JPH09165449A - ジオルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
ジオルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH09165449A JPH09165449A JP34806695A JP34806695A JPH09165449A JP H09165449 A JPH09165449 A JP H09165449A JP 34806695 A JP34806695 A JP 34806695A JP 34806695 A JP34806695 A JP 34806695A JP H09165449 A JPH09165449 A JP H09165449A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 副反応を抑制することができ、分子量分布の
極めて狭いジオルガノポリシロキサンを得るための製造
方法に関する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 で表される化合物を主成分とする開始剤とリチウム塩の
添加存在下で、環状シロキサンをアニオンリビング重合
する。
極めて狭いジオルガノポリシロキサンを得るための製造
方法に関する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 で表される化合物を主成分とする開始剤とリチウム塩の
添加存在下で、環状シロキサンをアニオンリビング重合
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分子鎖片末端にの
み官能基を有するジオルガノポリシロキサン（以下、ジ
オルガノポリシロキサンという。）の製造方法に関し、
更に詳細には、副反応を抑制することができ、分子量分
布の極めて狭いジオルガノポリシロキサンを容易に得る
ことのできる製造方法に関するものである。
み官能基を有するジオルガノポリシロキサン（以下、ジ
オルガノポリシロキサンという。）の製造方法に関し、
更に詳細には、副反応を抑制することができ、分子量分
布の極めて狭いジオルガノポリシロキサンを容易に得る
ことのできる製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ジオルガノポリシロキサンの有する官能
基と反応し得る重合官能性ポリマーとジオルガノポリシ
ロキサンとから得られるグラフトポリマーは、撥水性、
防汚性、非接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性など
の機能に優れた化合物であることより、各種フィルム、
プラスチック、ゴム、ワックスなどの高分子製品、紙お
よびガラス等の表面処理剤として、もしくはシャンプ
ー、リンス、ヘアーセット剤等の改質剤として好んで使
用されている。このようなグラフトポリマーに使用され
るジオルガノポリシロキサンは、公知の製造方法により
得ることができる。
基と反応し得る重合官能性ポリマーとジオルガノポリシ
ロキサンとから得られるグラフトポリマーは、撥水性、
防汚性、非接着性、耐熱性、耐摩耗性、生体適合性など
の機能に優れた化合物であることより、各種フィルム、
プラスチック、ゴム、ワックスなどの高分子製品、紙お
よびガラス等の表面処理剤として、もしくはシャンプ
ー、リンス、ヘアーセット剤等の改質剤として好んで使
用されている。このようなグラフトポリマーに使用され
るジオルガノポリシロキサンは、公知の製造方法により
得ることができる。
【０００３】例としては、トリアルキルシラノレートを
開始剤とし、環状シロキサンをアニオンリビング重合す
ることでリビングポリマーを得、それに官能基を有する
クロロシラン誘導体を反応させる製造方法を挙げること
ができる（特開昭５９−７８２３６号公報）。しかしな
がら、この製造方法では、モノマー及び溶剤を脱水や精
製しても、再分配反応などの副反応が進行し、得られる
ジオルガノポリシロキサンの分子量分布が広くなったり
（分散度ＭW／Ｍn＝１．２程度）、官能基を含まないジ
オルガノポリシロキサンが生成したりするという欠点を
有している。官能基を含まないジオルガノポリシロキサ
ンが存在すると、製品に使用した時に、未反応のジオル
ガノポリシロキサンが製品中に残り、ブリードが発生し
て、製品の品質を著しく低下させる。従って、副反応が
起こらず、分子量分布の狭いジオルガノポリシロキサン
が望まれている。
開始剤とし、環状シロキサンをアニオンリビング重合す
ることでリビングポリマーを得、それに官能基を有する
クロロシラン誘導体を反応させる製造方法を挙げること
ができる（特開昭５９−７８２３６号公報）。しかしな
がら、この製造方法では、モノマー及び溶剤を脱水や精
製しても、再分配反応などの副反応が進行し、得られる
ジオルガノポリシロキサンの分子量分布が広くなったり
（分散度ＭW／Ｍn＝１．２程度）、官能基を含まないジ
オルガノポリシロキサンが生成したりするという欠点を
有している。官能基を含まないジオルガノポリシロキサ
ンが存在すると、製品に使用した時に、未反応のジオル
ガノポリシロキサンが製品中に残り、ブリードが発生し
て、製品の品質を著しく低下させる。従って、副反応が
起こらず、分子量分布の狭いジオルガノポリシロキサン
が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
した従来技術の欠点を解消し、副反応を抑制することが
でき、分子量分布の極めて狭いジオルガノポリシロキサ
ンを容易に得ることのできる製造方法を提供することで
ある。
した従来技術の欠点を解消し、副反応を抑制することが
でき、分子量分布の極めて狭いジオルガノポリシロキサ
ンを容易に得ることのできる製造方法を提供することで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上述の課題
を解決すべく鋭意研究した結果、リチウム塩添加存在
下、アニオンリビング重合を行うことで上記の課題を解
決する事を見い出し、この知見に基づき本発明を完成し
た。
を解決すべく鋭意研究した結果、リチウム塩添加存在
下、アニオンリビング重合を行うことで上記の課題を解
決する事を見い出し、この知見に基づき本発明を完成し
た。
【０００６】本発明は下記の構成を有する。 （１）一般式（１）
【０００７】
【化３】
【０００８】で表される化合物を主成分とする開始剤と
リチウム塩の添加存在下で、一般式（２）
リチウム塩の添加存在下で、一般式（２）
【０００９】
【化４】
【００１０】で表される環状シロキサンを、アニオンリ
ビング重合するジオルガノポリシロキサンの製造方法。 （２）リチウム塩の添加量が、開始剤に対して１×１０
-5〜１０倍モルである前記第（１）項記載のジオルガノ
ポリシロキサンの製造方法。 （３）リチウム塩が、炭酸リチウム、塩化リチウム、臭
化リチウム、硫酸リチウム、もしくはこれらを組み合わ
せたものである前記第（１）項記載のジオルガノポリシ
ロキサンの製造方法。
ビング重合するジオルガノポリシロキサンの製造方法。 （２）リチウム塩の添加量が、開始剤に対して１×１０
-5〜１０倍モルである前記第（１）項記載のジオルガノ
ポリシロキサンの製造方法。 （３）リチウム塩が、炭酸リチウム、塩化リチウム、臭
化リチウム、硫酸リチウム、もしくはこれらを組み合わ
せたものである前記第（１）項記載のジオルガノポリシ
ロキサンの製造方法。
【００１１】本発明の製造方法について詳細に説明す
る。本発明の製造方法は、開始剤とリチウム塩の添加存
在下で、環状シロキサンをアニオンリビング重合する方
法であるが、ジオルガノポリシロキサンを製造するに
は、開始剤とリチウム塩の存在下で、環状シロキサンを
アニオンリビング重合し、リビングポリマーを製造した
後、該リビングポリマーに酸または一般式（３）
る。本発明の製造方法は、開始剤とリチウム塩の添加存
在下で、環状シロキサンをアニオンリビング重合する方
法であるが、ジオルガノポリシロキサンを製造するに
は、開始剤とリチウム塩の存在下で、環状シロキサンを
アニオンリビング重合し、リビングポリマーを製造した
後、該リビングポリマーに酸または一般式（３）
【００１２】
【化５】
【００１３】で示される化合物を反応させる必要があ
る。
る。
【００１４】本願発明の製造方法において使用する環状
シロキサンは、一般式（２）
シロキサンは、一般式（２）
【００１５】
【化６】
【００１６】で表される化合物であり、具体的には、ヘ
キサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサ
ン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテト
ラシロキサン、トリメチルトリフェニルシクロトリシロ
キサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロ
キサン等を例示することができ、中でもヘキサメチルシ
クロトリシロキサンおよびオクタメチルシクロテトラシ
ロキサンが好ましく、特にヘキサメチルシクロトリシロ
キサンが好ましい。
キサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサ
ン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテト
ラシロキサン、トリメチルトリフェニルシクロトリシロ
キサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロ
キサン等を例示することができ、中でもヘキサメチルシ
クロトリシロキサンおよびオクタメチルシクロテトラシ
ロキサンが好ましく、特にヘキサメチルシクロトリシロ
キサンが好ましい。
【００１７】本発明の製造方法において使用する開始剤
は、アニオンリビング重合の開始剤として作用するもの
であり、一般式（１）
は、アニオンリビング重合の開始剤として作用するもの
であり、一般式（１）
【００１８】
【化７】
【００１９】で表される化合物を主成分とするものであ
る。具体的には、リチウムトリメチルシラノレート、リ
チウムトリエチルシラノレート、リチウムトリプロピル
シラノレート、リチウムトリブチルシラノレートのよう
なリチウムトリアルキルシラノレート、メチルリチウ
ム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、Ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、Ｔｅｒｔ−ブチルリチウムのようなアル
キルリチウムを例示することができ、中でもｎ−ブチル
リチウムやリチウムトリメチルシラノレートが好まし
い。
る。具体的には、リチウムトリメチルシラノレート、リ
チウムトリエチルシラノレート、リチウムトリプロピル
シラノレート、リチウムトリブチルシラノレートのよう
なリチウムトリアルキルシラノレート、メチルリチウ
ム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、Ｓｅｃ−ブ
チルリチウム、Ｔｅｒｔ−ブチルリチウムのようなアル
キルリチウムを例示することができ、中でもｎ−ブチル
リチウムやリチウムトリメチルシラノレートが好まし
い。
【００２０】本発明の製造方法において使用するリチウ
ム塩は、系内に直接添加するもので、開始剤投入前に、
あらかじめ系内に添加しておくことが望ましい。系内に
直接添加するリチウム塩としては、具体的に、炭酸リチ
ウム、塩化リチウム、臭化リチウム、硫酸リチウム等を
例示することができ、中でも、塩化リチウムが好まし
い。
ム塩は、系内に直接添加するもので、開始剤投入前に、
あらかじめ系内に添加しておくことが望ましい。系内に
直接添加するリチウム塩としては、具体的に、炭酸リチ
ウム、塩化リチウム、臭化リチウム、硫酸リチウム等を
例示することができ、中でも、塩化リチウムが好まし
い。
【００２１】本発明の製造方法において使用するリチウ
ム塩の濃度は、開始剤に対して１×１０-6〜２０倍モル
が好ましく、特に、１×１０-5〜１０倍モルの範囲で使
用するのが好ましい。
ム塩の濃度は、開始剤に対して１×１０-6〜２０倍モル
が好ましく、特に、１×１０-5〜１０倍モルの範囲で使
用するのが好ましい。
【００２２】アニオンリビング重合により得られるリビ
ングポリマーの分子量は、使用する開始剤と環状シロキ
サンとのモル比により決定される。リビングポリマーの
分子量としては、数平均分子量１０００〜５００００の
範囲になるように、アニオンリビング重合を行うことが
好ましい。
ングポリマーの分子量は、使用する開始剤と環状シロキ
サンとのモル比により決定される。リビングポリマーの
分子量としては、数平均分子量１０００〜５００００の
範囲になるように、アニオンリビング重合を行うことが
好ましい。
【００２３】本発明の製造方法におけるアニオンリビン
グ重合は、適当な溶媒の存在下で行われる重合である
が、この溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類が好ま
しく、テトラヒドロフランが特に好ましい。トルエン、
ベンゼン、キシレン、ｎ−ヘキサン等も使用できるが、
この場合、極性溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメチルス
ルホキシド、ダイグライム等を添加することが好まし
い。これらの溶媒および極性溶媒は、使用前に十分精製
しておくことが好ましい。
グ重合は、適当な溶媒の存在下で行われる重合である
が、この溶媒としては、テトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、ジオキサン、ジグライム等のエーテル類が好ま
しく、テトラヒドロフランが特に好ましい。トルエン、
ベンゼン、キシレン、ｎ−ヘキサン等も使用できるが、
この場合、極性溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメチルス
ルホキシド、ダイグライム等を添加することが好まし
い。これらの溶媒および極性溶媒は、使用前に十分精製
しておくことが好ましい。
【００２４】アニオンリビング重合の反応温度として
は、−５０℃〜１４０℃が好ましく、特に−１０℃〜４
０℃が好ましい。また、重合時間は反応温度によって大
きく変化するが、反応温度が−１０℃〜４０℃の場合
は、反応時間は１〜３０時間が適当である。アニオンリ
ビング重合の進行は、ガスクロマトグラフィーで、環状
シロキサン成分の減少量を求めることにより追跡するこ
とができる。アニオンリビング重合は、環状シロキサン
の転化率が一定値に達したところで、酸または一般式
（３）
は、−５０℃〜１４０℃が好ましく、特に−１０℃〜４
０℃が好ましい。また、重合時間は反応温度によって大
きく変化するが、反応温度が−１０℃〜４０℃の場合
は、反応時間は１〜３０時間が適当である。アニオンリ
ビング重合の進行は、ガスクロマトグラフィーで、環状
シロキサン成分の減少量を求めることにより追跡するこ
とができる。アニオンリビング重合は、環状シロキサン
の転化率が一定値に達したところで、酸または一般式
（３）
【００２５】
【化８】
【００２６】で示される化合物を添加し、リビングポリ
マーと反応させ、ジオルガノポリシロキサンを生成させ
ることにより停止することができる。この時の環状シロ
キサンの転化率は、７０〜１００％が好ましく、さらに
好ましくは７５〜９８％である。
マーと反応させ、ジオルガノポリシロキサンを生成させ
ることにより停止することができる。この時の環状シロ
キサンの転化率は、７０〜１００％が好ましく、さらに
好ましくは７５〜９８％である。
【００２７】本発明の製造方法において、アニオンリビ
ング重合を停止させる酸としては、具体的に、含水炭酸
ガス、希塩酸などの鉱酸、または燐酸、酢酸、プロピオ
ン酸などの有機酸を例示することができ、一般式（３）
で示される化合物としては、具体的に、ジメチルクロロ
シラン、ジメチルビニルクロロシラン、クロロプロピル
ジメチルクロロシラン、メタクリロキシプロピルジメチ
ルクロロシラン、アクリロキシプロピルジメチルクロロ
シラン、ビニルベンジルジメチルクロロシラン、スチリ
ルジメチルクロロシラン等が例示することができる。
ング重合を停止させる酸としては、具体的に、含水炭酸
ガス、希塩酸などの鉱酸、または燐酸、酢酸、プロピオ
ン酸などの有機酸を例示することができ、一般式（３）
で示される化合物としては、具体的に、ジメチルクロロ
シラン、ジメチルビニルクロロシラン、クロロプロピル
ジメチルクロロシラン、メタクリロキシプロピルジメチ
ルクロロシラン、アクリロキシプロピルジメチルクロロ
シラン、ビニルベンジルジメチルクロロシラン、スチリ
ルジメチルクロロシラン等が例示することができる。
【００２８】アニオンリビング重合の停止後、重合溶液
から目的物であるジオルガノポリシロキサンを単離する
には、イオン交換水を加え水洗を行い、さらに有機層を
無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濾過した濾液を減
圧蒸留することにより、反応溶媒、未反応原料及び低分
子量不純物を除去させるとよい。
から目的物であるジオルガノポリシロキサンを単離する
には、イオン交換水を加え水洗を行い、さらに有機層を
無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濾過した濾液を減
圧蒸留することにより、反応溶媒、未反応原料及び低分
子量不純物を除去させるとよい。
【００２９】
【実施例】以下、実施例および比較例を用いて本発明を
具体的に説明するが、本発明はこれによって限定される
ものではない。
具体的に説明するが、本発明はこれによって限定される
ものではない。
【００３０】（メタクリル官能性ジオルガノポリシロキ
サンの製造方法） 実施例１ ３００ｍｌのフラスコに、窒素ガスを流入しながら、精
製テトラヒドロフランを８０ｍ投入した後、カルシウム
ハイドライド存在下で蒸留精製したヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを８０ｇ（０．３６ｍｏｌ）添加し、撹
拌を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リチ
ウムを０．３２ｇ（７．５×１０-3ｍｏｌ）添加した。
次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／Ｌのヘキサ
ン溶液を４．４ｍｌ（７．２×１０-3ｍｏｌ）を加え、
窒素雰囲気下、１０℃で７時間重合させた後、３−メタ
クリロキシプロピルジメチルクロロシランを２．１ｇ
（９．４×１０-3ｍｏｌ）加え、１時間攪拌して重合を
停止した。この時のヘキサメチルシクロトリシロキサン
の転化率は９０％であった。さらに、この反応溶液にイ
オン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリーエバポレ
ーターで加熱減圧することにより、テトラヒドロフラ
ン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサンなどの
低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキサンを
７０ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキサンをＧＰ
Ｃ法（ポリスチレン換算）によって測定したところ、数
平均分子量が１００６９、分散度が１．０２であった。
サンの製造方法） 実施例１ ３００ｍｌのフラスコに、窒素ガスを流入しながら、精
製テトラヒドロフランを８０ｍ投入した後、カルシウム
ハイドライド存在下で蒸留精製したヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを８０ｇ（０．３６ｍｏｌ）添加し、撹
拌を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リチ
ウムを０．３２ｇ（７．５×１０-3ｍｏｌ）添加した。
次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／Ｌのヘキサ
ン溶液を４．４ｍｌ（７．２×１０-3ｍｏｌ）を加え、
窒素雰囲気下、１０℃で７時間重合させた後、３−メタ
クリロキシプロピルジメチルクロロシランを２．１ｇ
（９．４×１０-3ｍｏｌ）加え、１時間攪拌して重合を
停止した。この時のヘキサメチルシクロトリシロキサン
の転化率は９０％であった。さらに、この反応溶液にイ
オン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリーエバポレ
ーターで加熱減圧することにより、テトラヒドロフラ
ン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサンなどの
低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキサンを
７０ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキサンをＧＰ
Ｃ法（ポリスチレン換算）によって測定したところ、数
平均分子量が１００６９、分散度が１．０２であった。
【００３１】比較例１ 塩化リチウムを添加しない以外は、実施例１に準拠して
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が９６７０、分散
度が１．２４であった。
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が９６７０、分散
度が１．２４であった。
【００３２】（末端シラノールジオルガノシロキサンの
製造方法） 実施例２ ３００ｍｌのフラスコに、カルシウムハイドライド存在
下で蒸留精製したヘキサメチルシクロトリシロキサンを
７６ｇ（０．３４ｍｏｌ）とトルエンを８８ｇ添加し、
撹拌を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リ
チウムを０．２８ｇ（６．６×１０-3ｍｏｌ）添加した
後、１５０℃で１時間の共沸脱水を行い、系中の水分を
除去した。次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／
Ｌのヘキサン溶液を１４．６ｍｌ（２．３９×１０-2ｍ
ｏｌ）を加え、１時間熟成した。さらに、極性溶剤とし
て精製したジメチルホルムアミドを９．３ｍｌ添加し
て、窒素雰囲気下、２２℃で２時間重合させた後、酢酸
を２．０ｇ（０．０３３ｍｏｌ）加え、１時間攪拌して
重合を停止した。この時のヘキサメチルシクロトリシロ
キサンの転化率は９８％であった。さらに、この反応溶
液にイオン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリーエ
バポレーターで加熱減圧することにより、テトラヒドロ
フラン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサンな
どの低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキサ
ンを７５ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキサンを
ＧＰＣ法（ポリスチレン換算）によって測定したとこ
ろ、数平均分子量が３７４９、分散度が１．０５であっ
た。
製造方法） 実施例２ ３００ｍｌのフラスコに、カルシウムハイドライド存在
下で蒸留精製したヘキサメチルシクロトリシロキサンを
７６ｇ（０．３４ｍｏｌ）とトルエンを８８ｇ添加し、
撹拌を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リ
チウムを０．２８ｇ（６．６×１０-3ｍｏｌ）添加した
後、１５０℃で１時間の共沸脱水を行い、系中の水分を
除去した。次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／
Ｌのヘキサン溶液を１４．６ｍｌ（２．３９×１０-2ｍ
ｏｌ）を加え、１時間熟成した。さらに、極性溶剤とし
て精製したジメチルホルムアミドを９．３ｍｌ添加し
て、窒素雰囲気下、２２℃で２時間重合させた後、酢酸
を２．０ｇ（０．０３３ｍｏｌ）加え、１時間攪拌して
重合を停止した。この時のヘキサメチルシクロトリシロ
キサンの転化率は９８％であった。さらに、この反応溶
液にイオン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫酸マ
グネシウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリーエ
バポレーターで加熱減圧することにより、テトラヒドロ
フラン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサンな
どの低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキサ
ンを７５ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキサンを
ＧＰＣ法（ポリスチレン換算）によって測定したとこ
ろ、数平均分子量が３７４９、分散度が１．０５であっ
た。
【００３３】比較例２ 塩化リチウムを添加しない以外は、実施例２に準拠して
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が３９３２、分散
度が１．１５であった。
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が３９３２、分散
度が１．１５であった。
【００３４】（スチリル官能性ジオルガノポリシロキサ
ンの製造方法） 実施例３ ５Ｌのフラスコに、窒素ガスを流入しながら、精製トル
エンを１４７６ｇと未精製のヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン１４５０ｇ（６．５３ｍｏｌ）を添加し、撹拌
を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リチウ
ムを２０．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）添加した後、１５０
℃で１時間の共沸脱水を行い、系中の水分を除去した。
次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／Ｌのヘキサ
ン溶液を６０．０ｍｌ（０．０９８ｍｏｌ）を加え、１
時間熟成した。さらに、極性溶剤として精製したジメチ
ルホルムアミドを２２６ｇ添加して、窒素雰囲気下、６
℃で７時間重合させた後、スチリルジメチルクロロシラ
ンを２５．０ｇ（０．１２７ｍｏｌ）加え、１時間攪拌
して重合を停止した。この時のヘキサメチルシクロトリ
シロキサンの転化率は８７％であった。さらに、この反
応溶液にイオン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリ
ーエバポレーター加熱減圧することにより、テトラヒド
ロフラン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサン
などの低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキ
サンを１２７０ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキ
サンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）によって測定した
ところ、数平均分子量が１３９００、分散度が１．０２
であった。
ンの製造方法） 実施例３ ５Ｌのフラスコに、窒素ガスを流入しながら、精製トル
エンを１４７６ｇと未精製のヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン１４５０ｇ（６．５３ｍｏｌ）を添加し、撹拌
を行いながらこれを混合させ、さらに、無水塩化リチウ
ムを２０．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）添加した後、１５０
℃で１時間の共沸脱水を行い、系中の水分を除去した。
次に、ｎ−ブチルリチウム１．６４ｍｏｌ／Ｌのヘキサ
ン溶液を６０．０ｍｌ（０．０９８ｍｏｌ）を加え、１
時間熟成した。さらに、極性溶剤として精製したジメチ
ルホルムアミドを２２６ｇ添加して、窒素雰囲気下、６
℃で７時間重合させた後、スチリルジメチルクロロシラ
ンを２５．０ｇ（０．１２７ｍｏｌ）加え、１時間攪拌
して重合を停止した。この時のヘキサメチルシクロトリ
シロキサンの転化率は８７％であった。さらに、この反
応溶液にイオン交換水を加えて水洗し、有機層を無水硫
酸マグネシウムで脱水した後、濾過し、濾液をロ−タリ
ーエバポレーター加熱減圧することにより、テトラヒド
ロフラン、未反応のテトラメチルシクロトリシロキサン
などの低沸オリゴマーを溜去し、ジオルガノポリシロキ
サンを１２７０ｇ得た。また、該ジオルガノポリシロキ
サンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）によって測定した
ところ、数平均分子量が１３９００、分散度が１．０２
であった。
【００３５】比較例３ 塩化リチウムを添加しない以外は、実施例３に準拠して
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が１２５００、分
散度が１．１８であった。
ジオルガノポリシロキサンを製造した。得られたジオル
ガノポリシロキサンをＧＰＣ法（ポリスチレン換算）に
よって測定したところ、数平均分子量が１２５００、分
散度が１．１８であった。
【００３６】
【発明の効果】本発明の製造方法は、極めて分子量分布
の狭いジオルガノポリシロキサンを容易に得ることがで
き、副反応を高度に抑制することができる製造方法であ
る。本発明のジオルガノポリシロキサンによって得られ
るグラフトポリマー、すなわちジオルガノポリシロキサ
ンの有する官能基と反応し得る重合官能性ポリマーとジ
オルガノポリシロキサンとから得られる反応生成物は、
副反応生成物である官能基を有さないストレートポリマ
ーが極めて少ないので、該グラフトポリマーから得られ
る製品は、該ストレートポリマーに由来するブリードが
極めて発生し難い。
の狭いジオルガノポリシロキサンを容易に得ることがで
き、副反応を高度に抑制することができる製造方法であ
る。本発明のジオルガノポリシロキサンによって得られ
るグラフトポリマー、すなわちジオルガノポリシロキサ
ンの有する官能基と反応し得る重合官能性ポリマーとジ
オルガノポリシロキサンとから得られる反応生成物は、
副反応生成物である官能基を有さないストレートポリマ
ーが極めて少ないので、該グラフトポリマーから得られ
る製品は、該ストレートポリマーに由来するブリードが
極めて発生し難い。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 で表される化合物を主成分とする開始剤とリチウム塩の
添加存在下で、一般式（２） 【化２】 で表される環状シロキサンを、アニオンリビング重合す
ることを特徴とするジオルガノポリシロキサンの製造方
法。 - 【請求項２】 リチウム塩の添加量が、開始剤に対して
１×１０-5〜１０倍モルであることを特徴とする請求項
１記載のジオルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項３】 リチウム塩が、炭酸リチウム、塩化リチ
ウム、臭化リチウム、硫酸リチウム、もしくはこれらを
組み合わせたものであることを特徴とする請求項１記載
のジオルガノポリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34806695A JP3627336B2 (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34806695A JP3627336B2 (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09165449A true JPH09165449A (ja) | 1997-06-24 |
| JP3627336B2 JP3627336B2 (ja) | 2005-03-09 |
Family
ID=18394523
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP34806695A Expired - Lifetime JP3627336B2 (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
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| JP (1) | JP3627336B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008045095A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Jsr Corp | パーフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸系（共）重合体の製造方法及び該方法により得られた（共）重合体を用いた感放射線性樹脂組成物 |
| JP2008540781A (ja) * | 2005-05-18 | 2008-11-20 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
| JP2013520291A (ja) * | 2010-02-23 | 2013-06-06 | パワーヴィジョン・インコーポレーテッド | 遠近調節型眼内レンズのための液体 |
| JP2019163413A (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 信越化学工業株式会社 | 片末端アルケニル基含有オルガノポリシロキサンを含む混合物の製造方法及び付加硬化性オルガノポリシロキサンゲル組成物並びにシリコーンゲル硬化物 |
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| CN113912849A (zh) * | 2020-07-07 | 2022-01-11 | 北京化工大学 | 一种制备端氢硅油的方法及其所得端氢硅油 |
| CN114763413A (zh) * | 2021-01-14 | 2022-07-19 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备烷基甲氧基硅油方法 |
| CN115819773A (zh) * | 2022-05-27 | 2023-03-21 | 浙江开化合成材料有限公司 | 一种分子量窄分布的耐高温苯甲基硅油的制备方法 |
-
1995
- 1995-12-15 JP JP34806695A patent/JP3627336B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US10980629B2 (en) | 2010-02-23 | 2021-04-20 | Alcon Inc. | Fluid for accommodating intraocular lenses |
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| CN115819773B (zh) * | 2022-05-27 | 2023-10-03 | 浙江开化合成材料有限公司 | 一种分子量窄分布的耐高温苯甲基硅油的制备方法 |
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