JPH09131839A - 二軸配向積層ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の積層ポリエステルフィルムでは、金属
薄膜型の高密度磁気記録テープに用いた場合に、優れた
出力特性と磁性面の走行耐久性、さらには表面オリゴマ
析出の少なさを両立できなかった点を解決する。 【解決手段】 表層と内層からなる少なくとも３層以上
の積層ポリエステルフィルムであって、その少なくとも
一方の表面上に高さ１０〜５０ｎｍの突起が２００万個
／ｍｍ² 以上存在しかつ該表面の水に対する接触角が４
０度以上５５度未満であり、さらに該表面の全反射ラマ
ン結晶化指数が２０ｃｍ^-1以下であることを特徴とする
二軸配向積層ポリエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、二軸配向積層ポリ
エステルフィルムに関するものであり、磁気記録媒体用
ベースフィルム、特に金属薄膜型磁気記録媒体用のベー
スフィルムとして好適な積層ポリエステルフィルムに関
する。

【０００２】

【従来の技術】高密度磁気記録媒体として代表的なもの
として、金属薄膜型磁気記録媒体がある。金属薄膜型磁
気記録媒体としては、ポリエステルフィルムにＣｏ−Ｎ
ｉやＣｏ−Ｃｒなどからなる金属薄膜型磁性層を設けて
なる磁気記録媒体が知られている（例えば、特開昭５８
−６８２２５号公報）。磁気記録のハード、ソフトの高
性能化に伴い、磁気テープの磁性体もより高い出力が求
められるようになってきており、今後登場が予想され
る、家庭用の小型デジタルＶＴＲ用テープ、さらにＨＤ
ＴＶ方式対応のＶＴＲテープの主力として、高性能メタ
ル蒸着型テープの開発が進められている。このような、
磁気記録システムの変化に合わせて、磁気記録媒体のベ
ースフィルムにも様々な改良が加えられており、様々な
積層タイプのフィルムが知られている。従来の２層積層
の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて、片面につい
て平滑性（磁気テープにした時のＣ／Ｎ（キャリヤ／ノ
イズ比）の高さに関与）と滑り性（磁気テープの走行性
に関与）、耐久性（耐摩耗性など）の３者を満足させた
ものがある（例えば特開平２−７７４３１号公報）。さ
らに、磁性面側の平滑性を著しく高めて磁気テープの出
力を向上させるために、３層構成とし、表裏の粗さに差
を与えたものも知られている（例えば特開平５−２１２
７８８号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の積層ポリエステルフィルムでは、磁性面側（蒸着面
側）の平滑性と走行性を十分満足することができず、特
に昨今のデジタル記録方式の高密度記録テープ用におい
ては磁気ヘッドとテープ表面の相対速度が大きくなるた
めに高度な走行耐久性が要求されるため、表面が平滑す
ぎるとヘッドとの摩擦が大きくなり、傷が付きやすくな
るという問題が生じる。また、製膜工程あるいは蒸着工
程の高速化に伴い、超平滑フィルムでは工程内での傷や
削れに対して問題が生じつつある。さらに、金属薄膜型
磁気テープにおいては、フィルム保存時もしくはテープ
製造工程時に表面に析出するオリゴマがドロップアウト
などのテープ性能低下の原因となりやすく、表面析出オ
リゴマを抑制しうるフィルム品質設計が求められてい
る。

【０００４】本発明は、かかる問題点を解決し、高性能
が特に要求されるデジタル記録方式の金属薄膜型テープ
に用いた場合にも、出力と走行耐久性に優れ、さらにド
ロップアウトやヘッド偏摩耗などの原因となる表面析出
オリゴマが極めて少なくなるような二軸配向積層ポリエ
ステルフィルムを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向積層ポリエステルフィルムは、表層と内層から
なる少なくとも３層以上の積層ポリエステルフィルムで
あって、その少なくとも一方の表面上に高さ１０〜５０
ｎｍの突起が２００万個／ｍｍ² 以上存在し、かつ該表
面の水に対する接触角が４０度以上５５度未満であり、
さらに該表面の全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ^-1以
下であることを特徴とするものからなる。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明のフィルムを構成するポリ
マは、ポリエステルであれば特に限定されないが、特に
エチレンテレフタレート、エチレン−２，６−ナフタレ
ート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要
構成成分とするのが望ましい。

【０００７】また、本発明を構成するポリエステルは結
晶性である場合に、機械的特性、表面の走行耐久性が一
層良好となるので望ましい。なお、本発明のフィルム
は、上記組成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻
害しない範囲内であれば、他種ポリマをブレンドしても
よいし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、
結晶核生成剤等の無機または有機添加剤が添加されてい
てもよい。

【０００８】本発明のフィルムは、表層と１層または２
層以上の内層からなる少なくとも３層以上の積層構成を
とることが必要である。３層構成の場合、表裏で同一の
原料（ポリマ、粒子など）、積層厚みとなるＡ／Ｂ／Ａ
構成とすることも可能であるが、本願の目的を達成する
ためには、表裏で原料処方を変更した構成、すなわちＡ
層、Ｂ層、Ｃ層の３層がこの順に積層された（これをＡ
／Ｂ／Ｃと表す）フィルムとすることが好ましい。３層
以上であれば４層でも５層でもかまわない。本積層フィ
ルムの少なくとも一方の表面（Ａ層側とする）には、金
属薄膜型テープとした場合の走行耐久性を良好にする目
的で、高さ１０〜５０ｎｍの突起を高密度に形成させる
必要がある。表面突起数が２００万個／ｍｍ² よりも少
ないと、磁性面の走行摩擦が大きくなり、テープが磁気
ヘッドに貼り付くなどのトラブルの原因となる。表面突
起数は、好ましくは３００万個／ｍｍ² 以上、さらに好
ましくは４００万個／ｍｍ² 以上の場合に磁性面の繰り
返し走行耐久性が良好となる。突起数が多いほど走行耐
久性は良好となるが、出力との両立を達成しうる上限は
２０００万個／ｍｍ² 程度である。

【０００９】上記の微細突起を形成させるために、Ａ層
には不活性粒子をＡ層の総重量に対して０．０５〜１．
５重量％含有させることが望ましい。含有量が上記範囲
より少ないと、突起数が少なすぎて走行摩擦が大きくな
り、また上記範囲より多いと出力、Ｃ／Ｎが低くなるの
で望ましくない。好ましくは０．２〜１．２重量％、さ
らに好ましくは０．４〜１．０重量％の場合に金属薄膜
型テープとした時の特性が特に良好となる。含有される
粒子の平均粒径は０．０１〜０．１０μm の範囲である
ことが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．０６μ
m 、さらに好ましくは０．０２〜０．０４５μm である
ことが望ましい。平均粒径が上記範囲より小さいと滑り
性と走行耐久性が悪化し、この範囲より大きいと、磁性
面に形成される突起の高さが大きくなりすぎるため、ス
ペーシング損失が大きくなり出力が低下するので好まし
くない。本発明の熱可塑性樹脂Ａ中の粒子は、粒径比
（粒子の長径／短径）が１．０〜１．３の粒子、特に球
形状の粒子の場合に滑り性、走行耐久性がより一層良好
となるので望ましい。

【００１０】使用される不活性粒子の種類は特に限定さ
れないが、出力特性、走行耐久性の点からコロイダルシ
リカもしくは有機粒子、中でも架橋型有機粒子、特にジ
ビニルベンゼン粒子が好ましい。その他の粒子として、
アルミナ、ジルコニア、シリカ、酸化チタンなどの凝集
粒子、または単分散した炭酸カルシウム、酸化チタンな
ども適切なポリマ中での粒子分散により用いることが可
能である。これらの粒子を複数併用してもよい。

【００１１】上記の粒子を所定量含有し、Ａ層の厚みを
０．０１〜０．３μm とすることにより、高さの均一な
突起が高密度に形成できるので好ましい。

【００１２】さらに、上記Ａ層表面の全反射ラマン結晶
化指数が２０ｃｍ^-1以下であることが優れた耐削れ性を
得るために必要である。好ましくは１９ｃｍ^-1以下であ
る場合に、高速走行時の削れが少なくなり、走行耐久性
が良好となるので望ましい。

【００１３】さらに、本願発明者らは、ベースフィルム
保存時あるいは、蒸着テープ製造工程内での析出オリゴ
マ抑制手段を種々検討した結果、フィルム表面の水に対
する接触角を４０度以上５５度未満とし、さらに表面の
結晶性を前述のラマン結晶化指数で規定された範囲とす
ることにより、析出オリゴマ抑制に著しく効果があるこ
とを見出した。接触角が５５度以上であると、析出オリ
ゴマ抑制効果が不十分となり、一方４０度未満となる
と、金属薄膜との接着性が不良となり、高速走行時の耐
久性が不良となるので好ましくない。

【００１４】接触角を上記範囲とするために、本発明の
積層フィルムの内層（内層が２層以上ある場合は、その
少なくとも一つの層）に一般式Ｃ_n Ｈ_2n+1−Ｃ₆ Ｈ₄ −
ＳＯ₃ Ｍ（ｎ＝６〜３０、Ｍ＝アルカリ金属もしくはア
ルカリ土類金属）で表されるスルホン酸金属塩を含有す
ることが好ましい。ｎは好ましくは９〜１８である。Ｍ
はＮａもしくはＬｉが好ましいが、ポリエステルに対す
る分散性の点からＬｉが特に好ましい。積層フィルムの
外層部に該スルホン酸金属塩を含有せしめると、表面に
存在するスルホン酸金属塩量が多くなりすぎるために、
接触角を前述の範囲内とすることが難しくなるので、内
層部にのみ含有せしめることが好ましい。

【００１５】該スルホン酸金属塩の含有量としては、フ
ィルム全体に対して０．０１〜０．７５重量％であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．４５重
量％である。含有量が上記範囲よりも多いと、磁性層と
の接着性が劣り、また凹み状欠点などの表面欠陥が増加
するので好ましくない。一方、含有量が少ないとオリゴ
マ析出抑制効果が不十分となるので好ましくない。

【００１６】また、磁性金属を蒸着する面であるＡ層表
面の粗大突起を低減し、ドロップアウトやヘッド偏摩耗
を抑制するために、内層部には実質的に不活性粒子を含
有していないことが望ましい。

【００１７】また、本発明の積層フィルムの少なくとも
一方の表層を構成するポリエステルは、その溶融比抵抗
が９．０×１０⁸ Ω・ｃｍ未満、好ましくは７．０×１
０⁸Ω・ｃｍ未満、さらに好ましくは３．０×１０⁸ Ω
・ｃｍ未満である場合に、キャスト性が向上し、ドラム
との密着性が良好となり、表面平滑性に優れたフィルム
を得ることができるので望ましい。

【００１８】ポリエステルの溶融比抵抗を本範囲とする
ためには、ポリエステル１０⁶ ｇあたりに含有されるア
ルカリ土類金属化合物、亜鉛化合物およびマンガン化合
物のモル数Ｍ、また、アルカリ金属化合物のモル数Ａ、
ならびにリン化合物のモル数Ｐとした場合に次式を満足
することが望ましい。

【００１９】Ｍ＋（Ａ／２）−Ｐ ≧ ０．５ ポリエステルの溶融比抵抗を制御する金属化合物として
は、ポリエステルの製造段階で添加される、アルカリ土
類金属、亜鉛、マンガン、アルカリ金属化合物の脂肪族
カルボン酸塩、ハロゲン化物およびメチラート、エチラ
ート、エチレングリコラートなどのアルコラートなどの
グリコール可溶性の金属化合物を挙げることができる。
特に、マグネシウム化合物、マンガン化合物、およびア
ルカリ金属化合物が粒子の析出や熱安定性の低下を抑制
するために好ましい。

【００２０】また、リン化合物としては、リン酸、亜リ
ン酸、およびそれらのエステルから選ばれた少なくとも
１種類を用いることができる。具体的には、リン酸、モ
ノメチルホスフェート、ジメチルホスフェート、トリメ
チルホスフェート、トリブチルホスフェート、亜リン
酸、亜リン酸トリメチルなどが例示される。

【００２１】本発明フィルムは上記組成物を二軸配向せ
しめたフィルムである。一軸あるいは無配向フィルムで
は機械強度が不足するので好ましくない。

【００２２】本発明においては、共押出法によって積層
フィルムとすることが好ましい。インラインあるいはオ
フラインでのコーティング法を用いることも可能である
が、フィルム表面の全反射ラマン結晶化指数を本発明の
範囲内とするためには共押出法が望ましい。さらに、フ
ィルム表面の耐摩耗性を高め、さらに保存特性（特に高
湿度下での安定性）を高めるためにも共押出法が望まし
い。

【００２３】また、本発明のフィルムは、フィルムの厚
さ方向の一部分、例えば、表層付近のポリマ分子の配向
が、無配向、あるいは一軸配向になっていない、すなわ
ち、厚さ方向の全部分の分子配向が二軸配向である場合
に出力特性がより良好となる。特にアッベ屈折計、レー
ザーを用いた屈折率計、全反射レーザーラマン法などに
よって測定される分子配向が、表面、裏面ともに二軸配
向である場合に出力特性がより一層良好となるので望ま
しい。

【００２４】本発明のフィルムは特に金属薄膜型磁気記
録媒体用途に好ましく供される。さらに、特に高出力お
よび低いエラーレートが要求される、民生用および業務
用、放送局用デジタル記録方式ＶＴＲ用磁気記録媒体の
ベースフィルムとして好ましく用いられる。

【００２５】次に本発明フィルムの好ましい製造方法に
ついて説明するが、これに限定されるものではない。

【００２６】まず、ポリエステルに粒子を含有せしめる
方法としては、ジオール成分であるエチレングリコール
のスラリーの形で分散せしめ、このエチレングリコール
を所定のジカルボン酸成分と重合せしめるのが好まし
い。また、粒子のエチレングリコールのスラリーを１４
０〜２００℃、特に１８０〜２００℃の温度で３０分〜
５時間、特に１〜３時間熱処理する方法は本発明の効果
をより一層高めるために有効である。

【００２７】また、ポリエステルに粒子を含有せしめる
他の方法として、粒子をエチレングリコール中で熱処理
した後、溶媒を水に置換したスラリーの形でポリエステ
ルと混合し、ベント方式の二軸押出機を用いて混練して
ポリエステルに練り込む方法も本発明の目的を達成する
ためにはきわめて有効である。

【００２８】粒子の含有量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に
粒子を実質的に含有しないポリマで希釈して粒子の含有
量を調節する方法が有効である。

【００２９】また、スルホン酸金属塩の含有量を調節す
る方法としても、予め高濃度チップを作っておき、それ
を製膜時に実質的にスルホン酸金属塩を含有しないポリ
エステルで希釈して含有量を調節する方法が有効であ
る。

【００３０】かくして、粒子を所定量含有するポリエス
テルＡ（Ａ層用）、粒子を実質的に含有せず、さらにス
ルホン酸金属塩を含有したポリエステルＢ（Ｂ層用）、
粒子を所定量含有し、かつ金属化合物を比較的多く含有
したポリエステルＣ（Ｃ層用）を必要に応じて乾燥す
る。

【００３１】Ａ／Ｂ／Ｃの３層構成の積層フィルムとす
る場合は、上記のポリエステルＡ、Ｂ、Ｃを３台の押出
機に供給し、３層のマニホールドまたは、合流ブロック
を用いて積層する。各層の厚みは、押出機もしくはポリ
マ流路内に設けられたギヤポンプの回転数を調節してポ
リマ押出量を制御することにより行う。かくして積層さ
れたシートを口金より押出し、キャスティングロールで
冷却して未延伸フィルムを作る。この場合、ポリエステ
ルＡのポリマ流路に、スタティックミキサー、ギヤポン
プを設置する方法は本発明の効果をより一層良好とする
ために有効である。また、Ｃ層側表面が、キャスティン
グロールと接触するようにキャストすることが、出力特
性、ドロップアウトの点から好ましい。

【００３２】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二
軸配向させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法また
は同時二軸延伸法を用いることができるが、最初に長手
方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法が好まし
く、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍
率を３．０〜６．５倍で行う方法が好ましい。ただし、
熱可塑性樹脂が溶融光学異方性樹脂である場合は、長手
方向延伸倍率は１．０〜１．１倍が適切である。長手方
向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり一概に
は言えないが、通常その１段目を５０〜１６０℃とし、
２段目以降はそれより高くすることが本発明フィルムの
目的を達成するために有効である。長手方向延伸速度は
５，０００〜５０，０００％／ｍｉｎの範囲が好適であ
る。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が
一般的であり、延伸倍率は３．０〜７．０倍の範囲が適
当である。延伸速度は１，０００〜２０，０００％／ｍ
ｉｎ、温度は８０〜１６０℃の範囲が好適である。次に
この延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度
は１５０〜２４０℃、特に１７０〜２１０℃、時間は
０．５〜６０秒の範囲が好適である。

【００３３】

【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値の測定方法ならびに効果の評価方法は次の通りであ
る。

【００３４】（１）粒子の平均粒径 フィルムを厚さ方向に１０００〜８０００オングストロ
ーム程度の超薄切片とし、透過型電子顕微鏡（日本電子
製ＪＥＭ−１２００ＥＸ）を用いて３万〜２０万倍程度
の倍率で場所を変えて粒子を観察し、次式により求め
た。数平均径Ｄを平均粒径とした。

【００３５】Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相当径、Ｎは個数である。

【００３６】（２）粒子の含有量 熱可塑性樹脂を溶解し、粒子を溶解しない溶媒を選択
し、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては、赤外分光法の併用も可能である。

【００３７】（３）積層厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内、最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表
面という界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざか
るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合
はいったん極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも
深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り
とした。

【００３８】 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ATOMIKA 社製 A-DIDA3000 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧：１２ｋＶ １次イオン電流 ：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μm □ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：５．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ｋＶ−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
される粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定
が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ
線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様
のデプスプロファイルを測定し、積層厚さを求めても良
いし、また電子顕微鏡などによる断面観察で粒子濃度の
変化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界
面を認識し、積層厚さを求めることもできる。さらに
は、積層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層
厚さを求めることもできる。

【００３９】（４）表面突起個数 ４検出方式のフィールドエミッション電子線三次元粗さ
解析装置（エリオニクス社製ＥＲＡ-8000 ＦＥ）を用い
て、フィルム表面の平坦面の高さを０としたときの突起
高さを測定した。ここで、走査型電子顕微鏡の倍率は50
00〜30000 倍の間を選択し、測定を100 視野について行
い、高さ１０〜５０nmの高さを有する突起について個数
を求め、１ｍｍ² あたりの個数に換算した。なお、場合
によっては、原子間力顕微鏡（Digital Instruments 社
製 Nanoscope III ）を用いて、５μm 四方の視野を走
査速度0.69Hzで走査することによって得られる情報を、
上記粗さ解析装置の値に読み替えてもよい。

【００４０】（５）表面の分子配向（屈折率）、表面の
全反射ラマン結晶化指数 ナトリウムＤ線（589nm ）を光源として、アッベ屈折率
計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレンを
用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。ポリマの二軸
配向性は長手方向、幅方向、厚さ方向の屈折率をＮ１、
Ｎ２、Ｎ３とした時、（Ｎ１−Ｎ２）の絶対値が0.07以
下、かつ、Ｎ３／［（Ｎ１＋Ｎ２）／２］が0.95以下で
あることをひとつの基準とできる。また、レーザー型屈
折率計を用いて屈折率を測定しても良い。さらに、この
方法では測定が難しい場合は全反射レーザーラマン法を
用いることもできる。レーザー全反射ラマンの測定は、
Jobin-Yvon社製Ramanor U-1000ラマンシステムにより、
全反射ラマンスペクトルを測定し、例えばＰＥＴの場合
では、1615cm^-1（ベンゼン環の骨格振動）と1730cm
^-1（カルボニル基の伸縮振動）のバンド強度比の偏光測
定比（ＹＹ／ＸＸ比など。ここでＹＹ：レーザーの偏光
方向をＹにしてＹに対して平行なラマン光検出、ＸＸ：
レーザーの偏光方向をＸにしてＸに対して平行なラマン
光検出）が分子配向と対応することを利用できる。ポリ
マの二軸配向性はラマン測定から得られたパラメータを
長手方向、幅方向の屈折率に換算して、その絶対値、差
などから判定できる。また、カルボニル基の伸縮振動で
ある1730cm^-1の半価幅をもって表面の全反射ラマン結晶
化指数とした。この場合の測定条件は次の通りである。

【００４１】光源 アルゴンイオンレーザー（5145オンク゛ストローム ） 試料のセッティング フィルム表面を全反射プリズムに圧着させ、レーザーの
プリズムへの入射角（フィルム厚さ方向との角度）は６
０度とした。

【００４２】検出器 ＰＭ：RCA31034/Photon Counting System(Hamamatsu C1
230) (supply 1600V) 測定条件 SLIT 1000μm LASER 100mW GATE TIME 1.0sec SCAN SPEED 12cm^-1/min SAMPLING INTERVAL 0.2cm ^-1 REPEAT TIME 6

【００４３】（６）接触角 ２５℃、６５％ＲＨ下、接触角計（協和界面科学製ＣＡ
−Ｄ型）を用いて、水に対する接触角を測定した。

【００４４】（７）スルホン酸金属塩の同定、含有量 灰化処理またはＩＲにより、フィルム中のスルホン酸金
属塩の組成、含有量を求めた。

【００４５】（８）溶融比抵抗 図１に示す溶融比抵抗測定装置を用いて測定した。すな
わち、一対の電極６を挿入した容器に、被測定物質であ
るポリエステル５を入れる。この容器を加熱体４中に浸
す。ポリエステル５を窒素ガス雰囲気下２８０℃で溶融
貯留し、直流高電圧発生装置１から電圧を印加する。こ
のときの電流計２および電圧計３を指示値および電極面
積、電極間距離により、次式に従い、溶融比抵抗を求め
た。

【００４６】ｐ＝Ｖ×Ｓ／（Ｉ×Ｄ） ｐ：溶融比抵抗（Ω・ｃｍ） Ｖ：印加電圧（Ｖ） Ｓ：電極の面積（ｃｍ² ） Ｉ：測定電流（Ａ） Ｄ：電極間距離（ｃｍ）

【００４７】（９）蒸着膜との密着性 表面にＡｌを真空蒸着したフィルムを、３０ｍｍ四方の
大きさにサンプリングした後、平滑なガラス基板上に固
定する。蒸着面に市販のセロハンテープを貼り、３ＭＰ
ａの圧力で１分間圧着した後、フィルムの長手方向に沿
って一気にはがし、蒸着層がはがれた面積のセロハンテ
ープを貼った面積に対する比率を求めた。

【００４８】 ３％未満 ：優 ３％以上７％未満：良 ７％以上 ：不良 と判定した。

【００４９】（１０）表面析出オリゴマ フィルムを７０℃で４８時間加熱処理した後、磁性面側
となる表面にＡｌを真空蒸着し、微分干渉顕微鏡を用い
て、倍率４００倍で観察した。析出オリゴマによる突起
個数をカウントし、１mm² あたりに換算し、 ２０個未満 ：優 ２０個以上１００個未満：良 １００個以上 ：不良 と判定した。

【００５０】（１１）出力特性（Ｃ／Ｎ） 本発明のフィルムのＡ層表面に、連続真空蒸着装置を用
いて、微量の酸素の存在下にコバルト・ニッケル合金
（Ｎｉ20重量％）の厚み200nm の蒸着層を設けた。次い
で、蒸着層表面にカーボン保護膜、反対面にバックコー
ト層を公知の手段で形成させた後、8mm 幅にスリット
し、パンケーキを作成した。次いで、このパンケーキか
ら長さ200m分をカセットに組み込み、カセットテープと
した。

【００５１】このテープについて、市販のＨｉ８用ＶＴ
Ｒ（ＳＯＮＹ社製 EV-BS3000 ）を用いて、７MHz ±１
MHz のＣ／Ｎの測定を行った。

【００５２】このＣ／Ｎを市販のＨｉ８用ビデオテープ
（１２０分ME）と比較して、 ＋３ｄＢ以上 ：優 ＋１〜＋３ｄＢ ：良 ＋１ｄＢ未満 ：不良 と判定した。

【００５３】（１２）磁性面走行耐久性 上記の８ｍｍ幅のテープをテープ走行試験機を用いて、
２０℃、５０％ＲＨ下で、メタルガイドピン（材質：Ｓ
ＵＳ、表面粗度：０．１Ｓ）に磁性面が接触するように
走行させた（走行速度３．３ｃｍ／秒、走行張力２０
ｇ、巻き付け角度６０度）。１００回繰り返し走行後の
摩擦係数を測定し、初期摩擦係数からの上昇が、 ０．０３未満 ：優 ０．０３以上０．０８未満：良 ０．０８以上 ：不良 と判定した。

【００５４】

【実施例】本発明を実施例、比較例に基づいて説明す
る。

【００５５】実施例１ まずＡ層に用いる原料（ポリエステルＡ）を以下のよう
に作成した。平均粒径０．０４５μm のコロイダルシリ
カに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコール
スラリーを調製し、このエチレングリコールスラリーを
１９０℃で２時間熱処理した後、テレフタル酸ジメチル
とエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を１．０重
量％含有するポリエチレンテレフタレートのペレットを
作成した（重合触媒として、酢酸マグネシウム０．１０
重量％、二酸化ゲルマニウム０．０２５重量％、リン化
合物としてトリメチルホスフェート０．０２４重量％を
用いた）。次に、粒子を含有しないポリエチレンテレフ
タレートを、重合触媒を、二酸化ゲルマニウム０．０１
２重量％およびトリメチルホスフェート０．０１３重量
％のみとしたものを用いて作成した。さらにドデシルベ
ンゼンスルホン酸リチウム塩を２重量％含有するポリエ
チレンテレフタレートを作成し、所定の含有量となるよ
うに前記無粒子のポリエチレンテレフタレートで希釈し
た（ポリエステルＢ）。さらに、Ｃ層に用いる原料とし
て、平均粒径０．３μm のジビニルベンゼン粒子（ジビ
ニルベンゼン成分８１％）を含有するポリエチレンテレ
フタレート（重合触媒：酢酸マグネシウム０．６０重量
％、三酸化アンチモン０．０５重量％、トリメチルホス
フェート０．２５重量％）を作成した。このポリマの溶
融比抵抗は７．０×１０⁸ Ω・ｃｍであった。

【００５６】これらの原料（ポリエステルＡ、Ｂ、Ｃ）
をそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）し
た後、押出機１、押出機２、押出機３にそれぞれ供給
し、２８０℃で溶融した。これらのポリマを公知の方法
で濾過した後、３層用の矩形の合流ブロック（フィード
ブロック）にてＡ／Ｂ／Ｃの３層積層とした。なお、合
流ブロックにおけるポリマ流路断面積の比率がＡ：Ｂ：
Ｃ＝１：４５：３のものを用いた。また、各層の厚さは
それぞれのラインに設置されたギヤポンプの回転数を調
節し、押出量を制御することによって調節した。

【００５７】これを静電印加キャスト法を用いて、表面
温度２５℃のキャスティングドラムに、ドラムと接触す
る面がＣ層側となるように巻き付けて冷却固化し、未延
伸フィルムを作った。

【００５８】この未延伸フィルムを温度９２℃にて長手
方向に３．７倍延伸した。延伸は２組ずつのロールの周
速差で、４段階で行った。得られた一軸延伸フィルムを
ステンタを用いて延伸速度２０００％／ｍｉｎで９５℃
で幅方向に３．７倍延伸し、定長下で、２２０℃にて３
秒間熱処理し、総厚さ７μm の積層ポリエステルフィル
ムを得た。

【００５９】このフィルムのＡ層側の表面に、前述の方
法によって、蒸着層を設け、金属薄膜型磁気記録媒体を
得た。

【００６０】フィルムの特性は第１表に示した通りであ
る。出力特性と走行耐久性が共に優れており、さらに表
面析出オリゴマも極めて少なく、金属薄膜型磁気記録媒
体用ベースフィルムとして優れた性能を有していた。

【００６１】実施例２ ポリエステルＡに含有される粒子を、平均粒径０．０３
μm のコロイダルシリカとし、添加量、Ａ層厚みを変更
し、さらにＢ層中のドデシルベンゼンスルホン酸リチウ
ム塩の含有量を変更した以外は、実施例１と同様のプロ
セスで積層ポリエステルフィルムを得た。

【００６２】実施例３ ポリエステルＡに含有される粒子を、平均粒径０．０６
μm のジビニルベンゼン粒子とし、添加量、Ａ層厚みを
変更した以外は実施例１と同様のプロセスで積層ポリエ
ステルフィルムを得た。

【００６３】実施例４ ポリエステルＡに含有される粒子を、平均粒径０．０３
μm のコロイダルシリカとし、添加量、Ａ層厚みを変更
し、Ａ／Ｂ／Ａの３層構成として実施例１と同様のプロ
セスで積層ポリエステルフィルムを得た。

【００６４】比較例１ 実施例１のポリエステルＡを用い、さらにポリエステル
Ｂとして、実施例１と同様の触媒組成およびドデシルベ
ンゼンスルホン酸リチウム塩含有量で、さらに平均粒径
０．２μm のジビニルベンゼン粒子を０．０５重量％含
有したものを用いて、Ａ／Ｂ２層構成の積層ポリエステ
ルフィルムを得た。出力特性、走行耐久性ともに不良で
あった。

【００６５】比較例２ ポリエステルＡに含有される粒子を、平均粒径０．０３
μm のコロイダルシリカとし、添加量を０．０７重量
％、積層厚みを０．０５μm とした。それ以外は実施例
２と同様のプロセスにて積層ポリエステルフィルムを得
た。突起個数が少なすぎるため、走行耐久性が不良であ
った。

【００６６】比較例３ Ｂ層にスルホン酸金属塩を添加せず、さらにポリエステ
ルＣを、実施例１のポリエステルＢと同様の重合触媒と
し、平均粒径０．１μm のコロイダルシリカを０．５重
量％含有せしめたものとした以外は実施例２と同様のプ
ロセスにて積層ポリエステルフィルムを得た。表面オリ
ゴマ析出が特に不良であった。

【００６７】比較例４ Ｂ層に高級脂肪酸エステル（カルナウバワックス）を
０．３重量％含有せしめ、実施例２と同様のプロセスに
て積層ポリエステルフィルムを得た。Ａ層表面接触角が
本発明の範囲から外れており、さらに凹み状の表面欠点
が多数発生しており、出力特性および蒸着膜との接着性
が不良であった。

【００６８】比較例５ 実施例１で用いたポリエステルＢ（ドデシルベンゼンス
ルホン酸リチウム塩は含有せず）、ポリエステルＣを用
いて、押出、キャストを行い、２層構成の未延伸フィル
ムを得た。縦延伸後に水溶性ポリエステル、シリカ粒子
ゾル（平均粒径３０ｎｍ）を主成分とする塗剤を均一に
塗布し、Ａ層を形成させ、以下同様に横延伸、熱処理を
行い、二軸延伸フィルムを得た。Ａ層表面の全反射ラマ
ン結晶化指数の値が本発明の範囲から外れており、磁性
面走行性が特に不良であった。

【００６９】

【表１】

【表２】

【００７０】

【発明の効果】本発明のフィルムは、少なくとも３層以
上の積層構成とし、磁性面側の突起高さおよび突起数を
規定し、さらに該表面の水に対する接触角および全反射
ラマン結晶化指数を特定範囲としたので、特に高性能が
要求される金属薄膜型磁気記録媒体用途において、優れ
た出力特性と、磁性面側の走行耐久性を両立でき、さら
に表面オリゴマ析出低減によるドロップアウト抑制にも
効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の溶融比抵抗を測定するための装置の概
略図である。

【符号の説明】

１：直流高電圧発生装置 ２：電流計 ３：電圧計 ４：加熱体 ５：ポリエステル ６：電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＦＤ Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＦＤ Ｂ２９Ｋ 67:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 9:00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】表層と内層からなる少なくとも３層以上の
   積層ポリエステルフィルムであって、その少なくとも一
   方の表面上に高さ１０〜５０ｎｍの突起が２００万個／
   ｍｍ² 以上存在し、かつ該表面の水に対する接触角が４
   ０度以上５５度未満であり、さらに該表面の全反射ラマ
   ン結晶化指数が２０ｃｍ^-1以下であることを特徴とする
   二軸配向積層ポリエステルフィルム。
2. 【請求項２】前記表面側の表層厚みが０．０１〜０．３
   μｍであり、かつ該層中に平均粒径０．０１〜０．１０
   μｍの不活性粒子を０．０５〜１．５重量％含有してい
   ることを特徴とする請求項１に記載の二軸配向積層ポリ
   エステルフィルム。
3. 【請求項３】内層が一般式Ｃ_n Ｈ_2n+1−Ｃ₆ Ｈ₄ −ＳＯ
   ₃ Ｍ（ｎ＝６〜３０、Ｍ＝アルカリ金属もしくはアルカ
   リ土類金属）で表されるスルホン酸金属塩を含有するこ
   とを特徴とする請求項１または２に記載の二軸配向積層
   ポリエステルフィルム。
4. 【請求項４】上記スルホン酸金属塩の含有量がフィルム
   全体に対して、０．０１〜０．７５重量％であることを
   特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向積
   層ポリエステルフィルム。
5. 【請求項５】内層部は実質的に不活性粒子を含有してい
   ないことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
   二軸配向積層フィルム。
6. 【請求項６】少なくとも一方の表層を構成するポリエス
   テルの溶融比抵抗が９．０×１０⁸ Ω・ｃｍ未満である
   ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の二軸
   配向積層ポリエステルフィルム。
7. 【請求項７】金属薄膜型磁気記録媒体用に用いられるこ
   とを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の二軸配
   向積層ポリエステルフィルム。
8. 【請求項８】デジタル記録方式のＶＴＲテープ用に用い
   られることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載
   の磁気記録媒体用二軸配向積層ポリエステルフィルム。