JPH0914471A - ダイヤフラム弁 - Google Patents

ダイヤフラム弁

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JPH0914471A
JPH0914471A JP7166476A JP16647695A JPH0914471A JP H0914471 A JPH0914471 A JP H0914471A JP 7166476 A JP7166476 A JP 7166476A JP 16647695 A JP16647695 A JP 16647695A JP H0914471 A JPH0914471 A JP H0914471A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属製のダイヤフラムによりシールを行うよ
うにしたダイヤフラム弁に於いて、ダイヤフラムの耐食
性や強度性の向上を図れるようにする。 【構成】 金属製のダイヤフラムを用いたダイヤフラム
弁に於いて、前記ダイヤフラム2を、重量比でMo1
2.5〜14.5%、Cr20.0〜22.5%、Fe
2.0〜6.0%、W2.5〜3.5%、Co2.5%
以下、C0.015%以下、Si0.08%以下、Mn
0.50%以下、V0.35%以下、P0.02%以
下、S0.02%以下及び残部がNiから成る合金材製
の薄板材により形成し、該薄板材は焼なまし処理を施し
た後、冷間圧延加工が施されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造プラ
ントや原子力発電プラント、医薬・食品製造設備等の流
体管路に介設されるダイヤフラム弁の改良に係り、特に
金属製ダイヤフラムの耐食性や機械的強度の大幅な向上
を可能にしたダイヤフラム弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製造プラント等の高純度
ガスを取り扱う管路に於いては、ガスの置換性の向上や
ガス純度の低下を防止できるようにしたダイレクトタッ
チ式のメタルダイヤフラム弁が多く使用されている。
【0003】従来、この種のダイヤフラム弁としては、
例えば特公平4−54104号公報に開示された構造の
ダイヤフラム弁が知られている。即ち、前記ダイヤフラ
ム弁は、図2に示す如く、流入通路20a、流出通路2
0b、弁室20c及び弁座20dを形成したボディ20
と、弁室20c内に弁座20dと対向するように配設さ
れ、弁室20cの気密を保持すると共に上下方向へ弾性
変形して弁座20dに当離座する金属製のダイヤフラム
21と、ダイヤフラム21の外周縁部に載置され、ダイ
ヤフラム21の外周縁部をボディ20との間で挾圧保持
するボンネット22と、ボディ20に螺着され、ボンネ
ット22をボディ20側へ押圧固定する押えナット23
と、ボンネット22に昇降自在に挿通支持され、ダイヤ
フラム21を弾性変形させるステム24と、ステム24
を回転操作するハンドル25等から構成されている。
【0004】而して、前記ダイヤフラム弁に於いて、ス
テム24を下降させると、ダイヤフラム21の中央部が
下方へ押されて弁座20dへ当座し、流入通路20aと
流出通路20bとの間が閉鎖され、又、ステム24を上
昇させると、ダイヤフラム21がその弾性力や流体圧に
よって元の形状に復元し、流入通路20aと流出通路2
0bとの間が開放されるようになっている。このダイヤ
フラム弁は、弁室20cの空間容積を小さくできるの
で、ガスの置換性の向上を図れると共に、弁室20c内
に於ける摺動部も少なくなってパーティクルの発生を防
止できる等、優れた利点を有するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体製造
プロセスに於いては、塩素系や弗素系の反応性ガスが多
く使用されている。この反応性ガスが完全にドライであ
れば、腐食の問題は発生しないが、大気開放時に微量の
水分が配管内に入る場合がある。この水分は、ダイヤフ
ラム弁の隙間部や凹部に溜まり易く、上記の反応性ガス
と反応して塩酸や弗酸等の濃縮酸を生成することにな
る。この濃縮酸は、ダイヤフラム弁内の腐食の発生原因
となる。
【0006】従って、従来のダイヤフラム弁に於いて
は、反応性ガスと接触する部材には耐食性に優れたステ
ンレス鋼等が使用されている。中でも、反応性ガスと直
接接触する金属製ダイヤフラム21の材質には、極めて
耐食性に優れたステンレス鋼(例えばSUS316L)
やインコネル(例えばインコネル625若しくは71
8)が多く使用されている。
【0007】然し乍ら、前記ダイヤフラム21は、現実
には厚さが0.1mm〜0.2mm程度の極薄板材から
形成されている為、上述のように濃縮酸が生成された場
合にはダイヤフラム21が比較的短時間で腐食されて簡
単に孔が開いたりすると云う問題があった。
【0008】又、前記ダイヤフラム21は、その外周縁
部がボディ20とボンネット22との間で挾圧固定され
ている為、ステム24によって弁座20d側へ押圧され
た場合、該ダイヤフラム21には極めて複雑な応力が作
用される。その結果、現実にはダイヤフラム弁を数千回
繰り返し作動させると、ダイヤフラム21に亀裂が生じ
たりしてダイヤフラム21の耐用年数が比較的短いと云
う問題がある。特に、取り扱い流体が腐食性の場合に
は、ダイヤフラム21の亀裂等がより早期に発生するこ
となり、極めて問題である。
【0009】本発明は、上記の問題点を解消する為に創
作されたものであり、その目的は金属製のダイヤフラム
の耐食性や強度性の向上を図れるようにしたダイヤフラ
ム弁を提供するにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明のダイヤフラム弁は、流入通路及び流出通路
に連通する凹状の弁室の底面に弁座を設けたボディと、
弁室内に弁座と対向するように配設され、弁室の気密を
保持すると共に上下方向へ弾性変形して弁座に直接的若
しくは間接的に当離座する金属製のダイヤフラムと、ボ
ディ側に固定され、ダイヤフラムの外周縁部をボディと
の間で挾圧保持するボンネットと、ボンネットに昇降自
在に挿通支持され、ダイヤフラムを弾性変形させるステ
ムとを具備したダイヤフラム弁に於いて、前記ダイヤフ
ラムを、重量比でMo12.5〜14.5%、Cr2
0.0〜22.5%、Fe2.0〜6.0%、W2.5
〜3.5%、Co2.5%以下、C0.015%以下、
Si0.08%以下、Mn0.50%以下、V0.35
%以下、P0.02%以下、S0.02%以下及び残部
がNiから成り、且つ焼なまし処理を施した後、冷間圧
延加工を施した合金材製の薄板材により形成したことに
特徴がある。
【0011】
【作用】ステムを下降させると、ダイヤフラムの中央部
が下方へ押し下げられて直接弁座に当座するか若しくは
ダイヤフラムの下方位置に配置したディスクやダイヤフ
ラムの中央部に気密状態で挿通固着したディスクが弁座
に当座する。その結果、ダイヤフラム弁は、閉弁状態に
なる。又、ステムを上昇させると、ダイヤフラムがその
弾性力等により元の形状に復元して弁座から離座するか
若しくはディスクがスプリングの弾性力等により上昇し
て弁座から離座する。その結果、ダイヤフラム弁は、開
弁状態になる。
【0012】このダイヤフラム弁は、ダイヤフラムを、
特別な成分配合を有する高耐食性の合金材製の薄板材に
より形成している為、従来のダイヤフラム弁に比較して
ダイヤフラムの耐食性が大幅に向上することになる。
又、ダイヤフラムを形成する薄板材は、焼なまし処理を
施した後、冷間圧延加工が施されている為、加工硬化に
より強度が向上している。即ち、薄板材は、冷間圧延加
工によって、硬さが増加し、引っ張り強さ、降伏点、弾
性限度、比例限度等が高くなっている。その結果、この
薄板材から形成したダイヤフラムは、耐久性が大幅に向
上し、数万回の作動後に於いても、亀裂等の損傷が発生
しない。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は本発明の実施例に係るダイヤフラム
弁の縦断面図であり、当該ダイヤフラム弁は、ボディ
1、金属製のダイヤフラム2、ボンネット3、ボンネッ
トナット4、ステム5及び流体圧アクチュエータ6等か
ら構成されて居り、ノーマル・オープン型のダイレクト
タッチ式ダイヤフラム弁となっている。
【0014】即ち、前記ダイヤフラム弁は、流入通路1
a及び流出通路1bに連通する凹状の弁室1cの底面に
弁座1dを設けたステンレス鋼製(例えばSUS316
L等)のボディ1と、弁室1c内に弁座1dと対向する
ように配置され、弁室1cの気密を保持すると共に上下
方向へ弾性変形して弁座1dに当離座する金属製のダイ
ヤフラム2と、ダイヤフラム2の外周縁部に載置され、
ガスケット7を介してダイヤフラム2の外周縁部をボデ
ィ1との間で挾圧保持するステンレス鋼製のボンネット
3と、ボディ1に螺着され、ボンネット3をボディ1側
へ押圧固定するステンレス鋼製のボンネットナット4
と、ボンネット3に昇降自在に挿通支持され、ダイヤフ
ラム2を下方へ弾性変形させるステンレス鋼製のステム
5と、ステム5の下端部に嵌着された合成樹脂製(例え
ば四弗化エチレン樹脂等)若しくは合成ゴム製のダイヤ
フラム押え8と、ステム5を上方へ附勢するコイルスプ
リング9と、ボンネット3に設けられ、作動エアーによ
りステム5を下方へ駆動するシリンダ構造の空気圧アク
チュエータ6等から構成されている。
【0015】尚、前記弁座1dは、ステンレス鋼や合成
樹脂材(例えば四弗化エチレン樹脂等)により形成され
て居り、ボディ1内に螺着固定されている。又、図1で
は弁座1dをボディ1と別体としているが、これをボデ
ィ1と一体的に形成しても良い。
【0016】前記空気圧アクチュエータ6は、ボンネッ
ト3から突出するステム5の上部を囲繞するように該ボ
ンネット3に固定され、作動エアーの供給口10aを有
するシリンダ10と、ステム5の上端部に取り付けら
れ、シリンダ10内を昇降動するピストン11と、ピス
トン11の外周面に嵌合され、シリンダ10内周面を上
下方向へ摺動するOリング12等から成る。尚、図1で
は空気圧アクチュエータ6を駆動源として利用している
が、弁の駆動源はソレノイドやモータ等の電動式アクチ
ュエータであっても良く、或いは油圧やガス圧等を利用
する流体圧作動式のアクチュエータであっても良い。
【0017】而して、前記ダイヤフラム弁に於いて、作
動エアーの供給口10aからシリンダ10内へ作動エア
ーが供給されると、コイルスプリング9の弾性力に抗し
てピストン11及びステム5が下降し、ステム5により
ダイヤフラム2の中央部が下方へ押圧されて弁座1dに
当座して流入通路1aと流出通路1bとの間が閉鎖状態
(閉弁状態)になる。又、作動エアーの供給を止め、シ
リンダ10内の圧力が開放されると、コイルスプリング
9の弾性力によりピストン11及びステム5が上昇し、
これに伴ってダイヤフラム2がその弾性力及びボディ1
内の流体圧により元の形状に復元して弁座1dから離座
し、流入通路1aと流出通路1bとの間が連通状態(開
放状態)になる。
【0018】前記ダイヤフラム弁に用いる金属製のダイ
ヤフラム2は、重量比でMo12.5〜14.5%、C
r20.0〜22.5%、Fe2.0〜6.0%、W
2.5〜3.5%、Co2.5%以下、C0.015%
以下、Si0.08%以下、Mn0.50%以下、V
0.35%以下、P0.02%以下、S0.02%以下
及び残部がNiから成る合金材製の薄板材により形成さ
れて居り、厚さが0.1mm〜0.2mmで中央部が上
方へ膨出した円形の逆皿状(部分球殻)に形成されてい
る。
【0019】即ち、ダイヤフラム2は、上記化学成分の
合金材により形成した適宜の厚さの薄板材(フープ材)
を所定の条件で焼なまし処理した後、該薄板材に所定の
条件で冷間圧延加工を施し、冷間圧延加工後の薄板材か
ら中央部が上方へ膨出した円形の逆皿状の部材を形成す
ることにより得られる。
【0020】前記焼なましの条件は、薄板材を150℃
〜200℃に所定時間(例えば5〜10分位)加熱した
後、徐冷するようにしている。尚、薄板材に焼なまし処
理を施す理由は、冷間圧延加工で薄板製造を行うと加工
が進につれて結晶粒が作業方向に伸ばされて段々硬くな
って作業が困難となるから、焼なましをして一旦軟らか
くする必要があるからである。
【0021】又、前記冷間圧延加工の条件は、厚みが
0.1mm〜0.2mm(厚さ公差±0.01〜0.0
15)で且つ表面の硬さがMHV370〜430の薄板
材が得られるように、10〜40%の加工度で冷間圧延
加工を行うようにしている。薄板材に上記冷間圧延加工
を施すことによって、薄板材の硬さが増加し、引っ張り
強さ、降伏点、弾性限度、比例限度等が高くなる。即
ち、薄板材から得られたダイヤフラム2の硬さや強さが
増加することになる。又、ダイヤフラム2の表面仕上げ
は、冷間圧延上がりとなっている。
【0022】前記薄板材から形成されたダイヤフラム2
の機械的性質及び物理的性質は、引っ張り強さ約550
N/mm2 、0.2%耐力約180N/mm2 、伸び約
40%、硬さMHV約400、縦弾性係数約20×10
3 kg/mm2 、横弾性係数5×103 kg/mm2
ある。
【0023】次に、ダイヤフラム用合金材の各成分の添
加効果と組成範囲の限定理由を述べる。即ち、前記ダイ
ヤフラム用合金材に於いて、Moは還元性環境での耐食
性を改善し、且つ塩化物中の耐孔食性、耐すきま腐食性
を向上させるものであり、12.5%程度の添加で耐食
効果が表れ、14.5%を越えると熱間加工性や被削性
が低下する。従って、Moの添加量は、重量比で12.
5〜14.5%とした。Crは耐食性及び強度を向上さ
せる為に添加されて居り、Niベース中で20%を越え
ると耐食効果が見られ、23%を越えると展延性が悪化
し、加工性が低下する。従って、Crの添加量は、重量
比で20.0〜22.5%とした。Feは耐食性を損な
う元素であるが、被削性の改良に必要であり、2%程度
の添加で被削性を向上させることができ、6%程度以下
であれば耐食性には特に問題を生じない。従って、Fe
の添加量は、重量比で2.0〜6.0%とした。WはM
oと同様に還元性環境での耐食性の向上に有効であり、
適切な量のWを添加すると、耐食性を大幅に向上させる
ことができ、又、高温に於ける強度の向上に有効であ
る。しかし、Wの添加量が多過ぎると、ダイヤフラム2
を構成する材料が脆化するので他の成分とのバランスで
決める必要がある。本発明では、Wの添加量は、重量比
で2.5〜3.5%とした。Coは主として機械的強
度、耐疲労性、硬度及び弾性を高める為に添加されるも
のであるが、その含有率が2.5%以上になると冷間加
工性が著しく低下する。従って、Coの添加量は、重量
比で2.5%以下とした。CはCrと結合してCr炭化
物を形成し、耐食性を低下させる為、極力少ない方が好
都合である。然し、0.015%以下であれば耐食性の
点に特に問題を生じない。従って、Cの添加量は、重量
比で0.015%以下とした。SiはCと同様に、溶接
などの熱影響による炭化物の析出を押さえる為に0.0
8%以下に規制されている。又、Mn、V、P及びS等
は耐食性、機械的強度、加工性等の点から0.50%以
下、0.35%以下、0.02%以下及び0.02%以
下に夫々規制されている。NiはベースメタルとしてM
o、Crを十分に固溶し、耐食性向上と合金強化に関与
する元素であり、本発明に於いては、50%以上添加す
る。
【0024】本発明のダイヤフラム弁に使用するダイヤ
フラム2と従来のダイヤフラム弁に使用するダイヤフラ
ム(ステンレス製若しくはインコネル)との耐食性試験
を行うと、本発明のダイヤフラム弁のダイヤフラム2の
方が従来のダイヤフラムに比較して遙かに耐食性に優れ
ていることが判明した。又、従来のダイヤフラム弁を数
千回繰り返して作動させると、ダイヤフラムに亀裂等が
生じたが、本願発明のダイヤフラム弁は、10,000
回繰り返して作動させても、亀裂等の損傷を生じないこ
とが確認された。その結果、本願発明のダイヤフラム弁
は、耐久性や強度性に於いても、従来のダイヤフラム弁
に比較して極めて優れていることが判明した。
【0025】上記実施例に於いては、ダイヤフラム2を
一枚の極薄金属板で構成したが、ダイヤフラム2を複数
枚の極薄金属板を重ね合わせることにより構成しても良
い。
【0026】上記実施例に於いては、ダイヤフラム2を
弁座1dへ直接当離座させるようにしたが、ダイヤフラ
ム2の下方にディスク(図示省略)を配置し、該ディス
クを弁座1dに当離座させるようにしても良い。この場
合、ディスクをスプリング(図示省略)により上方へ附
勢する必要がある。又、ダイヤフラム2の中央部にディ
スク(図示省略)を挿通してダイヤフラム2の内周縁部
とディスクとを気密状に固着し、前記ディスクを弁座1
dに当離座させるようにしても良い。
【0027】上記実施例に於いては、ステム5をシリン
ダ構造の空気圧アクチュエータ6を用いて自動により昇
降動させるようにしたが、ステム5を手動操作により昇
降動させるようにしても良い。
【0028】
【発明の効果】上述の通り、本発明のダイヤフラム弁
は、ダイヤフラムを、特別な成分配合を有する高耐食性
の合金材製の薄板材により形成している為、従来のダイ
ヤフラム弁に比較してダイヤフラムの耐食性が大幅に向
上することになる。又、ダイヤフラムを形成する薄板材
は、焼なまし処理を施した後、冷間圧延加工が施されて
いる為、加工硬化により強度が向上している。即ち、薄
板材は、冷間圧延加工によって、硬さが増加し、引っ張
り強さ、降伏点、弾性限度、比例限度等が高くなってい
る。その結果、ダイヤフラムの耐久性が大幅に向上し、
数万回の作動後に於いても、亀裂等の損傷が発生しない
ことが確認されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るダイヤフラム弁の縦断面
図である。
【図2】従来のダイヤフラム弁の縦断面図である。
【符号の説明】
1はボディ、1aは流入通路、1bは流出通路、1cは
弁室、1dは弁座、2はダイヤフラム、3はボンネッ
ト、5はステム。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流入通路(1a)及び流出通路(1b)
    に連通する凹状の弁室(1c)の底面に弁座(1d)を
    設けたボディ(1)と、弁室(1c)内に弁座(1d)
    と対向するように配設され、弁室(1c)の気密を保持
    すると共に上下方向へ弾性変形して弁座(1d)に直接
    的若しくは間接的に当離座する金属製のダイヤフラム
    (2)と、ボディ(1)側に固定され、ダイヤフラム
    (2)の外周縁部をボディ(1)との間で挾圧保持する
    ボンネット(3)と、ボンネット(3)に昇降自在に挿
    通支持され、ダイヤフラム(2)を弾性変形させるステ
    ム(5)とを具備したダイヤフラム弁に於いて、前記ダ
    イヤフラム(2)を、重量比でMo12.5〜14.5
    %、Cr20.0〜22.5%、Fe2.0〜6.0
    %、W2.5〜3.5%、Co2.5%以下、C0.0
    15%以下、Si0.08%以下、Mn0.50%以
    下、V0.35%以下、P0.02%以下、S0.02
    %以下及び残部がNiから成り、且つ焼なまし処理を施
    した後、冷間圧延加工を施した合金材製の薄板材により
    形成したことを特徴とするダイヤフラム弁。
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