JPH09176175A - アリールホスホニックジクロリド及びジアリールホスフィニッククロリドの製造方法 - Google Patents
アリールホスホニックジクロリド及びジアリールホスフィニッククロリドの製造方法Info
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- JPH09176175A JPH09176175A JP34249895A JP34249895A JPH09176175A JP H09176175 A JPH09176175 A JP H09176175A JP 34249895 A JP34249895 A JP 34249895A JP 34249895 A JP34249895 A JP 34249895A JP H09176175 A JPH09176175 A JP H09176175A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アリールホスホノチオイックジクロリド或い
はジアリールホスフィノチオイッククロリドより、温和
な反応で、定量的にアリールホスホニックジクロリド或
いはジアリールホスフィニッククロリドを得ることが出
来る工業的な前記目的物の製造方法の提供にある。 【解決手段】 下記一般式で示される反応でアリールホ
スホノチオイックジクロリド或いはジアリールホスフィ
ノチオイッククロリドを塩素化し生成するアリールテト
ラクロロホスホラン或いはジアリールトリクロロホスホ
ランを水で部分加水分解しアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドを得る方
法において、塩素化の際に、反応系内に初めから水を存
在させることを特徴とするアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドの製造方
法に関する。 【化１】 （式中Ｒは非置換もしくはアルキル基、ハロゲン原子で
置換されたフェニル基を示し、ｎは１或いは２を表
す。）
はジアリールホスフィノチオイッククロリドより、温和
な反応で、定量的にアリールホスホニックジクロリド或
いはジアリールホスフィニッククロリドを得ることが出
来る工業的な前記目的物の製造方法の提供にある。 【解決手段】 下記一般式で示される反応でアリールホ
スホノチオイックジクロリド或いはジアリールホスフィ
ノチオイッククロリドを塩素化し生成するアリールテト
ラクロロホスホラン或いはジアリールトリクロロホスホ
ランを水で部分加水分解しアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドを得る方
法において、塩素化の際に、反応系内に初めから水を存
在させることを特徴とするアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドの製造方
法に関する。 【化１】 （式中Ｒは非置換もしくはアルキル基、ハロゲン原子で
置換されたフェニル基を示し、ｎは１或いは２を表
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は工業原料中間体とし
て有用なアリールホスホニックジクロリド或いはジアリ
ールホスフィニッククロリドの製造方法に関するもので
ある。アリールホスホニックジクロリド或いはジアリー
ルホスフィニッククロリドは、繊維、プラスチックなど
の難燃剤、酸化防止剤、改質剤の原料として有用な物質
である。
て有用なアリールホスホニックジクロリド或いはジアリ
ールホスフィニッククロリドの製造方法に関するもので
ある。アリールホスホニックジクロリド或いはジアリー
ルホスフィニッククロリドは、繊維、プラスチックなど
の難燃剤、酸化防止剤、改質剤の原料として有用な物質
である。
【０００２】
【従来の技術】アリールホスホニックジクロリド及びジ
アリールホスフィニッククロリドの製造方法は、種々知
られている．例えば、 (1) 式(I)に示すように３価のリンよりなるアリールジ
クロロホスフィン或いはジアリールクロロホスフィンの
酸素或いは無水硫酸等により直接酸化する方法。
アリールホスフィニッククロリドの製造方法は、種々知
られている．例えば、 (1) 式(I)に示すように３価のリンよりなるアリールジ
クロロホスフィン或いはジアリールクロロホスフィンの
酸素或いは無水硫酸等により直接酸化する方法。
【０００３】
【化２】
【０００４】(2) 式(II）、(III）に示すように５価の
リンよりなるアリールテトラクロロホスホラン或いはジ
アリールトリクロロホスホランに亜硫酸ガス又は水を作
用させる方法。
リンよりなるアリールテトラクロロホスホラン或いはジ
アリールトリクロロホスホランに亜硫酸ガス又は水を作
用させる方法。
【０００５】
【化３】
【０００６】(3) 式(IV）、（V)に示すように農薬中間
体或いは副産物として比較的安価に入手でき、取り扱い
も容易な、アリールホスホノチオイックジクロリド或い
はジアリールホスホノチオイッククロリドに塩素を作用
させアリールテトラクロロホスホラン或いはジアリール
トリクロロホスホランと塩化硫黄を得、この反応生成物
に亜硫酸ガスを生成させる方法。
体或いは副産物として比較的安価に入手でき、取り扱い
も容易な、アリールホスホノチオイックジクロリド或い
はジアリールホスホノチオイッククロリドに塩素を作用
させアリールテトラクロロホスホラン或いはジアリール
トリクロロホスホランと塩化硫黄を得、この反応生成物
に亜硫酸ガスを生成させる方法。
【０００７】
【化４】
【０００８】(4) 式(IV)の反応生成物に水を作用させ
る方法
る方法
【０００９】
【化５】
【００１０】等が知られている（特公昭５９−２６６３
５号公報）。(1)の直接酸化による製造方法は、(I)式で
示される原料のアリールジクロロホスフィン或いはジア
リールクロロホスフィンの分離が容易でない問題及び以
下に述べるように原料に問題がある。(2)のホスホラン
と亜硫酸ガス或いは水を用いる方法は、原料のホスホラ
ン化合物を得るには、ホスホナスジクロライドの塩素化
しかない。フェニルホスホナスジクロライドの製造法
は、べンゼンと三塩化燐により約６００℃での熱分解と
いう特殊な製造法であること、また、フェニルホスホナ
スジクロライドは、それ自身が酸化され自然発火するな
ど極めて取り扱いにくい化合物であること等、出発原料
そのものに問題がある。(3)の方法は、温和でコントロ
ールしやすいが反応であるが、副生成物の一塩化硫黄と
チオニルクロライドの処理に問題がある。(4)の方法
は、ホスホラン及び塩化硫黄とも単独では水と激しく反
応するが、式(IV)の反応生成物に水を作用させる特公昭
５９−２６６３５号公報に記載の方法は、反応がやや温
和になり制御ができるようになったが、十分ではなく、
水滴下当初は激しい反応で、やはり反応の制御に問題が
ある。
５号公報）。(1)の直接酸化による製造方法は、(I)式で
示される原料のアリールジクロロホスフィン或いはジア
リールクロロホスフィンの分離が容易でない問題及び以
下に述べるように原料に問題がある。(2)のホスホラン
と亜硫酸ガス或いは水を用いる方法は、原料のホスホラ
ン化合物を得るには、ホスホナスジクロライドの塩素化
しかない。フェニルホスホナスジクロライドの製造法
は、べンゼンと三塩化燐により約６００℃での熱分解と
いう特殊な製造法であること、また、フェニルホスホナ
スジクロライドは、それ自身が酸化され自然発火するな
ど極めて取り扱いにくい化合物であること等、出発原料
そのものに問題がある。(3)の方法は、温和でコントロ
ールしやすいが反応であるが、副生成物の一塩化硫黄と
チオニルクロライドの処理に問題がある。(4)の方法
は、ホスホラン及び塩化硫黄とも単独では水と激しく反
応するが、式(IV)の反応生成物に水を作用させる特公昭
５９−２６６３５号公報に記載の方法は、反応がやや温
和になり制御ができるようになったが、十分ではなく、
水滴下当初は激しい反応で、やはり反応の制御に問題が
ある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は上記の問
題がないアリールホスホニックジクロリド及びジアリー
ルホスフィニッククロリドの製造方法を鋭意研究した結
果、意外にも、アリールホスホノチオイックジクロリド
或いはジアリールホスホノチオイッククロリドに塩素を
作用させアリールテトラクロロホスホラン或いはジアリ
ールトリクロロホスホランと塩化硫黄を得、この反応生
成物に水を作用させる方法において、水を原料のアリー
ルホスホノチオイックジクロリド或いはジアリールホス
フィノチオイッククロリドと当量存在させて、塩素を吹
き込むと塩化水素を発生しながら上記（４）の方法より
更に温和に反応し、定量的にアリールホスホニックジク
ロリド或いはジアリールホスフィニッククロリドを得る
ことを見出した。
題がないアリールホスホニックジクロリド及びジアリー
ルホスフィニッククロリドの製造方法を鋭意研究した結
果、意外にも、アリールホスホノチオイックジクロリド
或いはジアリールホスホノチオイッククロリドに塩素を
作用させアリールテトラクロロホスホラン或いはジアリ
ールトリクロロホスホランと塩化硫黄を得、この反応生
成物に水を作用させる方法において、水を原料のアリー
ルホスホノチオイックジクロリド或いはジアリールホス
フィノチオイッククロリドと当量存在させて、塩素を吹
き込むと塩化水素を発生しながら上記（４）の方法より
更に温和に反応し、定量的にアリールホスホニックジク
ロリド或いはジアリールホスフィニッククロリドを得る
ことを見出した。
【００１２】本発明の目的は、アリールホスホノチオイ
ックジクロリド或いはジアリールホスフィノチオイック
クロリドより、温和な反応で、定量的にアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドを得ることが出来る工業的な前記目的物の製造方法
の提供にある。
ックジクロリド或いはジアリールホスフィノチオイック
クロリドより、温和な反応で、定量的にアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドを得ることが出来る工業的な前記目的物の製造方法
の提供にある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は下記一般
式で示される反応でアリールホスホノチオイックジクロ
リド或いはジアリールホスフィノチオイッククロリドを
塩素化し生成するアリールテトラクロロホスホラン或い
はジアリールトリクロロホスホランを水で部分加水分解
しアリールホスホニックジクロリド或いはジアリールホ
スフィニッククロリドを得る方法において、塩素化の際
に、水を反応系に初めから存在させることを特徴とする
アリールホスホニックジクロリド或いはジアリールホス
フィニッククロリドの製造方法に関する。
式で示される反応でアリールホスホノチオイックジクロ
リド或いはジアリールホスフィノチオイッククロリドを
塩素化し生成するアリールテトラクロロホスホラン或い
はジアリールトリクロロホスホランを水で部分加水分解
しアリールホスホニックジクロリド或いはジアリールホ
スフィニッククロリドを得る方法において、塩素化の際
に、水を反応系に初めから存在させることを特徴とする
アリールホスホニックジクロリド或いはジアリールホス
フィニッククロリドの製造方法に関する。
【００１４】
【化６】
【００１５】（式中Ｒは非置換もしくはアルキル基、ハ
ロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、ｎは１或い
は２を表す。） 以下、本発明を更に詳細に説明する。
ロゲン原子で置換されたフェニル基を示し、ｎは１或い
は２を表す。） 以下、本発明を更に詳細に説明する。
【００１６】
【発明の実施の形態】上記の反応式に記載の式中のアル
キル基は特に限定しないが、通常は炭素数１から４の低
級アルキル基である。アリールホスホノチオイックジク
ロリド或いはジアリールホスフィノチオイッククロリド
の塩素による塩素化の際に、水を前記原料化合物に対し
てほぼ当量存在させて塩素化すると、塩化水素ガスを発
生しながら定量的に温和に反応する。目的物のアリール
ホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッ
ククロリドの精製は、副生する一塩化硫黄を留去後、ア
リールホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフ
ィニッククロリドを蒸留精製して得ることができる。
キル基は特に限定しないが、通常は炭素数１から４の低
級アルキル基である。アリールホスホノチオイックジク
ロリド或いはジアリールホスフィノチオイッククロリド
の塩素による塩素化の際に、水を前記原料化合物に対し
てほぼ当量存在させて塩素化すると、塩化水素ガスを発
生しながら定量的に温和に反応する。目的物のアリール
ホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッ
ククロリドの精製は、副生する一塩化硫黄を留去後、ア
リールホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフ
ィニッククロリドを蒸留精製して得ることができる。
【００１７】生成するアリールホスホニックジクロリド
或いはジアリールホスフィニッククロリドは、水で分解
する反応も無論おきるが、ホスホランが、前記の分解生
成物（アリールホスホン酸或いはジアリールホスホスホ
ン酸）と反応しアリールホスホニックジクロリド或いは
ジアリールホスフィニッククロリドを生成するので問題
はない。
或いはジアリールホスフィニッククロリドは、水で分解
する反応も無論おきるが、ホスホランが、前記の分解生
成物（アリールホスホン酸或いはジアリールホスホスホ
ン酸）と反応しアリールホスホニックジクロリド或いは
ジアリールホスフィニッククロリドを生成するので問題
はない。
【００１８】水の量は、前記原料化合物に対して１〜
１．１倍当量、好ましくは１倍当量〜１．０５倍当量の
範囲である。水が過剰に存在するとホスホン酸を生成
し、目的物の収率低下につながる。水の不足は、ホスホ
ランが残存し、蒸留時熱分解し、塩素とアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドが生成し、留分に混入し純度を下げるとともに極め
て不快な臭いを伴う製品となる。水の不足は特に問題な
ので、実際の反応では、水は若干過剰使用したほうが良
い。しかしこの反応は２モルの塩化水素の発生を伴うも
のであり、ガス同伴により水が系外に逃げることが考え
られる。ガス同伴により逃げる水に相当する量の水を加
えるのが良いが、逃げた水の量を正確に把握できないの
で、水の不足分はＳＯ2で処理するのが好ましい。
１．１倍当量、好ましくは１倍当量〜１．０５倍当量の
範囲である。水が過剰に存在するとホスホン酸を生成
し、目的物の収率低下につながる。水の不足は、ホスホ
ランが残存し、蒸留時熱分解し、塩素とアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドが生成し、留分に混入し純度を下げるとともに極め
て不快な臭いを伴う製品となる。水の不足は特に問題な
ので、実際の反応では、水は若干過剰使用したほうが良
い。しかしこの反応は２モルの塩化水素の発生を伴うも
のであり、ガス同伴により水が系外に逃げることが考え
られる。ガス同伴により逃げる水に相当する量の水を加
えるのが良いが、逃げた水の量を正確に把握できないの
で、水の不足分はＳＯ2で処理するのが好ましい。
【００１９】このＳＯ2での処理は、一塩化硫黄（Ｓ2Ｃ
ｌ2）を留去後実施する。その理由は、留去により回収
した一塩化硫黄は、下記反応により、アリールホスホニ
ックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロリ
ドの原料となる硫塩化燐として回収できるからである。
ｌ2）を留去後実施する。その理由は、留去により回収
した一塩化硫黄は、下記反応により、アリールホスホニ
ックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロリ
ドの原料となる硫塩化燐として回収できるからである。
【００２０】
【化７】
【００２１】反応温度は０〜１００℃で、反応は非常に
速いが、高いと塩化水素ガスに同伴する水の量が多くな
り反応の把握がしにくくなり、低い反応温度は、反応は
発熱を伴う反応であり、冷却が負担になるので、反応温
度は２０〜６０℃が好ましい。塩素はガスでも液でも反
応可能であるが、塩化水素の発生量を考慮しながら反応
コントロールができるように加えていけば良い。塩素の
量は、原料に対して１．５〜２倍当量である。
速いが、高いと塩化水素ガスに同伴する水の量が多くな
り反応の把握がしにくくなり、低い反応温度は、反応は
発熱を伴う反応であり、冷却が負担になるので、反応温
度は２０〜６０℃が好ましい。塩素はガスでも液でも反
応可能であるが、塩化水素の発生量を考慮しながら反応
コントロールができるように加えていけば良い。塩素の
量は、原料に対して１．５〜２倍当量である。
【００２２】反応終了後は、減圧下で一塩化硫黄（Ｓ2
Ｃｌ2）を留去する。そして更に真空度を上げ目的のア
リールホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフ
ィニッククロリドを得る（例えばフェニルホスホニック
ジクロリドで５ｍｍＨｇで１４０℃、１ｍｍＨｇでは１
０５℃である。）。この方法で得られるアリールホスホ
ニックジクロリド及びジアリールホスフィニッククロリ
ドは、若干の硫黄分を含み黄色に着色しているので、イ
オウ分を問題とする場合は、再蒸留して精製物を得る。
Ｃｌ2）を留去する。そして更に真空度を上げ目的のア
リールホスホニックジクロリド或いはジアリールホスフ
ィニッククロリドを得る（例えばフェニルホスホニック
ジクロリドで５ｍｍＨｇで１４０℃、１ｍｍＨｇでは１
０５℃である。）。この方法で得られるアリールホスホ
ニックジクロリド及びジアリールホスフィニッククロリ
ドは、若干の硫黄分を含み黄色に着色しているので、イ
オウ分を問題とする場合は、再蒸留して精製物を得る。
【００２３】以下、実施例により本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【００２４】
【００２５】実施例１ フェニルホスホノチオイックジクロライド２１１ｇ、水
１８．５ｇを仕込み塩素ガスとして１０６．５ｇを５時
間かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇで
一塩化硫黄を留去した後１０５℃／１ｍＨｇで蒸留しフ
ェニルホスホニックジクロライドを１７５ｇ得た。収率
８９．７％であった。
１８．５ｇを仕込み塩素ガスとして１０６．５ｇを５時
間かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇで
一塩化硫黄を留去した後１０５℃／１ｍＨｇで蒸留しフ
ェニルホスホニックジクロライドを１７５ｇ得た。収率
８９．７％であった。
【００２６】実施例２ フェニルホスホノチオイックジクロライド２１１ｇ、水
１８ｇを仕込み塩素ガスとして１０６．５ｇを１０時間
かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇか
ら最終的に５０〜６０℃／１０ｍｍＨｇまで減圧し一塩
化硫黄を留去した。そして温度５０〜６０℃で、常圧に
て約１〜２ｇの二酸化硫黄ガスを吹き込んだ後１０５℃
／１ｍＨｇで蒸留しフェニルホスホニックジクロライド
を１８０ｇ得た。収率９２．３％であった。
１８ｇを仕込み塩素ガスとして１０６．５ｇを１０時間
かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇか
ら最終的に５０〜６０℃／１０ｍｍＨｇまで減圧し一塩
化硫黄を留去した。そして温度５０〜６０℃で、常圧に
て約１〜２ｇの二酸化硫黄ガスを吹き込んだ後１０５℃
／１ｍＨｇで蒸留しフェニルホスホニックジクロライド
を１８０ｇ得た。収率９２．３％であった。
【００２７】実施例３ ジフェニルホスホノチオイッククロライド２５．２ｇ、
水１．８ｇを仕込み塩素ガスとして１０．８ｇを１時間
かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇで
一塩化硫黄を留去した後１８０℃／１ｍＨｇで蒸留しフ
ェニルホスホニックジクロライドを２１ｇ得た。収率８
８．７％であった。
水１．８ｇを仕込み塩素ガスとして１０．８ｇを１時間
かけて吹き込んだ。この間温度は５０〜６０℃を保っ
た。反応中は塩化水素ガスを発生するが、反応は穏やか
であった。反応終了後、５０〜６０℃／３０ｍｍＨｇで
一塩化硫黄を留去した後１８０℃／１ｍＨｇで蒸留しフ
ェニルホスホニックジクロライドを２１ｇ得た。収率８
８．７％であった。
【００２８】参考例 実施例１で得た一塩化硫黄１３．５ｇに、三塩化リン２
０ｇ、赤燐２．０６ｇ塩化アルミニウム０．５ｇを加え
て８０〜１００℃で、３時間反応させた。常圧精留にて
１２５℃の留分で硫塩化燐を２９ｇ得た。
０ｇ、赤燐２．０６ｇ塩化アルミニウム０．５ｇを加え
て８０〜１００℃で、３時間反応させた。常圧精留にて
１２５℃の留分で硫塩化燐を２９ｇ得た。
【００２９】
【発明の効果】本発明方法は反応が温和であり、アリー
ルホスホノチオイックジクロリド或いはジアリールホス
フィノチオイッククロリドから定量的にアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドを得ることが出来る。
ルホスホノチオイックジクロリド或いはジアリールホス
フィノチオイッククロリドから定量的にアリールホスホ
ニックジクロリド或いはジアリールホスフィニッククロ
リドを得ることが出来る。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式で示される反応でアリールホ
スホノチオイックジクロリド或いはジアリールホスフィ
ノチオイッククロリドを塩素化し生成するアリールテト
ラクロロホスホラン或いはジアリールトリクロロホスホ
ランを水で部分加水分解しアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドを得る方
法において、塩素化の際に、反応系内に初めから水を存
在させることを特徴とするアリールホスホニックジクロ
リド或いはジアリールホスフィニッククロリドの製造方
法； 【化１】 （式中Ｒは非置換もしくはアルキル基、ハロゲン原子で
置換されたフェニル基を示し、ｎは１或いは２を表
す。）。 - 【請求項２】 アリールホスホノチオイックジクロリド
或いはジアリールホスホノチオイッククロリドに対して
１〜１．１倍当量の水の存在下で塩素化する請求項１記
載のアリールホスホニックジクロリド或いはジアリール
ホスフィニッククロリドの製造方法。 - 【請求項３】 塩素化反応終了後、一塩化硫黄を分離
し、塩素化反応の際に塩素ガスに同伴されて減少した水
に対応する未反応のアリールテトラクロロホスホラン或
いはジアリールトリクロロホスホランを二酸化硫黄で処
理する請求項１記載のアリールホスホニックジクロリド
或いはジアリールホスフィニッククロリドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34249895A JP3915132B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 副生一塩化硫黄を原料とする硫塩化燐の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34249895A JP3915132B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 副生一塩化硫黄を原料とする硫塩化燐の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09176175A true JPH09176175A (ja) | 1997-07-08 |
| JP3915132B2 JP3915132B2 (ja) | 2007-05-16 |
Family
ID=18354218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34249895A Expired - Fee Related JP3915132B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 副生一塩化硫黄を原料とする硫塩化燐の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3915132B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007039357A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-15 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 有機ホスフィン酸ハライドの製造方法 |
| JP2011529025A (ja) * | 2008-07-25 | 2011-12-01 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ビス（フルオロアルキル）ホスフィニルクロリドまたはフルオロアルキルホスホニルジクロリドの製造方法 |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP34249895A patent/JP3915132B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2007039357A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-15 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 有機ホスフィン酸ハライドの製造方法 |
| JP2011529025A (ja) * | 2008-07-25 | 2011-12-01 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ビス（フルオロアルキル）ホスフィニルクロリドまたはフルオロアルキルホスホニルジクロリドの製造方法 |
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