JPH09162533A - はんだ供給装置 - Google Patents

はんだ供給装置

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JPH09162533A
JPH09162533A JP34447295A JP34447295A JPH09162533A JP H09162533 A JPH09162533 A JP H09162533A JP 34447295 A JP34447295 A JP 34447295A JP 34447295 A JP34447295 A JP 34447295A JP H09162533 A JPH09162533 A JP H09162533A
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JP
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solder
spherical
solder supply
spherical solder
suction
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Application number
JP34447295A
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English (en)
Inventor
Tomoya Kiga
智也 気賀
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3478Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、はんだ供給装置について、信頼性を
向上し得るようにする。 【解決手段】本発明は、はんだ供給ヘツドの底部がはん
だ供給対象物に当接された状態において、はんだ供給ヘ
ツドの底部の内面上をはんだ供給手段を摺動させて、当
該はんだ供給ヘツド内に予め供給されている多数の球状
はんだを底部の内面上を移動させることにより、各はん
だ供給孔をそれぞれ介してはんだ供給対象物の各はんだ
供給位置にそれぞれ球状はんだを供給するようにしたこ
とにより、はんだ供給対象物の各はんだ供給位置にそれ
ぞれ球状はんだを確実に供給することができ、かくして
信頼性を向上し得るはんだ供給装置を実現することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術(図11(A)〜図14(B)) 発明が解決しようとする課題(図11(A)〜図14
(B)) 課題を解決するための手段(図1〜図9) 発明の実施の形態(図1〜図10) 発明の効果
【0002】
【発明の属する技術分野】本発明ははんだ供給装置に関
し、例えばはんだ供給対象物の複数のはんだ供給位置に
それぞれ球状はんだを供給する球状はんだ供給装置に適
用して好適なものである。
【0003】
【従来の技術】従来、この種の球状はんだ供給装置にお
いては、はんだ供給対象物として例えばボールグリツト
アレイ(以下、これをBGA、Ball Grid Array と呼
ぶ)の複数のランド上にそれぞれ球状はんだを供給する
場合、主に以下に示す2つの方式が適用されて構成され
ている。
【0004】まず、第1の方式では、底面に複数の凹部
が形成されたパレツトを用い、当該パレツトの各凹部に
それぞれ球状はんだを装着させ、このパレツトの各凹部
からBGAの各ランド上に各球状はんだを落下させるよ
うにして球状はんだを供給し得るようになされている。
一方、第2の方式では、複数の吸引孔が穿設された吸着
治具を用い、当該吸着治具の各吸引孔にそれぞれ球状は
んだを吸引させ、これら各吸引孔にそれぞれ吸着された
球状はんだをBGAの各ランド上に転写するようにして
球状はんだを供給し得るようになされている。
【0005】ここで、実際に第1及び第2の方式がそれ
ぞれ適用された第1及び第2の球状はんだ供給装置を用
い、BGA上に球状はんだを供給する第1及び第2の球
状はんだ供給方法を図11(A)〜図14(B)に示
す。
【0006】まず、図11(A)〜図12(C)に示す
ように、第1の球状はんだ供給方法において、第1の球
状はんだ供給装置1は、駆動制御装置(図示せず)及び
これに取り付けられたパレツト2からなり、駆動制御装
置に設けられた傾斜駆動機構(図示せず)の駆動制御に
基づいてパレツト2を水平面に対して例えば−1.8 〜+
1.8 度の範囲で傾斜し得るようになされている。またこ
の駆動制御装置には振動駆動機構が設けられており、当
該振動駆動機構は傾斜されたパレツト2を矢印aに示す
上方向及びこれとは逆の下方向に振動し得るようになさ
れている。
【0007】さらにパレツト2の底面2Aには、BGA
(図示せず)に複数設けられたランドにそれぞれ対応さ
せて複数の凹部2Bが形成されている。これら各凹部2
Bは、内部に球状はんだ3を装着し得るようになされて
おり、当該球状はんだ3の直径に応じて深さ及び幅が選
定されている。なお、球状はんだ3は全て直径が均一な
球形状でなる。
【0008】ここで、実際上この第1の球状はんだ供給
装置1は、まず球状はんだ供給部(図示せず)からパレ
ツト2の底面2Aに複数の球状はんだ3を供給させる。
この後、パレツト2の一端側を上方向に持ち上げて傾斜
させ、当該パレツト2の底面2Aに供給された各球状は
んだ3をパレツト2の他端側に転動させる(図11
(A))。この状態において、パレツト2の一端側を下
方向に下げると供に他端側を上方向に持ち上げて当該パ
レツト2の傾斜を反転させる。これに加え、パレツト2
を所定時間だけ振動させる(図11(B))。
【0009】この場合、図11(B)に示すパレツト2
の各凹部2Bを拡大した図11(C)に示すように、各
球状はんだ3には、パレツト2の傾斜の反転に基づいて
矢印bに示す回転方向に回転しようとする力が働いてい
ると共に、矢印cに示す一端側方向に移動しようとする
力が働いている。このため、これら各球状はんだ3に
は、それぞれパレツト2の底面2Aに吸着しようとする
力が働く。これにより各球状はんだ3は、パレツト2の
底面2Aを徐々に一端側に移動して順次凹部2Bに装着
される。かくしてパレツト2の底面2Aに形成された各
凹部2Bにはそれぞれ球状はんだ3が装着される(図1
1(D))。
【0010】この後、所定時間が経過すると、パレツト
2を振動させた状態で当該パレツト2の傾斜を反転させ
る(図12(A))。この場合、図12(A)に示すパ
レツト2の各凹部2Bを拡大した図12(B)に示すよ
うに、各球状はんだ3には回転方向に回転しようとする
力が働いていると共に、パレツト2の傾斜に応じて矢印
dに示す他端側方向に移動しようとする力が働いてい
る。このため、これら各球状はんだ3は、比較的早い速
度でパレツト2の他端側に転動する。
【0011】次いで、パレツト2の振動を停止させ、当
該パレツト2の各凹部2Bに装着されず、他端側に移動
した余分な球状はんだ3(図12(C))をパレツト2
の外部に排出する。続いて、第1の球状はんだ供給装置
1は、パレツト2の各凹部2Bにそれぞれ球状はんだ3
を装着させた状態で、当該パレツト2をBGA上の所定
位置まで移動させて位置決めし、この後当該パレツト2
を降下移動させる。
【0012】次いで、第1の球状はんだ供給装置1はパ
レツト2の各凹部2Bにそれぞれ装着された球状はんだ
3を、BGA上の対応するランドにそれぞれ落下させて
当該BGAのランド上に球状はんだ3を供給する。な
お、BGAの各ランド上には予め粘着性を有するフラツ
クスが塗布されており、これら各ランド上に供給された
各球状はんだ3はそれぞれフラツクスの粘着性により一
時的に固定される。かくしてBGAの各ランド上にそれ
ぞれ球状はんだ3を供給することができる。
【0013】一方、図13(A)〜図14(B)に示す
ように、第2の球状はんだ供給方法において、第2の球
状はんだ供給装置5は駆動制御装置(図示せず)及びこ
れに取り付けられた吸着治具6からなり、駆動制御装置
に設けられたXYZ駆動機構(図示せず)により吸着治
具6を矢印eで示す下方向及びこれとは逆の上方向に移
動し得ると共に、矢印eに垂直な平面上を移動し得るよ
うになされている。
【0014】この場合、吸着治具6の下側面(以下、こ
れを吸着面と呼ぶ)6AにはBGA7の複数のランド8
にそれぞれ対応させて複数の吸引孔6Bが穿設されてい
る。さらに第2の球状はんだ供給装置5には真空ポンプ
等でなる所定の負圧源(図示せず)が設けられており、
当該負圧源から吸着治具6に与えられる負圧に基づき各
吸引孔6Bにそれぞれ球状はんだ3を吸着保持し得るよ
うになされている。
【0015】また、第2の球状はんだ供給装置5では吸
着治具6の吸着面6Aと対向する側に球状はんだ槽9が
設けられており、当該球状はんだ槽9には複数の球状は
んだ3が敷き詰められている。なお、各球状はんだ3は
全て直径が均一な球形状でなり、各吸引孔6Bの径は球
状はんだ3の直径よりも小さく形成されている。さら
に、球状はんだ槽9の近傍にはフラツクス槽(図示せ
ず)が設けられ、当該フラツクス槽には所定の厚さを有
するようにフラツクスが溜められている。
【0016】ここで、実際に第2の球状はんだ供給装置
5は、まず吸着治具6を球状はんだ槽9上に移動させて
位置決めした後、当該吸着治具6を降下移動させて吸着
面6Aを球状はんだ槽9の上面に接近させる(図13
(A))。この状態において、吸着面6Aに穿設された
各吸引孔6Bに対して所定の負圧源から負圧が与えら
れ、これにより球状はんだ槽9内の球状はんだ3は当該
負圧に基づいて各吸引孔6Bにそれぞれ吸着保持される
(図13(B))。この後、吸着治具6を各吸引孔6B
にそれぞれ球状はんだ3を吸着させた状態のまま上昇移
動させる。
【0017】次いで、吸着治具6をフラツクス槽(図示
せず)上に移動させて位置決めし、この後、当該吸着治
具6を降下移動させることにより、吸着面6Aの各吸引
孔6Bにそれぞれ吸着されている球状はんだ3の表面に
フラツクス10を被着させる。この後、吸着治具6を各
吸引孔6Bにそれぞれ球状はんだ3を吸着させた状態の
まま、フラツクス槽の近傍に設けられたBGA7上の所
定位置まで移動させて位置合わせする(図14
(A))。
【0018】この状態において、吸着治具6を下降移動
させ、各球状はんだ3をそれぞれBGA7の各ランド8
に接触させる。この後、各吸引孔6Bにおける各球状は
んだ3の吸着を解くようにする。このとき、各球状はん
だ3は表面に被着されているフラツクス10が粘着性を
有することから、それぞれ各ランド8上に一時的に固定
される。かくしてBGA7の各ランド8上にそれぞれ球
状はんだ3を供給することができる(図14(B))。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】ところで上述したよう
な第1及び第2の球状はんだ供給装置1及び5は、通
常、比較的直径の大きい 1〜 0.6〔mm〕程度の直径でな
る球状はんだ3をBGA7の各ランド8上に供給するよ
うに構成されている。このため、フリツプチツプ実装等
に用いられるような基板のフアインピツチに配設された
ランド上に、例えば0.3〔mm〕程度以下の直径でなる球
状はんだ3を供給するような場合には、上述した第1及
び第2の球状はんだ供給装置1及び5をそれぞれ球状は
んだ3の直径( 0.3〔mm〕程度以下)に応じて構成し直
す必要がある。
【0020】ところが球状はんだ3は、直径が小さくな
るにつれて静電気を負荷し易くなる性質がある。このた
め上述のように球状はんだ3の直径に応じて構成し直し
た第1及び第2の球状はんだ供給装置1及び5では、パ
レツト2内に供給された各球状はんだ3及び球状はんだ
槽9に敷き詰められた各球状はんだ3同志が密着し易く
なり、パレツト2の各凹部2B及び吸着治具6の各吸引
孔6Bにぞれぞれ球状はんだ3を装着又は吸着させるこ
とが困難となる。従つて、これら第1及び第2の球状は
んだ供給装置1及び5においては、何らかの静電気対策
を施す必要があり、第1及び第2の球状はんだ供給装置
1及び5の構成が煩雑になる問題があつた。
【0021】また、第1の球状はんだ供給装置1におい
ては、球状はんだ3の直径が所定の値よりも小さくなる
と、重力よりも球状はんだ3に負荷される静電気に応じ
た力が勝り、パレツト2の傾斜及び振動では球状はんだ
3が転動し難くなる。従つて、この第1の球状はんだ供
給装置1においては、上述と同様にパレツト2の各凹部
2Bにぞれぞれ球状はんだ3を装着させることが困難と
なる問題があつた。
【0022】一方、第2の球状はんだ供給装置5におい
ては、吸着治具6の各吸引孔6Bにそれぞれ球状はんだ
3を吸着させる際、当該吸着治具6に所定の負圧源から
与えられる負圧に基づいて生じる気流によつて各球状は
んだ3に負荷される静電気が増大する場合がある。この
結果、第2の球状はんだ供給装置5では、上述と同様に
吸着治具6の各吸引孔6Bにぞれぞれ球状はんだ3を吸
着させることが困難となる問題があつた。
【0023】また、第2の球状はんだ供給装置5におい
て、吸着治具6の各吸引孔6Bに吸着させる球状はんだ
3の吸着効率を向上させるためには、球状はんだ3の直
径よりも大きくならない範囲で吸引孔6Bの穴径をでき
るだけ大きくすることが望ましい。しかしながら、この
第2の球状はんだ供給装置5においては、吸着治具6の
各吸引孔6Bにそれぞれ吸着させた球状はんだ3を基板
のランド上に供給した場合、これら各球状はんだ3は吸
着治具6の吸着面6Aと基板の上面との間に挟まれる状
態となる。このため、吸着治具6の吸引孔6Bの穴径が
比較的大きい場合には、球状はんだ3が吸引孔6Bのエ
ツジに食い込み易くなり、当該球状はんだ3を基板のラ
ンド上に供給し難くなる問題があつた。
【0024】さらに、球状はんだ3は直径が小さくなる
につれて形状が変形し易くなる性質がある。このため、
第2の球状はんだ供給装置5においては、球状はんだ3
の直径が所定の値よりも小さくなると、吸着治具6の吸
引孔6Bに球状はんだ3を吸着させる際、当該球状はん
だ3の形状が変形して負圧が漏れ、吸引孔6Bに球状は
んだ3を吸着させることが困難となる場合がある。従つ
て、この第2の球状はんだ供給装置5では吸着治具6の
信頼性が低下することになる。この結果、第2の球状は
んだ供給装置5においては、当該第2の球状はんだ供給
装置5自体の信頼性が低下する問題があつた。
【0025】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、信頼性を向上し得るはんだ供給装置を提案しようと
するものである。
【0026】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、はんだ供給対象物の各はんだ供給
位置にそれぞれ対応させてはんだ供給孔が穿設された底
部を有するはんだ供給ヘツドと、当該はんだ供給ヘツド
の底部がはんだ供給対象物に当接された状態において、
はんだ供給ヘツドの底部の内面上を摺動するようにし
て、はんだ供給ヘツド内に予め供給されている多数の球
状はんだを底部の内面上を移動させることにより、各は
んだ供給孔をそれぞれ介してはんだ供給対象物の各はん
だ供給位置にそれぞれ球状はんだを供給するはんだ供給
手段とを設けるようにした。
【0027】はんだ供給ヘツドの底部がはんだ供給対象
物に当接された状態において、はんだ供給ヘツドの底部
の内面上をはんだ供給手段を摺動させて、当該はんだ供
給ヘツド内に予め供給されている多数の球状はんだを底
部の内面上を移動させることにより、各はんだ供給孔を
それぞれ介してはんだ供給対象物の各はんだ供給位置に
それぞれ球状はんだを供給するようにしたことにより、
はんだ供給対象物の各はんだ供給位置にそれぞれ球状は
んだを確実に供給することができる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
【0029】図1において、20は全体として実施例に
よる球状はんだ供給装置を示し、架台21上に設けられ
た基板搬送部22が加工対象の基板23を順次架台21
上の所定位置まで搬送し、当該所定位置において基板2
3を所定時間固定保持するようになされている。
【0030】この場合、架台21上には当該架台21に
対して矢印xで示す前方向及びこれとは逆の後方向に移
動自在の第1の可動体24と、第1の可動体24に対し
て矢印yで示す右方向及びこれとは逆の左方向に移動自
在の第2の可動体25と、第2の可動体25に対して矢
印zで示す上方向及びこれとは逆の下方向に移動自在の
第3の可動体26とを順次介してはんだ供給ヘツド27
が配設されている。
【0031】ここで、図2に示すように、はんだ供給ヘ
ツド27は、第3の可動体26の底面26Aに固着され
た断面がコ字状でなる筐体28を有し、当該筐体28の
下端部に、基板23の複数のランドが形成された領域
(以下、これをはんだ供給領域と呼ぶ)に応じた底部2
9Aと一対のテーパ状でなる第1及び第2のはんだ保持
部29B及び29Cとを有するように、例えばスクリー
ンマスクに用いられる金属箔が折り曲げられなるマスク
29のテーパ上端部が保持されて構成されている。この
マスク29の底部29Aには基板23の各ランドにそれ
ぞれ対応させて複数のはんだ供給孔29Dが穿設されて
いる。なお、はんだ供給孔29Dの径は、供給対象の球
状はんだ30の直径よりも僅かに大きくなるように選定
されている。
【0032】また、このマスク29の第1及び第2のは
んだ保持部29B及び29Cは、当該マスク29の底部
29Aが基板23のはんだ供給領域に当接された場合、
当該基板23のはんだ供給領域の周辺に複数実装されて
いる電子部品に接触しないように傾斜角度が選定されて
いる。これにより、この球状はんだ供給装置20におい
ては、基板23のはんだ供給領域の周辺に複数の電子部
品が実装されている場合でも、基板23の各ランド上に
容易に球状はんだ30を供給し得るようになされてい
る。
【0033】このはんだ供給ヘツド27は、内部に第1
の駆動制御部31が配設されており、当該第1の駆動部
31には矢印yで示す右方向及びこれとは逆の左方向に
自在に伸縮する伸縮体32が設けられている。この伸縮
体32の先端部には、固定アーム33を介して第2の駆
動制御部34が設けられており、当該第2の駆動制御部
34には、矢印zで示す上方向及びこれとは逆の下方向
に移動自在の一対の第4及び第5の可動体35及び36
が所定間隔を介して平行となるように設けられている。
これら第4及び第5の可動体35及び36の下端部に
は、それぞれ自己放電し得る第1及び第2の除電ブラシ
37及び38が設けられている。
【0034】第2の駆動制御部34は、第4の可動体3
5を上昇移動させたときには第5の可動体36を下降移
動させ、また第4の可動体35を下降移動させたときに
は第5の可動体を上昇移動させるように、これら第4及
び第5の可動体35及び36を移動制御し得るようにな
されている。
【0035】ここで、実際上この第2の駆動制御部34
は、伸縮体32が右方向に伸びきつた状態においてマス
ク29のはんだ供給孔29Dに掛からない底部29Aの
内面29Eに、第1の除電ブラシの先端部を接触させる
ように第4の可動体35を制御する。この状態におい
て、この第2の駆動制御部34は、マスク29の第1の
はんだ保持部29Bの第1の内側面29Fに第2の除電
ブラシ38の先端部を接触させるように第5の可動体3
6を制御する。これにより、このはんだ供給ヘツド27
においては、当該はんだ供給ヘツド27内に予め供給さ
れている多数の球状はんだ30を、第1及び第2の除電
ブラシ37及び38間の第1の内側面29Fを有するは
んだ保持領域に保持し得るようになされている。
【0036】ここで、図3に示すように、第1の除電ブ
ラシ37は、第4の可動体35の下端部にカーボン等の
導電部材でなる本体部37Aが固設されており、当該本
体部37Aの一面37Bに、極めて細い繊維状に形成さ
れた複数の導電部材が密に設けられてなる繊維部37C
を有する。なお、第1の除電ブラシ37が設けられた第
4の可動体35は、当該第1の除電ブラシ37と同じ材
質でなると供に、接地接続されている。
【0037】この場合、第1の除電ブラシ37は、繊維
部37Cが球状はんだ30と接触することにより、当該
球状はんだ30に帯電した電荷(静電気)を除去し得る
ようになされている。第1の除電ブラシ37の繊維部3
7Cは、各繊維状の導電部材が球状はんだ30よりも軟
らかく形成されており、球状はんだ30を変形させない
ようになされている。また、第2の除電ブラシ38は、
上述した第1の除電ブラシ37と同様に形成されてい
る。
【0038】ここで、実際上この球状はんだ供給装置2
0は、図4(A)〜図9に示す以下の手順により基板2
3の各ランドにそれぞれ球状はんだ30を供給すること
ができる。すなわち、まず図4(A)に示すように、球
状はんだ供給装置20では、動作時、供給された基板2
3を基板搬送部22によつて架台21上の所定位置まで
搬送させて固定保持させる。この後、第1及び第2の可
動体24及び25の駆動制御に基づいて、はんだ供給ヘ
ツド27を基板23上に移動させて位置決めする。
【0039】この場合、はんだ供給ヘツド27において
は、第1の駆動制御部31の駆動制御に基づいて伸縮体
32が右方向に伸びきつた状態となり、第4の可動体3
5は第2の駆動制御部34の駆動制御に基づいて、当該
第4の可動体35に設けられた第1の除電ブラシ37の
先端部を内面29Eに接触させていると共に、第5の可
動体36は、当該第5の可動体36に設けられた第2の
除電ブラシ38の先端部を第1の内側面29Fに接触さ
せている。これによりこれら第1及び第2の除電ブラシ
37及び38間のはんだ保持領域には、多数の球状はん
だ30が保持されている。また、基板23の各ランド4
0上にはフラツクス41が塗布されている。
【0040】次いで、図4(B)に示すように、第3の
可動体26を駆動制御してはんだ供給ヘツド27を降下
移動させ、当該はんだ供給ヘツド27をマスク29の底
部29Aと基板23の各ランド40の表面との間隔が所
定の間隔となるように位置決めする。これによりはんだ
供給ヘツド27のマスク29の底部29Aに各ランド4
0上に塗布されたフラツクス41が付着することを防止
し得るようになされている。
【0041】この状態において、図5に示すように、第
1の駆動制御部31の駆動制御に基づいて左方向に伸縮
体32を所定の速度で縮ませる。これに伴い第2の駆動
制御部34は、第2の除電ブラシ38の繊維部38Cを
マスク29の第1の内側面29F上から内面29E上に
沿つて摺動させるように第5の可動体36を降下移動さ
せ、これとは逆に第4の可動体35を上昇移動させる。
これにより第2の除電ブラシ38は、各球状はんだ30
をマスク29の第1の内側面29F上から内面29E上
を移動させ、各はんだ供給孔29Dにそれぞれ球状はん
だ30を供給する。
【0042】この場合、図6に示すように、第5の可動
体36に設けられた第2の除電ブラシ38は、繊維部3
8C(すなわち、繊維状の各導電部材)の先端部が僅か
にしなるようにマスク29の内面29E上を摺動する。
従つて、第2の除電ブラシ38は、各はんだ供給孔29
Dをそれぞれ介して基板23の各ランド40上にそれぞ
れ球状はんだ30を1個づつ供給すると供に、これら各
球状はんだ30を繊維部38Cによつて各はんだ供給孔
29D内に押し込み、基板23の対応する各ランド40
上にそれぞれ保持させる。また、第2の除電ブラシ38
は、左方向に移動しながら各はんだ供給孔29Dに供給
し得なかつた余分な球状はんだ30をそのまま左方向に
移動させる。
【0043】続いて、図7に示すように、マスク29の
内面29E上を摺動した第2の除電ブラシ38は、第2
の内側面29Gと内面29Eとの境界部近傍の各はんだ
供給孔29Dに掛からない内面29Eに繊維部38Cが
接触した状態で位置決めされる。また、第1の除電ブラ
シ37は第2のはんだ保持部29Cの第2の内側面29
Gに繊維部37Cが接触するように位置決めされる。な
お、この状態において第1及び第2の除電ブラシ37及
び38は、各はんだ供給孔29Dに供給し得ない余分な
球状はんだ30をこれら第1及び第2の除電ブラシ37
及び38間に保持する。
【0044】次いで、図8に示すように、第3の可動体
26が駆動制御され、はんだ供給ヘツド27を上昇移動
させる。このとき、マスク29の各はんだ供給孔29D
にそれぞれ供給された球状はんだ30は、各ランド40
上に塗布されたフラツクス41の粘着力によりそれぞれ
対応するランド40上に保持される。かくしてこの球状
はんだ供給装置20はマスク29の底部29Aのはんだ
供給孔29Dをそれぞれ介して基板23の各ランド40
上にそれぞれ球状はんだ30を供給することができる。
【0045】この後、図9に示すように、球状はんだ供
給装置20は、架台21上の所定位置に固定保持されて
いる基板23を基板搬送部22によつてリフロー炉等で
なる加熱装置42に搬送させる。次いで、加熱装置42
は各ランド40上にそれぞれ球状はんだ30が供給され
た基板23を当該加熱装置42内の所定位置に固定保持
し、この後、加熱装置42は所定の加熱源43でこれら
各ランド40上の球状はんだ30をリフローする。これ
により基板23上の各ランド40上には、それぞれ球状
はんだ30が溶融して濡れ広がり均一なはんだプリコー
ト30Aを形成することができる。
【0046】以上の構成において、この球状はんだ供給
装置20では、はんだ供給ヘツド27内に予め供給され
た複数の球状はんだ30を、第1及び第2の除電ブラシ
37及び38の間のはんだ保持領域に保持させ、この
後、はんだ供給ヘツド27のマスク29の底部29Aと
基板23のはんだ供給領域とを位置決めする。次いで、
第2の除電ブラシ38の繊維部38Cをマスク29の第
1の内側面29F上から内面29E上に沿つて摺動さ
せ、各球状はんだ30をこれらマスク29の第1の内側
面29F上から内面29E上を移動させることにより、
マスク29の底部29の各はんだ供給孔29Dをそれぞ
れ介して基板23の各ランド40上にそれぞれ球状はん
だ30を供給する。従つて、この球状はんだ供給装置2
0においては、第2の除電ブラシ38によつて基板23
の各ランド40上にそれぞれ球状はんだ30を確実に供
給することができる。
【0047】また、この球状はんだ供給装置20は、第
1及び第2の除電ブラシ37及び38によつて球状はん
だ30に帯電した静電気を除去し得るので、基板23の
各ランド40上に比較的直径の小さな球状はんだ30を
容易に供給することができる。かくして、フリツプチツ
プ実装やベアチツプ実装等に用いられるような基板及び
ベアチツプのフアインピツチに配設されたランド(又
は、電極)上に球状はんだ30を供給する際に、この球
状はんだ供給装置20を適用させることができる。さら
に、この球状はんだ供給装置20においては、第1及び
第2の除電ブラシ37及び38の繊維部37C及び38
Cが球状はんだ30よりも軟らかく形成されているの
で、当該球状はんだ30の形状を変形させずに、基板2
3の各ランド40上にそれぞれ供給することができる。
【0048】さらに、この球状はんだ供給装置20にお
いては、はんだ供給ヘツド27内に第1及び第2の除電
ブラシ37及び38によつて多数の球状はんだ30を保
持させるようにしたことにより、はんだ供給ヘツド27
の外部に球状はんだ槽9を必要としないので、当該球状
はんだ供給装置20自体の構成を簡易にし得ると供に、
従来の第1及び第2の球状はんだ供給装置1及び5のパ
レツト2及び吸着治具6に比べて、はんだ供給ヘツド2
7の移動を簡略化することができる。従つて、この球状
はんだ供給装置20は、従来の第1及び第2の球状はん
だ供給装置1及び5に比べて安価に構成することができ
る。
【0049】さらに、この球状はんだ供給装置20で
は、はんだ供給ヘツド27のマスク29に第1及び第2
のはんだ保持部29B及び29Cを設けるようにしたこ
とにより、基板23のはんだ供給領域の周囲に複数の電
子部品が実装されている場合でも基板23のはんだ供給
領域の各ランド40上に球状はんだ30を容易に供給す
ることができ、かくして、基板23に実装された後に故
障等を生じた電子部品を容易に交換することができる。
【0050】以上の構成によれば、はんだ供給ヘツド2
7のマスク29の底部29Aが基板23のはんだ供給領
域に位置決めされた状態において、当該マスク29の内
面29E上を摺動させて、当該はんだ供給ヘツド27内
に予め供給されている多数の球状はんだ30をマスク2
9の内面29E上を移動させることにより、各はんだ供
給孔29Dをそれぞれ介して基板23の各ランド40上
にそれぞれ球状はんだ30を供給する第1及び第2の除
電ブラシ37及び38を設けるようにしたことにより、
基板23の各ランド40上にそれぞれ球状はんだ30を
確実に供給することができ、かくして信頼性を向上し得
るはんだ供給装置を実現することができる。
【0051】なお上述の実施例においては、第1及び第
2の除電ブラシ37及び38を球状はんだ供給装置20
に用いるようにした場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、例えば第2の方式が適用された球状はんだ
供給装置に除電ブラシを用いるようにしても良い。ここ
で、図10(A)及び(B)に示すように、球状はんだ
供給装置は、駆動制御装置(図示せず)、当該駆動制御
装置に取り付けられた吸着治具50及びはんだ供給ヘツ
ド51からなる。
【0052】この場合、吸着治具50の吸着面50Aに
は基板52の複数のランド53にそれぞれ対応させて複
数の吸引孔50Bが穿設されている。また吸着治具50
には真空ポンプ等でなる所定の負圧源(図示せず)が設
けられており、当該負圧源から吸着治具50に与えられ
る負圧に基づいて各吸引孔50Bにそれぞれ球状はんだ
54を吸着保持し得るようになされている。またこの球
状はんだ供給装置に設けられたはんだ供給ヘツド51
は、吸着治具50に穿設された各吸引孔50Bにそれぞ
れ対応させて底部51Aに複数のはんだ供給孔51Bが
穿設されている。このはんだ供給ヘツド51には、内部
にガイド55を介して矢印mに示す方向及びこれとは逆
の方向に移動自在な除電ブラシ56が設けられている。
【0053】ここで、実際上この球状はんだ供給装置で
は、まず、吸着治具50の吸着面50Aが上面となるよ
うに当該吸着治具50を回転させた後に移動させ、当該
吸着治具50の各吸引孔50Bとそれぞれ対応するはん
だ供給ヘツド51のはんだ供給孔51Bとを対向させて
位置決めする。この後、各はんだ供給孔51B上を除電
ブラシ56によつて各球状はんだ54を移動させること
により、これら各はんだ供給孔51Bをそれぞれ介して
吸着治具50の対応する各吸引孔50Bにそれぞれ球状
はんだ54を供給する。
【0054】次いで、吸着治具50の各吸引孔50Bに
それぞれ供給された球状はんだ54を負圧源からの負圧
に基づいてこれら各吸引孔50Bに吸着保持させる。こ
の後、この吸着治具50を吸着面50Aが下面となるよ
うに回転させて、基板52上の所定位置まで移動させ、
吸着保持された各球状はんだ54を対応する基板52の
予めフラツクス57が塗布された各ランド53上に接触
させて位置決めする。続いて各吸引孔50Bにおける各
球状はんだ54の負圧を解くことにより基板52の各ラ
ンド53上にそれぞれ球状はんだ54を供給することが
できる。これにより、この球状はんだ供給装置において
は、吸着治具50に設けられた各吸引孔50Bの穴径が
比較的小さい場合でも球状はんだ54の吸着性を格段的
に向上させることができる。
【0055】また上述の実施例においては、はんだ供給
ヘツドの底部がはんだ供給対象物に当接された状態にお
いて、はんだ供給ヘツドの底部の内面上を摺動するよう
にして、はんだ供給ヘツド内に予め供給されている多数
の球状はんだを底部の内面上を移動させることにより、
各はんだ供給孔をそれぞれ介してはんだ供給対象物の各
はんだ供給位置にそれぞれ球状はんだを供給するはんだ
供給手段として、カーボン等の導電部材でなり、繊維状
に形成された繊維部37C及び38Cを有する第1及び
第2の除電ブラシ37及び38を用いるようにした場合
について述べたが、本発明はこれに限らず、繊維部37
C及び38Cとしてステンレス繊維(SUS304)、
導電科学繊維(サンダーロン(登録商標):アクリル+
Cu、ダイナ(登録商標):PVA+Cu+Ni)、カ
ーボン短繊維混練科学繊維(SA−7:アクリル+カー
ボン)、アモルフアス(Co+Fe+Cr+Si+B)
及びメツキ繊維等のように線径が比較的細くできると共
に比較的軟らかく、また球状はんだ29に対して摩擦が
比較的少なく、高圧回路付近で用いる場合に繊維部が本
体部から抜けないこと及び繊維部が切れないこと等の条
件を満たすもので有ればこの他種々の材料を用いて繊維
部を形成しても良く、また繊維部に適用し得る材料を用
いて全体が形成れさた除電ブラシを用いるようにしても
良い。
【0056】さらに上述の実施例においては、はんだ供
給ヘツド27と基板23とを位置決めする際、はんだ供
給ヘツド27を降下移動させて当該はんだ供給ヘツド2
7のマスク29の底部29Aと基板23の各ランド40
の表面との間隔が所定の間隔となるように位置決めする
(図4(B))ようにした場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、はんだ供給ヘツド27のマスク29
の底部29Aの所定位置に所定の高さを有する突起を設
けるようにしても良く、これにより底部29Aと基板2
3のランド40の表面との間隔を容易に確保し得る。
【0057】さらに上述の実施例においては、はんだ供
給ヘツド27のマスク29の内面29E上を左方向に第
2の除電ブラシ38を摺動させて基板23の各ランド4
0上にそれぞれ球状はんだ30を供給するようにした場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、はんだ供
給ヘツド27のマスク29の内面29E上を右方向に第
1の除電ブラシ37を摺動させて、基板23の各ランド
40上にそれぞれ球状はんだ30を供給するようにして
も良い。
【0058】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、はんだ供
給ヘツドの底部がはんだ供給対象物に当接された状態に
おいて、はんだ供給ヘツドの底部の内面上をはんだ供給
手段を摺動させて、当該はんだ供給ヘツド内に予め供給
されている多数の球状はんだを底部の内面上を移動させ
ることにより、各はんだ供給孔をそれぞれ介してはんだ
供給対象物の各はんだ供給位置にそれぞれ球状はんだを
供給するようにしたことにより、はんだ供給対象物の各
はんだ供給位置にそれぞれ球状はんだを確実に供給する
ことができ、かくして信頼性を向上し得るはんだ供給装
置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による球状はんだ供給装置の全
体構成を示す略線的斜視図である。
【図2】本発明の実施例による球状はんだ供給装置に設
けられたはんだ供給ヘツドの構成を示す断面図である。
【図3】本発明の実施例による除電ブラシの構成を示す
正面図及び側面図である。
【図4】基板上に位置決めされたはんだ供給ヘツドの説
明に供する断面図である。
【図5】はんだ供給ヘツドのはんだ供給孔に球状はんだ
を供給する際の説明供する断面図である。
【図6】はんだ供給ヘツドのはんだ供給孔に球状はんだ
を供給する際の除電ブラシの説明に供する断面図であ
る。
【図7】はんだ供給ヘツドのはんだ供給孔に球状はんだ
が供給されたはんだ供給ヘツドの説明に供する断面図で
ある。
【図8】はんだ供給ヘツドにより球状はんだが供給され
た基板の説明に供する断面図である。
【図9】基板のランド上に形成されるはんだプリコート
の説明に供する断面図である。
【図10】他の実施例による球状はんだの供給方法の説
明に供する断面図である。
【図11】従来の第1の球状はんだ供給装置を用いた第
1の球状はんだ供給方法の説明に供する断面図である。
【図12】従来の第1の球状はんだ供給装置を用いた第
1の球状はんだ供給方法の説明に供する断面図である。
【図13】従来の第2の球状はんだ供給装置を用いた第
2の球状はんだ供給方法における球状はんだの吸着固定
の説明に供する断面図である。
【図14】従来の第2の球状はんだ供給装置を用いた第
2の球状はんだ供給方法における球状はんだの供給工程
の説明に供する断面図である。
【符号の説明】
1……第1の球状はんだ供給装置、2……パレツト、
3、30、54……球状はんだ、5……第2の球状はん
だ供給装置、6、50……吸着治具、7……BGA、
8、40、53……ランド、9……球状はんだ槽、1
0、41、57……フラツクス、20……球状はんだ供
給装置、21……架台、22……基板搬送部、23、5
2……基板、24……第1の可動体、25……第2の可
動体、26……第3の可動体、27、51……はんだ供
給ヘツド、28……筐体、29……マスク、29A……
底部、29B……第1のはんだ保持部、28C……第2
のはんだ保持部、29D……はんだ供給孔、31……第
1の駆動制御部、32……伸縮体、33……固定アー
ム、34……第2の駆動制御部、35……第4の可動
体、36……第5の可動体、37……第1の除電ブラ
シ、38……第2の除電ブラシ、42……加熱装置、4
3……加熱源、55……ガイド、56……除電ブラシ。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】はんだ供給対象物の複数のはんだ供給位置
    にそれぞれ球状はんだを供給するはんだ供給装置におい
    て、 上記はんだ供給対象物の各上記はんだ供給位置にそれぞ
    れ対応させてはんだ供給孔が穿設された底部を有するは
    んだ供給ヘツドと、 上記はんだ供給ヘツドの上記底部が上記はんだ供給対象
    物に当接された状態において、上記はんだ供給ヘツドの
    上記底部の内面上を摺動するようにして、上記はんだ供
    給ヘツド内に予め供給されている多数の上記球状はんだ
    を上記底部の上記内面上を移動させることにより、各上
    記はんだ供給孔をそれぞれ介して上記はんだ供給対象物
    の各上記はんだ供給位置にそれぞれ上記球状はんだを供
    給するはんだ供給手段とを具えることを特徴とするはん
    だ供給装置。
  2. 【請求項2】上記はんだ供給ヘツドは、 上記底部に連接するはんだ保持部が設けられ、上記はん
    だ供給ヘツド内に予め供給されている多数の上記球状は
    んだを上記はんだ供給手段によつて上記はんだ保持部に
    保持させることを特徴とする請求項1に記載のはんだ供
    給装置。
  3. 【請求項3】上記はんだ保持部は、テーパでなることを
    特徴とする請求項2に記載のはんだ供給装置。
  4. 【請求項4】上記はんだ供給手段は、 各上記球状はんだの静電気を除去することを特徴とする
    請求項1に記載のはんだ供給装置。
  5. 【請求項5】上記はんだ供給手段は、 上記球状はんだよりも軟らかい導電部材でなることを特
    徴とする請求項1に記載のはんだ供給装置。
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