JPH09197316A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH09197316A
JPH09197316A JP960296A JP960296A JPH09197316A JP H09197316 A JPH09197316 A JP H09197316A JP 960296 A JP960296 A JP 960296A JP 960296 A JP960296 A JP 960296A JP H09197316 A JPH09197316 A JP H09197316A
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JP
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light
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current
light amount
photoconductor
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Application number
JP960296A
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English (en)
Inventor
Michio Taniwaki
道夫 谷脇
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構成でかつ環境条件が変化しても感光
体の1つの走査線の入射光量を略一定とする。 【解決手段】 感光体の予め設定された複数の補正位置
P(1)〜P(7)に対応して感光体の1つの走査線の入射光量
が主走査方向に渡って略一定となるための補正係数H(1)
〜H(7)を予め記憶し、レーザービームが走査した感光体
の位置に隣接する補正位置P(1)〜P(7)の補正係数H(1)〜
H(7)に基づいてレーザービームが走査した感光体の位置
の補正係数を求めると共に、求めた補正係数でスイッチ
ング電流を補正することにより、感光体の1つの走査線
の入射光量が走査方向に渡って略一定となる電流(図6
(d)をレーザービームが走査した感光体の位置に応じ
て半導体レーザに供給する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
より詳しくは、光源から発光した光ビームを偏向して感
光体を主走査して感光体を露光する露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、複写機、ファクシミリ装置、
レーザプリンタ等に用いられる露光装置では、レーザー
ビームをポリゴンミラーなどの光偏向手段により感光体
上を主走査するとともに感光体を副走査方向に回転させ
ることにより副走査を行う。これにより、感光体上に静
電潜像が形成される。
【0003】また、露光装置に用いられているポリゴン
ミラーより前の領域に配置された光学系には、アンダー
フィルド光学系とオーバーフィルド光学系のいずれかが
用いられている。
【0004】アンダーフィルド光学系は、複数の反射面
を備えたポリゴンミラーに入射するレーザービームの走
査方向の径よりポリゴンミラーの各反射面の走査方向の
長さを長くして、レーザービームを1つの反射面の一部
だけに入射する。これに対し、オーバーフィルド光学系
は、ポリゴンミラーに入射するレーザービームの走査方
向の径よりポリゴンミラーの各反射面の走査方向の長さ
を短くして、レーザービームを複数の反射面を同時に入
射する。
【0005】アンダーフィルド光学系とオーバーフィル
ド光学系とを比較すると、オーバーフィルド光学系で
は、感光体に所定の大きさのスポット光を生ずさせるの
に必要な反射面の走査方向の長さを大幅に小さくするこ
とができ、同じ直径のポリゴンミラーに、アンダーフィ
ルド系より多くの反射面を備えることが可能となる。よ
って、ポリゴンミラーをアンダーフィルド光学系より比
較的低速で回転させると共に消費電力の少ないポリゴン
ミラー駆動装置が使える等の利点がある。
【0006】しかし、オーバーフィルド光学系では、前
述したように、入射したレーザービームの光束の一部を
反射することから、図10(a)に示すように、反射面
に入射するレーザービームの光量は反射面の光軸に直交
する方向の長さに比例することから、あるタイミングで
位置22N1 に、また、あるタイミングで位置22N 2
に位置している1つの反射面への各々の入射光量の比
は、H1 :H2 (=H1・COSθ)となる。即ち、入
射光の光軸に対するポリゴンミラーの走査角度θが大き
くなるに伴いFナンバーが小さくなり、図10(b)に
示すように、反射面に入射される光量が減少する。
【0007】また、反射面に入射するレーザービームの
光量分布Bは一様な分布でなく、図11に示すように、
光軸Cを中心としてガウス分布となる。よって、あるタ
イミングで位置22N3 に、また、あるタイミングで位
置22N3 に位置している1つの反射面の各々は、ガウ
ス分布の各々異なる領域の部分を切り出すため、切り出
す位置により光量が変化する。
【0008】このように、入射光の光軸に対するポリゴ
ンミラーの走査角度θが大きくなるに伴いFナンバーが
小さくなると共に、反射面に入射するレーザービームの
光量分布がガウス分布となっているため、感光体の中央
COS(Center Of Scan)、中央COSにレーザービー
ムが入射するときの反射面の中央、及びこのときのレー
ザービームの光軸が同一平面内にあり(所謂正面入射の
場合)、反射面によりレーザービームを移動させて感光
体を走査する場合には、図12(a)に示すように、感
光体に入射する光量が感光体の最初に走査された位置S
OS(Start OfScan )から中央COSに向かって除々
に増加すると共に中央COSから最後に走査された位置
EOS(End Of Scan )に向かって除々に減少する。よ
って、感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に渡
って画質に悪影響を与える程ばらつく。なお、感光体の
中央COS(Center Of Scan)、中央COSにレーザー
ビームが入射するときの反射面の中央、及びこのときの
レーザービームの光軸が同一平面内にない場合(所謂サ
イド入射の場合)には、位置SOSから中央COSに向
かって除々に増加すると共に中央COSから位置EOS
に向かって除々に減少することにはならないが、感光体
の1つの走査線の入射光量が走査方向に渡って画質に悪
影響を与える程ばらつく。
【0009】従って、オーバーフィルド光学系では、ア
ンダーフィルドの光学系よりもポリゴンミラーの走査角
度に対応する感光体の1つの走査線の入射光量が走査方
向に渡って画質に悪影響を与える程ばらつく。
【0010】この問題を解決するため、特願平6−30
7846号公報では、ポリゴンミラーより前の領域に、
感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に渡って略
一定となるようにレーザービームを減光する補正用のフ
イルターを挿入する方法が提案されている。これによ
り、ポリゴンミラーの走査角度に対応する感光体の1つ
の走査線の入射光量のばらつきを簡易に補正することが
できる。
【0011】また、特開昭64−28667号公報で
は、fθレンズを用いない光学系において、予め設定し
た光出力の最小値及び最大値とそれぞれ一致した時のレ
ーザーダイオードの駆動電流の値を駆動電流の最小値及
び最大値として記憶させ、その範囲内でLD駆動電流を
制御している。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特願平
6−307846号公報に記載されている方法によれ
ば、ポリゴンミラーより前の領域に補正用のフイルター
を挿入することから、補正用のフィルターによりレーザ
ービームが減光され、感光体に入射する光量が小さくな
るので、光源に大きい電流を供給しなければならず、効
率が悪い。
【0013】更に、感光体の劣化、取り替え等により、
感光体の感度に対応して必要とする感光体の1つの走査
線の入射光量も変化する。よって、当該感光体の感度に
対応した補正用フィルターが必要となり汎用性が悪い。
【0014】また、特開昭64−28667号公報に記
載されている方法によれば、光出力の最小値及び最大値
とそれぞれ一致した時のレーザーダイオードの駆動電流
の値を駆動電流の最小値及び最大値として記憶させ、そ
の範囲内でLD駆動電流を制御しているので、環境条件
が変更したときは、駆動電流の最小値及び最大値の2つ
を記憶し直さなければならないという煩わしさが生じ
る。
【0015】更に、後述するバイアス電流の調整を行お
うとすると、バイアス電流調整回路を追加しなければな
らず、コストアップとなる。
【0016】本発明は上記の問題を鑑み、簡易な構成で
かつ環境条件が変化しても感光体の1つの走査線の入射
光量が略一定とすることが可能な露光装置を提供するこ
とを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため請求
項1記載の発明は、供給された電流量に応じた光量の光
ビームを発光する少なくとも1つの光源と、前記光源か
ら発光された光ビームを偏向して感光体を走査する走査
手段と、前記光源から発光された光ビームの光量を検出
する光量検出手段と、前記光量検出手段により検出され
た光量と前記光源に供給された電流量との関係に基づい
て、前記感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に
渡って略一定となる電流を前記光源に供給する供給手段
と、を備えている。
【0018】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記供給手段は、前記光量検出手段により
検出された光量が光ビーム発光開始光量以上の予め定め
られた第1の光量となる第1の電流量及び前記光量検出
手段により検出された光量が該第1の光量より大きい予
め定められた第2の光量となる第2の電流量の電流を各
々前記光源に供給することにより前記関係を得ることを
特徴とする。
【0019】請求項3記載の発明は、請求項2記載の発
明において、前記走査手段により走査された感光体の位
置を検出する検出手段と、前記感光体の1つの走査線の
入射光量が主走査方向に渡って略一定となるための補正
係数を前記感光体の予め設定された複数の注目位置に対
応して記憶する記憶手段と、を備え更に、前記供給手段
は、前記位置検出手段により検出された位置に隣接する
前記注目位置の前記記憶手段に記憶された補正係数に基
づいて該位置の補正係数を求めると共に、求めた補正係
数、前記第1の電流量、及び前記第2の電流量に基づい
て、前記感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に
渡って略一定となる電流を前記位置検出手段により検出
された位置に応じて前記光源に供給することを特徴とす
る。
【0020】請求項4記載の発明は、請求項3記載の発
明において、前記複数の注目位置は、前記感光体の1つ
の走査線の入射光量の変化量が大きい領域程多く設定さ
れていることを特徴とする。
【0021】請求項5記載の発明は、請求項1乃至請求
項4の何れか1項に記載の発明において、前記供給手段
は、前記光量検出手段により検出された光量が前記第1
の光量及び前記第2の光量となるようにバイアス電流を
増加させながら予め定められ固定電流に加算した加算電
流を前記光源に供給することにより、前記第1の電流量
及び前記第2の電流量の電流を前記光源に供給すること
を特徴とする。
【0022】請求項6記載の発明は、請求項1乃至請求
項5の何れか1項に記載の発明において、前記走査手段
を、光ビームを反射して偏向すると共に前記光ビームの
ビーム径より前記走査方向の長さが各々短い複数の反射
面を備えたポリゴンミラーと、前記ポリゴンミラーによ
り偏向された光ビームを感光体上でスポット光にする光
学系と、により構成したことを特徴とする。
【0023】請求項7記載の発明は、供給された電流量
に応じた光量の光ビームを各々発光する複数の光源と、
前記複数の光源から発光された光ビームを偏向して感光
体を走査する走査手段と、前記走査手段により走査され
た感光体の位置を検出する検出手段と、前記複数の光源
の各々から発光された光ビームの光量を検出する光量検
出手段と、前記感光体の前記走査手段により走査された
位置に対応する発光量が主走査方向に渡って略一定とな
るための補正係数を前記感光体の複数の注目位置に対応
して記憶する記憶手段と、前記光量検出手段により検出
された光量が光ビーム発光開始光量以上の予め定められ
た第1の光量となる第1の電流量及び前記光量検出手段
により検出された光量が該第1の光量より大きい予め定
められた第2の光量となる第2の電流量の電流を各々前
記複数の光源の少なくとも1つに供給することにより前
記光量検出手段により検出された光量と該複数の光源の
少なくとも1つに供給された電流量との関係を求め、前
記位置検出手段により検出された位置に応じて該位置に
隣接する前記注目位置の前記記憶手段に記憶された補正
係数に基づいて該位置の補正係数を求め、かつ、前記第
1の電流量から前記第2の電流量を減算した減算電流量
を求めた補正係数で前記複数の光源の各々毎に順次補正
して、前記感光体の走査線の入射光量が走査方向に渡っ
て略一定となる電流を前記位置検出手段により検出され
た位置に応じて前記複数の光源に供給する供給手段と、
を備えている。
【0024】ここで、請求項1記載の発明に係る少なく
とも1つの光源からは、供給された電流量に応じた光量
の光ビームを発光する。走査手段は、光源から発光され
た光ビームを偏向して感光体を走査する。
【0025】ここで、走査手段は、請求項6記載の発明
のように、光ビームを反射して偏向すると共に光ビーム
のビーム径より走査方向の長さが各々短い複数の反射面
を備えたポリゴンミラーと、ポリゴンミラーにより偏向
された光ビームを感光体上でスポット光にする光学系
と、により構成するようにしてもよい。
【0026】光量検出手段は、光源から発光された光ビ
ームの光量を検出する。そして、供給手段は、光量検出
手段により検出された光量と光源に供給された電流量と
の関係に基づいて、感光体の1つの走査線の入射光量が
走査方向に渡って略一定となる電流を光源に供給する。
【0027】ここで、光量検出手段により検出された光
量と光源に供給された電流量との関係は、請求項2記載
の発明のように、光量検出手段により検出された光量が
光ビーム発光開始光量以上の予め定められた第1の光量
となる第1の電流量及び光量検出手段により検出された
光量が該第1の光量より大きい予め定められた第2の光
量となる第2の電流量の電流を各々光源に供給すること
により得るようにしてもよい。
【0028】また、供給手段は、請求項5記載の発明の
ように、光量検出手段により検出された光量が第1の光
量及び第2の光量となるようにバイアス電流を増加させ
ながら予め定められ固定電流に加算した加算電流を光源
に供給することにより、第1の電流量及び第2の電流量
の電流を光源に供給するようにしてもよい。
【0029】このように、光量検出手段により検出され
た光量と光源に供給された電流量との関係に基づいて、
感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に渡って略
一定となる電流を光源に供給することから、温度等の環
境条件が変化しても感光体の1つの走査線の入射光量が
走査方向に渡って略一定となる電流を光源に供給するこ
とができ、また、補正用のフィルター等の部品を設けな
くとも感光体の1つの走査線の入射光量を走査方向に渡
って略一定とすることができる。
【0030】請求項3記載の発明は、請求項2記載の発
明において更に備えた検出手段により走査手段により走
査された感光体の位置を検出し、記憶手段は、感光体の
1つの走査線の入射光量が主走査方向に渡って略一定と
なるための補正係数を感光体の予め設定された複数の注
目位置に対応して記憶する。
【0031】ここで、複数の注目位置は、請求項4記載
の発明のように、感光体の1つの走査線の入射光量の変
化量が大きい領域程多く設定するようにしてもよい。
【0032】そして、供給手段は、位置検出手段により
検出された位置に隣接する注目位置の記憶手段に記憶さ
れた補正係数に基づいて該位置の補正係数を求める。
【0033】なお、位置検出手段により検出された位置
の補正係数を次のように求めてもよい。即ち、当該位置
に隣接する注目位置の各々の記憶手段に記憶された補正
係数と、当該隣接する注目位置の少なくとも一方の位置
及び位置検出手段により検出された位置と、に基づい
て、位置検出手段により検出された位置と当該位置の補
正係数との関係式(例えば1次式)を求め、求めた関係
式と位置検出手段により検出された位置とに基づいて、
位置検出手段により検出された位置の補正係数を求め
る。
【0034】なお、記憶手段に、感光体の1つの走査線
の入射光量が主走査方向に渡って略一定となるための補
正係数を感光体の予め設定された複数の注目位置に対応
して記憶するようにしているが、感光体の1つの走査線
の入射光量が主走査方向に渡って略一定となるための補
正係数を感光体の1つの走査線の位置との関係を示す演
算式又はマップを記憶し、この記憶された演算式又はマ
ップに基づいて位置検出手段により検出された位置の補
正係数を求めるようにしてもよい。
【0035】そして、供給手段は、求めた補正係数、第
1の電流量、及び第2の電流量に基づいて、感光体の1
つの走査線の入射光量が走査方向に渡って略一定となる
電流を位置検出手段により検出された位置に応じて光源
に供給する。
【0036】ここで、供給手段は、感光体の1つの走査
線の入射光量が走査方向に渡って略一定となる電流を、
例えば、第1の電流量から第2の電流量を減算した減算
電流量を補正係数により補正すると共に補正された減算
電流と第2の電流量とを加算することにより求めるよう
にしてもよい。
【0037】請求項7記載の発明に係る複数の光源から
は、供給された電流量に応じた光量の光ビームを各々発
光する。
【0038】走査手段は、複数の光源から発光された光
ビームを偏向して感光体を走査する。なお、走査手段
は、光ビームを反射して偏向すると共に光ビームのビー
ム径より走査方向の長さが各々短い複数の反射面を備え
たポリゴンミラーと、ポリゴンミラーにより偏向された
光ビームを感光体上でスポット光にする光学系と、によ
り構成してもよい。
【0039】位置検出手段は、走査手段により走査され
た感光体の位置を検出する。光量検出手段は、複数の光
源の各々から発光された光ビームの光量を検出する。記
憶手段は、感光体の前記走査手段により走査された位置
に対応する発光量が主走査方向に渡って略一定となるた
めの補正係数を感光体の複数の注目位置に対応して記憶
する。
【0040】なお、記憶手段に、感光体の1つの走査線
の入射光量が主走査方向に渡って略一定となるための補
正係数を感光体の予め設定された複数の注目位置に対応
して記憶するようにしているが、感光体の1つの走査線
の入射光量が主走査方向に渡って略一定となるための補
正係数を感光体の1つの走査線の位置との関係を示す演
算式又はマップを記憶し、この記憶された演算式又はマ
ップに基づいて位置検出手段により検出された位置の補
正係数を求めるようにしてもよい。
【0041】そして、供給手段は、光量検出手段により
検出された光量が光ビーム発光開始光量以上の予め定め
られた第1の光量となる第1の電流量及び光量検出手段
により検出された光量が該第1の光量より大きい予め定
められた第2の光量となる第2の電流量の電流を各々複
数の光源の少なくとも1つに供給することにより光量検
出手段により検出された光量と該複数の光源の少なくと
も1つに供給された電流量との関係を求め、位置検出手
段により検出された位置に応じて該位置に隣接する注目
位置の記憶手段に記憶された補正係数に基づいて該位置
の補正係数を求め、かつ、第1の電流量から第2の電流
量を減算した減算電流量を求めた補正係数で複数の光源
の各々毎に順次補正して、感光体の走査線の入射光量が
走査方向に渡って略一定となる電流を位置検出手段によ
り検出された位置に応じて複数の光源に供給する。
【0042】このように、位置検出手段により検出され
た位置に応じて該位置に隣接する注目位置の記憶手段に
記憶された補正係数に基づいて該位置の補正係数を求
め、かつ、第1の電流量から第2の電流量を減算した減
算電流量を求めた補正係数で複数の光源の各々毎に順次
補正することから、感光体の走査線の入射光量が走査方
向に渡って略一定となる電流を複数の光源の各々毎に求
める手段を備えなくとも、感光体の走査線の入射光量が
走査方向に渡って略一定となる電流を複数の光源に供給
することができ、露光装置を簡易な構成にすることがで
きる。
【0043】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。本形態に係る露光装置は、
図1に示すように、供給された電流量に対応する光量の
レーザービームを発光する半導体レーザ1、及び画像情
報に対応したビデオ信号(VIDEO)を出力し、半導
体レーザ1に駆動電流を供給するLD制御回路8を備え
ている。半導体レーザ1は、図2に示すように、2つの
半導体レーザ11、12を各々独立に発光できるデュア
ルスポットレーザーであり、半導体レーザ11、12
は、感光体上の各々の隣接する走査線を照射できるよう
に光学的に配置されている。半導体レーザ11、12の
近傍には、半導体レーザ11、12から発光したレーザ
ービームを受光し、受光したレーザービームの光量に対
応した電流を出力するフォトダイオード13が配置され
ている。
【0044】また、露光装置は、半導体レーザ1から発
光したレーザービームを主走査方向に略平行光にすると
共に副走査方向にのみ集光して、ポリゴンミラー3の複
数の反射面を同時に照射する光学系2、及びポリゴンミ
ラー3により偏向されたレーザービームが入射し、入射
したレーザービームを主走査方向に等速度で移動すると
共に主走査方向にのみ集光して感光体5にスポット光を
結像させる光学系4を備えている。なお、感光体5は、
図示しない回転手段により副走査走査方向に回転され
て、副走査される。
【0045】一方、ポリゴンミラー3により偏向したレ
ーザービームにより感光体26が最初に走査される位置
の近傍の位置(最初に走査される位置の前の領域内の位
置)に対応する光軸上の位置には、SOS(Start Of S
can )センサ6が配置されている。なお、SOSセンサ
6は、レーザービームが入射すると、感光体5を主走査
するタイミングをとるためのタイミング信号(以下、N
SOS信号という)が出力される。
【0046】次に、LD制御回路8の詳細を図2を参照
して説明する。LD制御回路8は、コントローラ52、
コントローラ52に接続されたゲートアレイ54、ゲー
トアレイ54に接続された4つのローパスフィルタ(以
下、LPSという)22〜25、LPS22、23にそ
れぞれ接続されたスイッチング電流源18、19、及び
LPS24、25にそれぞれ接続されたバイアス電流源
20、21を備えている。なお、ゲートアレイ54に
は、EEPROM51が接続されている。
【0047】スイッチング電流源18、19には、それ
ぞれビデオ信号A、Bを入力するとオンすると共にビデ
オデータA、Bの入力が遮断されるとオフするスイッチ
ング部18S、19Sが接続されている。スイッチング
部18Sは、半導体レーザ11に、スイッチング部19
Sは、半導体レーザ12に接続されている。半導体レー
ザ11及びスイッチング部18Sは、更にバイアス電流
源20に接続され、半導体レーザ12びスイッチング部
19Sは、更に、バイアス電流源21に接続されてい
る。
【0048】フォトダイオード13には、該フォトダイ
オード13から入力した電流を電圧に変換すると共に変
換した電圧を増幅するモニタアンプ14が接続されてい
る。モニタアンプ14は、コンパレータ17の一方の入
力端子に接続されている。よって、モニタアンプ14か
らコンパレータ17の一方の入力端子には、半導体レー
ザ11、12から発光されたレーザービームの光量に比
例した電圧が印加される。コンパレータ17の他方の入
力端子及びコンパレータ17の出力端子はゲートアレイ
54に接続されいてる。
【0049】次に、ゲートアレイ54を図3を参照して
説明する。ゲートアレイ54は、コントローラ52に接
続されたシリアル通信制御回路50を備えている。コン
トローラ52とLD制御回路8とは、シリアル通信制御
回路50を介してデータの送受信を行う。シリアル通信
制御回路50には、補正演算回路53、COS光量指示
レジスタ36、Pth光量指示レジスタ35、及び前述し
たEEPROM51が接続されている。
【0050】補正演算回路53には、図示しないクロッ
ク信号出力器から出力されたクロック信号及びSOSセ
ンサ6から出力されたNSOS信号を入力するカウンタ
49、ラッチレジスタ47、48、マルチプレクサ3
3、32、及びマルチプレクサ37が接続されている。
【0051】マルチプレクサ37には、ラッチレジスタ
39、38が接続され、ラッチレジスタ39、38は、
マルチプレクサ33、32、アップダウンカウンタ16
に接続されている。マルチプレクサ33、32は、更
に、ラッチレジスタ47、48にも接続されている。
【0052】COS光量指示レジスタ36、Pth光量指
示レジスタ35には、マルチプレクサ34が接続されて
おり、マルチプレクサ34は、デジタルアナログ変換器
(以下、D/Aコンバータという)15を介してコンパ
レータ17の他方の入力端子に接続されている。
【0053】アップダウンカウンタ16には、コンパレ
ータ17の出力端子が接続されている。コンパレータ1
7の出力端子は、更に、アップダウンカウンタ31、3
0に接続されている。アップダウンカウンタ31、30
は、それぞれ、D/Aコンバータ28、29を介してL
PS24、25に接続されている。
【0054】マルチプレクサ33、32は、それぞれ、
D/Aコンバータ26、27を介してLPS22、24
に接続されている。
【0055】LPS22〜25は、D/Aコンバータ2
6〜29のチャタリングをカットするために用いられて
いる。
【0056】次に、補正演算回路53を図4を参照して
説明する。補正演算回路53は、シリアル通信制御回路
50に各々接続された、補正位置レジスタ43、補正係
数レジスタH(n)42、Ith電流設定レジスタ40を
備えている。
【0057】補正位置レジスタ43には、カウンタ49
にも接続されたポジション判定回路45が接続され、ポ
ジション判定回路45には、補正係数レジスタH(n)
42にも接続された補正係数選択回路44が接続されて
いる。補正係数選択回路44には、Ith電流設定レジス
タ40、マルチプレクサ33、32、及びマルチプレク
サ37にも接続された演算回路41が接続されている。
th電流設定レジスタ40には、更に、マルチプレクサ
33、32が接続されている。
【0058】演算回路41は、更にポジション判定回路
45及びラッチレジスタ47、48にも接続された補間
回路46に接続されている。
【0059】なお、図示していないが、シリアル通信制
御回路50には、マルチプレクサ33、32、マルチプ
レクサ34、マルチプレクサ37、39、マルチプレク
サ33、及びアップダウンカウンタ16、31、30も
接続されており、シリアル通信制御回路50からこれら
に制御信号が出力される。
【0060】次に、コントローラ52の制御ルーチンを
図5に示したフローチャートを参照して説明する。
【0061】LD制御回路8に図示しない電源が投入さ
れると本ルーチンがスタートし、ステップ102で、E
EPROM51に記憶されているN個の光量補正係数と
それに対応する補正位置を読み込み、補正係数レジスタ
42および補正位置レジスタ43に書き込む。
【0062】図6(a)に示すように、感光体5に入射
する光量が位置SOSから中央COSより若干位置SO
S側の位置COS′に向かって除々に増加すると共に位
置COS′から位置EOSに向かって除々に減少する。
【0063】本形態では、感光体5の1つの走査線の入
射光量分布を走査方向に渡って略一定となるようにする
ように、後述するスイッチング電流ISWを補正する光量
補正係数とそれに対応する補正位置が予め設定されてい
る。図6(b)に示す例では、例えば、P(1)(位置
SOS)の入射光量が位置COS′の入射光量(基準光
量)の85%であるので補正係数H(1)は、1.17
6としている。他の補正位置P(2)〜P(7)の補正
係数H(2)〜H(7)も同様に、感光体5の1つの走
査線の入射光量を走査方向に渡って略一定とする値が設
定されている。
【0064】ここで、補正位置及び補正係数は次のよう
に予め設定されてEEPROM51に格納されている。
即ち、感光体5の1つの主走査線の入射光量を予め測定
して、当該感光体5の1つの主走査線の入射光量分布を
得る。そして、得られた入射光量分布に基づいて、図6
(a)、図6(b)に示すように、入射光量の変化量が
大きい領域R程多く補正位置を設定すると共に、感光体
5の1つの走査線の入射光量が、図12(b)に示すよ
うに略一定となるように、補正係数を設定して、EEP
ROM51に格納する。
【0065】次のステップ104で、予め設定されてい
るCOS光量の指示値PCOS 、Pth光量の電流指示値I
Pth 、及びIth電流の電流指示値Ithに対応するデジタ
ル値をそれぞれ、COS光量指示レジスタ36、Pth
量指示レジスタ35およびI th電流設定レジスタ40に
書き込む。
【0066】ここで、図6に示すように、COS光量の
指示値PCOS は位置COS′の入射光量(基準光量)P
COS に対応している。Pth光量の電流指示値IPth は、
レーザ発振を開始するスレッシュホールド光量よりやや
大きい光量Pthが発光する電流の指示値である。Ith
流の電流指示値Ithは、Pth光量の電流指示値IPth
ら電流指示値Ithを引いた値がバイアス電流指示値IB
となるように設定されている。
【0067】このようにレジスタ(36、35、40)
への書き込みが終わると、ステップ106で、プリント
要求を入力したか否かを判断し、プリント要求を入力す
ると、ステップ108で、バイアス電流調整モードにな
る。
【0068】バイアス電流調整モードになった場合に
は、まず、ビデオ信号Aをスイッチング部18Sに出力
する。また、Ith電流設定レジスタ40から電流指示値
thがマルチプレクサ33に出力されると共にマルチプ
レクサ33でこれが選択されるように制御信号を出力す
る。これにより、電流指示値Ithが、Ith電流設定レジ
スタ40、マルチプレクサ33、D/Aコンバータ2
6、LPF22を介して、スイッチング電流源18に印
加される。よって、半導体レーザ11に電流Ithが流れ
る。
【0069】また、Pth光量指示レジスタ35から電流
指示値IPth がマルチプレクサ34に出力されかつマル
チプレクサ34でこれが選択されると共にアップダウン
カウンタ31が起動するようにそれぞれ制御信号を出力
する。これにより、電流指示値IPth がPth光量指示レ
ジスタ35、マルチプレクサ34、D/Aコンバータ1
5を介してコンパレータ17に印加される。このとき、
アップダウンカウンタ31の内容は0であるので、半導
体レーザ11は未だレーザービームを発光するに至って
いない。よってコンパレータ17の一方の入力端子に印
加されるモニタアンプ14の出力は略0のため、コンパ
レータ17の出力はLレベルとなっている。
【0070】その後、アップダウンカウンタ31が図示
しないクロック信号出力器から出力されたクロック信号
を入力する毎に入力したクロック信号をカウントするこ
とにより、バイアス電流源20が、このカウント値に対
応して半導体レーザ1に供給するバイアス電流が徐々に
増加する。これに伴い、モニタアンプ14の出力が増加
し、やがてD/Aコンバータ15の出力より大きくな
る。
【0071】このようにモニタアンプ14の出力がD/
Aコンバータ15の出力より大きくなると、コンパレー
タ17からアップダウンカウンタ31にHレベルの信号
が出力される。これにより、アップダウンカウンタ31
は、クロック信号のカウントを停止すると共にクロック
信号のカウント値を保持する。これにより、半導体レー
ザ11のバイアス電流調整が完了し、半導体レーザ11
には、バイアス電流I B が供給される。
【0072】スイッチング部18Sへのビデオ信号Aの
出力開始から、半導体レーザ11のバイアス電流調整が
完了するのに必要な予め定められた時間が経過した場合
には、次に、ビデオ信号Bをスイッチング部19Sに出
力して、半導体レーザ12のバイアス電流調整を行う。
【0073】なお、半導体レーザ12のバイアス電流調
整は、半導体レーザ11のバイアス電流調整と同様であ
るので、簡単に説明すると、電流指示値Ithがマルチプ
レクサ32で選択されD/Aコンバータ27、LPE2
3を介して、スイッチング電流源19に印加し、アップ
ダウンカウンタ30の内容を、半導体レーザ11のバイ
アス電流調整と同様に調整する。
【0074】以上のようにバイアス電流調整モードが完
了すると、半導体レーザ11、12には、バイアス電流
B と電流Ithとが加算された駆動電流1DRが供給され
る。なお、この場合、基準光量Pthに対応するスイッチ
ング電流ISWは、電流Ithである。
【0075】また、アップダウンカウンタ31、30の
クロック信号のカウント値が保持されているため、バイ
アス電流調整モード終了後は、半導体レーザ11、12
にバイアス電流IB が供給され続ける。
【0076】次のステップ110で、基準光量PCOS
あるCOS光量調整モードになる。COS光量調整モー
ドになった場合には、まず、ビデオ信号Aをスイッチン
グ部18Sに出力する。また、アップダウンカウンタ1
6が起動しかつアップダウンカウンタ16のクロック信
号のカウント値がマルチプレクサ33に出力されると共
にマルチプレクサ33でこれが選択されるように制御信
号を出力する。これにより、スイッチング電流源18か
らアップダウンカウンタ16のクロック信号のカウント
値に対応する電流がスイッチング電流ISWとして、半導
体レーザ11に供給される。
【0077】また、COS光量指示レジスタ36の光量
指示値PCOS がマルチプレクサ34に出力されると共に
マルチプレクサ34でこれが選択されるように制御信号
を出力する。これにより、COS光量指示レジスタ36
の光量指示値PCOS が、マルチプレクサ34、D/Aコ
ンバータ15を介してコンパレータ17に印加される。
【0078】ところで、COS光量調整モード開始直後
は、アップダウンカウンタ16のクロック信号のカウン
ト値は0であるため、半導体レーザ11は未だレーザー
ビームを発光するに至っていない。よって、コンパレー
タ17の一方の入力端子に印加されるモニタアンプ14
の出力は略0となっているため、コンパレータ17の出
力はLレベルとなっている。
【0079】その後、アップダウンカウンタ16がクロ
ック信号をカウントすることにより、半導体レーザ11
のスイッチング電流が徐々に増加し、モニタアンプ14
の出力が増加し、やがてD/Aコンバータ15の出力よ
り大きくなる。
【0080】このように、モニタアンプ14の出力がD
/Aコンバータ15の出力より大きくなると、コンパレ
ータ17からはHレベルの信号がアップダウンカウンタ
16に出力される。アップダウンカウンタ16は、コン
パレータ17からHレベルの信号を入力すると、クロッ
ク信号のカウントを停止すると共にクロック信号のカウ
ント値をラッチレジスタ39に出力する。ラッチレジス
タ39は、アップダウンカウンタ16から入力したカウ
ント値をICOSAとして記憶する。これにより、半導体レ
ーザ11のCOS光量調整モードが完了し、制御信号を
アップダウンカウンタ16に出力してアップダウンカウ
ンタ16のカウント値をリセットする。
【0081】スイッチング部18Sへのビデオ信号Aの
出力開始から、半導体レーザ11のCOS光量調整が完
了するのに必要な予め定められた時間が経過した場合に
は、次に、ビデオ信号Bをスイッチング部19Sに出力
して、半導体レーザ12のCOS光量調整を行う。
【0082】なお、半導体レーザ12のCOS光量調整
は、半導体レーザ11のCOS光量調整と同様であるの
で、簡単に説明すると、半導体レーザ11のCOS光量
調整と同様に、アップダウンカウンタ16のカウント値
が、マルチプレクサ32で選択されD/Aコンバータ2
7、LPF23を介して、スイッチング電流源19に印
加されるように制御信号を出力すると共にアップダウン
カウンタ16のカウント値に対応する電流がスイッチン
グ電流として半導体レーザ12に供給されるようにし、
アップダウンカウンタ16のカウント値を調整して、ア
ップダウンカウンタ16のカウント値をラッチレジスタ
38にICOSBとして記憶させる。以上のようにCOS光
量調整モードが完了すると、半導体レーザ11には、バ
イアス電流IB と電流ICOSAとが加算された駆動電流1
DRが、また、半導体レーザ12には、バイアス電流IB
と電流ICOSBとが加算された駆動電流1DRが供給され
る。なお、この場合、基準光量PCOS に対応するスイッ
チング電流ISWは、電流ICOSA、ICOSBである。
【0083】光量調整モードが終了すると、ステップ1
12で、プリントモードになる。半導体レーザ11、1
2は、前述したように、駆動電流IDRが供給され、供給
された電流量に応じた光量のレーザービームを発光す
る。半導体レーザ11、12から発光されたレーザービ
ームは、光学系2に入射して、主走査方向に略平行光に
なると共に副走査方向にのみ集光する。このように、主
走査方向に略平行光になると共に副走査方向にのみ集光
されたレーザービームは、比較的低速回転しているポリ
ゴンミラー3の複数の反射面に同時に入射する。
【0084】ポリゴンミラー3に入射したレーザービー
ムは、反射面で偏向して光学系4に入射し、主走査方向
及び副走査方向に更に集光されてスポット光になると共
に主走査方向に一定の走査速度で移動しながら、感光体
5を主走査する。
【0085】ここで、ポリゴンミラー3により感光体5
を主走査するレーザービームは、感光体を主走査する前
にSOSセンサ6に入射する。レーザービームが入射し
たSOSセンサ6は、NSOS信号が出力される。
【0086】ここで、NSOS信号が出力されると、レ
ーザービームが感光体5の有効走査面の左端に到達する
までの一定時間遅延させてから、画像情報に従ってビデ
オ信号(A、B)がオン、オフされて、感光体5へのレ
ーザービームの入射がオン、オフされ、感光体5に画像
情報に対応する静電潜像が形成される。
【0087】NSOS信号は、図8(a)に示すよう
に、クロック信号をカウントしているカウンタ49にも
入力される。カウンタ49は、NSOS信号が入力され
ると、カウント値をクリアし、再びクロック信号をカウ
ントする。よってカウンタ49から出力されるカウント
値POSが、感光体5を主走査するレーザービームの主
走査位置に対応している。
【0088】ポジション判定回路45は、図8(b)に
示すタイミングで、カウンタ49から出力されるカウン
ト値POSを入力すると共に、前述した補正位置レジス
タの内容であるP(1),…,P(K),P(K+
1),…P(N)までのN個の補正位置データを入力す
る。また、ポジション判定回路45は、P(K)≦PO
S<P(K+1)となるKを検出する。更に、ポジショ
ン判定回路45は、レーザービームの主走査位置がP
(K+1)及びP(K)間の位置割合であるX(t)=
{POS−p(K)}/{P(K+1)−P(K)}を
算出する。
【0089】補正係数選択回路44は、図8(c)に示
すタイミングで、ポジション判定回路45により検出さ
れたKの値を入力する。また、補正係数選択回路44
は、ポジション判定回路45から入力したKの値に基づ
いてN個の補正係数レジスタH(1)、…,H(K),
H(K+1),…,H(N)の中から、補正係数H
(K),H(K+1)を選択する。
【0090】補間回路46は、図8(e)に示すよう
に、ポジション判定回路45により算出されたX(t)
を入力する。
【0091】演算回路41は、図8(d)に示すタイミ
ングで、補正係数選択回路44から補正係数H(K),
H(K+1)を入力する。そして、P(K)とP(K+
1)の位置での補正係数H(K),H(K+1)で補正
されたスイッチング電流の電流指示値C(K)、C(K
+1)を演算する。
【0092】即ち、マルチプレクサ37では、図8
(g)に示すように、入力した制御信号が[H]レベル
の時、ICOS =ICOSAを選択し、入力した制御信号が
[L]レベルのとき、ICOS =ICOSBを選択する。な
お、ラッチレジスタ47とラッチレジスタ48は、マル
チプレクサ37に同期して選択的にラッチされる。
【0093】演算回路41は、マルチプレクサ37でこ
のように選択されたICOS (ICOSA又はICOSB)、
th、及びH(K),H(K+1)に基づいて、補正ス
イッチング電流C(K)、C(K+1)を以下の(1)
式、(2)式より演算する。
【0094】
【数1】 C(K)=H(K)×(ICOS −Ith)+Ith・・・(1)
【0095】
【数2】 C(K+1)=H(K+1)×(ICOS −Ith)+Ith・・・(2) そして、補間回路46は、図8(e)に示すタイミング
でポジション判定回路45で算出されたX(t)を入力
すると共に、図8(f)に示すタイミングで、演算回路
41により演算された電流指示値C(K)、C(K+
1)を入力する。
【0096】ところで、電流指示値C(K)、C(K+
1)はそれぞれ、P(K)、P(K+1)の補正位置で
の電流指示値であるため、その間を連続的に補正する必
要が有る。
【0097】そこで、補間回路46は、P(K)及びP
(K+1)間を連続的に補正するため、C(K)、C
(K+1)、及びX(t)により、P(K)及びP(K
+1)の位置の電流指示値L(t)を(3)式より演算
して、図8(h)に示すタイミングでラッチレジスタ4
8に、また、図8(j)に示すタイミングでラッチレジ
スタ47に出力する。
【0098】
【数3】 L(t)={C(K+1)−C(K)}×X(t)+C(K)・・・(3) そして、ラッチレジスタ47でラッチされた電流指示値
L(t)は、図8(i)に示すタイミングでマルチプレ
クサ33により選択され、また、ラッチレジスタ48で
ラッチされた電流指示値L(t)は、図8(h)に示す
タイミングでマルチプレクサ32により選択され、これ
により、電流指示値L(t)がD/Aコンバータ26、
27、LPF22、23を介して、スイッチング電流源
18、19に入力され、電流指示値L(t)に対応する
電流が半導体レーザ11、12に供給される。
【0099】なお、電流指示値L(t)は、図8(g)
に示すタイミングで、マルチプレクサ37により選択さ
れたICOSA、ICOSBに基づいてC(K)、C(K+1)
によって、求められている。
【0100】また、ラッチレジスタ47、マルチプレク
サ33と、ラッチレジスタ48、マルチプレクサ32の
ラッチ、選択のタイミングが、図8(g)、図8(h)
〜図8(g)に示すように、マルチプレクサ37の選択
のタイミングと同期しているので、半導体レーザ11、
12のスイッチング電流ISWが、交互に順次補正され
る。
【0101】なお、LPF22、23を通過する前の電
流指示値L(t)は、図6(c)に示す分布になってい
るが、LPF22、23により、図6(d)に示すなだ
らかになる。
【0102】以上説明したように、レーザービームによ
り走査される位置に応じて、該位置に隣接する補正位置
に対応して記憶されかつ感光体の1つの走査線の入射光
量が走査方向に渡って一定となるための補正係数に基づ
いてスイッチング電流を補正すると共に補正されたスイ
ッチング電流とバイアス電流とを加算した加算電流を半
導体レーザに供給することから、感光体の1つ走査線の
入射光量が、図12(b)に示すように略一定にするこ
とができる。
【0103】また、前述した実施の形態では、バイアス
電流調整モード及びCOS光量調整モードにより、バイ
アス電流及び基準光量となるためのスイッチング電流を
調整することから、半導体レーザの温度、経時変化に影
響されず正確な光量のレーザービームを感光体に照射す
ることができる。
【0104】更に、前述した実施の形態ては、感光体の
感度等に応じて基準光量を変更する必要がある場合にも
基準光量の指示値を変更すれば対処することができ、光
量設定の変更を容易に行うことができる。
【0105】また、前述した実施の形態では、2つの半
導体レーザのスイッチング電流を交互に順次補正するこ
とから、2つの半導体レーザの各々に供給する電流を1
つの補正演算回路で対処でき、露光装置を簡易な構成で
かつ安価にすることができる。
【0106】以上説明した実施の形態では、基準光量は
中央COSより若干位置SOS側の位置COS′の入射
光量としているが、本発明はこれに限定されるものでな
く、図9(a)に示すように、中央COSの入射光量と
してもよい。この場合補正位置及び補正係数も図9
(b)に示すように、設定する。
【0107】また、前述した実施の形態では、デュアル
スポットレーザーダイオードを例にとり説明したが、本
発明はこれに限定されるものでなく、さらに多くの半導
体レーザを用いた場合や1つの半導体レーザを用いた場
合にも適用することができる。
【0108】更に、前述した実施の形態では、EEPR
OMを用いているが、本発明はこれに限定されるもので
なく、他のメモリを用いてもよい。また、EEPROM
に複数の補正位置と補正係数を記憶するようにしている
が、本発明はこれに限定されるものでなく、感光体の1
つの走査線の位置に対応して補正係数をマップ又は演算
式で記憶するようにしてもよい。
【0109】なお、前述した実施の形態では、補正位置
を7つ用いた例を説明したが、本発明はこれに限定され
るものでなく、他の複数の値でもよい。
【0110】更に、前述した実施の形態では、半導体レ
ーザを用いているが、本発明はこれに限定されるもので
なく、He−Neレーザ等を用いてもよい。
【0111】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、感光体の
1つの走査線の入射光量が走査方向に渡って略一定とな
る電流を光源に供給することから、温度等の環境条件が
変化して感光体の1つの走査線の入射光量が走査方向に
渡って略一定となる電流を光源に供給することができ、
また、補正用のフィルター等の部品を設けなくとも感光
体の1つの走査線の入射光量を走査方向に渡って略一定
とすることができる、という効果を有する。
【0112】また、本発明は、位置検出手段により検出
された位置に応じて該位置に隣接する注目位置の記憶手
段に記憶された補正係数に基づいて該位置の補正係数を
求め、かつ、第1の電流量から第2の電流量を減算した
減算電流量を求めた補正係数で複数の光源の各々毎に順
次補正することから、感光体の走査線の入射光量が走査
方向に渡って略一定となる電流を複数の光源の各々毎に
求める手段を備えなくとも、感光体の走査線の入射光量
が走査方向に渡って略一定となる電流を複数の光源に供
給することができ、露光装置を簡易な構成にすることが
できる、という効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態の露光装置を示すブロック図。
【図2】本実施の形態のLD制御回路のブロック図。
【図3】ゲートアレイの詳細を示したブロック図であ
る。
【図4】補正演算回路の詳細を示したブロック図であ
る。
【図5】コントローラの制御ルーチンを示したフローチ
ャートである。
【図6】感光体の走査位置と、入射光量、補正係数、駆
動電流指示値との関係を示した線図である。
【図7】駆動電流と発光量との関係を示した線図であ
る。
【図8】プリントモードにおけるタイミングチャートで
ある。
【図9】感光体の走査位置と、入射光量、補正係数、駆
動電流指示値との他の関係を示した線図である。
【図10】ポリゴンミラーの反射面に入射されるレーザ
ービームの光量の分布を示した図である。
【図11】ポリゴンミラーの反射面に入射されるレーザ
ービームの他の光量の分布を示した図である。
【図12】感光体に入射するレーザービームの光量の走
査方向の分布を示した線図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 3 ポリゴンミラー 8 LD制御回路 53 補正演算回路

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 供給された電流量に応じた光量の光ビー
    ムを発光する少なくとも1つの光源と、 前記光源から発光された光ビームを偏向して感光体を走
    査する走査手段と、 前記光源から発光された光ビームの光量を検出する光量
    検出手段と、 前記光量検出手段により検出された光量と前記光源に供
    給された電流量との関係に基づいて、前記感光体の1つ
    の走査線の入射光量が走査方向に渡って略一定となる電
    流を前記光源に供給する供給手段と、 を備えた露光装置。
  2. 【請求項2】 前記供給手段は、前記光量検出手段によ
    り検出された光量が光ビーム発光開始光量以上の予め定
    められた第1の光量となる第1の電流量及び前記光量検
    出手段により検出された光量が該第1の光量より大きい
    予め定められた第2の光量となる第2の電流量の電流を
    各々前記光源に供給することにより前記関係を得ること
    を特徴とする請求項1記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 前記走査手段により走査された感光体の
    位置を検出する検出手段と、 前記感光体の1つの走査線の入射光量が主走査方向に渡
    って略一定となるための補正係数を前記感光体の予め設
    定された複数の注目位置に対応して記憶する記憶手段
    と、 を備え更に、 前記供給手段は、前記位置検出手段により検出された位
    置に隣接する前記注目位置の前記記憶手段に記憶された
    補正係数に基づいて該位置の補正係数を求めると共に、
    求めた補正係数、前記第1の電流量、及び前記第2の電
    流量に基づいて、前記感光体の1つの走査線の入射光量
    が走査方向に渡って略一定となる電流を前記位置検出手
    段により検出された位置に応じて前記光源に供給する、 ことを特徴とする請求項2記載の露光装置。
  4. 【請求項4】 前記複数の注目位置は、前記感光体の1
    つの走査線の入射光量の変化量が大きい領域程多く設定
    されていることを特徴とする請求項3記載の露光装置。
  5. 【請求項5】 前記供給手段は、前記光量検出手段によ
    り検出された光量が前記第1の光量及び前記第2の光量
    となるようにバイアス電流を増加させながら予め定めら
    れ固定電流に加算した加算電流を前記光源に供給するこ
    とにより、前記第1の電流量及び前記第2の電流量の電
    流を前記光源に供給することを特徴とする請求項2乃至
    請求項4の何れか1項に記載の露光装置。
  6. 【請求項6】 前記走査手段を、 光ビームを反射して偏向すると共に前記光ビームのビー
    ム径より前記走査方向の長さが各々短い複数の反射面を
    備えたポリゴンミラーと、 前記ポリゴンミラーにより偏向された光ビームを感光体
    上でスポット光にする光学系と、 により構成したことを特徴とする請求項1乃至請求項5
    の何れか1項に記載の露光装置。
  7. 【請求項7】 供給された電流量に応じた光量の光ビー
    ムを各々発光する複数の光源と、 前記複数の光源から発光された光ビームを偏向して感光
    体を走査する走査手段と、 前記走査手段により走査された感光体の位置を検出する
    検出手段と、 前記複数の光源の各々から発光された光ビームの光量を
    検出する光量検出手段と、 前記感光体の前記走査手段により走査された位置に対応
    する発光量が主走査方向に渡って略一定となるための補
    正係数を前記感光体の複数の注目位置に対応して記憶す
    る記憶手段と、 前記光量検出手段により検出された光量が光ビーム発光
    開始光量以上の予め定められた第1の光量となる第1の
    電流量及び前記光量検出手段により検出された光量が該
    第1の光量より大きい予め定められた第2の光量となる
    第2の電流量の電流を各々前記複数の光源の少なくとも
    1つに供給することにより前記光量検出手段により検出
    された光量と該複数の光源の少なくとも1つに供給され
    た電流量との関係を求め、前記位置検出手段により検出
    された位置に応じて該位置に隣接する前記注目位置の前
    記記憶手段に記憶された補正係数に基づいて該位置の補
    正係数を求め、かつ、前記第1の電流量から前記第2の
    電流量を減算した減算電流量を求めた補正係数で前記複
    数の光源の各々毎に順次補正して、前記感光体の走査線
    の入射光量が走査方向に渡って略一定となる電流を前記
    位置検出手段により検出された位置に応じて前記複数の
    光源に供給する供給手段と、 を備えた露光装置。
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