設定することによって、図3
(b)に示すような段差のない磁化曲線を実現すること
ができた。このことは、図2のように優れた磁気特性を
得るための必要条件である。
【0012】図4は多層膜磁性層7が2層膜である場合
であって、Cr−8at%Wを非磁性中間膜7bとした場合
の中間膜膜厚に対するノイズ特性と信号対雑音比(SN
比)を示すグラフである。図中の比較例1は低ノイズの
CoCrTa媒体のノイズ特性とSN比である。このグ
ラフより明らかなように、中間Cr−W層の膜厚が5〜
50Åのほぼ全域において、本例の多層磁性層7の方
が、比較例のCoCrTa媒体よりも低ノイズを示し
た。
であって、Cr−8at%Wを非磁性中間膜7bとした場合
の中間膜膜厚に対するノイズ特性と信号対雑音比(SN
比)を示すグラフである。図中の比較例1は低ノイズの
CoCrTa媒体のノイズ特性とSN比である。このグ
ラフより明らかなように、中間Cr−W層の膜厚が5〜
50Åのほぼ全域において、本例の多層磁性層7の方
が、比較例のCoCrTa媒体よりも低ノイズを示し
た。
【0013】図5は、膜厚18ÅのCr−X非磁性中間
層(X:Mo,Ta,Ti,W)のCrに添加するX元
素の添加量と保磁力角形比S* の関係を示すものであ
る。これより、いずれの元素を添加しても、ある添加量
でS* は、最大となり、それ以上添加するとS* は低下
する。これはCr中間層とCo系磁性層との結晶格子の
ミスマッチがCr中間層にX元素の添加により減少する
が、ある量以上に添加すると再び、結晶格子のミスマッ
チが増加するためである。高保磁力角形比S* (0.80以
上)が得られる好適な添加量は、2at%≦Mo≦12at% ,
2at%≦Ta≦12at% ,2at%≦Ti≦15at% ,1at%≦W≦
20at% であり、より好ましくは、6at%≦Ta≦8at%,4a
t%≦Ti≦11at% ,3at%≦W≦15at% を添加することで
S* ≧0.85を実現できた。
層(X:Mo,Ta,Ti,W)のCrに添加するX元
素の添加量と保磁力角形比S* の関係を示すものであ
る。これより、いずれの元素を添加しても、ある添加量
でS* は、最大となり、それ以上添加するとS* は低下
する。これはCr中間層とCo系磁性層との結晶格子の
ミスマッチがCr中間層にX元素の添加により減少する
が、ある量以上に添加すると再び、結晶格子のミスマッ
チが増加するためである。高保磁力角形比S* (0.80以
上)が得られる好適な添加量は、2at%≦Mo≦12at% ,
2at%≦Ta≦12at% ,2at%≦Ti≦15at% ,1at%≦W≦
20at% であり、より好ましくは、6at%≦Ta≦8at%,4a
t%≦Ti≦11at% ,3at%≦W≦15at% を添加することで
S* ≧0.85を実現できた。
【0014】図6は、多層膜磁性層7が2層膜である場
合における、各磁性膜の膜圧比に対するノイズ特性を示
したものである。これから、膜厚比が100%即ち、各
磁性膜の膜厚が同一の時にノイズは極小となる。また膜
厚比70〜130%の範囲において良好なノイズ特性が
得られ、スパッタプロセス工程のばらつき(±10%)
を考慮しても良好な低ノイズ媒体を作製することが可能
となった。
合における、各磁性膜の膜圧比に対するノイズ特性を示
したものである。これから、膜厚比が100%即ち、各
磁性膜の膜厚が同一の時にノイズは極小となる。また膜
厚比70〜130%の範囲において良好なノイズ特性が
得られ、スパッタプロセス工程のばらつき(±10%)
を考慮しても良好な低ノイズ媒体を作製することが可能
となった。
【0015】図7は、多層膜磁性層7を2層膜とし、中
間層だけでなく下地層もCr層からCr−X層に変えた
場合の、下地Cr−X層の膜厚と保磁力の関係を示した
ものである。下地Cr−X層膜厚の増加に伴って保磁力
が増加し、下地Cr−X層膜厚2000Åで3000O
e 以上の保磁力をしめす。このように非磁性中間層だけ
でなく、さらに下地Cr層の代わりに、Cr−X層を下
地層として用いることにより、さらに高保磁力の媒体を
得ることができた。
間層だけでなく下地層もCr層からCr−X層に変えた
場合の、下地Cr−X層の膜厚と保磁力の関係を示した
ものである。下地Cr−X層膜厚の増加に伴って保磁力
が増加し、下地Cr−X層膜厚2000Åで3000O
e 以上の保磁力をしめす。このように非磁性中間層だけ
でなく、さらに下地Cr層の代わりに、Cr−X層を下
地層として用いることにより、さらに高保磁力の媒体を
得ることができた。
【0016】図8は、多層膜磁性層7が2層膜である媒
体(実施例)、及び低ノイズCoCrTa媒体(比較
例)の記録密度に対する非線形遷移シフト(Non-linear
Transition Shift:NLTS)について示したものである。高
密度化において使用される磁気抵抗型薄膜ヘッド(MR
ヘッド)では、非線形遷移シフトが小さいことが必要と
される。これから、線記録密度195kFCIにおい
て、NLTSはCoCrTa媒体の46.4%に比べ
て、8.0%と高記録密度でも良好な特性を示すことが
確認された。
体(実施例)、及び低ノイズCoCrTa媒体(比較
例)の記録密度に対する非線形遷移シフト(Non-linear
Transition Shift:NLTS)について示したものである。高
密度化において使用される磁気抵抗型薄膜ヘッド(MR
ヘッド)では、非線形遷移シフトが小さいことが必要と
される。これから、線記録密度195kFCIにおい
て、NLTSはCoCrTa媒体の46.4%に比べ
て、8.0%と高記録密度でも良好な特性を示すことが
確認された。
【0017】以上、上述の多層膜磁性層7は、CoCr
TaPt系媒体での実施例について述べたが、CoNi
CrTa(Ni:25at%, Cr:10at%, Ta:2at%, Co:63at%)
系,CoCrPt(Cr:14at%, Pt:7at%, Co:79at%) 系媒
体でも同様な特性が得られた。
TaPt系媒体での実施例について述べたが、CoNi
CrTa(Ni:25at%, Cr:10at%, Ta:2at%, Co:63at%)
系,CoCrPt(Cr:14at%, Pt:7at%, Co:79at%) 系媒
体でも同様な特性が得られた。
【0018】
【発明の効果】以上のように、本発明は、磁気記録媒体
の磁性層を非磁性中間層を介して2〜6層の多層膜磁性
層とし、非磁性中間層にCr−X(X:Mo,Ta,T
i,W)を用いることにより、高保磁力角形比の媒体を
作製できた。前記磁性層としては、高保磁力材料である
CoNiCrTa系,CoCrPt系,CoCrTaP
t系の磁性層を用い、その各磁性層の保磁力を同一に、
また各磁性膜膜厚比を80%以上120%以下とし、さ
らには中間層の膜厚を5Å以上50Å以下とすることに
より、高保磁力角形比であり、その上、高保磁力(30
00Oe 以上)かつ低ノイズの磁気記録媒体を提供する
ことが可能となった。
の磁性層を非磁性中間層を介して2〜6層の多層膜磁性
層とし、非磁性中間層にCr−X(X:Mo,Ta,T
i,W)を用いることにより、高保磁力角形比の媒体を
作製できた。前記磁性層としては、高保磁力材料である
CoNiCrTa系,CoCrPt系,CoCrTaP
t系の磁性層を用い、その各磁性層の保磁力を同一に、
また各磁性膜膜厚比を80%以上120%以下とし、さ
らには中間層の膜厚を5Å以上50Å以下とすることに
より、高保磁力角形比であり、その上、高保磁力(30
00Oe 以上)かつ低ノイズの磁気記録媒体を提供する
ことが可能となった。
【図1】本発明の実施例に係る磁気記録媒体の構成を示
す断面図
す断面図
【図2】多層膜磁性層の膜数と規格化したノイズとの関
係を示すグラフ
係を示すグラフ
【図3】成膜条件の異なる媒体の磁化曲線の比較図
【図4】中間Cr−W層膜厚とノイズ特性の関係を示す
グラフ
グラフ
【図5】非磁性中間層材料及びその添加量とS* との関
係を示すグラフ
係を示すグラフ
【図6】各磁性膜の膜厚比とノイズ特性との関係を示す
グラフ
グラフ
【図7】下地Cr−X層膜厚と保磁力との関係を示すグ
ラフ
ラフ
【図8】線記録密度と非線形遷移シフトとの関係を示す
グラフ
グラフ
【図9】従来の一般的な磁気記録媒体の構成を示す断面
図
図
1…Al−Mg合金基体,2…Ni−Pメッキ層,3…
下地層,5…保護層,6…潤滑層,7…多層膜磁性層,
7a…磁性膜,7b…非磁性中間膜
下地層,5…保護層,6…潤滑層,7…多層膜磁性層,
7a…磁性膜,7b…非磁性中間膜
Claims (7)
- 【請求項1】基板上に少なくとも下地層及び多層膜磁性
層を有する磁気記録媒体において、前記多層膜磁性層
は、CoNiCrTa系,CoCrPt系,CoCrT
aPt系材料のいずれかよりなる磁性膜を、非磁性中間
層を介して2〜6層に積層して形成され、前記非磁性中
間層がMo,Ta,Ti及びWのいずれか1元素含有す
るCr合金よりなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】請求項1に記載の磁気記録媒体において、
前記添加元素の添加量が、2at%≦Mo≦12at% ,2at%≦
Ta≦12at% ,2at%≦Ti≦15at% ,1at%≦W≦20at%
であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項3】請求項1または2に記載の磁気記録媒体に
おいて、基板がNi−Pメッキを施したAl−Mg合金
基板よりなり、前記基板表面に鏡面加工を施したのち、
微小凹凸を施したものであることを特徴とする磁気記録
媒体。 - 【請求項4】請求項1乃至3のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、前記多層膜磁性層の各磁性膜の保磁力
が同一であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項5】請求項1乃至4のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、前記多層膜磁性層の各磁性層の膜厚比
を80%以上120%以下とすることを特徴とする磁気
記録媒体。 - 【請求項6】請求項1乃至5のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、前記非磁性中間層の膜厚を5Å以上5
0Å以下とすることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項7】請求項1乃至6のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、下地層が前記中間層と同じCr合金よ
りなることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8003517A JPH09198641A (ja) | 1996-01-12 | 1996-01-12 | 磁気記録媒体 |
DE19700506A DE19700506A1 (de) | 1996-01-12 | 1997-01-09 | Magnetisches Speichermedium |
US08/782,744 US5851656A (en) | 1996-01-12 | 1997-01-13 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8003517A JPH09198641A (ja) | 1996-01-12 | 1996-01-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09198641A true JPH09198641A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11559567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8003517A Pending JPH09198641A (ja) | 1996-01-12 | 1996-01-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPH09198641A (ja) |
DE (1) | DE19700506A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6602612B2 (en) | 1999-06-08 | 2003-08-05 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus |
US6645646B1 (en) | 1999-06-08 | 2003-11-11 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus |
US6689495B1 (en) | 1999-06-08 | 2004-02-10 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus |
US6753101B1 (en) | 1999-06-08 | 2004-06-22 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, magnetic storage apparatus, recording method and method of producing magnetic recording medium |
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TW390998B (en) | 1996-05-20 | 2000-05-21 | Hitachi Ltd | Magnetic recording media and magnetic recording system using the same |
US6150015A (en) * | 1997-12-04 | 2000-11-21 | Komag, Incorporated | Ultra-thin nucleation layer for magnetic thin film media and the method for manufacturing the same |
US6218003B1 (en) * | 1998-02-10 | 2001-04-17 | Seagate Technology, Llc | Magnetic recording medium containing a Cr(TiO2) underlayer |
JPH11238221A (ja) * | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及び磁気ディスク装置 |
US6261681B1 (en) | 1998-03-20 | 2001-07-17 | Asahi Komag Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
US6461750B1 (en) | 1998-09-30 | 2002-10-08 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic recording medium with dual magnetic layers and high in-plane coercivity |
EP1302932B1 (en) * | 1999-06-08 | 2004-10-13 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium |
US6280813B1 (en) | 1999-10-08 | 2001-08-28 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording media with antiferromagnetically coupled ferromagnetic films as the recording layer |
US6372330B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-04-16 | International Business Machines Corporation | Laminated magnetic recording media with antiferromagnetically coupled layers as the individual magnetic layers in the laminate |
US6645614B1 (en) | 2000-07-25 | 2003-11-11 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media having enhanced coupling between magnetic layers |
US6730420B1 (en) | 2000-10-31 | 2004-05-04 | Komag, Inc. | Magnetic thin film recording media having extremely low noise and high thermal stability |
WO2002045080A1 (en) * | 2000-11-29 | 2002-06-06 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus |
US7041394B2 (en) | 2001-03-15 | 2006-05-09 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media having self organized magnetic arrays |
US7153597B2 (en) * | 2001-03-15 | 2006-12-26 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording media having chemically modified patterned substrate to assemble self organized magnetic arrays |
US6899959B2 (en) | 2002-02-12 | 2005-05-31 | Komag, Inc. | Magnetic media with improved exchange coupling |
US7382590B2 (en) | 2005-01-31 | 2008-06-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | MR sensor and thin film media having alloyed Ru antiparallel spacer layer for enhanced antiparallel exchange coupling |
JP5964121B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2016-08-03 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録媒体に用いる密着膜層用CrTi系合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体 |
JP2022028410A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
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---|---|---|---|---|
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JPH07118417B2 (ja) * | 1990-12-21 | 1995-12-18 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気記録媒体 |
JP2684457B2 (ja) * | 1991-02-15 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPH05101366A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
JPH0644548A (ja) * | 1992-02-06 | 1994-02-18 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
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JPH07121863A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Sony Corp | 磁気ディスク |
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1996
- 1996-01-12 JP JP8003517A patent/JPH09198641A/ja active Pending
-
1997
- 1997-01-09 DE DE19700506A patent/DE19700506A1/de not_active Ceased
- 1997-01-13 US US08/782,744 patent/US5851656A/en not_active Expired - Lifetime
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US6821652B1 (en) | 1999-06-08 | 2004-11-23 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5851656A (en) | 1998-12-22 |
DE19700506A1 (de) | 1997-07-17 |
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