JPH09192567A - 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置およびその製造方法 - Google Patents

塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置およびその製造方法

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JPH09192567A
JPH09192567A JP674596A JP674596A JPH09192567A JP H09192567 A JPH09192567 A JP H09192567A JP 674596 A JP674596 A JP 674596A JP 674596 A JP674596 A JP 674596A JP H09192567 A JPH09192567 A JP H09192567A
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stage
coating
coated
suction
glass substrate
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JP674596A
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Inventor
Yoshiyuki Kitamura
義之 北村
Shunei Sekido
俊英 関戸
Hiromitsu Kanamori
浩充 金森
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージ上から破損を招くことなく、塗膜が
形成されたガラス基板を容易に取り外し可能な塗布装置
および塗布方法並びにこれら装置および方法を用いたカ
ラーフィルタの製造装置および製造方法を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタの製造に用いられる塗布
方法を実施する塗布装置は、ステージ6上面に分布され
た多数の吸引孔66と、ステージ6内に形成され、吸引
孔66が連通するチャンバ68と、チャンバ68に負圧
および正圧を選択的に供給する負圧源74および正圧源
80と、ステージ6の上面から突出可能な複数のリフト
ピン84とを備えており、これらリフトピン84は左右
に振り分けて配置され、左右のリフトピン毎に独立して
突出可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、平坦な被塗布部
材の表面に塗布液を塗布し、その塗膜を形成する塗布装
置および塗布方法、並びに、これら塗布装置および塗布
方法を用いたカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
の製造装置および製造方法に関する。
【0002】
【関連する背景技術】カラー液晶ディスプレイ用のカラ
ーフィルタは、ガラス基板上に3原色の細かな格子模様
を有しており、このような格子模様はガラス基板上に黒
色の塗膜を形成した後に、赤、青、緑の塗膜を順次形成
していき、これにより、ガラス基板上を3原色に塗り分
けて得られる。
【0003】それゆえ、カラーフィルタの製造には、ガ
ラス基板上に黒、赤、青、緑の塗布液を順次塗布して、
その塗膜を形成していく形成工程が必要不可欠となる。
この種の形成工程には、従来塗布装置としてスピナー、
バーコータあるいはロールコータなどが使用されていた
が、塗布液の消費を削減し、また、塗膜の物性を向上す
る上で、近年に至ってはダイコータの使用が検討されて
いる。
【0004】この種のダイコータはその一例がたとえば
特開平6-339830号公報に開示されている。この公知のダ
イコータは往復動可能なステージすなわちテーブル盤
と、下向きの吐出口を有した塗布ヘッドとを備え、テー
ブル盤の上面はサクション面として構成されている。し
たがって、塗膜を形成すべきガラス基板はテーブル盤の
サクション面に載置され、そしてサクションにより吸着
保持されるようになっている。
【0005】テーブル盤に関して詳述すると、このテー
ブル盤はその上面に分布された多数の吸引孔と、これら
吸引孔が連通する内部のバキュームチャンバとを有して
おり、このバキュームチャンバに負圧が供給されること
で、テーブル盤上のガラス基板が吸着されることにな
る。また、テーブル盤には4本のエジェクタピンが備え
られており、これらエジェクタピンをテーブル盤の上面
から突出させることで、ガラス基板をテーブル盤から強
制的に剥離可能となっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した公知のテーブ
ル盤にあっては、そのバキュームチャンバ内の圧力が大
気圧に戻された後に、エジェクタピンが突出されること
になっているものの、バキュームチャンバ内を大気圧に
単に戻しただけでは各吸引孔内にはまだ負圧が残ってお
り、ガラス基板はテーブル盤の上面に強力に密着した状
態にある。
【0007】このため、テーブル盤からガラス基板を強
制的に剥離しようとする場合、エジェクタピンに大きな
力を与えてテーブル盤の上面から突出させなければなら
ないし、しかも、各エジェクタピンはテーブル盤の上面
から同時に突出されるために、ガラス基板には無理な力
が加わり、ガラス基板の破損を招くことがある。この発
明は上述の事情に基づいてなされたもので、その目的と
するところは被塗布部材がたとえばガラス基板のような
枚葉部材であっても、その枚葉部材を破損することなく
ステージ表面から簡単に解放することができる塗布装置
および塗布方法並びにこれら装置および方法を用いたカ
ラーフィルタの製造装置および製造方法を提供すること
にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的はこの発明によ
って達成され、請求項1の塗布装置は、塗布液を供給す
る供給手段と、この供給手段から塗布液の供給を受け、
一方向に延びる吐出口から塗布液を吐出可能な塗布器
と、被塗布部材を載置可能なステージと、ステージの表
面に載置された被塗布部材をステージに吸着させる吸着
手段と、塗布器およびステージの少なくとも一方を相対
的に移動させ、被塗布部材の表面に塗布液の塗膜を形成
させる移動手段と、ステージに対する被塗布部材の吸着
を解放する解放手段とを備えており、そして、吸着手段
は、ステージの表面に分布された多数の吸引孔と、吸引
孔に連通する少なくとも1個のチャンバと、このチャン
バに負圧を選択的に供給する負圧源とから構成されてお
り、そして、解放手段はチャンバに正圧を選択的に供給
する正圧源と、ステージの表面に出没可能に設けられ、
ステージの表面から突出したときには被塗布部材をステ
ージの表面から離間させるリフトピンとから構成されて
いる。
【0009】上述した請求項1の塗布装置によれば、ス
テージの表面に吸着保持された被塗布部材に塗膜が形成
されると、先ず、チャンバへの負圧の供給が停止され
る。この後、そのチャンバには正圧が供給され、各吸引
孔内の圧力は大気圧以上に加圧される。この状態で、リ
フトピンがステージの表面から突出されると、リフトピ
ンはステージ表面の被塗布部材を引き離し、被塗布部材
はステージから離間した状態に保持される。
【0010】請求項2の塗布装置は、リフトピンがステ
ージの相対的な進行方向でみて左右に振り分けて配置さ
れており、そして、この場合、解放手段はステージの表
面から左右のリフトピンを所定の時間差で独立して突出
させる別々の駆動源を備えている。請求項2の塗布装置
によれば、ステージ表面の被塗布部材をリフトピンで持
ち上げようとするとき、左右のリフトピンのうちで、先
ず一方の側のリフトピンがステージの表面から突出さ
れ、この後、所定の時間をおいて、他方のリフトピンが
ステージの表面から突出される。したがって、ステージ
表面の被塗布部材はその一方の側の側縁から剥離され、
そして、その全面がステージから離間される。
【0011】請求項3のカラーフィルタの製造装置は、
請求項1または2の塗布装置を有しており、この場合、
製造装置は、塗布装置により被塗布部材に塗膜を形成し
てカラーフィルタを製造する。請求項3の製造装置によ
れば、塗膜が形成された被塗布部材を塗布装置のステー
ジから容易に取り外すことができるので、カラーフィル
タの生産性が向上する。
【0012】請求項4の塗布方法は、多数の吸引孔が分
布されたステージの表面に被塗布部材を吸着する吸着工
程と、塗布器の吐出口から塗布液を吐出しながら、塗布
器および被塗布部材を保持したステージの少なくとも一
方を相対的に移動させ、被塗布部材の表面に塗布液の塗
膜を形成していく形成工程と、ステージに対する被塗布
部材の吸着を解放する解放工程とを備えており、そし
て、解放工程は、吸着工程による被塗布部材の吸着が停
止された後、吸引孔に正圧を供給する供給工程と、ステ
ージの表面からリフトピンを突出させ、ステージのj表
面から被塗布部材を離間させるリフト工程とを含んでい
る。請求項4の塗布方法でも、請求項1の塗布装置と同
様な作用が発揮される。
【0013】請求項5の塗布方法では、リフト工程がス
テージの相対的な進行方向でみて左右に振り分けて配置
した左右のリフトピンが所定の時間差で独立して突出さ
れ、この場合、請求項2の塗布装置と同様な作用が発揮
される。請求項6のカラーフィルタの製造方法は、請求
項4または5に記載の塗布方法を用いてカラーフィルタ
が製造され、この場合、請求項3と同様な作用が発揮さ
れる
【0014】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、カラー液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタの製造に適用される塗布装
置いわゆるダイコータが示されており、このダイコータ
は基台2を備えている。基台2上には一対のガイド溝レ
ール4が設けられており、これらガイド溝レール4には
ステージ6が配置され、このステージ6の上面はサクシ
ョン面として構成されている。なお、ステージ6におけ
るサクション面の詳細に関しては後述する。ステージ6
は一対のスライド脚8を介してガイド溝レール4上を水
平方向に往復動自在となっている。
【0015】一対のガイド溝レール4間には、送り機構
を内蔵したケーシング12が配置されており、ケーシン
グ12はガイド溝レール4に沿って延びている。送り機
構は、図2に示されているようにボールねじからなるフ
ィードスクリュー14を有しており、フィードスクリュ
ー14はステージ6の下面に固定されたナット状のコネ
クタ16にねじ込まれ、このコネクタ16を貫通して延
びている。フィードスクリュー14の両端部は図示しな
い軸受に回転自在に支持されており、その一端にはAC
サーボモータ18が連結されている。なお、ケーシング
12の側面にはコネクタ16の移動を許容する開口が形
成されているが、図1にはその開口が省略されている。
【0016】基台2の上面にはその一端側に位置してセ
ンサ柱20が配置されている。センサ支柱20は逆L字
形をなし、その先端は一方のガイド溝レール4の上方ま
で延びている。センサ支柱20の先端には電動型の昇降
アクチュエータ21が取り付けられており、この昇降ア
クチュエータ21に厚みセンサ22が下向きして取り付
けられている。厚みセンサ22は測定光を測定対象に向
けて出射する光源と、測定光からの反射光を受光する受
光部と、受光部への反射光の入射位置に基づき、測定対
象の厚みを演算する演算回路部とから構成されている。
具体的には、ステージ6上に枚葉部材としてのガラス基
板Aが載置されたとき、厚みセンサ22はガラス基板A
から所定の高さレベルまで降下され、この状態で、その
光源から測定光がガラス基板Aに向けて出射され、ガラ
ス基板Aの上面および下面でそれぞれ反射される。これ
ら反射光は厚みセンサ22の受光部に入射し、演算回路
は受光部への反射光の入射位置の差に基づき、ガラス基
板Aの厚みに対応した検出信号を出力する。なお、厚み
センサ22としては上述のタイプに限らず、レーザ変位
計、電子マイクロ変位計、超音波厚さ計などを使用する
ことができる。
【0017】図1を再度参照すると、基台2の上面には
センサ支柱20よりも基台2の中央側に位置してダイ支
柱24が配置されており、このダイ支柱24もまた逆L
字形をなしている。ダイ支柱24の先端には昇降機構2
6が取り付けられており、昇降機構26は昇降可能な昇
降ブラケット(図示しない)を備えており、この昇降ブ
ラケットはケーシング28内の一対のガイドロッドに昇
降自在に取り付けられている。また、ケーシング内には
ガイドロッド間に位置してボールねじからなるフィード
スクリュー(図示しない)もまた回転自在に配置されて
おり、このフィードスクリューに対してナット型のコネ
クタを介して昇降ブラケットが連結されている。フィー
ドスクリューの上端にはACサーボモータ30が接続さ
れており、このACサーボモータ30はケーシング28
の上面に取り付けられている。
【0018】昇降ブラケットには支持軸(図示しない)
を介してダイホルダ32が取り付けられており、このダ
イホルダ32はコ字形をなしかつ一対のガイド溝レール
4の上方をこれらレール4間に亘って水平に延びてい
る。ダイホルダ32の支持軸は昇降ブラケット内にて回
転自在に支持されており、これにより、ダイホルダ32
は支持軸とともに垂直面内で回転することができる。
【0019】昇降ブラケットには、ダイホルダ32の上
方に位置して水平バー36が固定されており、この水平
バー36はダイホルダ32に沿って延びている。水平バ
ー36の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエー
タ38がそれぞれ取り付けられている。これらリニアア
クチュエータ38は水平バー36の下面から突出する伸
縮ロッドを有しており、これら伸縮ロッドがダイホルダ
32の両端にそれぞれ当接されている。
【0020】ダイホルダ32内には塗布器としてのスリ
ットダイ40が取り付けられている。このスリットダイ
40からは、図2に示されているように塗布液の供給ホ
ース42が延びており、この供給ホース42の先端はシ
リンジポンプ44、つまり、その電磁切換え弁46の供
給ポートに接続されている。電磁切換え弁46の吸引ポ
ートからは吸引ホース48が延びており、この吸引ホー
ス48の先端部はタンク50内に挿入されている。な
お、タンク50には塗布液が蓄えられている。
【0021】シリンジポンプ44のポンプ本体52は、
電磁切換え弁46の切換え作動により、供給ホース42
および吸引ホース48の一方に選択的に接続可能となっ
ている。そして、これら電磁切換え弁48およびポンプ
本体52はコンピュータ54に電気的に接続されてお
り、このコンピュータ54からの制御信号を受けて、そ
れらの作動が制御されるようになっている。また、コン
ピュータ54は前述した昇降アクチュエータ22および
厚みセンサ22もまた電気的に接続されている。
【0022】さらに、シリンジポンプ44の作動を制御
するため、コンピュータ54にはシーケンサ56もまた
電気的に接続されている。このシーケンサ54は、ステ
ージ6側のフィードスクリュー14のACサーボモータ
18や、昇降機構26側のACサーボモータ30やリニ
アアクチュエータ38の作動をシーケンス制御するもの
であり、そのシーケンス制御のために、シーケンサ56
にはACサーボモータ18,30の作動状態を示す信
号、ステージ6の移動位置を検出する位置センサ58か
らの信号、スリットダイ40の作動状態を検出するセン
サ(図示しない)からの信号などが入力され、一方、シ
ーケンサ56からはシーケンス動作を示す信号がコンピ
ュータ54に出力されるようになっている。なお、位置
センサ58を使用する代わりに、ACサーボモータ18
にエンコーダを組み込み、このエンコーダから出力され
るパルス信号に基づき、シーケンサ56にてステージ6
の位置を検出することも可能である。さらに、シーケン
サ56にコンピュータ54により制御を組み込むことも
可能である。
【0023】図示されていないけれども、ダイコータに
はステージ6上にガラス基板Aを供給するためのローダ
や、ステージ6からガラス基板Aを取り外すためのアン
ローダが備えられており、これらローダおよびアンロー
ダにはその主要構成部分にたとえば円筒座標系産業用ロ
ボットを使用することができる。図1から明らかなよう
にスリットダイ40はステージ6の往復動方向と直交す
る方向、つまり、ダイホルダ32の長手方向に水平に延
びており、そして、その両端にてダイホルダ32に支持
されている。
【0024】図2に概略的に示されているようにスリッ
トダイ40は長尺なブロック形状のフロントリップ59
およびリアリップ60を有しており、これらリップはス
テージ6の往復動方向に向かい合って配置され、そし
て、図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体的に
結合されている。両リップ59,60の結合により、ス
リットダイ40の下面にはノズル部が形成される。
【0025】スリットダイ40内にはその中央部分に位
置してマニホールド62が形成されており、このマニホ
ールド62はスリットダイ40の幅方向、すなわち、ス
テージ6の往復動方向と直交する方向に水平に延びてい
る。マニホールド62は前述した塗布液の供給ホース4
2に内部通路(図示しない)を介して常時接続されてお
り、これにより、マニホールド62は塗布液の供給を受
けることができる。
【0026】スリットダイ40の内部には上端がマニホ
ールド62に連通し、下端がノズル部の下面に開口した
スリット64が形成されており、このスリット64の下
端開口は吐出口として規定されている。具体的には、ス
リット64はフロントリップ59とリアリップ60との
間に挟み込まれたシム(図示しない)によって確保され
ており、これにより、前記吐出口もまたスリットダイ4
0の幅方向に延びている。
【0027】次に、前述したステージ6に関し、図3〜
図5を参照しながら説明する。ステージ6の上面には多
数の吸引孔66が形成されており、これら吸引孔66は
一様に分布して配置されている。ステージ6内にはチャ
ンバ68が形成されており、このチャンバ68に吸引孔
66は常時連通されている。また、ステージ6の外壁に
はチャンバ68にチャンバ68に連通する給排口70が
形成されており、この給排口70にはフレキシブルな給
排ホース72の一端が接続されている。給排ホース72
はステージ6の往復動を許容する長さを有しており、そ
の他端は真空ポンプ、排気ブロアなどの排気装置つまり
負圧源74に接続されている。給排ホース72には負圧
源72の近傍に位置して電磁排気弁76が介挿されてお
り、この電磁排気弁76は給排ホース72を開閉可能と
なっている。
【0028】給排ホース72において、電磁排気弁76
と給排口70との間からは分岐ホース78が延びてお
り、この分岐ホース78はエアコンプレッサなどの正圧
源80に接続されている。また、分岐ホース78には電
磁加圧弁82が介挿されており、この電磁加圧弁82は
分岐ホース78を開閉可能となっている。図2に示され
ているように負圧源74、電磁排気弁76、正圧源80
および電磁加圧弁82は前述したシーケンサ56に電気
的に接続され、このシーケンサ56によりそれらの作動
が制御される。
【0029】さらに、ステージ6内には4本のリフトピ
ン84が備えられている。これらリフトピン84は図3
中の矢印Bで示すステージ6の往復動方向でみて左右に
2個ずつ振り分けて配置され、そして、片側に位置する
2個のリフトピン84はステージ6の往復動方向に沿う
同一のライン上に位置付けられている。また、ステージ
6の上面には各リフトピン84に対応して突没孔86が
形成されており、これら突没孔86は吸引孔66の間に
位置付けられている。
【0030】図4から明らかなようにステージ6のチャ
ンバ68内には、リフトピン84を摺動案内するガイド
突起88が設けられており、これらガイド突起88は突
没孔86と同一の軸線上に位置し、かつ、チャンバ68
の底面から上方に向けて突出されている。各リフトピン
84はステージ6の下面から突出しており、そして、左
右に振り分けられた2個ずつのリフトピン84はそれら
の下端が対応するリフトプレート90に連結されてい
る。すなわち、リフトプレート90は左右に1個ずつ配
置され、ステージ6の往復動方向に延びている。ステー
ジ6の下面中央には左右に位置して一対のエアシリンダ
92が下向きにして取り付けられており、そのピストン
ロッドがリフトプレート90に連結されている。なお、
一対のエアシリンダ92の作動、つまり、これらエアシ
リンダ92への圧縮空気の給排もまた前述したシーケン
サ56により制御されるようになっている。
【0031】次に、カラーフィルタの製造に係わる一工
程、つまり、上述したダイコータを使用して行われる塗
布方法を説明する。まず、ダイコータにおける各作動部
の原点復帰が行われると、ステージ6は厚みセンサ22
の下方に位置付けられ、また、タンク50から吸引ホー
ス48および供給ホース42を経て、スリットダイ40
内のマニホールド62およびスリット64に至る経路内
は塗布液で満たされている。このとき、各エアシリンダ
92はそのピストンロッドが伸張した状態にある。これ
により、図4に示されているようにステージ6の左右2
個ずつのリフトピン84はそのリフトプレート90を介
して下降しており、それらの上端はステージ6内に完全
に没入した状態にある。
【0032】この状態で、ローダ(図示されていない)
からステージ6上にガラス基板Aが供給されると、この
ガラス基板Aはステージ6上に位置決めされた状態で載
置される。この場合、ガラス基板Aはステージ6の吸引
孔66および突没孔86の全てを覆っている。この後、
負圧源74が作動されるととともに電磁排気弁76が開
かれて、給排ホース72を通じてステージ6のチャンバ
68に負圧が供給され、チャンバ68内の負圧はたとえ
ば−600mmHgに設定される。したがって、ステージ6
上のガラス基板Aは吸引孔66からのサクション圧を受
け、ステージ6に吸着される(吸着工程)。このとき、
正圧源80はその作動が停止され、電磁加圧弁82は閉
じた状態にある。
【0033】このようにしてガラス基板Aのローディン
グ完了すると、厚みセンサ22はステージ6上のガラス
基板Aに向けて所定の位置まで下降されて、ガラス基板
Aの厚みを検出し、その検出信号をコンピュータ54に
供給する。この後、厚みセンサ22は元の位置まで上昇
して待機する。上述したガラス基板Aのローディングの
開始と同時に、シリンジポンプ44の電磁切換え弁46
がポンプ本体52と吸引ホース48とを接続すべく切換
え作動され、そして、ポンプ本体52にタンク50内の
塗布液を吸引ホース48を通じて吸引する吸引動作を行
わせる。シリンジポンプ44内に所定量の塗布液が吸引
されると、シリンジポンプ44の電磁切換弁46はポン
プ本体52と供給ホース42とを接続すべく切換え作動
される。そして、ステージ6はスリットダイ40に向け
て往動され、スリットダイ40の直前で停止される。
【0034】一方、スリットダイ40は厚みセンサ22
にて検出したガラス基板Aの厚みを考慮して下降され、
スリットダイ40の吐出口とガラス基板Aとの間に所定
のクリアランスが確保される。この後、ステージ6をさ
らに往動させ、ガラス基板Aの上面において、塗膜が形
成されるべきスタートラインをスリットダイ40におけ
る吐出口の直下に位置付け、ステージ6を一旦停止させ
る。
【0035】ステージ6の一旦停止と実質的に同時に、
シリンジポンプ44に塗布液の吐出動作を開始させ、塗
布液をスリットダイ40に向けて供給する。したがっ
て、スリットダイ40の吐出口からガラス基板A上に塗
布液が吐出される。ここで、吐出口の間隙幅はスリット
ダイ40の幅方向、つまり、ステージ6の往復動方向に
沿って一定であり、それゆえ、その吐出口からはガラス
基板Aのスタートラインに沿って一様に塗布液が吐出さ
れ、この結果、スリットダイ40とガラス基板Aとの間
にはビードと称される液溜まりC(図2参照)がスター
トラインに沿って形成される。
【0036】このような液溜まりCの形成と同時に、ス
リットダイ40、つまり、その吐出口からの塗布液の吐
出を継続しながら、ステージ6を一定の速度で往動方向
に進行させると、図2に示されているようにガイド基板
Aの上面に塗布液の塗膜Dが連続して形成される(形成
工程)。なお、塗膜Dの形成にあたっては、ステージ6
の往動を一旦停止することなく、ガラス基板Aのスター
トラインがスリットダイ40の吐出口を通過するタイミ
ングにて、その吐出口から塗布液を吐出するようにして
もよい。
【0037】ステージ6の進行に伴い、ガラス基板A上
にて塗膜Dの形成を終了すべきフィニッシュラインがス
リットダイ40の吐出口の直前位置に到達すると、この
時点で、シリンジポンプ44の吐出動作が停止される。
このようにしてスリットダイ40からの塗布液の吐出が
停止されても、ガラス基板A上においてはその液溜まり
Cの塗布液を消費(スキージ)しながら、塗膜Dの形成
がフィニッシュラインまで継続される。なお、ガラス基
板A上のフィニッシュラインがスリットダイ40の吐出
口を通過した時点で、スリットダイ40を上昇させても
よいし、シリンジポンプ44の吐出動作を停止するよう
にしてもよい。
【0038】この後、スリットダイ40は元の位置まで
上昇され、スリットダイ40からの塗布液の吐出工程が
終了する。なお、スリットダイ40の上昇位置にて、そ
の下端面に付着している塗布液はクリーナ(図示しな
い)により拭き取られる。一方、ステージ6の往動は、
塗布液の吐出工程が終了しても継続されており、ステー
ジ6がガイド溝レール4の終端に到達した時点で、その
往動が停止される。この状態で、負圧源74の作動が停
止されると同時に電磁排気弁76が閉じられる。この
後、正圧源80が作動されるとともに電磁加圧弁82が
開かれることにおり、ステージ6のチャンバ68には分
岐ホース78および給排ホース72を通じて正圧が供給
され、チャンバ68内の圧力が加圧される。この場合、
チャンバ68内の圧力はゲージ圧で0.01〜0.5M
Paの範囲好ましくは0.1〜0.2MPaの範囲で加
圧される。この圧力が好ましい理由は、圧力が小さすぎ
ると、ガラス基板Aとステージ6との離間が不十分でリ
フトピン84に大きな押し上げ力が必要となり、最悪の
場合は、ガラス基板Aを破損することもあることと、逆
に圧力が大きすぎると、ガラス基板Aがステージ6から
完全に離間し、エアー上を浮遊してステージ6上を移動
し、適切な位置でガラス基板Aを上昇させることができ
なくなることによる。上記の範囲であるならば、ガラス
基板Aとステージ6との間の一部が離間することにな
り、ステージ6上のガラス基板Aの位置を変えることな
く、小さな圧力でガラス基板Aを上昇させることができ
る。なお、正圧の供給は、負圧源、正圧源を作動させた
まま、電磁弁76を開位置から閉位置に切り替えるとと
もに、電磁加圧弁82を閉位置から開位置に切り替えた
状態で行ってもよい。
【0039】このようにしてチャンバ68内が正圧状態
に加圧された後、左右のエアシリンダ92のうちの一方
が先ず作動され、そのピストンロッドが収縮される。し
たがって、そのエアシリンダ92の作動に伴い、対応す
るリフトプレート90を介して一方の側の2個のリフト
ピン84は突没孔86を通じてステージ6の上面から突
出し、この結果、図5および図6を比較すれば明らかな
ようにステージ6上ガラス基板Aはその一方の側縁から
剥離されていく。
【0040】そして、一方のエアシリンダ92が作動し
てから0.1〜2sec、たとえば0.5sec経過した時点
で他方のエアシリンダ92もまた作動され、そのピスト
ンロッドが収縮される。したがって、他方の側の2個の
リフトピン84もまた対応するリフトプレート90を介
してステージ6の上面から突出し、これにより、図7に
示されているようにガラス基板Aは4本のリフトピン8
4によりステージ6から持ち上げられて状態に保持され
る(解放工程)。
【0041】一方の側の2個のリフトピン84がステー
ジ6の上面から突出されるときには、ステージ6におけ
るチャンバ68の圧力は既に正圧となっているので、ガ
ラス基板Aはチャンバ68内の圧力により吸引孔66を
通じ上方に向けて押圧された状態にある。それゆえ、リ
フトピン84はわずかな押し上げ力で、ステージ6上か
らガラス基板Aを持ち上げることができ、リフトピン8
4に大きな押し上げ力を付与する必要がない。
【0042】しかも、リフトピン84はその全てが同時
にステージ6の上面から突出するのではなく、左右でみ
て一方の側の2個のリフトピン84が先ずステージ6上
から突出されるので、ガラス基板Aはその一方の側縁か
ら剥離されていくことになり、この剥離に伴い、ガラス
基板Aとステージ6の上面との間に大気圧が良好に導か
れ、ステージ6上からのガラス基板Aの持ち上げを容易
に行うことができる。
【0043】一方の側のリフトピン84の突出と他方の
側のリフトピン84の突出との間の時間差が0.1sec
よりも短いと、一方の側縁からのガラス基板Aの剥離が
実際上不能になり、これに対し、その時間差が2secを
越えてしまうと、ガラス基板Aの傾きが大きくなり過ぎ
てしまって、ガラス基板Aの安定した持ち上げが不能と
なる虞がある。
【0044】ステージ6からリフトされた状態にあるガ
ラス基板Aはアンローダにより下面を保持されて、ステ
ージ6から取り外された後、ステージ6は復動され、図
1に示す初期位置に戻されて、これにより、一連の塗布
工程が終了する。なお、初期位置にて、ステージ6は新
たなガラス基板Aがローディングされるまで待機する。
【0045】上述したステージ6上からのガラス基板A
の解放に関し、ガラス基板Aを容易にステージ6から持
ち上げることができるので、ガラス基板Aに無理な力が
加わるようなことはなく、ガラス基板Aの破損を確実に
防止することができる。したがって、塗膜Dが形成され
たガラス基板Aの歩留まりが向上し、カラーフィルタの
生産性を高めることができる。
【0046】上述の実施例では、フィードスクリュー1
4とコネクタ16とによりステージ6を往復動可能とし
たが、ステージ6を固定しスリットダイ40を往復動可
能としてもよいし、これらを同時に往復動させてもよ
い。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
1,4の塗布装置および塗布方法によれば、ステージ表
面から被塗布部材を取り出すときには、ステージのチャ
ンバに正圧を供給するようにしたから、リフトピンにわ
ずかな押し上げ力を付与するだけで、ステージの表面か
ら被塗布部材を容易に離間することができ、被塗布部材
の破損を防止することができる。請求項2,5の塗布装
置および塗布方法によれば、左右のリフトピンのうち、
一方のリフトピンを先ずステージの表面から突出させる
ようにしたので、ステージ表面の被塗布部材はその一方
の側縁から剥離されながら離間し、ステージの表面から
の被塗布部材の離間をさらに容易に行え、その破損を確
実に防止することができる。
【0048】請求項3,6のカラーフィルタの製造装置
および製造方法によれば、カラーフィルタの生産性を向
上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施例のダイコータを概略的に示した斜視図
である。
【図2】図1のダイコータを塗布液の供給系を含めて示
した概略構成図である。
【図3】図1のステージを示した平面図である。
【図4】負圧および正圧の供給系を示すための図3中、
IV−IV線に沿うステージの断面図である。
【図5】ガラス基板が吸着された状態にあるステージの
背面図である。
【図6】ステージの上面からガラス基板の一方の側縁が
剥離された状態を示す図である。
【図7】ステージからガラス基板が持ち上げられた状態
を示す図である。
【符号の説明】
6 ステージ 14 フィードスクリュー 40 スリットダイ(塗布器) 44 シリンジポンプ(供給手段) 50 タンク 62 マニホールド 64 スリット 66 吸着孔 68 チャンバ 72 給排ホース 76 電磁排気弁 78 分岐ホース 80 正圧源 82 電磁加圧弁 84 リフトピン 90 リフトプレート 92 エアシリンダ A ガラス基板

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 塗布液を供給する供給手段と、 前記供給手段から塗布液の供給を受け、一方向に延びる
    吐出口から塗布液を吐出可能な塗布器と、 被塗布部材を載置可能なステージと、 前記ステージの表面に載置された被塗布部材を前記ステ
    ージに吸着させる吸着手段と、 前記塗布器および前記ステージの少なくとも一方を相対
    的に移動させ、前記被塗布部材の表面に塗布液の塗膜を
    形成させる移動手段と、 前記ステージに対する前記被塗布部材の吸着を解放する
    解放手段とを具備する塗布装置において、 前記吸着手段は、前記ステージの表面に分布された多数
    の吸引孔と、前記吸引孔に連通する少なくとも1個のチ
    ャンバと、前記チャンバに負圧を選択的に供給する負圧
    源とを備えており、 前記解放手段は、前記チャンバに正圧を選択的に供給す
    る正圧源と、前記ステージの表面に出没可能に設けら
    れ、前記ステージの表面から突出したときには前記被塗
    布部材を前記ステージの表面から離間させるリフトピン
    とを備えていることを特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項2】 前記リフトピンは、前記ステージの相対
    的な進行方向でみて左右に振り分けて配置されており、
    前記解放手段は前記ステージの表面から前記左右のリフ
    トピンを所定の時間差で独立して突出させる別々の駆動
    源を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の塗
    布装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の塗布装置を有
    することを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
  4. 【請求項4】 多数の吸引孔が分布されたステージの表
    面に被塗布部材を吸着する吸着工程と、 前記塗布器の吐出口から塗布液を吐出しながら、前記塗
    布器および被塗布部材を保持したステージの少なくとも
    一方を相対的に移動させ、前記被塗布部材の表面に塗布
    液の塗膜を形成していく形成工程と、 前記ステージに対する前記被塗布部材の吸着を解放する
    解放工程とを備える塗布方法において、 前記解放工程は、前記吸着工程による前記被塗布部材の
    吸着が停止された後、前記吸引孔に正圧を供給する供給
    工程と、前記ステージの表面からリフトピンを突出さ
    せ、前記ステージから前記被塗布部材を離間させるリフ
    ト工程とを含むことを特徴とする塗布方法。
  5. 【請求項5】 前記リフト工程では、前記ステージの相
    対的な進行方向でみて左右に振り分けて配置した左右の
    リフトピンを所定の時間差で独立して突出させることを
    特徴とする、請求項4に記載の塗布方法。
  6. 【請求項6】 請求項4または5に記載の塗布方法を用
    いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
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