JPH09115867A - 洗浄用隔壁支持具、洗浄支援構造体、洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】バッチ式洗浄処理において、ウェハ表面から剥
離した異物が、隣接するウェハの表面に再付着するのを
防止するために、ウェハ間に挿入する隔壁を、清浄に保
つ。 【解決手段】隔壁１０の間隔を変えることができる支持
部材を用いて隔壁１０を支持する。あるいは、隔壁１０
を長尺物のシートとし、ウェハの洗浄に使用済みの部分
は巻き取り、未使用の部分がウェハ間に位置するように
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウエハ等
の板状物の洗浄に係り、特に、板状基板を複数枚配列し
て同時に洗浄する場合に適する洗浄支援構造体、洗浄用
隔壁支持具、洗浄装置および洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置に製造においては、シリコン
ウェハを洗浄する必要がある。この洗浄には、従来よ
り、バッチ式ウエット洗浄方法が用いられてきた。この
従来のバッチ式ウェット洗浄方法を、図２を用いて説明
する。

【０００３】この方法では、ウエハＷを、キャリア３０
に収納した状態で、洗浄槽５０に浸漬することにより洗
浄する。キャリア３０は、ウエハＷを複数枚収納でき
る、上面の覆われていない筐体である。ウェハＷは、キ
ャリア３０の底面２か所と側面２か所に設けられた支持
用突起（図示せず）により支持されている。処理液4０
を満たした洗浄槽5０に、キャリア３０ごとウエハＷを
浸漬すると、ウエハ表面がエッチングおよび／または酸
化され、表面に付着した異物および金属イオンが除去さ
れる。このようなバッチ処理は、スループット（洗浄時
間／ウエハ枚数）が高いという長所がある。

【０００４】なお、ウェハＷをキャリア３０に並べて収
納する際に、表裏を一定方向に向けて並べると、図３に
示すように、ウェハＷ₁の裏面Ｗｂと、隣接するウェハ
Ｗ₂の表面Ｗｆとが対向することになる。一般に、半導
体装置の製造においては、ウェハＷの裏面Ｗｂは、表面
Ｗｆに比べて汚染が激しい。一方、表面Ｗｆは、比較的
清浄であって、異物を吸着しやすい。

【０００５】このため、従来の方法では、ウェハＷ₁の
裏面Ｗｂから剥離した異物２０が、洗浄槽５０内で拡散
しつつ処理液４０の流れによって移動し、ウェハＷ₁と
隣接するウェハＷ₂の表面Ｗｆに再付着してしまう。こ
の現象は、転写と呼ばれ、バッチ処理によりウェハを洗
浄する上での問題となっていた。

【０００６】そこで、従来より、このバッチ式洗浄にお
ける、隣接するウエハ間での異物の転写を防止するため
に、汚染の程度により、 (１)洗浄条件（処理液の流速など）を変える (２)処理液条件（成分・濃度・温度など）を変える (３)ウエハの間隔を変える といった手段が採られていた。しかし、これらの手段
は、転写の根本原因を排除したわけではなく、また、こ
れらの手段は、これらの条件を、洗浄能力やスループッ
トの面から見た最適条件から、最適ではない条件に変更
することになるので、一般に、洗浄能力およびスループ
ットを低下させる結果になってしまう。

【０００７】例えば、特開昭５８−４８４２３号公報お
よび特開昭６２−１２３７２３号公報に記載されている
ように、洗浄槽の給液部分を調節したり、内壁の形状を
工夫してウエハ間に効率的に給液するというものがあ
る。これは、ウエハ間の液の流れを良くすることで、洗
浄効果を高めると共に転写を防止する効果を狙ったもの
である。しかしながら、これは転写の根本原因を排除し
たわけではなく、本質的な解決方法にはなっていない。

【０００８】また、特開平６−３３８４８７号公報に記
載されているように、各ウエハＷを１枚１枚個別のチャ
ンバに納めて洗浄するというものである。しかし、この
方法は、転写は回避できるものの、ウェハを枚葉処理す
るものであり、スループットが低い。

【０００９】そこで、特開昭６４−２２０３１号公報、
特開平０２−２７１６２４号公報、特開平４−１５１８
３０号公報、および特開平６−１２０１８６号公報に記
載されているように、ウェハを１枚ずつ隔離するための
仕切り板を設けたキャリアに収納してウェハを洗浄する
方法が開発されてきている。

【００１０】ウェハ間に隔壁を挿入すれば、ウェハ間が
隔壁で物理的に分離されるため、異物のウェハ間の転写
は大幅に低減される。また、このような物理的手段を用
いることにより、洗浄条件（処理液の流速など）、処理
液条件（成分・濃度・温度など）、および、ウエハの間
隔などは、それぞれ、洗浄能力およびスループットなど
が最善になるような最適条件としたままで、ウェハ間の
転写を抑制した洗浄を行なうことができる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
では、ウェハを隔離する仕切り板は、キャリアに固定さ
れているため、使用後の洗浄が困難であるという問題が
ある。一般に、隔壁の間隔は、ウェハの間隔に等しい。
従って、隔壁を処理液に浸漬して洗浄する際に、ウェハ
の場合と同様、隔壁に付着した異物が隣接する隔壁の表
面に転写されてしまう。

【００１２】そこで、本発明は、バッチ式洗浄装置の長
所である高スループットは維持したままで転写を減少さ
せることができ、常に清浄な隔壁を用いて被洗浄物を洗
浄することのできる洗浄支援構造体、洗浄装置および洗
浄方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、複数の被洗浄物を並べて配置し、処理
液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を清浄にする
洗浄装置に、上記被洗浄物の間を隔てるために用いられ
る洗浄支援構造体と、該洗浄支援構造体を備える洗浄装
置と、隔壁または隔壁シートを支持するための洗浄用隔
壁支持具とが提供される。

【００１４】本発明によって提供される洗浄支援構造体
には、複数の隔壁と、該隔壁を支持する支持部材とを備
え、支持部材は、上記隔壁の間隔を変えられるように構
成されているものと、巻き軸および少なくとも一部が巻
き軸に巻かれた長尺物のシートを備えるものとがある。

【００１５】間隔が可変なように隔壁を支持する支持具
または支持部材としては、例えば、被洗浄物の間を隔て
るための隔壁を複数支持する支持機構を備え、最短状態
と最長状態との２状態を遷移することにより、支持する
隔壁の間隔を変更するように構成されているものがあ
る。この機構の具体例としては、つぎの（ａ）または
（ｂ）のようなものが挙げられる。

【００１６】（ａ）支持機構を備える複数の単位連結要
素を備え、単位連結要素は、隣接する要素が互いにオー
バーラップしながら一定方向に並べて接続された単位連
結要素ており、オーバーラップ部分の長さを変えること
により、上記隔壁の間隔が変わるもの。

【００１７】（ｂ）支持機構を備える複数の単位連結要
素を備え、単位連結要素は、交叉する２本の連結棒から
なり、該連結棒の挟角を変えることにより、上記隔壁の
間隔が変わるように構成されているもの。

【００１８】なお、上記（ａ）および（ｂ）は、いずれ
も、最短状態と最長状態との２状態の間を遷移するが、
その遷移に伴う隔壁間隔の変更は、単位連結要素間で経
時的に伝達されてもよく、すべて隔壁間隔が同じ状態で
変更されてもよい。

【００１９】また、長尺物の隔壁シートを支持するため
の支持具または支持機構としては、例えば、巻き取り軸
および繰り出し軸と、上記軸の支持部とを備える隔壁シ
ート巻き取り機構を備えるものがある。なお、複数の隔
壁シート巻き取り機構を支持する支持機構を、さらに備
え、この支持機構が、支持する隔壁シートの間隔を変更
できるように構成されていれば、隔壁シートの位置を調
整することができるので望ましい。

【００２０】また、本発明では、複数の被洗浄物を所定
の間隔で並べて配置し、被洗浄物の間を複数の隔壁によ
り隔てて、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表
面を清浄にする被洗浄物洗浄工程と、その後に行なわれ
る、隔壁を、上記所定の間隔より広い間隔で並べて、処
理液に浸漬することにより、該隔壁の表面を清浄にする
隔壁洗浄工程とを含む洗浄方法が提供される。

【００２１】さらに、本発明では、複数の被洗浄物を所
定の間隔で並べて配置し、被洗浄物の間を一以上の、長
尺物のシートの一部である隔壁により隔てて、処理液に
浸漬することにより、被洗浄物の表面を清浄にする被洗
浄物洗浄工程を備える洗浄方法が提供される。

【００２２】また、本発明では、複数の被洗浄物を所定
の間隔で並べて配置し、被洗浄物の間を一以上の隔壁に
より隔てて、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の
表面を清浄にする被洗浄物洗浄工程を備え、被洗浄物表
面への処理液の供給は、該被洗浄物表面と隔壁表面との
間の表面張力を用いて行なう洗浄方法が提供される。な
お、本発明は、シリコンウェハなど、半導体ウェハの洗
浄に特に適している。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明では、複数の隔壁を備える
洗浄支援構造体を用いて、洗浄対象（以下、ウェハとし
て説明するが、ウェハには限られず、板状の物品であれ
ば、本発明により洗浄することができる）を個別に隔離
して洗浄する。本発明では、ウエハの間隙に隔壁を配置
することにより、ウエハ間を物理的に分離し、ウェハ間
の異物の転写を防止する。なお、本発明の洗浄支援構造
体を用いれば、既存の処理槽をそのまま利用して、異物
のウェハ間の転写を抑制した洗浄を行なうことができ
る。

【００２４】本発明の洗浄支援構造体は、隔壁の間隔が
可変であるか、あるいは、隔壁を長尺物とする。隔壁の
間隔が可変な洗浄支援構造体は、隔壁の間隔を、転写が
回避できる程度に十分に広げることにより、容易に洗浄
することができる。また、長尺物の隔壁フィルムの一部
を隔壁として用いる洗浄支援構造体では、隔壁フィルム
の使用済み部分を巻き取り、未使用部分を被洗浄物の間
隙に配置して洗浄することにより、常に清浄な隔壁を用
いて洗浄することができる。

【００２５】なお、隔壁は、隣接する被洗浄物を物理的
に隔離することができるものであれば、板状でも、シー
ト状でもよい。隔壁の材料としては、シリコン、ポリテ
トラフルオロエチレン、石英など、異物を発生しにくい
物を用いることが望ましい。シリコンウェハに洗浄に際
しては、隔壁の材料をシリコンとすることが特に望まし
い。これは、シリコンウェハ表面に付着していた異物
が、シリコンに吸着し易いからである。これによってウ
エハから剥離した異物が対面する隔壁に転写し易くな
り、ウエハ表面の洗浄効果を高めることができる。ま
た、シリコンウエハの洗浄に、隔壁としてシリコン板を
使用した場合には、処理中に隔壁が処理液に影響を与え
る心配もなく、隔壁の洗浄もウエハの洗浄と同じの薬液
を使用できるので、隔壁洗浄用の洗浄槽を別途設ける必
要がなく、洗浄装置の設置面積の増大を回避できる。

【００２６】

【実施例】

＜実施例１＞本実施例の洗浄支援構造体を、図１に示
す。本実施利の洗浄支援構造体１１は、図１（ｃ）に示
すように、板状の４９枚の隔壁１０と、該隔壁１０を支
持する支持部材である、９６本のビーム１３ｃとを備え
る。なお、図１（ｃ）は、隔壁１０の表裏一方の面の法
線方向に沿って見た、本実施例の洗浄支援構造体の外観
図である。

【００２７】隔壁１０は、厚さ約０．７ｍｍ、幅約２１
０ｍｍの板状部材であり、直径２１０ｍｍの半円部分
と、該半円部分の直径を一辺とする矩形部分（長さ１５
０ｍｍ）とからなる。隔壁１０の矩形部分の側面は、一
端、ビーム１３ｃを枢着するための軸１３２を備え、他
端に、ビーム１３ｃの備える軸１３３を軸承するスライ
ダ機構である溝１３４（図１（ｂ）に図示）を備える。

【００２８】ビーム１３ｃは、厚さおよび幅それぞれ約
０．７ｍｍ、長さ約２１５ｍｍの棒状部材であり、一端
に、軸１３２を軸承するための貫通孔（図示せず）を備
え、他端に、軸１３３を備えるもの１３ｄと、一端に、
軸１３２を軸承するための貫通孔（図示せず）を備え、
他端に、軸１３３を軸承するための貫通孔（図示せず）
を備えるもの１３ｅとがある。

【００２９】この洗浄支援構造体１１を、ビーム１３ｃ
の側から見た側面図を図１（ａ）および（ｂ）に示す。
隣接する隔壁１０は、単位連結要素である、交叉する２
本のビーム１３ｃを介して互いに接続されており、ビー
ム１３ｃは、隣接する２枚の隔壁１０の間に斜めに渡さ
れている。軸１３３を軸承するための貫通孔（図示せ
ず）を備えるビーム１３ｅは、隔壁１０の側面に直接接
続されており、軸１３３を備えるビーム１３ｄは、隔壁
１０の側面に、ビーム１３ｅを介して接続されている。
隔壁１０の備える軸１３２は、２本のビーム１３ｃがそ
れぞれ一端に備える軸受用貫通孔に回動可能に嵌合され
ている。また、ビーム１３ｄｃの軸１３２は、ビーム１
３ｅの軸受用貫通孔に回動可能に軸承され、さらに、隔
壁１０の軸受用溝１３４に回動可能かつ摺動可能に軸承
されている。

【００３０】本実施例の洗浄支援構造体１１は、交叉す
る２本のビーム１３ｄ，１３ｅのなす角度を変えること
により、隔壁１０の間隔を変えることができる。すなわ
ち、隔壁１０の間隔を、図１（ａ）に示すように狭くす
ることも、図１（ｂ）に示すように広くすることも、自
由にできる。

【００３１】本実施例の洗浄支援構造体１１を用いて、
直径２００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのウェハを洗浄する場
合の、洗浄槽５０の断面を図４（ａ）に示す。洗浄槽５
０の底面に備えられた給液口５１から洗浄槽５０内に導
入された処理液４０は、洗浄槽５０を満たした後、溢れ
て、排液溝５２から排出される。給液口５１は、図４
（ｂ）に示すように、複数設けてもよく、図５に示すよ
うに、ウェハＷの間隙毎に設けてもよい。なお、図４
（ｂ）および図５では、図を見やすくするために、ビー
ム１３ｃの図示は省略したが、これらの図に図示されて
いる洗浄支援構造体１１も、図４（ａ）に図示したもの
と同様に、隔壁１０の支持部材として、ビーム１３ｃを
備える。

【００３２】本実施例の洗浄槽５０は、ウェハを所定位
置（ウェハ支持部により定まる位置）に配置したとき、
ウェハ間の中間に位置する洗浄槽５０側面内壁に、洗浄
支援構造体設置用のガイド部材（図示せず）を備える。
本実施例のガイド部材は、２枚の帯状部材の間に隔壁１
０の側面を挾持する部材であり、帯状部材の挾持面が隔
壁１０の挿入方向（本実施例では、鉛直方向）になるよ
うに設けられている。なお、ガイド部材の代わりに、例
えば、隔壁１０の側面を嵌入するガイド溝を備えていて
もよい。このようなガイドは、備えていなくてもよい
が、備えている方が、隔壁１０を正確に配置できるので
好ましい。

【００３３】ウェハＷは、洗浄槽５０の底面２か所と側
面２か所に設けられた支持用突起（図５に突起５３とし
て図示）により、表裏の面の法線が水平になるように支
持されており、６．３５ｍｍの間隔で、５０枚並べられ
ている。洗浄支援構造体１１を、隔壁１０の間隔がウェ
ハＷの間隔と同じ６．３５ｍｍになるように広げた状態
で、隔壁１０の側面を洗浄槽５０のガイド部材に挿入
し、洗浄支援構造体１１を、ガイド部材に倣わせて洗浄
槽５０内に押し込むと、隔壁１０がウェハＷの間隙の定
位置に配置される。ウェハＷと隔壁１０との間隙の幅
は、約２．５ｍｍである。なお、図４（ａ）に示したよ
うに、本実施例では、支持部材１３ｃは洗浄槽５０の側
面の側に配置されるが、支持部材１３ｃを上にした状態
で洗浄支援構造体１１を挿入するようにしてもよい。

【００３４】このように、ウェハＷの間隙に洗浄支援構
造体１１の隔壁１０を挿入した状態で、ウエハＷを処理
液４０内に浸漬して洗浄処理を行うと、ウエハＷから剥
離した異物２０は拡散・流れによって移動し、洗浄槽５
０から流れ出るか、あるいは、対向する隔壁１０表面に
付着する。つまり転写はこの隔壁−ウエハ間で起こり、
ウエハ間では起こらない。なお、処理液４０を洗浄槽５
０内に満たすのは、洗浄支援構造体１１の挿入の前後い
ずれでもよいが、洗浄支援構造体１１挿入前の転写を防
ぐためには、挿入後に処理液４０を満たすことが望まし
い。

【００３５】洗浄処理後、ウエハＷを処理槽５０および
洗浄支援構造体１１を洗浄槽５０から取り出す。洗浄支
援構造体は、ウェハ洗浄槽５０よりも広い支援構造体洗
浄用洗浄槽（図示せず）に、隔壁１０の間隙を広げた状
態で入れ、処理液に浸漬して洗浄する。本実施例では、
隔壁１０の間隔を可変にすることによって、隔壁１０の
間隔を、ウエハ洗浄時にはウエハの間隔と同じ間隔に
し、隔壁１０の洗浄時には、ウェハ洗浄時よりも広い間
隔にすることができる。隔壁１０の間隔を広げれば、隔
壁１０間の処理液の流れを良くして洗浄効率を高めると
ともに、隔壁１０間を物理的に離間することにより、隔
壁１０間の異物転写を回避することができる。

【００３６】なお、ウェハ洗浄槽５０が、隔壁１０の間
隔を広げられる程度に大きければ、この洗浄槽５０から
洗浄支援構造体１１を取り出さずに、処理液４０に漬け
たまま、隔壁１０の間隔を広げて洗浄してもよい。

【００３７】本実施例の洗浄支援構造体１１は、このよ
うに、隔壁１０の間隔を広げて洗浄することができるの
で、隔壁１０表面を、常に清浄な状態を保つことができ
る。従って、本実施例の洗浄支援構造体を、使用するご
とに洗浄しながら用いれば、隔壁１０からウエハＷへの
異物転写をも回避できる。このことにより、転写を起こ
すことなく、多数のウエハを同時に処理する高清浄洗浄
を、繰返し行なうことができ、高スループットが実現さ
れる。

【００３８】なお、洗浄槽５０が、図５に示すように、
ウェハＷの間隙毎に給液口（ノズル）５１を備える場合
には、ウエハ間に配置した隔壁１０と給液口（ノズル）
５１との位置関係を制御することで、ウエハＷの表裏に
配給される液量の比率を調整することができる。例え
ば、［ウェハＷの表Ｗｆと、それに対向する隔壁１０表
面との間隙の幅］：［ウェハＷの裏Ｗｆと、それに対向
する隔壁１０表面との間隙の幅］＝４：６というよう
に、ウェハＷの表Ｗｆと、それに対向する隔壁１０表面
との間隙の幅を、ウェハＷの裏Ｗｆと、それに対向する
隔壁１０表面との間隙の幅よりも狭くすれば、比較的汚
染の大きいウェハ裏面Ｗｂには多量の処理液を、比較的
汚染の少ない表面Ｗｆには少量の処理液を流すことがで
き、洗浄の効率を上げることができる。また、洗浄槽５
０のガイド部材を、水平方向に移動できるようにしてお
けば、ノズル５１と隔壁１０との位置関係を、処理途中
で変化させることができるので、給液部のノズルに調整
機構を設けなくても、洗浄処理の途中で、容易にウェハ
表裏の給液流量を変更することができる。

【００３９】隔壁１０の表面は、図６に示すように、粗
いことが望ましい。表面を粗くすることにより隔壁１０
の表面積が大きくなり、ウエハＷから剥離した異物をよ
り付着し易くなるため、ウエハＷから剥離した後拡散・
流れにより液中に浮遊する異物の数を削減することがで
きる。このことにより、より高精度な洗浄が可能とな
る。

【００４０】なお、本実施例での隔壁１０の表面粗さ
は、±０．０４ｍｍ以上であることが望ましい。これ
は、本実施例で洗浄するウェハＷの表面粗さが±０．０
２ｍｍであることから、ウェハＷの表面粗さの倍以上の
粗さがあれば、効果があると考えられるからである。た
だし、ウェハＷと隔壁１０との間が約２．５ｍｍである
ことから、隔壁１０の表面粗さは、１ｍｍ以下とする必
要がある。

【００４１】なお、隔壁１０表面に処理液の流れに沿っ
た（すなわち、本実施例では鉛直方向に延伸する）溝を
設けてもよい。この溝は、ウエハＷ間の液流を促進する
ため、洗浄効果を高める。

【００４２】表面が粗い隔壁１０や、表面に溝がある隔
壁１０は、表面積が広いため、異物の吸着能が大きい。
従って、表面が平坦な隔壁１０に比べて洗浄が困難であ
る。しかし、本実施例の洗浄支援構造体１１では、隔壁
１０の間隔を広げることができるので、十分に洗浄する
ことができる。

【００４３】また、隔壁１０を被洗浄物（本実施例では
ウエハＷ）と同形にしてもよい。被洗浄物と同形にすれ
ば、隔壁１０の大きさを必要最小限に押さえることがで
きるので、隔壁１０のコストを抑え、さらに、隔壁１０
による、洗浄槽５０内の処理液の流れの乱れを最小限に
止めることができる。また、隔壁１０と被洗浄物を同サ
イズとすると、従来通りの幅の処理槽５０を用いること
ができ、装置の設置面積を増大を最小限に抑えることが
できる。

【００４４】本実施例では、ウェハＷの間隙ごとに隔壁
１０を設けたが、シートの表裏それぞれに設けてもよ
い。すなわち、ウェハＷの間隙ごとに２枚の隔壁１０を
設けてもよい。

【００４５】＜実施例２＞実施例１では、隔壁１０の支
持部材として、交叉するビーム１３ｃを用いたが、支持
部材はこれに限られず、隔壁１０の間隔が可変であれ
ば、どのような部材を用いて支持してもよい。本実施例
では、図７に示すように、支持部材として、コの字型部
材７１と、ガイド部材７２とを用いる。

【００４６】本実施例の洗浄支援構造体１１は、４９枚
の隔壁１０と、４９個のコの字型部材（連結要素）７１
と、２本のガイド部材７２とを備える。なお、図７
（ｆ）にはコの字型部材７１の外観斜視図を、図７
（ｇ）にはガイド部材７２の外観斜視図を、それぞれ示
した。

【００４７】コの字型部材７１のうち７１ａは、図７
（ｆ）に示すように、厚さ０．５ｍｍ、幅１２．７ｍ
ｍ、長さ２２５ｍｍの矩形の金属板であって、長手方向
に向かって両側にストッパ（幅１２．７ｍｍ、厚さ０．
５ｍｍ、高さ２ｍｍの突起）７１ｃを備える。以下の説
明では、金属板の表裏のうち、ストッパ７１ｃのある面
を内面、ストッパ７１ｃのない面を外面と呼ぶ。コの字
型部材７１のうち７１ｂは、矩形金属板の幅が隔壁１０
の厚み分だけ短い以外は、７１ａと同様である。

【００４８】ガイド部材７２は、図７（ｇ）に示すよう
に、縦７ｍｍ、横５ｍｍ、長さ３１８ｍｍの棒状の部材
であり、長手方向に沿ってガイド溝７２ａを備える。ガ
イド溝７２ａの内径は、深さ６．５ｍｍ、幅４ｍｍ、で
あり、棒状部材の一端から他端まで貫通している。

【００４９】図７（ｂ）に示すように、４９枚の隔壁１
０のうち２５枚には、実施例１の隔壁と同様の板状部材
であり、コの字型部材７１ａの内面中央に接続されてい
る。隔壁１０の残りの２４枚は、矩形部分の長さが２．
５ｍｍ短い以外は、実施例１と同様の板状部材であり、
コの字型部材７１ｂの外面中央に接続されている。

【００５０】図７（ａ）および（ｂ）に、隔壁１０の中
央を通り、鉛直かつ表裏面に垂直な平面で、洗浄支援構
造体１１を切断した場合の断面を示す。図７（ａ）およ
び（ｂ）に示すように、隔壁１０は、表裏が一定方向に
なるようにして、表裏面の法線方向に、半円部分の位置
が重なるように並べて配置されるが、このとき、コの字
型部材７１ａと、コの字型部材７１ｂとが交互に並ぶよ
うにする。このようにすると、コの字型部材７１ａの内
面と、コの字型部材７１ｂの内面とが対向する。ここ
で、コの字型部材７１ａの両端のストッパ７１ｃの間
に、隣接する隔壁１０に接続されたコの字型部材７１ｂ
のストッパ７１ｃが位置するようにする。

【００５１】また、図７（ｂ）の状態の洗浄支援構造体
のＡ−Ａ’で示した断面の断面図を図７（ｃ）に示し、
Ｂ−Ｂ’で示した断面の断面図を図７（ｄ）に示す。ガ
イド部材７２は、図７（ｃ）および（ｄ）に示すよう
に、ガイド溝７２ａが対向するように、平行に配置さ
れ、ガイド溝７２ａ内に、コの字型部材７１ａおよび７
１ｂの端部を把持する。これにより、コの字型部材７１
の移動方向が、ガイド部材７２の延伸方向に限定され
る。また、コの字型部材７１のガイド部材７２の延伸方
向での移動範囲は、ストッパ７２ｃにより限定される。

【００５２】図７（ａ）は、隣接するコの字型部材７１
ａどうしのストッパ７１ｃが接触し、コの字型部材７１
ｂのストッパ７１ｃがコの字型部材７１ａに接続した隔
壁１０に接触するまで、隔壁１０の間隔を狭めた状態を
図示したものである。また、図７（ｂ）は、隣接するコ
の字型部材７１ａが、コの字型部材７１ｂのストッパ７
１ｃに掛止するまで、隔壁１０の間隔を広げた状態を図
示したものである。

【００５３】洗浄支援構造体１１の使用方法は、実施例
１と同様である。すなわち、洗浄支援構造体１１を、図
７（ａ）に示した状態で、ウェハＷの配列された洗浄槽
５０内に、隔壁１０を下に、支持部材を上にして、洗浄
槽５０のガイドに沿って挿入し、処理液に浸漬して洗浄
を行なう。洗浄後、洗浄支援構造体１１を洗浄槽５０か
ら取り出し、図７（ｂ）の状態にして、処理液に浸漬
し、隔壁１０を洗浄する。本実施例においても、隔壁１
０の洗浄に際しては、隔壁１０の間隔を十分広げること
ができるので、隔壁１０表面を清浄な状態にすることが
できる。

【００５４】＜実施例３＞本実施例では、長尺物のシー
トの一部を、隔壁として用いる。本実施例の洗浄支援構
造体は、図８（ａ）に示すように、２本の巻き軸８５
と、長尺物の隔壁シート８１と、巻き軸８５を回転させ
るためのモータ８４と、モータのコントローラ８３と、
電源８２とを備える。なお、巻き軸８５を手動などで回
転させる場合は、モータ８４、コントローラ８３、およ
び電源８２はなくてもよい。

【００５５】巻き軸８５は、シート８１ごとに２個備え
られ、そのうちの一方８５ｂは洗浄槽５０の底面に固定
されている繰り出し軸である。また、他方８５ａは洗浄
槽５０の上部に固定され、モータ８４に接続されている
巻き取り軸である。隔壁シート８１は、厚さ０．７ｍ
ｍ、幅２１０ｍｍ、長さ１０ｍの長尺物であり、両端が
それぞれ巻き軸８５に接続されている。

【００５６】本実施例の洗浄装置を用いれば、洗浄のバ
ッチ処理を繰り返して行なうことができる。つぎに、本
実施例における洗浄方法を説明する。

【００５７】処理前の隔壁シート８１は、巻き軸８５の
間に張られる分を残して、洗浄槽５０の底面に固定され
た巻き軸に巻かれている。この状態で、洗浄槽５０に処
理液４０を満たし、シート８１の間隙にウェハＷを配置
して所定時間処理液に浸漬することにより洗浄する。

【００５８】つぎに、洗浄後のウェハＷを取り出した
後、モータ８４を駆動して、モータに接続された巻き取
り軸８５ａを回転させ、シート８１の、洗浄処理中に表
面が処理液に浸漬していた部分を、巻き取り軸８５ａに
巻き取る。これにより、シート８１の洗浄に使用されて
いない部分が繰り出し軸８５ｂに巻回されていた部分か
ら引き出され、洗浄槽５０内に張られることになる。そ
こで、このシート８１の間隙に、洗浄するウェハＷを配
置し、洗浄すれば、清浄な隔壁シート８１を用いて隔離
しつつ、ウェハＷの洗浄処理を繰り返すことができる。
従って、本実施例によれば、シート間に、常に清浄な表
面を有する隔壁シート８１を供給することによって、高
精度な洗浄を行なうことができる。なお、洗浄処理を送
り返すことにより、繰り出し軸８５ｂに巻かれていたシ
ートすべてが引き出され、洗浄に使用された場合は、シ
ートを巻き軸８５から外して、洗浄液に浸漬すること
で、再度、表面を清浄にすることができる。

【００５９】本実施例では、洗浄時間中はシート８１を
動かさない。しかし、シート８１を巻き取りながら洗浄
するようにしてもよい。すなわち、ウェハＷを処理液に
浸漬している間、モータ８４を駆動させつづけ、シート
８１を低速で継続的に巻き取るようにしてもよい。この
ようにすれば、洗浄処理中、つねに隔壁を清浄に保つこ
とができる。なお、このようにする場合、巻き取りによ
るシート８１の移動方向は、処理液の流れ（本実施例で
は、実施例１と同様に、下から上へ処理液が流れてい
る）に沿わせることが望ましい。このようにすれば、ウ
エハ間の処理液の流れが促進されるため、洗浄効果を高
めることができる。

【００６０】また、図８（ｂ）に示すように、ウェハＷ
の間隙に、隔壁シート８１を２枚設けてもよい。このよ
うにして、洗浄中にシート８１を継続的に巻き取るよう
にすれば、シート８１の動きに伴って、ウェハＷの表裏
両面に、常に清浄な処理液が供給されるので、洗浄効率
がよい。

【００６１】＜実施例４＞実施例では、毛細管現象によ
って、ウェハＷ表面に処理液を供給する。本実施例の洗
浄装置の断面図を、図１０に示す。本実施例の洗浄装置
の洗浄槽５０は、実施例１〜４の洗浄槽５０に比べて浅
く、図１０（ａ）に示すように、ウェハＷの下端が処理
液４０液面に接触する程度の深さになっている。また、
本実施例の洗浄装置は、図１０（ｂ）に示すように、ウ
ェハ搭載位置の両側に、処理液吸い取り機構８８を備え
る。さらに、本実施例の洗浄装置は、巻き軸８５ごと隔
壁シート８１をウェハＷの表裏の平面の法線方向に移動
させる隔壁移動機構（図示せず）を備える。本実施例の
洗浄装置のこれら以外の構成は、実施例３と同様であ
る。

【００６２】処理液吸い取り機構８８は、吸液部８６
と、吸液部移動機構８７とを備える。吸液部移動機構８
７は、吸液部８６を水平移動させることにより、ウェハ
Ｗと隔壁１０との間隙の端部に吸液部８６を押し当てた
り、吸液部８６をウェハＷから離間させたりする。吸液
部８６は、濾紙やスポンジなど、吸水性の素材からな
り、側面がウェハＷ端部に倣う形になっている。また、
本実施例では、隔壁移動機構を備えることにより、隔壁
シート８１をウェハＷに近付けたり離したりすることが
できる。

【００６３】ウェハＷ間に薄いシート状の隔壁８１を介
在させ、隔壁シート８１とウエハＷとの間隔を、毛細管
現象を発生させる程度まで狭くすると、ウェハＷ表面へ
の処理液の供給を、毛細管現象によって行なうことがで
きる。具体的には、例えば、ポリプロピレンのシートを
隔壁１０として用い、図９に示すように、被洗浄物であ
るウェハＷの表裏両面にこのシートを倣わせた状態で、
端部（間隙の開口部９１）を処理液の液面に浸す。これ
により、ウェハＷとシート８１との間に処理液が供給さ
れるので、所定時間放置したのちこの処理液を排出し、
隔壁移動機構により隔壁８１をウェハＷから遠ざけて、
ウェハＷを支持機構５３から取り外せば、ウェハＷの洗
浄が完了する。このようにすれば、ウエハＷ全面への処
理液の供給が均一になるため、均一な洗浄またはエッチ
ング処理ができ、さらに、処理液量の画期的な削減が可
能となる。

【００６４】なお、ウェハＷとシート８１との間の処理
液の排液は、端部（間隙の開口部９１）に吸液部８６を
接触させることにより行なう。このようにすれば、均一
な排液ができる。

【００６５】なお、洗浄済みのウェハＷを取り除いた後
に、隔壁移動機構を用いて隔壁８１の間隔を広げた状態
で洗浄液に浸漬すれば、隔壁１０表面を再度清浄な状態
に戻すことができる。また、実施例３と同様に、シート
８１を巻き軸８５から外して洗浄してもよい。

【００６６】

【発明の効果】本発明によれば、つねに、清浄な表面を
備える隔壁を介して被洗浄物を並べて洗浄を行なうこと
で、バッチ式洗浄処理に伴う転写の問題を解決すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例１の洗浄支援構造体の構造を示す説明
図である。

【図２】 従来のバッチ式ウエット洗浄処理を示す説明
図である。

【図３】 バッチ式洗浄処理における転写のメカニズム
を示す説明図である。

【図４】 実施例１における洗浄装置の断面図である。

【図５】 ウェハの間隙ごとに処理液ノズルを備える洗
浄槽を用いた場合の洗浄装置の断面図である。

【図６】 隔壁表面を粗くした場合の洗浄装置の断面を
示す模式図である。

【図７】 実施例２の洗浄支援構造体の構造を示す説明
図である。

【図８】 実施例３の洗浄装置の断面図である。

【図９】 実施例４の洗浄方法を示す説明図である。

【図１０】 実施例４の洗浄装置の断面図である。

【符号の説明】

Ｗ…半導体ウエハ、Ｗf…ウエハ表面、Ｗb…ウエハ裏
面、ＷS…ウエハ群、ＷS'…隔壁群が間隙に配置された
ウエハ群、１０…隔壁、１１…洗浄支援構造体、１３
ｃ，１３ｄ，１３ｅ…隔壁支持用ビーム、１３２，１３
３…隔壁支持用軸、２０…異物、３０…ウエハキャリ
ア、４０…処理液、５０…洗浄槽、５１…給液口、５２
…排液溝、５３…ウェハ支持用突起（ウェハ支持機
構）、８１…隔壁シート、８２…電源、８３…コントロ
ーラ、８４…モータ、８５…巻き軸、８５ａ…巻き取り
軸、８５ｂ…繰り出し軸、８６…吸液部、８７…吸液部
移動機構、８８…処理液吸い取り機構。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数の被洗浄物を並べて配置し、処理液に
   浸漬することにより、被洗浄物の表面を清浄にする洗浄
   装置に、上記被洗浄物の間を隔てるために用いられる洗
   浄支援構造体において、 複数の隔壁と、該隔壁を支持する支持部材とを備え、 上記支持部材は、 上記隔壁の間隔を変えられるように構成されていること
   を特徴とする洗浄支援構造体。
2. 【請求項２】洗浄槽中に、複数の被洗浄物を並べて配置
   し、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を清
   浄にする洗浄装置に、上記被洗浄物の間を隔てるために
   用いられる洗浄支援構造体において、 巻き軸と、 少なくとも一部が上記巻き軸に巻かれた長尺物のシート
   とを備えることを特徴とする洗浄支援構造体。
3. 【請求項３】請求項２において、 上記巻き軸は、上記シートごとに２個備えられ、 上記シートの両端は、それぞれ、上記巻き軸のひとつに
   接続され、 上記巻き軸のうちの一つは、上記洗浄槽底面に固定され
   ていることを特徴とする洗浄支援構造体。
4. 【請求項４】洗浄槽中に、複数の被洗浄物を並べて配置
   し、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を清
   浄にする洗浄装置において、 上記被洗浄物の間を隔てるための隔壁と、 上記隔壁を支持する支持部材とを備え、 上記支持部材は、 上記隔壁の間隔が可変なように、上記隔壁を支持するこ
   とを特徴とする洗浄装置。
5. 【請求項５】洗浄槽中に、複数の被洗浄物を並べて配置
   し、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を清
   浄にする洗浄装置において、 上記被洗浄物の間を隔てるための隔壁機構を備え、 上記隔壁機構は、 巻き軸と、 少なくとも一部が上記巻き軸に巻かれた長尺物のシート
   とを備えることを特徴とする洗浄装置。
6. 【請求項６】請求項５において、 上記隔壁機構は、 上記巻き軸を回転させて上記シートを巻き取るためのモ
   ータを、さらに備えることを特徴とする洗浄装置。
7. 【請求項７】請求項５において、 上記隔壁機構は、上記シートを、該シート表裏面の法線
   方向に移動させ移動機構をさらに備えることを特徴とす
   る洗浄装置。
8. 【請求項８】請求項４または５において、 上記被洗浄物の間隙ごとに、処理液供給用ノズルをさら
   に備えることを特徴とする洗浄装置。
9. 【請求項９】複数の被洗浄物を所定の間隔で並べて配置
   し、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を清
   浄にする被洗浄物洗浄工程を備える洗浄方法において、 上記被洗浄物の間は、一以上の隔壁により隔てられ、 上記被洗浄物洗浄工程の後に、 上記隔壁を、上記所定の間隔より広い間隔で並べて、処
   理液に浸漬することにより、該隔壁の表面を清浄にする
   隔壁洗浄工程を、さらに含むことを特徴とする洗浄方
   法。
10. 【請求項１０】複数の被洗浄物を所定の間隔で並べて配
    置し、処理液に浸漬することにより、被洗浄物の表面を
    清浄にする被洗浄物洗浄工程を備える洗浄方法におい
    て、 上記被洗浄物の間は、一以上の隔壁により隔てられ、 上記隔壁は、長尺物のシートの一部であることを特徴と
    する洗浄方法。
11. 【請求項１１】複数の被洗浄物を所定の間隔で並べて配
    置し、該被洗浄物の表面を処理液に浸漬することによ
    り、被洗浄物の表面を清浄にする被洗浄物洗浄工程を備
    える洗浄方法において、 上記被洗浄物の間は、一以上の隔壁により隔てられ、 上記被洗浄物表面への処理液の供給は、該被洗浄物の表
    面と上記隔壁の表面との間の表面張力を用いて行なわれ
    ることを特徴とする洗浄方法。
12. 【請求項１２】被洗浄物の間を隔てるための隔壁を複数
    支持する支持機構を備え、 最短状態と最長状態との２状態を遷移することにより、
    支持する隔壁の間隔を変更するように構成されているこ
    とを特徴とする洗浄用隔壁支持具。
13. 【請求項１３】請求項１２において、 上記支持機構を備える複数の単位連結要素を備え、 上記単位連結要素は、隣接する要素が互いにオーバーラ
    ップしながら一定方向に並べて接続されており、 上記オーバーラップ部分の長さを変えることにより、上
    記隔壁の間隔が変わるように構成されていることを特徴
    とする洗浄用隔壁支持具。
14. 【請求項１４】請求項１２において、 上記支持機構を備える複数の単位連結要素を備え、 上記単位連結要素は、交叉する２本の連結棒からなり、 上記連結棒の挟角を変えることにより、上記隔壁の間隔
    が変わるように構成されていることを特徴とする洗浄用
    隔壁支持具。
15. 【請求項１５】巻き取り軸および繰り出し軸と、上記軸
    の支持部とを備える隔壁シート巻き取り機構を備えるこ
    とを特徴とする洗浄用隔壁支持具。
16. 【請求項１６】請求項１５において、 上記隔壁シート巻き取り機構は複数備えられ、 上記隔壁シート巻き取り機構を支持する支持機構を、さ
    らに備え、 上記支持機構は、支持する隔壁シートの間隔を変更でき
    るように構成されていることを特徴とする洗浄用隔壁支
    持具。