JPH0917595A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
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- JPH0917595A JPH0917595A JP7161782A JP16178295A JPH0917595A JP H0917595 A JPH0917595 A JP H0917595A JP 7161782 A JP7161782 A JP 7161782A JP 16178295 A JP16178295 A JP 16178295A JP H0917595 A JPH0917595 A JP H0917595A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来よりも高強度のX線を輻射するプラズマ
を発生させるための励起エネルギービーム照射を行う前
に、複数回の励起エネルギービーム照射により標的に空
孔を形成する必要がなく、その結果、高繰り返しに高強
度のX線を発生させることができるX線発生装置を提供
すること。 【構成】 励起エネルギービーム302を標的部材30
1に集光して照射することでプラズマ304を生成さ
せ、該プラズマ304から輻射されるX線を取り出すX
線発生装置において、前記標的部材301は、厚さが相
対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果たす第1形
状部分Aと、厚さが相対的に小さくて前記励起エネルギ
ービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2形状
部分Bと、を有することを特徴とするX線発生装置。
を発生させるための励起エネルギービーム照射を行う前
に、複数回の励起エネルギービーム照射により標的に空
孔を形成する必要がなく、その結果、高繰り返しに高強
度のX線を発生させることができるX線発生装置を提供
すること。 【構成】 励起エネルギービーム302を標的部材30
1に集光して照射することでプラズマ304を生成さ
せ、該プラズマ304から輻射されるX線を取り出すX
線発生装置において、前記標的部材301は、厚さが相
対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果たす第1形
状部分Aと、厚さが相対的に小さくて前記励起エネルギ
ービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2形状
部分Bと、を有することを特徴とするX線発生装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、X線顕微鏡、X線露光
装置、X線分析装置などに使用されるX線発生装置に関
するものである。
装置、X線分析装置などに使用されるX線発生装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のX線発生装置の標的部材には、表
面が平坦な板状、円筒状、またはテープ状の形状をした
標的物質が用いられてきた。標的部材または標的物質
(以下、標的と略称する場合がある)の表面に作られた
空孔内にレーザー光を照射し、プラズマを空孔内に閉じ
込めることにより、X線の強度が増加することがナゲル
氏等により報告されている( Appl. Optics, 23(9), p14
28, 1 May 1984 ) 。
面が平坦な板状、円筒状、またはテープ状の形状をした
標的物質が用いられてきた。標的部材または標的物質
(以下、標的と略称する場合がある)の表面に作られた
空孔内にレーザー光を照射し、プラズマを空孔内に閉じ
込めることにより、X線の強度が増加することがナゲル
氏等により報告されている( Appl. Optics, 23(9), p14
28, 1 May 1984 ) 。
【0003】また、フォーサイス氏の発明による特公平
4ー29179(優先権主張 1984年11月8 日)では、
標的表面の空孔は、X線を発生させるための主レーザー
照射を行う前に、いくつかのパルスレーザー光を照射す
ることにより形成される。そして、ある深さの空孔が形
成された後、X線を発生させるための主レーザーを空孔
に照射することでX線を発生させる様になっており、標
的材料の移動手段を備えている。
4ー29179(優先権主張 1984年11月8 日)では、
標的表面の空孔は、X線を発生させるための主レーザー
照射を行う前に、いくつかのパルスレーザー光を照射す
ることにより形成される。そして、ある深さの空孔が形
成された後、X線を発生させるための主レーザーを空孔
に照射することでX線を発生させる様になっており、標
的材料の移動手段を備えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記の特公平4ー29
179では、1ショットのX線を発生させる前に、レー
ザー照射により標的にプラズマを閉じ込めるための空孔
を形成する必要がある。そして、標的に空孔を形成する
際には、その度に複数回のレーザ照射を行う必要があ
り、本来X線を輻射するプラズマを発生させるためのレ
ーザ照射を効率的に行うことができない。
179では、1ショットのX線を発生させる前に、レー
ザー照射により標的にプラズマを閉じ込めるための空孔
を形成する必要がある。そして、標的に空孔を形成する
際には、その度に複数回のレーザ照射を行う必要があ
り、本来X線を輻射するプラズマを発生させるためのレ
ーザ照射を効率的に行うことができない。
【0005】即ち、特公平4ー29179では、レーザ
照射により標的に空孔を形成しないと、X線を輻射する
プラズマを発生させるためのレーザ(主レーザー)照射
を行うことができないので、高繰り返しにX線を発生さ
せることができない。さらに、特公平4ー29179で
は、標的の駆動手段について述べてはいるが、空孔をレ
ーザー照射位置に合わせる手段、及び空孔がレーザー照
射位置に合致したときにレーザー光を発振させる同期手
段がない。即ち、特公平4ー29179では、レーザ照
射により標的に空孔をあけてから同一位置に主レーザー
を照射するので、前記の手段は必要がないのである。
照射により標的に空孔を形成しないと、X線を輻射する
プラズマを発生させるためのレーザ(主レーザー)照射
を行うことができないので、高繰り返しにX線を発生さ
せることができない。さらに、特公平4ー29179で
は、標的の駆動手段について述べてはいるが、空孔をレ
ーザー照射位置に合わせる手段、及び空孔がレーザー照
射位置に合致したときにレーザー光を発振させる同期手
段がない。即ち、特公平4ー29179では、レーザ照
射により標的に空孔をあけてから同一位置に主レーザー
を照射するので、前記の手段は必要がないのである。
【0006】また、従来用いられている平坦な表面を有
するテープ状の標的では、レーザーを照射すると、テー
プ状標的に空孔とその回りのバリが形成される。このバ
リが形成されると、テープ状標的とレーザー光が交差す
る位置、すなわちプラズマが生成される位置が変動する
という問題点があった。また、このバリによって、テー
プ状標的をリールに巻き取った後の巻き取り径が、バリ
がない場合の数倍の大きさになるという問題点もあっ
た。
するテープ状の標的では、レーザーを照射すると、テー
プ状標的に空孔とその回りのバリが形成される。このバ
リが形成されると、テープ状標的とレーザー光が交差す
る位置、すなわちプラズマが生成される位置が変動する
という問題点があった。また、このバリによって、テー
プ状標的をリールに巻き取った後の巻き取り径が、バリ
がない場合の数倍の大きさになるという問題点もあっ
た。
【0007】さらに、テープ状標的をリールに巻き取っ
たときに、先のレーザー照射により形成されたバリによ
り、バリがない平坦な部分にしわが発生するため、幅広
のテープ状標的を使用し、テープ状標的を複数回、往復
走行させて使用する場合には、このしわによりプラズマ
生成位置が変動するという問題点もあった。本発明は、
かかる問題点に鑑みてなされたものであり、従来よりも
高強度のX線を輻射するプラズマを発生させるための励
起エネルギービーム照射を行う前に、複数回の励起エネ
ルギービーム照射により標的に空孔を形成する必要がな
く、その結果、高繰り返しに高強度のX線を発生させる
ことができるX線発生装置を提供することを目的とす
る。
たときに、先のレーザー照射により形成されたバリによ
り、バリがない平坦な部分にしわが発生するため、幅広
のテープ状標的を使用し、テープ状標的を複数回、往復
走行させて使用する場合には、このしわによりプラズマ
生成位置が変動するという問題点もあった。本発明は、
かかる問題点に鑑みてなされたものであり、従来よりも
高強度のX線を輻射するプラズマを発生させるための励
起エネルギービーム照射を行う前に、複数回の励起エネ
ルギービーム照射により標的に空孔を形成する必要がな
く、その結果、高繰り返しに高強度のX線を発生させる
ことができるX線発生装置を提供することを目的とす
る。
【0008】また、本発明は、標的部材を巻き取り可能
な形状にして使用する場合に、励起エネルギービーム照
射により形成されるバリが、巻き取り径の増大や標的の
平坦部分でのしわの発生によるプラズマ生成位置の変動
を引き起こすことがないX線発生装置を提供することを
目的とする。
な形状にして使用する場合に、励起エネルギービーム照
射により形成されるバリが、巻き取り径の増大や標的の
平坦部分でのしわの発生によるプラズマ生成位置の変動
を引き起こすことがないX線発生装置を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「励起エネルギービームを標的部材に集光して照射す
ることでプラズマを生成させ、該プラズマから輻射され
るX線を取り出すX線発生装置において、前記標的部材
は、厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を
果たす第1形状部分と、厚さが相対的に小さくて前記励
起エネルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果た
す第2形状部分と、を有することを特徴とするX線発生
装置(請求項1)」を提供する。
に「励起エネルギービームを標的部材に集光して照射す
ることでプラズマを生成させ、該プラズマから輻射され
るX線を取り出すX線発生装置において、前記標的部材
は、厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を
果たす第1形状部分と、厚さが相対的に小さくて前記励
起エネルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果た
す第2形状部分と、を有することを特徴とするX線発生
装置(請求項1)」を提供する。
【0010】また、本発明は第二に「前記第2形状部分
は、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状であることを特徴とする請求項1記載のX線発生装
置(請求項2)」を提供する。また、本発明は第三に
「前記第2形状部分は、一方の表面側及び他方の表面側
ともに凹形状であることを特徴とする請求項1記載のX
線発生装置(請求項3)」を提供する。
は、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状であることを特徴とする請求項1記載のX線発生装
置(請求項2)」を提供する。また、本発明は第三に
「前記第2形状部分は、一方の表面側及び他方の表面側
ともに凹形状であることを特徴とする請求項1記載のX
線発生装置(請求項3)」を提供する。
【0011】また、本発明は第四に「前記第2形状部分
の平面形状箇所に前記励起エネルギービームが照射され
るように、その光路を設定したことを特徴とする請求項
1または2記載のX線発生装置(請求項4)」を提供す
る。また、本発明は第五に「前記第2形状部分の凹形状
箇所に前記励起エネルギービームが照射されるように、
その光路を設定したことを特徴とする請求項1〜3記載
のX線発生装置(請求項5)」を提供する。
の平面形状箇所に前記励起エネルギービームが照射され
るように、その光路を設定したことを特徴とする請求項
1または2記載のX線発生装置(請求項4)」を提供す
る。また、本発明は第五に「前記第2形状部分の凹形状
箇所に前記励起エネルギービームが照射されるように、
その光路を設定したことを特徴とする請求項1〜3記載
のX線発生装置(請求項5)」を提供する。
【0012】また、本発明は第六に「前記標的部材は、
前記励起エネルギービームを照射すると、所望のX線を
輻射するプラズマを発生する標的物質からなる第1部材
と、該第1部材に接合された部材であり該第1部材を支
持するための一または二以上の第2部材と、を有するこ
とを特徴とする請求項1〜5記載のX線発生装置(請求
項6)」を提供する。
前記励起エネルギービームを照射すると、所望のX線を
輻射するプラズマを発生する標的物質からなる第1部材
と、該第1部材に接合された部材であり該第1部材を支
持するための一または二以上の第2部材と、を有するこ
とを特徴とする請求項1〜5記載のX線発生装置(請求
項6)」を提供する。
【0013】また、本発明は第七に「前記第1部材は、
テープ状または薄板状の形状を有し、前記第2部材は、
複数の空孔を備えたテープ状または薄板状の形状を有す
ることを特徴とする請求項6記載のX線発生装置(請求
項7)」を提供する。また、本発明は第八に、「前記第
1部材は、前記複数の第2部材により挟持されているこ
とを特徴とする請求項7記載のX線発生装置(請求項
8)」を提供する。
テープ状または薄板状の形状を有し、前記第2部材は、
複数の空孔を備えたテープ状または薄板状の形状を有す
ることを特徴とする請求項6記載のX線発生装置(請求
項7)」を提供する。また、本発明は第八に、「前記第
1部材は、前記複数の第2部材により挟持されているこ
とを特徴とする請求項7記載のX線発生装置(請求項
8)」を提供する。
【0014】また、本発明は第九に「前記一つの第2部
材、または前記複数の第2部材のうちの少なくとも一つ
の第2部材が、タンタル、タングステン、ジルコニウ
ム、モリブデン、チタン、鉄、銅、ニッケル、アルミニ
ウム、これらの合金、有機材料、またはセラミックスか
らなることを特徴とする請求項6〜8記載のX線発生装
置(請求項9)」を提供する。
材、または前記複数の第2部材のうちの少なくとも一つ
の第2部材が、タンタル、タングステン、ジルコニウ
ム、モリブデン、チタン、鉄、銅、ニッケル、アルミニ
ウム、これらの合金、有機材料、またはセラミックスか
らなることを特徴とする請求項6〜8記載のX線発生装
置(請求項9)」を提供する。
【0015】また、本発明は第十に「前記標的部材の第
2形状部分を前記励起エネルギービームの集光位置に移
動及び/または設置する制御系であり、前記標的部材を
移動させる駆動系と、前記第2形状部分が前記集光位置
に到達したことを検出する検出系とを有する制御系をさ
らに備えたことを特徴とする請求項1〜9記載のX線発
生装置(請求項10)」を提供する。
2形状部分を前記励起エネルギービームの集光位置に移
動及び/または設置する制御系であり、前記標的部材を
移動させる駆動系と、前記第2形状部分が前記集光位置
に到達したことを検出する検出系とを有する制御系をさ
らに備えたことを特徴とする請求項1〜9記載のX線発
生装置(請求項10)」を提供する。
【0016】また、本発明は第十一に「前記検出系は、
He−Neレーザーまたは半導体レーザー、集光光学
系、及び光検出器を有することを特徴とする請求項10記
載のX線発生装置(請求項11)」を提供する。
He−Neレーザーまたは半導体レーザー、集光光学
系、及び光検出器を有することを特徴とする請求項10記
載のX線発生装置(請求項11)」を提供する。
【0017】
【作用】本発明のX線発生装置では、標的部材が、厚さ
が相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果たす第
1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて前記励起エネ
ルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2
形状部分Bを有するように構成することで、励起エネル
ギービーム(例えば、レーザー)402等の照射により
発生するプラズマ404等を閉じ込めことができる空間
403等、もしくは励起エネルギービーム302等照射
により形成されるバリ305が標的部材301等の表面
にはみ出さないように閉じ込めることができる空間30
3等、またはその両空間を構成上、第2形状部分Bに隣
接して設けることができる。
が相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果たす第
1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて前記励起エネ
ルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2
形状部分Bを有するように構成することで、励起エネル
ギービーム(例えば、レーザー)402等の照射により
発生するプラズマ404等を閉じ込めことができる空間
403等、もしくは励起エネルギービーム302等照射
により形成されるバリ305が標的部材301等の表面
にはみ出さないように閉じ込めることができる空間30
3等、またはその両空間を構成上、第2形状部分Bに隣
接して設けることができる。
【0018】かかる空間は、例えば、前記第2形状部分
を、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状であるように構成することで、凹形状部分に隣接し
て設けることができる(請求項2)。また、かかる空間
は、例えば、前記第2形状部分を、一方の表面側及び他
方の表面側ともに凹形状であるように構成することで、
凹形状部分に隣接して設けることができる(請求項
3)。
を、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状であるように構成することで、凹形状部分に隣接し
て設けることができる(請求項2)。また、かかる空間
は、例えば、前記第2形状部分を、一方の表面側及び他
方の表面側ともに凹形状であるように構成することで、
凹形状部分に隣接して設けることができる(請求項
3)。
【0019】本発明によれば、励起エネルギービーム
(例えば、レーザー)の照射により発生するプラズマを
閉じ込めことができる空間を構成上、第2形状部分に隣
接して設けることができるので、前記空間を形成するた
めの余分な励起エネルギービーム照射を行う必要がな
く、高繰り返しの動作(X線取り出し)が可能である。
また、前記空間に隣接する第2形状部分の標的物質に励
起エネルギービームを照射して、発生するプラズマを第
2形状部分に隣接する空間に閉じ込めることによるX線
量増加の効果もある。なお、標的部材を巻き取り可能な
形状(例えば、テープ状)とすれば、長時間動作が可能
となる。
(例えば、レーザー)の照射により発生するプラズマを
閉じ込めことができる空間を構成上、第2形状部分に隣
接して設けることができるので、前記空間を形成するた
めの余分な励起エネルギービーム照射を行う必要がな
く、高繰り返しの動作(X線取り出し)が可能である。
また、前記空間に隣接する第2形状部分の標的物質に励
起エネルギービームを照射して、発生するプラズマを第
2形状部分に隣接する空間に閉じ込めることによるX線
量増加の効果もある。なお、標的部材を巻き取り可能な
形状(例えば、テープ状)とすれば、長時間動作が可能
となる。
【0020】さらに、本発明によれば、励起エネルギー
ビーム照射により形成されるバリが標的部材の表面には
み出さないように閉じ込めることができる空間を構成
上、第2形状部分に隣接して設けることができるので、
標的部材を巻き取り可能な形状(例えば、テープ状)と
した場合に、発生したバリが巻き取り径の増大や標的の
平坦部分でのしわの発生によるプラズマ生成位置の変動
を引き起こすという問題を解消することができる。
ビーム照射により形成されるバリが標的部材の表面には
み出さないように閉じ込めることができる空間を構成
上、第2形状部分に隣接して設けることができるので、
標的部材を巻き取り可能な形状(例えば、テープ状)と
した場合に、発生したバリが巻き取り径の増大や標的の
平坦部分でのしわの発生によるプラズマ生成位置の変動
を引き起こすという問題を解消することができる。
【0021】例えば、前記第2形状部分Bを、一方の表
面側が平面形状であり、他方の表面側が凹形状であるよ
うに構成することで、前記空間303を凹形状部分に隣
接して設けた場合に、前記空間303に隣接する標的物
質の平面形状部分(凹形状部分の反対表面側)に励起エ
ネルギービーム302を照射すれば、即ち、第2形状部
分Bの平面形状箇所に記励起エネルギービーム302が
照射されるように、その光路を設定すれば(請求項
4)、発生するバリ305が空間303に納まって標的
部材301の表面より外に出ることがないので、前述の
ようなプラズマ304生成位置の変動や巻き取り径の増
加が起こらない。
面側が平面形状であり、他方の表面側が凹形状であるよ
うに構成することで、前記空間303を凹形状部分に隣
接して設けた場合に、前記空間303に隣接する標的物
質の平面形状部分(凹形状部分の反対表面側)に励起エ
ネルギービーム302を照射すれば、即ち、第2形状部
分Bの平面形状箇所に記励起エネルギービーム302が
照射されるように、その光路を設定すれば(請求項
4)、発生するバリ305が空間303に納まって標的
部材301の表面より外に出ることがないので、前述の
ようなプラズマ304生成位置の変動や巻き取り径の増
加が起こらない。
【0022】また、例えば、前記第2形状部分Bを、一
方の表面側及び他方の表面側のそれぞれが対向して凹形
状となるように構成することで、前記空間503a,5
03bを各凹形状部分に設けた場合に、一方の空間50
3aに隣接する標的物質の隣接面に励起エネルギービー
ム502を照射すれば、即ち、第2形状部分Bの凹形状
箇所に励起エネルギービーム502が照射されるよう
に、その光路を設定すれば(請求項5)、一方の空間5
03aに発生するプラズマ504を閉じ込めてX線量を
増加させることができるとともに、励起エネルギービー
ム502の照射により発生したバリを他方の空間503
bに納めて、バリによるプラズマ位置の変動を防止でき
る。
方の表面側及び他方の表面側のそれぞれが対向して凹形
状となるように構成することで、前記空間503a,5
03bを各凹形状部分に設けた場合に、一方の空間50
3aに隣接する標的物質の隣接面に励起エネルギービー
ム502を照射すれば、即ち、第2形状部分Bの凹形状
箇所に励起エネルギービーム502が照射されるよう
に、その光路を設定すれば(請求項5)、一方の空間5
03aに発生するプラズマ504を閉じ込めてX線量を
増加させることができるとともに、励起エネルギービー
ム502の照射により発生したバリを他方の空間503
bに納めて、バリによるプラズマ位置の変動を防止でき
る。
【0023】励起エネルギービーム照射によりX線を輻
射するプラズマを発生させるためには、標的物質の厚さ
は、数μm/10〜数μm程度あれば十分であるが、単
一の標的物質からなり平坦な表面を有するテープ状の標
的部材では、標的部材が安定に走行する(巻き取られ
る)ための十分な機械的強度を得るために、従来は数十
ミクロン程度の厚さとしていた。
射するプラズマを発生させるためには、標的物質の厚さ
は、数μm/10〜数μm程度あれば十分であるが、単
一の標的物質からなり平坦な表面を有するテープ状の標
的部材では、標的部材が安定に走行する(巻き取られ
る)ための十分な機械的強度を得るために、従来は数十
ミクロン程度の厚さとしていた。
【0024】このような厚い標的部材を使用すると、プ
ラズマ及びその周辺から飛散粒子(イオン,原子,微粒
子など)が多量に放出され、X線光学素子に損傷を与え
たり、X線光学素子性能(反射率等)の低下を招くな
ど、問題があった。本発明によれば、励起エネルギービ
ームが照射される、空間に隣接する標的物質の厚さをX
線発生に必要な最低の厚さ(数μm/10〜数μm程
度)にすることができるので、飛散粒子低減に効果があ
る。
ラズマ及びその周辺から飛散粒子(イオン,原子,微粒
子など)が多量に放出され、X線光学素子に損傷を与え
たり、X線光学素子性能(反射率等)の低下を招くな
ど、問題があった。本発明によれば、励起エネルギービ
ームが照射される、空間に隣接する標的物質の厚さをX
線発生に必要な最低の厚さ(数μm/10〜数μm程
度)にすることができるので、飛散粒子低減に効果があ
る。
【0025】本発明にかかる標的部材は、励起エネルギ
ービーム602等を照射すると、所望のX線を輻射する
プラズマ604等を発生する標的物質601等からなる
第1部材と、該第1部材に接合された部材であり該第1
部材を支持するための一または二以上の第2部材605
等と、を有するように構成することが好ましい(請求項
6)。
ービーム602等を照射すると、所望のX線を輻射する
プラズマ604等を発生する標的物質601等からなる
第1部材と、該第1部材に接合された部材であり該第1
部材を支持するための一または二以上の第2部材605
等と、を有するように構成することが好ましい(請求項
6)。
【0026】また、本発明にかかる第1部材は、テープ
状または薄板状の形状を有し、第2部材は、複数の空孔
を有するテープ状または薄板状の形状を有するように構
成することが好ましい(請求項7)。さらに、本発明に
かかる第1部材は、複数の第2部材により挟持されてい
ることが好ましい(請求項8)。
状または薄板状の形状を有し、第2部材は、複数の空孔
を有するテープ状または薄板状の形状を有するように構
成することが好ましい(請求項7)。さらに、本発明に
かかる第1部材は、複数の第2部材により挟持されてい
ることが好ましい(請求項8)。
【0027】標的部材をかかる構成にすることにより、
所望のX線を輻射するプラズマを発生する標的物質(第
1部材)と、支持部材(第2部材)の材料を別々に選ぶ
ことができるので、それぞれの機能に最適な材料を選ぶ
ことができる。例えば、必要としている波長のX線を輻
射するプラズマを効率よく発生させる標的物質が低融点
・軟質材料であり、該材料単一で標的部材を構成する場
合に、標的部材に励起エネルギービームを照射すると、
発生するプラズマ及びその周辺から多量の飛散粒子(イ
オン,原子,微粒子など)が放出され、X線光学素子等
に損傷を与えたり、X線光学素子性能(反射率など)を
低下させる。
所望のX線を輻射するプラズマを発生する標的物質(第
1部材)と、支持部材(第2部材)の材料を別々に選ぶ
ことができるので、それぞれの機能に最適な材料を選ぶ
ことができる。例えば、必要としている波長のX線を輻
射するプラズマを効率よく発生させる標的物質が低融点
・軟質材料であり、該材料単一で標的部材を構成する場
合に、標的部材に励起エネルギービームを照射すると、
発生するプラズマ及びその周辺から多量の飛散粒子(イ
オン,原子,微粒子など)が放出され、X線光学素子等
に損傷を与えたり、X線光学素子性能(反射率など)を
低下させる。
【0028】一方、本発明(請求項6〜8)にかかる標
的部材は、所望のX線を輻射するプラズマを発生する標
的物質(第1部材)と、支持部材(第2部材)の材料を
別々に選ぶことができる。そのため、低融点・軟質材料
を標的物質(第1部材)に用いるときにも、その支持部
材(第2部材)には高融点・硬質材料を用いることがで
きる励起エネルギービームを支持部材側から照射するこ
とにより、生成されたプラズマを支持基板に設けた開孔
内に閉じ込めることができるので、X線量の増強ができ
るだけでなく、飛散粒子の横方向への放出を低減するこ
とができ、飛散粒子の放出を標的部材の法線方向に集中
させることができる。
的部材は、所望のX線を輻射するプラズマを発生する標
的物質(第1部材)と、支持部材(第2部材)の材料を
別々に選ぶことができる。そのため、低融点・軟質材料
を標的物質(第1部材)に用いるときにも、その支持部
材(第2部材)には高融点・硬質材料を用いることがで
きる励起エネルギービームを支持部材側から照射するこ
とにより、生成されたプラズマを支持基板に設けた開孔
内に閉じ込めることができるので、X線量の増強ができ
るだけでなく、飛散粒子の横方向への放出を低減するこ
とができ、飛散粒子の放出を標的部材の法線方向に集中
させることができる。
【0029】従って、X線の取り出し方向を標的部材の
法線方向を除く方向とすることにより、飛散粒子の影響
を大幅に低減できる。また、所望のX線を輻射するプラ
ズマを発生する標的物質(第1部材)の厚さをX線発生
に必要な最低の厚さ(数μm/10〜数μm程度)にし
ても、標的部材の機械的強度は支持部材(第2部材)に
より確保できる。
法線方向を除く方向とすることにより、飛散粒子の影響
を大幅に低減できる。また、所望のX線を輻射するプラ
ズマを発生する標的物質(第1部材)の厚さをX線発生
に必要な最低の厚さ(数μm/10〜数μm程度)にし
ても、標的部材の機械的強度は支持部材(第2部材)に
より確保できる。
【0030】そのため、標的部材を安定に走行させるこ
とができ、しかもX線発生用の標的物質(第1部材)の
厚さを薄くできるので、飛散粒子低減に効果がある。ま
た、X線発生用の標的物質(第1部材)と支持部材(第
2部材)を構成する物質との物理的、化学的性質の差を
利用して空孔(空間)の加工を容易にすることができ
る。
とができ、しかもX線発生用の標的物質(第1部材)の
厚さを薄くできるので、飛散粒子低減に効果がある。ま
た、X線発生用の標的物質(第1部材)と支持部材(第
2部材)を構成する物質との物理的、化学的性質の差を
利用して空孔(空間)の加工を容易にすることができ
る。
【0031】例えば、標的物質(第1部材)にエッチン
グされにくい物質を、支持部材(第2部材)にエッチン
グされやすい物質を使うことにより、エッチング用液に
入れておくだけで、支持部材(第2部材)のみに空孔を
形成することができる。本発明にかかる第2部材(単数
または複数)のうちの少なくとも一つの第2部材は、タ
ンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、チ
タン、鉄、銅、ニッケル、アルミニウム、これらの合
金、有機膜、またはセラミックスからなるように構成す
ることが好ましい(請求項9)。
グされにくい物質を、支持部材(第2部材)にエッチン
グされやすい物質を使うことにより、エッチング用液に
入れておくだけで、支持部材(第2部材)のみに空孔を
形成することができる。本発明にかかる第2部材(単数
または複数)のうちの少なくとも一つの第2部材は、タ
ンタル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、チ
タン、鉄、銅、ニッケル、アルミニウム、これらの合
金、有機膜、またはセラミックスからなるように構成す
ることが好ましい(請求項9)。
【0032】また、本発明にかかるX線発生装置は、標
的部材の第2形状部分を励起エネルギービームの集光位
置に移動及び/または設置する制御系であり、標的部材
を移動させる駆動系と、第2形状部分が集光位置に到達
したことを検出する検出系とを有する制御系をさらに備
えていることが好ましい(請求項10)。また、本発明に
かかる検出系は、He−Neレーザーまたは半導体レー
ザー、集光光学系及び光検出器を有するように構成する
ことが好ましい(請求項11)。
的部材の第2形状部分を励起エネルギービームの集光位
置に移動及び/または設置する制御系であり、標的部材
を移動させる駆動系と、第2形状部分が集光位置に到達
したことを検出する検出系とを有する制御系をさらに備
えていることが好ましい(請求項10)。また、本発明に
かかる検出系は、He−Neレーザーまたは半導体レー
ザー、集光光学系及び光検出器を有するように構成する
ことが好ましい(請求項11)。
【0033】以下、本発明を実施例により更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
【0034】
【実施例】図1はテープ状の標的部材を用いた本実施例
のX線発生装置を示す概略構成図であり、図2はテープ
状標的部材を巻き取り移動させるための駆動部を示す概
略斜視図である。テープ状標的部材104(201)及
びその駆動装置204、205は真空容器101内に置
かれており、励起エネルギービームの一例であるレーザ
ー光102(208)は、集光用レンズ103によりテ
ープ状標的部材104(201)上に集光される。
のX線発生装置を示す概略構成図であり、図2はテープ
状標的部材を巻き取り移動させるための駆動部を示す概
略斜視図である。テープ状標的部材104(201)及
びその駆動装置204、205は真空容器101内に置
かれており、励起エネルギービームの一例であるレーザ
ー光102(208)は、集光用レンズ103によりテ
ープ状標的部材104(201)上に集光される。
【0035】真空容器101内は、レーザー光102
(208)が標的に達する前にブレークダウン(気中放
電)しないように、また、プラズマから発生したX線が
真空容器内のガスにより著しく減衰しないように、十分
な真空度まで排気装置(図示せず)により排気されてい
る(例えば数Torr以下)。テープ状標的部材201(1
04)は、初めリール202(106)に巻き取られて
おり、駆動装置205(ここではモーター)により、リ
ール203(105)へ巻き取られる。この途中でレー
ザー光208(102)がテープ状標的部材201(1
04)上に照射されプラズマを生成させる。
(208)が標的に達する前にブレークダウン(気中放
電)しないように、また、プラズマから発生したX線が
真空容器内のガスにより著しく減衰しないように、十分
な真空度まで排気装置(図示せず)により排気されてい
る(例えば数Torr以下)。テープ状標的部材201(1
04)は、初めリール202(106)に巻き取られて
おり、駆動装置205(ここではモーター)により、リ
ール203(105)へ巻き取られる。この途中でレー
ザー光208(102)がテープ状標的部材201(1
04)上に照射されプラズマを生成させる。
【0036】テープ状標的部材201(104)は、プ
ラズマ発生位置が変動しないように、テープ押さえ板2
09,210により保持されている。テープ状標的部材
201(104)は、リール202(106)からリー
ル203(105)へ巻き取られた後、駆動装置(図示
せず)によりA方向(テープ状標的部材の移動方向にた
いして直角方向)に、リール等が乗っている基板206
を移動させた後、再びリール203(105)からリー
ル202(106)へ駆動装置204(ここではモータ
ー)により巻き取られる。
ラズマ発生位置が変動しないように、テープ押さえ板2
09,210により保持されている。テープ状標的部材
201(104)は、リール202(106)からリー
ル203(105)へ巻き取られた後、駆動装置(図示
せず)によりA方向(テープ状標的部材の移動方向にた
いして直角方向)に、リール等が乗っている基板206
を移動させた後、再びリール203(105)からリー
ル202(106)へ駆動装置204(ここではモータ
ー)により巻き取られる。
【0037】この様に複数回、往復走行させながらX線
を発生することにより、長時間X線を発生させ続けるこ
とができる。 〔実施例1〕図3a、bは本実施例のテープ状標的部材
301(201、104)の一部における断面を示して
いる。
を発生することにより、長時間X線を発生させ続けるこ
とができる。 〔実施例1〕図3a、bは本実施例のテープ状標的部材
301(201、104)の一部における断面を示して
いる。
【0038】図3aに示したように、標的部材301
は、厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を
果たす第1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて励起
エネルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす
第2形状部分Bと、を有する。また、第2形状部分B
は、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状(空間303が隣接する)であり、レーザー光30
2が照射される部分の標的部材の厚さが薄くなってい
る。
は、厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を
果たす第1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて励起
エネルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす
第2形状部分Bと、を有する。また、第2形状部分B
は、一方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹
形状(空間303が隣接する)であり、レーザー光30
2が照射される部分の標的部材の厚さが薄くなってい
る。
【0039】本実施例では、空孔(空間)303がテー
プ状標的部材の全体にわたって予め複数形成されてお
り、レーザー光302は図に示すように空孔部分303
の裏面側から照射される。レーザー光302が照射され
た標的部材の部分は、プラズマ304化してX線を発生
させるとともに、大部分の飛散粒子は衝撃波などにより
空孔303方向に吹き飛ばされる。
プ状標的部材の全体にわたって予め複数形成されてお
り、レーザー光302は図に示すように空孔部分303
の裏面側から照射される。レーザー光302が照射され
た標的部材の部分は、プラズマ304化してX線を発生
させるとともに、大部分の飛散粒子は衝撃波などにより
空孔303方向に吹き飛ばされる。
【0040】最終的には、レーザー照射部周辺には、図
3bに示すようにバリ305ができるが、バリ305は
空孔303部内に納まり、テープ状標的部材301の表
面には出てこない。または、プラズマの吹き出し圧力や
衝撃波等により、空孔303に隣接する標的材料(バ
リ)がすべて吹き飛び、バリはテープ状標的部材301
の表面には出てこない。
3bに示すようにバリ305ができるが、バリ305は
空孔303部内に納まり、テープ状標的部材301の表
面には出てこない。または、プラズマの吹き出し圧力や
衝撃波等により、空孔303に隣接する標的材料(バ
リ)がすべて吹き飛び、バリはテープ状標的部材301
の表面には出てこない。
【0041】従って、テープ状標的部材301を往復走
行させて使用する場合に、以前にレーザー照射した部分
にできたバリにより、標的保持位置が変動してX線発生
位置が変動するといった問題が起こらない。さらに、バ
リ305がテープ表面に出てこないので、レーザー照射
後、巻き取ったテープ状標的部材の巻き取り径が、レー
ザー照射する前の巻き取り径の数倍に大きくなるといっ
た問題も起こらない。
行させて使用する場合に、以前にレーザー照射した部分
にできたバリにより、標的保持位置が変動してX線発生
位置が変動するといった問題が起こらない。さらに、バ
リ305がテープ表面に出てこないので、レーザー照射
後、巻き取ったテープ状標的部材の巻き取り径が、レー
ザー照射する前の巻き取り径の数倍に大きくなるといっ
た問題も起こらない。
【0042】しかも、X線発生に寄与する標的物質の厚
みは、数ミクロンから数10ミクロンであるから、この
ようにレーザー照射部の標的部材の厚さを薄くしてもX
線量が低下するという問題は発生しない。一般に、テー
プ状標的部材301の最大厚さは、巻き取り駆動時に部
材301が切れずに巻き取ることができる厚さであれば
よい。具体的には、数十ミクロン程度である。
みは、数ミクロンから数10ミクロンであるから、この
ようにレーザー照射部の標的部材の厚さを薄くしてもX
線量が低下するという問題は発生しない。一般に、テー
プ状標的部材301の最大厚さは、巻き取り駆動時に部
材301が切れずに巻き取ることができる厚さであれば
よい。具体的には、数十ミクロン程度である。
【0043】また、空孔部303が隣接する標的部材の
薄肉部分の厚さは、数μm/10〜数μm程度あればよ
い。また、空孔303の径は、レーザー光302の集光
スポット径よりも大きければよい。具体的には数十ミク
ロンから1mm程度の大きさである。 〔実施例2〕図4は本実施例のテープ状標的部材401
の一部における断面を示している。
薄肉部分の厚さは、数μm/10〜数μm程度あればよ
い。また、空孔303の径は、レーザー光302の集光
スポット径よりも大きければよい。具体的には数十ミク
ロンから1mm程度の大きさである。 〔実施例2〕図4は本実施例のテープ状標的部材401
の一部における断面を示している。
【0044】図4に示したように、標的部材401は、
厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果た
す第1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて励起エネ
ルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2
形状部分Bと、を有する。また、第2形状部分Bは、一
方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹形状
(空間403が隣接する)であり、レーザー光402が
照射される部分の標的部材の厚さが薄くなっている。
厚さが相対的に大きくて標的部材全体の自立機能を果た
す第1形状部分Aと、厚さが相対的に小さくて励起エネ
ルギービーム照射によるプラズマ発生機能を果たす第2
形状部分Bと、を有する。また、第2形状部分Bは、一
方の表面側が平面形状であり、他方の表面側が凹形状
(空間403が隣接する)であり、レーザー光402が
照射される部分の標的部材の厚さが薄くなっている。
【0045】本実施例でも、空孔(空間)403がテー
プ状標的部材の全体にわたって予め複数形成されてお
り、また空孔403側からレーザー光402を照射する
ので、生成されたプラズマ404が空孔403内に閉じ
込められる。そのため、プラズマ404の温度低下が抑
制されて発生するX線量が増加する。本実施例では、空
孔403が予めテープ状標的部材401に設けられてい
るので、従来例のように空孔を形成するためにレーザー
光を照射する必要がない。そのため、X線を高繰り返し
に発生させることができる。
プ状標的部材の全体にわたって予め複数形成されてお
り、また空孔403側からレーザー光402を照射する
ので、生成されたプラズマ404が空孔403内に閉じ
込められる。そのため、プラズマ404の温度低下が抑
制されて発生するX線量が増加する。本実施例では、空
孔403が予めテープ状標的部材401に設けられてい
るので、従来例のように空孔を形成するためにレーザー
光を照射する必要がない。そのため、X線を高繰り返し
に発生させることができる。
【0046】また、不必要にレーザー光を照射しないの
で、飛散粒子量を低減することができ、X線透過フィル
ター等の透過率の低下を抑制することができる。この場
合の空孔403の深さは、プラズマ404を閉じ込める
のに十分な深さがあればよい。具体的には数十ミクロン
から1mm程度である。また、空孔403の径はレーザ
ー光の集光スポット径よりも大きければよい。具体的に
は数十ミクロンから1mm程度の大きさである。
で、飛散粒子量を低減することができ、X線透過フィル
ター等の透過率の低下を抑制することができる。この場
合の空孔403の深さは、プラズマ404を閉じ込める
のに十分な深さがあればよい。具体的には数十ミクロン
から1mm程度である。また、空孔403の径はレーザ
ー光の集光スポット径よりも大きければよい。具体的に
は数十ミクロンから1mm程度の大きさである。
【0047】〔実施例3〕図5は本実施例のテープ状標
的部材501の一部における断面を示している。図5に
示したように、標的部材501は、厚さが相対的に大き
くて標的部材全体の自立機能を果たす第1形状部分A
と、厚さが相対的に小さくて励起エネルギービーム照射
によるプラズマ発生機能を果たす第2形状部分Bと、を
有する。
的部材501の一部における断面を示している。図5に
示したように、標的部材501は、厚さが相対的に大き
くて標的部材全体の自立機能を果たす第1形状部分A
と、厚さが相対的に小さくて励起エネルギービーム照射
によるプラズマ発生機能を果たす第2形状部分Bと、を
有する。
【0048】前記第2形状部分は、一方の表面側及び他
方の表面側ともに凹形状であり、レーザー光502が照
射される部分の標的部材の厚さが薄くなっている。即
ち、本実施例のテープ状標的部材501では、部材50
1のレーザー光502が入射する部分及びその裏面部分
に空孔503a、503bを設けている。空孔503a
部分にレーザー光502を照射すると、プラズマ504
の閉じ込め効果によりX線量が増加するという効果があ
ると共に、レーザー502照射により形成されたバリが
裏面部分の空孔部503b内に納まるので、或いは、バ
リがすべて吹き飛ばされるので、バリが部材501の表
面に出てくることがない。
方の表面側ともに凹形状であり、レーザー光502が照
射される部分の標的部材の厚さが薄くなっている。即
ち、本実施例のテープ状標的部材501では、部材50
1のレーザー光502が入射する部分及びその裏面部分
に空孔503a、503bを設けている。空孔503a
部分にレーザー光502を照射すると、プラズマ504
の閉じ込め効果によりX線量が増加するという効果があ
ると共に、レーザー502照射により形成されたバリが
裏面部分の空孔部503b内に納まるので、或いは、バ
リがすべて吹き飛ばされるので、バリが部材501の表
面に出てくることがない。
【0049】〔実施例4〕図6は本実施例のテープ状標
的部材の一部における断面を示している。本実施例で
は、テープ状標的部材が2つの部材、即ち、励起エネル
ギービームを照射すると、所望のX線を輻射するプラズ
マを発生する標的物質601からなる第1部材と、該第
1部材に接合された部材であり該第1部材を支持するた
めの第2部材(支持部材)605と、から構成されてい
る。
的部材の一部における断面を示している。本実施例で
は、テープ状標的部材が2つの部材、即ち、励起エネル
ギービームを照射すると、所望のX線を輻射するプラズ
マを発生する標的物質601からなる第1部材と、該第
1部材に接合された部材であり該第1部材を支持するた
めの第2部材(支持部材)605と、から構成されてい
る。
【0050】また、前記第1部材は、テープ状の形状を
有し、前記第2部材は、複数の空孔を備えたテープ状の
形状を有し、レーザー光602が照射される第1部材部
分の裏面に空孔603(第2部材605側にのみ開口し
ている)が設けられている。標的物質601には1μm
厚のタンタルを、第2部材605には50μm厚の銅を
用い、レーザー光602は標的物質(タンタル)601
側から照射される。
有し、前記第2部材は、複数の空孔を備えたテープ状の
形状を有し、レーザー光602が照射される第1部材部
分の裏面に空孔603(第2部材605側にのみ開口し
ている)が設けられている。標的物質601には1μm
厚のタンタルを、第2部材605には50μm厚の銅を
用い、レーザー光602は標的物質(タンタル)601
側から照射される。
【0051】タンタルの場合、1μmの厚みがあれば、
板状の標的を用いたときと同じX線量を発生することが
できる。しかも、厚みが1μmと非常に薄いので、レー
ザー照射によりできるバリは、空孔603内に納まり、
第2部材605の表面より外側に出てくることはない。
また、この様に複数の部材により標的部材を構成する
と、空孔を設けやすくなる。例えば、第2部材605に
エッチングされやすい物質を、標的物質601にエッチ
ングされにくい物質を用いれば、標的物質601に到達
したところで自然にエッチングが停止して、第2部材6
05側にのみ開口した空孔603が形成される。
板状の標的を用いたときと同じX線量を発生することが
できる。しかも、厚みが1μmと非常に薄いので、レー
ザー照射によりできるバリは、空孔603内に納まり、
第2部材605の表面より外側に出てくることはない。
また、この様に複数の部材により標的部材を構成する
と、空孔を設けやすくなる。例えば、第2部材605に
エッチングされやすい物質を、標的物質601にエッチ
ングされにくい物質を用いれば、標的物質601に到達
したところで自然にエッチングが停止して、第2部材6
05側にのみ開口した空孔603が形成される。
【0052】この例では標的部材を2種類の物質により
構成したが、さらに多くの物質により構成しても良い。
例えば、標的物質601と第2部材605の間にエッチ
ング停止用の物質(例えば金など)層を設けてもよい。
前記複数の物質を接合または積層する方法としては、例
えば蒸着、スパッタ、メッキ、接着など、任意の方法が
使用できる。
構成したが、さらに多くの物質により構成しても良い。
例えば、標的物質601と第2部材605の間にエッチ
ング停止用の物質(例えば金など)層を設けてもよい。
前記複数の物質を接合または積層する方法としては、例
えば蒸着、スパッタ、メッキ、接着など、任意の方法が
使用できる。
【0053】〔実施例5〕図7は本実施例のテープ状標
的部材の一部における断面を示している。本実施例では
実施例4と同様に、テープ状標的部材が2つの部材、即
ち、励起エネルギービームを照射すると、所望のX線を
輻射するプラズマを発生する標的物質701からなる第
1部材と、該第1部材に接合された部材であり該第1部
材を支持するための第2部材(支持部材)705と、か
ら構成されている。
的部材の一部における断面を示している。本実施例では
実施例4と同様に、テープ状標的部材が2つの部材、即
ち、励起エネルギービームを照射すると、所望のX線を
輻射するプラズマを発生する標的物質701からなる第
1部材と、該第1部材に接合された部材であり該第1部
材を支持するための第2部材(支持部材)705と、か
ら構成されている。
【0054】また、前記第1部材は、テープ状の形状を
有し、前記第2部材705は、複数の空孔を備えたテー
プ状の形状を有し、第2部材705側にのみ開口した空
孔703が設けられている。標的物質701には2μm
厚の錫を、第2部材705には50μm厚のタンタルを
用い、レーザー光702は第2部材705側から照射さ
れる。
有し、前記第2部材705は、複数の空孔を備えたテー
プ状の形状を有し、第2部材705側にのみ開口した空
孔703が設けられている。標的物質701には2μm
厚の錫を、第2部材705には50μm厚のタンタルを
用い、レーザー光702は第2部材705側から照射さ
れる。
【0055】レーザー光702を第2部材705側から
照射すると、プラズマ703の閉じ込め効果によりX線
量が増加する。さらに、第2部材705の空孔703の
壁により標的物質701からの飛散粒子が横方向へ広が
るのを制限し、飛散粒子の角度分布を標的部材の法線方
向に集中させることができる。
照射すると、プラズマ703の閉じ込め効果によりX線
量が増加する。さらに、第2部材705の空孔703の
壁により標的物質701からの飛散粒子が横方向へ広が
るのを制限し、飛散粒子の角度分布を標的部材の法線方
向に集中させることができる。
【0056】従って、X線の取り出し方向を標的部材の
法線方向から大きな角度(例えば45°〜60°)とす
れば、プラズマからの飛散粒子量を大幅に低減すること
ができる。この効果は、第2部材705の材料として硬
度の高い材料や高融点材料を用いると特に顕著であり、
例えば、タンタル(Ta)、タングステン(W)、ジル
コニウム(Zr)、モリブデン(Mo)、チタン(T
i)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、若
しくはこれらの合金、またはセラミックスなどが好まし
い。
法線方向から大きな角度(例えば45°〜60°)とす
れば、プラズマからの飛散粒子量を大幅に低減すること
ができる。この効果は、第2部材705の材料として硬
度の高い材料や高融点材料を用いると特に顕著であり、
例えば、タンタル(Ta)、タングステン(W)、ジル
コニウム(Zr)、モリブデン(Mo)、チタン(T
i)、鉄(Fe)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、若
しくはこれらの合金、またはセラミックスなどが好まし
い。
【0057】また、プラズマを閉じ込めるために第2部
材の厚さが厚くなる場合には、前記のような材料では巻
き取りが難しくなる。そのような場合には、有機材料
(例えばポリエチレン、ポリイミド、ポリカーボネート
など)を用いればよい。前記複数の物質を接合または積
層する方法としては、例えば蒸着、スパッタ、メッキ、
接着など、任意の方法が使用できる。
材の厚さが厚くなる場合には、前記のような材料では巻
き取りが難しくなる。そのような場合には、有機材料
(例えばポリエチレン、ポリイミド、ポリカーボネート
など)を用いればよい。前記複数の物質を接合または積
層する方法としては、例えば蒸着、スパッタ、メッキ、
接着など、任意の方法が使用できる。
【0058】〔実施例6〕図8は本実施例のテープ状標
的部材の一部における断面を示している。本実施例で
は、標的部材は、励起エネルギービーム802を照射す
ると、所望のX線を輻射するプラズマ804を発生する
標的物質801からなる第1部材と、該第1部材に接合
された部材であり該第1部材を支持するための二つの第
2部材805と、から構成されている。
的部材の一部における断面を示している。本実施例で
は、標的部材は、励起エネルギービーム802を照射す
ると、所望のX線を輻射するプラズマ804を発生する
標的物質801からなる第1部材と、該第1部材に接合
された部材であり該第1部材を支持するための二つの第
2部材805と、から構成されている。
【0059】また、前記第1部材は、テープ状の形状を
有し、前記第2部材は、複数の空孔を備えたテープ状の
形状を有する。そして、第1部材は、二つの第2部材8
05により挟持され、第2部材805側にのみ開口した
空孔803がそれぞれ設けられている。標的物質801
には2μm厚の金を、第2部材805には25μm厚の
タンタルを用いる。また、レーザー光802はどちらか
一方の第2部材805側から照射される。
有し、前記第2部材は、複数の空孔を備えたテープ状の
形状を有する。そして、第1部材は、二つの第2部材8
05により挟持され、第2部材805側にのみ開口した
空孔803がそれぞれ設けられている。標的物質801
には2μm厚の金を、第2部材805には25μm厚の
タンタルを用いる。また、レーザー光802はどちらか
一方の第2部材805側から照射される。
【0060】レーザー光802をどちらか一方の第2部
材805側から照射すると、プラズマ803の閉じ込め
効果によりX線量が増加するとともに、バリも標的部材
の表面に現れることはない。また、標的部材を複数の部
材により構成しているので、前述のように空孔の加工も
容易になる。
材805側から照射すると、プラズマ803の閉じ込め
効果によりX線量が増加するとともに、バリも標的部材
の表面に現れることはない。また、標的部材を複数の部
材により構成しているので、前述のように空孔の加工も
容易になる。
【0061】前記複数の物質を接合または積層する方法
としては、例えば蒸着、スパッタ、メッキ、接着など、
任意の方法が使用できる。 〔実施例7〕さて、これまで説明した各実施例のよう
に、予め標的部材に空孔が設けられている場合には、空
孔がレーザー光照射位置に到達したときに同期させてレ
ーザー光を照射しなくてはならない。
としては、例えば蒸着、スパッタ、メッキ、接着など、
任意の方法が使用できる。 〔実施例7〕さて、これまで説明した各実施例のよう
に、予め標的部材に空孔が設けられている場合には、空
孔がレーザー光照射位置に到達したときに同期させてレ
ーザー光を照射しなくてはならない。
【0062】図9は本実施例のテープ状標的部材の一部
における断面と、レーザー光照射位置近傍の断面を示し
ている。標的部材901上の空孔903がレーザー照射
位置に到達したときに、レーザー光902が空孔903
部に照射されるようにレーザー装置(図示せず)にトリ
ガーをかけられるようにしたものである。
における断面と、レーザー光照射位置近傍の断面を示し
ている。標的部材901上の空孔903がレーザー照射
位置に到達したときに、レーザー光902が空孔903
部に照射されるようにレーザー装置(図示せず)にトリ
ガーをかけられるようにしたものである。
【0063】この実施例では、プラズマ904生成用の
励起レーザー光902の光軸とHe-Ne レーザー光906
の光軸とが同軸になるように配置されている。普通の系
では、励起レーザーのアライメントを容易にするため
に、このような配置をとっている。He-Ne レーザー光9
06は、集光レンズ(図示せず、励起用レーザー光90
2の集光用レンズを兼用している)によって、標的部材
上におけるプラズマ生成用励起レーザー光の照射位置と
ほぼ同じ位置に集光される。
励起レーザー光902の光軸とHe-Ne レーザー光906
の光軸とが同軸になるように配置されている。普通の系
では、励起レーザーのアライメントを容易にするため
に、このような配置をとっている。He-Ne レーザー光9
06は、集光レンズ(図示せず、励起用レーザー光90
2の集光用レンズを兼用している)によって、標的部材
上におけるプラズマ生成用励起レーザー光の照射位置と
ほぼ同じ位置に集光される。
【0064】標的部材901の近傍には、標的部材90
1で散乱されたHe-Ne レーザー光を検出するためのフォ
トダイオード905が配置されている。テープ状標的部
材901が巻き取られ、空孔903が励起レーザー光の
照射位置に来たとき、空孔903のエッジによりHe-Ne
レーザー光906が散乱されてフォトダイオード905
の出力が大きくなる。
1で散乱されたHe-Ne レーザー光を検出するためのフォ
トダイオード905が配置されている。テープ状標的部
材901が巻き取られ、空孔903が励起レーザー光の
照射位置に来たとき、空孔903のエッジによりHe-Ne
レーザー光906が散乱されてフォトダイオード905
の出力が大きくなる。
【0065】このフォトダイオード905の出力は、波
高値判別装置(図示せず)に入力され、フォトダイオー
ド905の出力がある所定の閾値を越えた時に、波高値
判別装置からレーザー装置にトリガー信号が出力され、
レーザー装置から励起レーザー光902が放出され、標
的部材901上の空孔903に確実に照射される。レー
ザー装置にトリガーが入力されてからレーザー光が放出
されるまでの遅延時間は一般に短く、その間に標的部材
901が移動する距離は極く僅かなので、標的部材90
1が移動中であっても、確実に空孔903内に励起レー
ザー光902が照射される。
高値判別装置(図示せず)に入力され、フォトダイオー
ド905の出力がある所定の閾値を越えた時に、波高値
判別装置からレーザー装置にトリガー信号が出力され、
レーザー装置から励起レーザー光902が放出され、標
的部材901上の空孔903に確実に照射される。レー
ザー装置にトリガーが入力されてからレーザー光が放出
されるまでの遅延時間は一般に短く、その間に標的部材
901が移動する距離は極く僅かなので、標的部材90
1が移動中であっても、確実に空孔903内に励起レー
ザー光902が照射される。
【0066】この例のように、テープ状標的部材901
を連続的に移動させながら、レーザー光を照射させても
よいが、或いは、空孔903がレーザー光照射位置に到
達したことを検出した後に、標的部材901の移動を停
止し、それからレーザー光を照射してもよい。この例で
は、空孔位置の検出に真空容器外から導入したHeーN
eレーザー光を用いたが、別途、空孔検出用光源(半導
体レーザーなど)と集光光学系を用意し、集光ビームを
空孔に照射するようにしてもよい。また、この空孔検出
用光源は真空容器外にあってもよいし、真空容器内にあ
ってもよい。
を連続的に移動させながら、レーザー光を照射させても
よいが、或いは、空孔903がレーザー光照射位置に到
達したことを検出した後に、標的部材901の移動を停
止し、それからレーザー光を照射してもよい。この例で
は、空孔位置の検出に真空容器外から導入したHeーN
eレーザー光を用いたが、別途、空孔検出用光源(半導
体レーザーなど)と集光光学系を用意し、集光ビームを
空孔に照射するようにしてもよい。また、この空孔検出
用光源は真空容器外にあってもよいし、真空容器内にあ
ってもよい。
【0067】ここに示した実施例では、励起用レーザー
光が照射される空孔に、空孔検出用ビームも照射されて
いたが、空孔検出用ビームが照射される空孔は必ずしも
励起用レーザー光が照射される空孔と同じでなくてもよ
い。例えば、励起用レーザー光が照射される空孔の前ま
たは後の空孔に空孔検出用ビームを照射してもよい。
光が照射される空孔に、空孔検出用ビームも照射されて
いたが、空孔検出用ビームが照射される空孔は必ずしも
励起用レーザー光が照射される空孔と同じでなくてもよ
い。例えば、励起用レーザー光が照射される空孔の前ま
たは後の空孔に空孔検出用ビームを照射してもよい。
【0068】この場合には、空孔の開いている位置が等
間隔で、しかも標的部材の移動速度が等速であるなら
ば、励起用レーザー光が照射される空孔の前または後の
空孔を検出することによって、励起用レーザー光が照射
される位置に空孔が到達したことを検出することができ
る。また、空孔とは別に空孔位置に対応するようにマー
カー(例えば穴とか反射膜など)を標的部材上に設けて
これを検出するようにしてもよい。
間隔で、しかも標的部材の移動速度が等速であるなら
ば、励起用レーザー光が照射される空孔の前または後の
空孔を検出することによって、励起用レーザー光が照射
される位置に空孔が到達したことを検出することができ
る。また、空孔とは別に空孔位置に対応するようにマー
カー(例えば穴とか反射膜など)を標的部材上に設けて
これを検出するようにしてもよい。
【0069】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、 空孔の裏面から励起エネルギービームを照射すると、
照射後に発生するバリが標的部材の表面に出てくること
がなく、巻き取り可能な標的部材を複数回、往復(巻き
取り)させて使用する場合に、プラズマ発生位置が変動
することない。また、レーザー照射後のテープ状標的を
巻き取ったときに巻取径が大きくなることもない。
照射後に発生するバリが標的部材の表面に出てくること
がなく、巻き取り可能な標的部材を複数回、往復(巻き
取り)させて使用する場合に、プラズマ発生位置が変動
することない。また、レーザー照射後のテープ状標的を
巻き取ったときに巻取径が大きくなることもない。
【0070】空孔部分に励起エネルギービームを照射
すると、X線量が増大すると共に、飛散粒子の角度分布
を標的法線方向に集中させることができる。或いは、X
線量が増大すると共に、飛散粒子の角度分布を標的法線
方向に集中でき、しかもビーム照射後、バリが標的部材
の表面に露出しない。 標的部材を複数の部材(材料)により構成すること
で、前記の効果があるとともに、各部材を構成する
材料の特性を利用して空孔の形成が容易になる。
すると、X線量が増大すると共に、飛散粒子の角度分布
を標的法線方向に集中させることができる。或いは、X
線量が増大すると共に、飛散粒子の角度分布を標的法線
方向に集中でき、しかもビーム照射後、バリが標的部材
の表面に露出しない。 標的部材を複数の部材(材料)により構成すること
で、前記の効果があるとともに、各部材を構成する
材料の特性を利用して空孔の形成が容易になる。
【図1】は、実施例のX線発生装置の概略構成図であ
る。
る。
【図2】は、テープ状の標的部材を巻き取り移動させる
ための駆動部の概略斜視図である。
ための駆動部の概略斜視図である。
【図3】は、実施例1のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図4】は、実施例2のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図5】は、実施例3のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図6】は、実施例4のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図7】は、実施例5のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図8】は、実施例6のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
【図9】は、実施例7のテープ状標的部材の一部を示す
断面図である。
断面図である。
101・・真空容器、 102・・レーザー光(励起エ
ネルギービームの一例) 103・・レンズ、 104・・テープ状標的部材 105・・巻取リール、106・・巻取リール 107・・基盤 201・・テープ状標的部材、 202・・巻取リール 203・・巻取リール、 204・・モーター 205・・モーター、 206・・基盤 207・・ステージ、 208・・レーザー光 209、210・・押さえ板、 301・・テープ状標
的部材 302・・レーザー光、 303・・空孔 304・・プラズマ、 305・・バリ 401・・テープ状標的部材、 402・・レーザー光 403・・空孔、 404・・プラズマ 501・・テープ状標的部材、 502・・レーザー光 503a・・空孔、 503b・・空孔 504・・プラズマ 601・・標的物質、 602・・レーザー光 603・・空孔、 604・・プラズマ 605・・第2部材(支持部材) 701・・標的物質、 702・・レーザー光 703・・空孔、 704・・プラズマ 705・・第2部材 801・・標的物質、 802・・レーザー光 803・・空孔、 804・・プラズマ 805・・第2部材 901・・テープ状標的部材、 902・・レーザー光 903・・空孔、 904・・プラズマ 905・・フォトダイオード、 906・・He-Ne レー
ザー光 A・・・・第1形状部分 B・・・・第2形状部分 以 上
ネルギービームの一例) 103・・レンズ、 104・・テープ状標的部材 105・・巻取リール、106・・巻取リール 107・・基盤 201・・テープ状標的部材、 202・・巻取リール 203・・巻取リール、 204・・モーター 205・・モーター、 206・・基盤 207・・ステージ、 208・・レーザー光 209、210・・押さえ板、 301・・テープ状標
的部材 302・・レーザー光、 303・・空孔 304・・プラズマ、 305・・バリ 401・・テープ状標的部材、 402・・レーザー光 403・・空孔、 404・・プラズマ 501・・テープ状標的部材、 502・・レーザー光 503a・・空孔、 503b・・空孔 504・・プラズマ 601・・標的物質、 602・・レーザー光 603・・空孔、 604・・プラズマ 605・・第2部材(支持部材) 701・・標的物質、 702・・レーザー光 703・・空孔、 704・・プラズマ 705・・第2部材 801・・標的物質、 802・・レーザー光 803・・空孔、 804・・プラズマ 805・・第2部材 901・・テープ状標的部材、 902・・レーザー光 903・・空孔、 904・・プラズマ 905・・フォトダイオード、 906・・He-Ne レー
ザー光 A・・・・第1形状部分 B・・・・第2形状部分 以 上
Claims (11)
- 【請求項1】 励起エネルギービームを標的部材に集光
して照射することでプラズマを生成させ、該プラズマか
ら輻射されるX線を取り出すX線発生装置において、 前記標的部材は、厚さが相対的に大きくて標的部材全体
の自立機能を果たす第1形状部分と、厚さが相対的に小
さくて前記励起エネルギービーム照射によるプラズマ発
生機能を果たす第2形状部分と、を有することを特徴と
するX線発生装置。 - 【請求項2】 前記第2形状部分は、一方の表面側が平
面形状であり、他方の表面側が凹形状であることを特徴
とする請求項1記載のX線発生装置。 - 【請求項3】 前記第2形状部分は、一方の表面側及び
他方の表面側ともに凹形状であることを特徴とする請求
項1記載のX線発生装置。 - 【請求項4】 前記第2形状部分の平面形状箇所に前記
励起エネルギービームが照射されるように、その光路を
設定したことを特徴とする請求項1または2記載のX線
発生装置。 - 【請求項5】 前記第2形状部分の凹形状箇所に前記励
起エネルギービームが照射されるように、その光路を設
定したことを特徴とする請求項1〜3記載のX線発生装
置。 - 【請求項6】 前記標的部材は、前記励起エネルギービ
ームを照射すると、所望のX線を輻射するプラズマを発
生する標的物質からなる第1部材と、該第1部材に接合
された部材であり該第1部材を支持するための一または
二以上の第2部材と、を有することを特徴とする請求項
1〜5記載のX線発生装置。 - 【請求項7】 前記第1部材は、テープ状または薄板状
の形状を有し、前記第2部材は、複数の空孔を備えたテ
ープ状または薄板状の形状を有することを特徴とする請
求項6記載のX線発生装置。 - 【請求項8】 前記第1部材は、前記複数の第2部材に
より挟持されていることを特徴とする請求項7記載のX
線発生装置。 - 【請求項9】 前記一つの第2部材、または前記複数の
第2部材のうちの少なくとも一つの第2部材が、タンタ
ル、タングステン、ジルコニウム、モリブデン、チタ
ン、鉄、銅、ニッケル、アルミニウム、これらの合金、
有機材料、またはセラミックスからなることを特徴とす
る請求項6〜8記載のX線発生装置。 - 【請求項10】 前記標的部材の第2形状部分を前記励起
エネルギービームの集光位置に移動及び/または設置す
る制御系であり、前記標的部材を移動させる駆動系と、
前記第2形状部分が前記集光位置に到達したことを検出
する検出系とを有する制御系をさらに備えたことを特徴
とする請求項1〜9記載のX線発生装置。 - 【請求項11】 前記検出系は、He−Neレーザーまた
は半導体レーザー、集光光学系、及び光検出器を有する
ことを特徴とする請求項10記載のX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7161782A JPH0917595A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7161782A JPH0917595A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | X線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0917595A true JPH0917595A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=15741811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7161782A Pending JPH0917595A (ja) | 1995-06-28 | 1995-06-28 | X線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0917595A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010536142A (ja) * | 2007-08-06 | 2010-11-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
-
1995
- 1995-06-28 JP JP7161782A patent/JPH0917595A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010536142A (ja) * | 2007-08-06 | 2010-11-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
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