JPH09117987A - 金属箔張り積層板の製造方法 - Google Patents

金属箔張り積層板の製造方法

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JPH09117987A
JPH09117987A JP27804095A JP27804095A JPH09117987A JP H09117987 A JPH09117987 A JP H09117987A JP 27804095 A JP27804095 A JP 27804095A JP 27804095 A JP27804095 A JP 27804095A JP H09117987 A JPH09117987 A JP H09117987A
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JP
Japan
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metal foil
prepreg
clad laminate
melt viscosity
resin
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Pending
Application number
JP27804095A
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English (en)
Inventor
Kanji Kurata
敢司 倉田
Toshiyuki Higashida
利之 東田
Koichi Fujita
孝一 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 シワが発生が少ない金属箔張り積層板の製造
方法を提供する。 【解決手段】 基材に樹脂を含浸してプリプレグを作製
する。このプリプレグが、昇温速度1.2℃/分での最
低溶融粘度が2000〜7000ポイズの範囲で、且
つ、温度130℃での1分当たりに対する、対数換算し
た樹脂の溶融粘度の比率であるK値(logポイズ/
分)が0.20〜0.30の範囲である。上記プリプレ
グを重ねた積層体の最外層に金属箔を配し、加熱加圧す
る。プリプレグの間に内層回路板を挟んだ多層の金属箔
張り積層板に特に有効である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は金属箔張り積層板の
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板として利用される金属箔
張り積層板は、基材に樹脂を含浸してプリプレグを作製
し、このプリプレグを重ねた積層体の最外層に金属箔を
配し、加熱加圧することにより作製される。近年、プリ
ント配線板の高密度化に伴う回路幅の縮小と共に、軽量
化が要求されるに伴って、金属箔張り積層板においては
厚みの薄い、例えば20μm以下の金属箔が使用され
る。この薄い金属箔を使用した積層板は、金属箔面に線
状の窪みであるシワが発生し易く、このシワが有ると回
路に断線等の問題を生じる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記シワ防止策として
積層板を成形する際に、圧力を上げたりする方法がある
が、このような方法で成形した積層板は厚みの偏差が大
きくなる欠点がある。
【0004】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、シワが発生が少ない金属
箔張り積層板の製造方法を提供することにある。
【0005】なかでも、上記高密度化に伴ない、内層回
路板を用いた多層のプリント配線板が多用されている。
本発明はこの多層のプリント配線板の材料となる金属箔
張り積層板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
金属箔張り積層板の製造方法は、基材に樹脂を含浸して
プリプレグを作製し、このプリプレグを重ねた積層体の
最外層に金属箔を配し、加熱加圧する金属箔張り積層板
の製造方法であって、上記プリプレグが、昇温速度1.
2℃/分での最低溶融粘度が2000〜7000ポイズ
の範囲で、且つ、温度130℃での1分当たりに対す
る、対数換算した樹脂の溶融粘度の比率であるK値(l
ogポイズ/分)が0.20〜0.30の範囲であるこ
とを特徴とする。
【0007】本発明の請求項2に係る金属箔張り積層板
の製造方法は、請求項1記載の金属箔張り積層板の製造
方法において、上記積層体がプリプレグの間に内層回路
板を挟み、重ねたものであることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0009】本発明の対象となるプリプレグは、基材に
樹脂を含浸し、含浸した樹脂を半硬化して得られる。上
記樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、フッ素
樹脂等の単独、変成物、混合物が挙げられる。含浸の際
は上記樹脂に、ジメチルホルムアミド(DMF)、メチ
ルエチルケトン(MEK)、アセトン、メチルセロソル
ブ等の溶剤、硬化剤、充填剤を必要に応じて添加した樹
脂液を用いる。上記基材としては、ガラスクロスが挙げ
られる。
【0010】本発明においては、上記プリプレグとして
最低溶融粘度が2000〜7000ポイズの範囲のもの
を用いる。上記プリプレグの溶融粘度は昇温速度1.2
℃/分で測定された値である。本発明においては、上記
プリプレグは最低溶融粘度が上記範囲であると共に、温
度130℃での1分当たりに対する、対数換算した樹脂
の溶融粘度の比率であるK値(logポイズ/分)が
0.20〜0.30の範囲に制限される。上記溶融粘度
は粘弾性測定解析装置等を用いて測定すればよい。
【0011】次に上記K値の算出例を図1に基づいて説
明する。プリプレグの樹脂を揉みほぐしてタブレットを
作製し、粘弾性測定解析装置を用い130℃に設定し溶
融粘度測定する。最低溶融粘度到達後から適宜、経過時
間と溶融粘度を対数換算し、記録する。例えば、A点が
2000ポイズ(対数換算で3.30)であり、5分経
過後のB点が24000ポイズ(対数換算で4.38)
であると、K値=(4.38−3.30)/5=0.2
2が求められる。
【0012】本発明の金属箔張り積層板の製造方法は、
上記範囲のプリプレグを重ねた積層体とし、この積層体
の最外層に金属箔を配し、加熱加圧する。上記金属箔
は、例えば、銅、アルミニウム、ステンレス等が挙げら
れ、厚みは限定しないが、20μm以下の薄い金属箔を
使用した場合に本発明の効果が顕著に現れる。上記加熱
に際しては、上記金属箔を配した積層体を金属プレート
間に挟み、熱盤に挿入し、加熱加圧される。なお、内層
回路板をプリプレグを介して積層し、積層体とすれば多
層の金属箔張り積層板を得ることができる。
【0013】上記金属箔張り積層板は、最外層に配した
金属箔にエッチングが施され、導体回路を形成し、プリ
ント配線板として利用される。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例と比較例を挙げる。実
施例及び比較例に用いたプリプレグの最低溶融粘度、及
び、K値は、粘弾性測定解析装置(株式会社レオロジー
製:MR300)を用いて測定した。最低溶融粘度は、
昇温速度1.2℃/分で80℃から150℃まで間を測
定した。K値は、130℃に設定し、最低溶融粘度到達
後から硬化する迄の間の溶融粘度を測定し、溶融粘度を
対数換算した値から1分当たりの比率を求めた。
【0015】実施例1 次のようにして基材に樹脂を含浸した。基材に基材にM
IL仕様規格7628タイプのガラスクロス(旭シュエ
ーベル株式会社製:7628)を用いた。樹脂として臭
素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量5
00)を90重量部(以下部と記す)、及び、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量220)を
10部用い、さらに、硬化剤としてジシアンジアミド
(DICY)を5部、希釈溶剤としてジメチルホルムア
ミド(DMF)を30部、メチルセロソルブ(MC)を
30部、硬化促進剤として2エチル4メチルイミダゾー
ル(2E4MZ)を0.2部配合した。これらを基材に
含浸し、乾燥して樹脂が半硬化したプリプレグを得た。
このプリプレグの樹脂含有率は42重量%、溶融粘度
は、最低溶融粘度が4500ポイズ、K値が0.21と
なるよう、樹脂液の濃度、乾燥時間及び温度を調製し
た。
【0016】次に、厚さ0.8mmで両面に回路を形成
したエポキシ樹脂ガラス基材の内層回路板を用いた。こ
の内層回路板の樹脂配合は上記と同様であった。この内
層回路板1枚に、上記プリプレグを上下に2枚づつ重ね
積層体とした。この積層体の両側に18μmの銅箔を配
した後に金属プレートに挟み、熱盤間に挿入した。圧力
30kg/cm2 、熱盤温度180℃の条件で加熱加圧
し、プリプレグの樹脂を完全に硬化させ、厚み1.6m
mの4層からなる銅箔張積層板を得た。
【0017】得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが46本あった。
【0018】実施例2 プリプレグの溶融粘度で、最低溶融粘度が5000ポイ
ズ、K値が0.25となるよう調製した以外は、実施例
1と同様にしてプリプレグを作製した。その後、実施例
1と同様にして厚み1.6mmの4層からなる銅箔張積
層板を得た。得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが70本あった。
【0019】実施例3 プリプレグの溶融粘度で、最低溶融粘度が4800ポイ
ズ、K値が0.30となるよう調製した以外は、実施例
1と同様にしてプリプレグを作製した。その後、実施例
1と同様にして厚み1.6mmの4層からなる銅箔張積
層板を得た。得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが52本あった。
【0020】比較例1 プリプレグの溶融粘度で、最低溶融粘度が8000ポイ
ズ、K値が0.14となるよう調製した以外は、実施例
1と同様にしてプリプレグを作製した。その後、実施例
1と同様にして厚み1.6mmの4層からなる銅箔張積
層板を得た。得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが1500本あっ
た。
【0021】比較例2 プリプレグの溶融粘度で、最低溶融粘度が7900ポイ
ズ、K値が0.32となるよう調製した以外は、実施例
1と同様にしてプリプレグを作製した。その後、実施例
1と同様にして厚み1.6mmの4層からなる銅箔張積
層板を得た。得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが161本あっ
た。
【0022】比較例3 プリプレグの溶融粘度で、最低溶融粘度が8000ポイ
ズ、K値が0.21となるよう調製した以外は、実施例
1と同様にしてプリプレグを作製した。その後、実施例
1と同様にして厚み1.6mmの4層からなる銅箔張積
層板を得た。得られた銅箔張積層板の銅箔面を目視検査
し、シワ発生箇所の本数を数えた。サイズ500×50
0mmで10枚を検査した結果、シワが156本あっ
た。
【0023】
【表1】
【0024】
【発明の効果】本発明の請求項1又は請求項2に係る製
造方法で作製した金属箔張り積層板は、最低溶融粘度が
2000〜7000ポイズの範囲で、且つ、温度130
℃でのK値が0.20〜0.30の範囲のプリプレグを
用いるので、シワが発生が少ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】対数換算した溶融粘度と経過時間の関係を示し
たグラフの一例である。
【符号の説明】
なし

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材に樹脂を含浸してプリプレグを作製
    し、このプリプレグを重ねた積層体の最外層に金属箔を
    配し、加熱加圧する金属箔張り積層板の製造方法であっ
    て、上記プリプレグが、昇温速度1.2℃/分での最低
    溶融粘度が2000〜7000ポイズの範囲で、且つ、
    温度130℃での1分当たりに対する、対数換算した樹
    脂の溶融粘度の比率であるK値(logポイズ/分)が
    0.20〜0.30の範囲であることを特徴とする金属
    箔張り積層板の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記積層体がプリプレグの間に内層回路
    板を挟み、重ねたものであることを特徴とする請求項1
    記載の金属箔張り積層板の製造方法。
JP27804095A 1995-10-25 1995-10-25 金属箔張り積層板の製造方法 Pending JPH09117987A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7239064B1 (ja) * 2021-09-15 2023-03-14 株式会社レゾナック 半導体パッケージ用基板材料を製造する方法、プリプレグ、及びプリプレグの応用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2023042305A1 (ja) * 2021-09-15 2023-03-23 株式会社レゾナック 半導体パッケージ用基板材料を製造する方法、プリプレグ、及びプリプレグの応用

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