JPH0910709A

JPH0910709A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH0910709A
Application number: JP16537995A
Authority: JP
Inventors: Kenji Sugimoto; 賢司杉本; Naotada Maekawa; 直嗣前川
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1995-06-30
Filing date: 1995-06-30
Publication date: 1997-01-14

Abstract

(57)【要約】【目的】一様な薬液の吐出を可能にし、汚染が生じに
くい基板処理装置を提供すること。【構成】処理槽４は、処理槽本体を構成する容器部分
４１と、容器部分４１の底部に対向して設けられた一対
の処理液吐出ノズル４３、４４とを備え、両者はともに
ＰＥＥＫ材で形成されている。したがって、基板処理の
ための薬液として例えば希フッ酸を用いて基板表面の酸
化膜をエッチングする場合などにおいて、薬液によって
処理槽４の内壁面や処理液吐出ノズル４３、４４が侵食
されることを有効に防止することができる。よって、基
板処理に際して汚染が生じにくく、常に一様な処理液の
吐出が可能になる。しかも、処理槽４を樹脂材で形成す
ることにより、簡易に精度良く処理槽４を作製すること
が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体基板や液晶ガ
ラス基板などの薄板状の基板を処理液に浸漬してこの表
面に洗浄等の諸処理を施す基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上記のような基板処理装置とし
て、例えば単一処理槽中に薬液や純水などの各種処理液
を順次投入して槽中の基板に一連の処理を行うものがあ
る。このような基板処理装置は、処理液中に基板を浸漬
して薬液処理や水洗処理を行うための石英ガラス製の処
理槽と、この処理槽中に各種処理液を順次投入するため
の処理液供給システムとを備える。そして、このような
基板処理装置では、処理槽中に適当な手段によって基板
を支持した状態で、この処理槽中に処理液供給システム
によって各種処理液を予め定められた手順で供給する複
数工程によって、基板表面の汚染物質を除去したり、酸
化膜をエッチングしたり、レジスト膜を剥離したりす
る。

【０００３】なお、この処理槽の底の対向する隅部に
は、処理液供給システムから供給される各種処理液をこ
の処理槽内に吐出させる二重管構造のノズルが固設され
ている。そして、このノズルは、処理液供給システムか
ら供給される各種処理液を処理槽外にオーバーフローさ
せて処理槽中の基板を処理する際に、処理槽中の処理液
にアップフローを形成する。この二重管構造のノズルに
等間隔に設けた開口からは、処理槽中に供給されるべき
各種処理液がほぼ一様に吹き出す。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
装置では、処理液として様々な薬液を使用するので、薬
液の種類によっては石英ガラス製の処理槽の内面が徐々
に侵食される場合がある。特に、基板処理の薬液として
希フッ酸を用いて基板表面の酸化膜をエッチングする場
合などにおいては、処理槽の内壁面が侵食されるのみな
らず、この処理槽の底に設けた二重管構造のノズルも侵
食されてこれに設けた開口の形状が経時的に変化する。
この結果、開口から吹き出す処理液が一様でなくなり、
結果として処理槽中の液流が徐々に変化してしまう。ま
た、石英ガラス製の処理槽の内面などが侵食されること
により、シリカ系の生成物が生じて処理中の基板の表面
に付着するとういう汚染の問題も生じる。

【０００５】さらに、石英ガラスを加工して処理槽を製
作しているので、処理槽の簡易な製作が困難であるとと
もに、処理槽のノズル部分のみを交換するといった部品
交換も不可能であった。

【０００６】そこで、この発明は、常に一様な薬液の吐
出を可能にし、汚染が生じにくい基板処理装置を提供す
ることを目的とする。

【０００７】また、この発明は、簡易に製作可能で、部
品交換も可能な基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の基板処理装置は、薬液を収容する処理槽
中に基板を支持することにより、基板に薬液処理を施す
基板処理装置において、処理槽が樹脂材で形成されてい
ることを特徴とする。

【０００９】また、請求項２の基板処理装置は、処理槽
中で基板を支持する支持部材が樹脂材で形成されている
ことを特徴とする。

【００１０】また、請求項３の基板処理装置は、処理槽
が処理槽中に薬液を吐出する薬液吐出部を有し、薬液吐
出部が処理槽の本体部分に対して着脱自在であることを
特徴とする。

【００１１】また、請求項４の基板処理装置は、処理槽
が、処理槽中に順次供給される複数種の処理液によって
基板に一連の処理を施す多機能槽であり、処理槽中に薬
液を吐出する２重管構造の薬液吐出管を備えることを特
徴とする。

【００１２】また、請求項５の基板処理装置は、樹脂材
がＰＥＥＫ材であることを特徴とする。

【００１３】

【作用】請求項１の基板処理装置では、処理槽が樹脂材
で形成されているので、基板処理のための薬液として例
えば希フッ酸を用いて基板表面の酸化膜をエッチングす
る場合などにおいて、薬液によって処理槽の内壁面や薬
液の吐出口が侵食されることを有効に防止することがで
きる。よって、基板処理に際して汚染が生じにくく、常
に一様な処理液の吐出が可能になる。しかも、処理槽を
樹脂材で形成することにより、簡易に精度良く処理槽を
作製することができる。

【００１４】また、請求項２の基板処理装置では、処理
槽中で基板を支持する支持部材が樹脂材で形成されてい
るので、薬液によって支持部材の表面が侵食されること
を有効に防止することができ、基板処理に際して汚染が
生じにくくなる。

【００１５】また、請求項３の基板処理装置では、処理
槽がこの処理槽中に薬液を吐出する薬液吐出部を有し、
薬液吐出部が処理槽の本体部分に対して着脱自在である
ので、薬液吐出部のみの交換が可能となり、簡易に薬液
吐出部の材質や形状等の仕様を変更することができる。

【００１６】また、請求項４の基板処理装置では、処理
槽が、この処理槽中に順次供給される複数種の処理液に
よって基板に一連の処理を施す多機能槽であり、処理槽
中に薬液を吐出する２重管構造の薬液吐出管を備えるの
で、各種薬液が投入される多機能槽において、基板処理
時の汚染を防止して、常に一様な処理液の吐出を可能に
することができる。

【００１７】また、請求項５の基板処理装置では、樹脂
材がＰＥＥＫ材であるので、耐薬品性に優れ、基板処理
時における汚染や、処理液の吐出の不均一の問題を確実
に防止できる。しかも、ＰＥＥＫ材は良好な親水性を有
するので処理槽の内壁面などに気泡が付着することを防
止でき、基板処理時における汚染や処理不良の問題が生
じることを防止できる。さらに、ＰＥＥＫ材を用いるこ
とにより、簡易な加工・組立により処理槽を比較的高精
度で作製することができる。

【００１８】

【実施例】以下、この発明の実施例に係る基板処理装置
について詳細に説明する。

【００１９】図１は、第１実施例に係る基板処理装置を
構成する処理槽の正面構造を説明する図である。希フッ
酸などの薬液や純水である処理液２を収容する処理槽４
は、ＰＥＥＫ材（ポリエーテルエーテルケトン）で形成
されている。また、この処理槽４中に基板Ｗとともに浸
漬されて基板Ｗを処理槽４中に支持する支持部材６もＰ
ＥＥＫ材で形成されている。

【００２０】図示の処理槽４は、処理槽本体を構成する
容器部分４１と、この容器部分４１の底部に対向して設
けられた一対の処理液吐出ノズル４３、４４とを備え、
両者はともにＰＥＥＫ材で形成されている。各処理液吐
出ノズル４３、４４は、同一の二重管構造を有してお
り、この構造は、図示を省略する処理液供給システムか
らの各種処理液２を処理槽４内に貯留するとともに処理
槽４上部からオーバーフローさせて基板Ｗを処理する際
に、処理槽４中の処理液２に一様なアップフローを形成
するためのものである。すなわち、各処理液吐出ノズル
４３、４４の内管４３ａ、４４ａに供給された処理液２
は、これらに設けた開口から外管４３ｂ、４４ｂ内面側
にそれぞれ吐出された後、外管４３ｂ、４４ｂ下部に設
けたスリットを介して処理槽４内に吐出される。この
際、内管４３ａ、４４ａと外管４３ｂ、４４ｂとの間の
空間が緩衝部となって外管４３ｂ、４４ｂに設けたスリ
ットから処理槽４内に吐出される処理液２の吐出状態を
全体的に均一なものとすることができる。

【００２１】支持部材６は、多数の基板Ｗをこれらが互
いに平行かつそれぞれ垂直に配列されるように下方側か
ら支持する３本のガイド６１と、これらのガイド６１を
水平に固定支持する背板６３とを備える。この背板６３
の上端は、図示を省略する昇降機構に連結されている。
この昇降機構により、基板Ｗを支持する支持部材６を降
下させて処理槽４の処理液２中に基板Ｗを浸漬して所望
の処理を行わせたり、支持部材６を上昇させて処理槽４
の処理液２中から基板Ｗを引き上げたりすることができ
る。なお、処理槽４から引き上げられた基板Ｗは、他の
処理槽や基板乾燥部等への移し換えのため、図示を省略
する搬送ロボットのハンドリング部に移載される。

【００２２】図２は、図１に示す処理槽４の組立を説明
する図である。まず、本体側である容器部分４１を形成
する。具体的には、一対のベース状の前板４１ａ及び後
板４１ｂと、一対の方形の側板４１ｃ、４１ｃとを、Ｐ
ＥＥＫ材から機械加工によって切り出す。さらに、底部
を構成する一対の方形の底板４１ｄもＰＥＥＫ材から切
り出しておく。

【００２３】次に、前板４１ａ、後板４１ｂ、側板４１
ｃ、４１ｃ、及び底板４１ｄを図示のように組み合わせ
て、各板４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｃ、４１ｄを相
互に溶接によって固定することによって、本体側である
容器部分４１を完成する。

【００２４】次に、容器部分４１の底部に残る一対の開
口に、処理液吐出ノズル４３、４４の外側を構成する一
対の外管４３ｂ、４４ｂを溶接によって固定する。これ
らの外管４３ｂ、４４ｂより、容器部分４１底部の開口
が封止される。なお、この外管４３ｂ、４４ｂは、ブロ
ック材から切削によって作製されたもので、内部に円柱
状の空間が形成されている。

【００２５】次に、これらの外管４３ｂ、４４ｂ内部の
円柱状空間中に、一対の内管４３ａ、４４ａがそれぞれ
差し込まれる。そして、内管４３ａ、４４ａが取付けナ
ット４３ｃ、４４ｃによって締め付けられて外管４３
ｂ、４４ｂ側に固定される。

【００２６】最後に、ＰＥＥＫ材などからなる処理液供
給管４５の２つに分岐した一対の端部４５ａ、４５ｂ
が、一対の内管４３ａ、４４ａの開口にそれぞれ接続さ
れ溶接などによって固定される。

【００２７】図３は、図２に示す外管４４ｂ及び内管４
４ａの固定方法をより詳しく説明する図である。外管４
４ｂの一端側は閉じており、その閉じた内面には円形の
突起８０が形成されている。この突起８０に内管４４ａ
の一端の内面が嵌り込んで、その位置合わせが達成され
る。一方、外管４４ｂの他端側は開放されており、その
内面に内管４４ａのフランジ８２が嵌り込んで内管４４
ａの他端の位置合わせが達成される。さらに、外管４４
ｂの他端側の外周に切ったネジ部分８４には、取付けナ
ット４４ｃ内面のネジ部分が螺合してフランジ８２を締
め付けるので、外管４４ｂ及び内管４４ａがシール材８
６を介して相互に固定される。

【００２８】内管４４ａには、多数の円形開口９０が等
間隔で形成されており、内管４４ａ外面と外管４４ｂ内
面とによって挟まれた空間Ｓに処理液を吐出する。外管
４４ｂには、多数のスリット９２が等間隔で形成されて
おり、内管４４ａ及び外管４４ｂによって形成されてい
る空間Ｓから、外管４４ｂの外部すなわち図１及び図２
に示す容器部分４１内に処理液を吐出する。

【００２９】図４は、図１で示した支持部材６の組立を
説明する図である。まず、背板６３と３本のガイド６１
と補強板６２とを準備する。具体的には、３本のガイド
６１を形成すべくＰＥＥＫ材から棒材を切り出すととも
に、この棒材の側面に基板の端縁を差込むための溝６１
ａを等間隔に刻む。さらに、長いベース状の背板６３
と、短いベース状の補強板６２とをＰＥＥＫ材から切り
出し、それぞれにガイド６１の両端が嵌り込むべき穴６
３ａ、６２ａを形成する。次に、背板６３に設けた穴６
３ａに３本のガイド６１の一端を差し込み、補強板６２
に設けた穴６２ａにそれぞれのガイド６１の他端を差し
込む。最後に、背板６３と各ガイド６１の一端とを相互
に溶接によって固定し、さらに補強板６２と各ガイド６
１の他端とを相互に溶接によって固定することによっ
て、支持部材６を完成する。

【００３０】図５は、図４で説明した支持部材６が処理
槽４に浸漬される状態を示す図である。支持部材６の背
板６３の上端は、昇降機構を構成する上下移動体７に連
結されている。基板Ｗを支持する支持部材６を処理槽４
中に降下させると、処理槽４に収容された処理液２中に
基板Ｗが浸漬され処理液２による処理が開始される。こ
の際、処理槽４に処理液２を供給し続けて、処理液２を
処理槽４の上部からオーバーフローさせながら基板Ｗの
処理を行うこともできる。なお、基板Ｗの処理の進行を
停止する場合には、支持部材６を処理槽４中から上昇さ
せて、処理槽４の処理液２中から基板Ｗを引き上げるな
どする。

【００３１】図６は、第２実施例の基板処理装置の処理
槽を説明する図である。薬液や純水を収容する処理槽１
０４は、ＰＥＥＫ材で形成されている。なお、図示を省
略しているが、この処理槽１０４中に基板とともに浸漬
される支持部材は、第１実施例の図４で説明したものと
同様のものでありＰＥＥＫ材から形成される。

【００３２】この処理槽１０４は、処理槽本体を構成す
る容器部分１４１と、この容器部分１４１の底部に取り
付けられる一対の処理液吐出ノズル１４３、１４４とを
備える。そして、これらの容器部分４１と両ノズル１４
３、１４４とはともにＰＥＥＫ材から形成される。

【００３３】以下、図６に示す処理槽１０４の組立につ
いて説明する。まず、容器部分１４１を形成する。具体
的には、一対の前板１４１ａ及び後板１４１ｂと、一対
の側板１４１ｃ、１４１ｃをＰＥＥＫ材から機械加工に
よって切り出す。さらに、図面に表れていないが、底部
を構成する一対の底板もＰＥＥＫ材から機械加工によっ
て切り出しておく。

【００３４】次に、各板１４１ａ、１４１ｂ、１４１
ｃ、１４１ｃを図示のように組み立て、これらを相互に
溶接によって固定することによって、本体側である容器
部分１４１を作製する。なお、前板１４１ａと一対の側
板１４１ｃ、１４１ｃとの間の接続、後板１４１ｂと一
対の側板１４１ｃ、１４１ｃとの間の接続、及び前板１
４１ａや後板１４１ｂと底板との間の接合に際しては、
あり溝構造を用いて必要箇所を溶接で固定することとし
ている。このあり溝構造を用いた接合を図７に簡単に説
明する。すなわち、後板１４１ｂと側板１４１ｃとの間
に形成したあり溝部１４６を嵌合させて両板１４１ｂ、
１４１ｃを相互に接続する。そして、補強とシールのた
めに溶接を行って両板１４１ｂ、１４１ｃの継目に溶接
部１４８を形成する。

【００３５】次に、本体側である容器部分１４１の正面
底部に予め設けてある開口部１４９、１４９を介して、
容器部分１４１中に一対の外管１４４ｂ、１４３ｂがそ
れぞれ差し込まれる。各開口部１４９は外周にネジが切
ってあるカラーを有している。したがって、開口部１４
９、１４９のカラーに取付けナット１４３ｃ、１４４ｃ
をねじ込むことにより、外管１４４ｂ、１４３ｂの端部
に設けたフランジ１８２、１８２が取付けナット１４３
ｃ、１４４ｃと開口部１４９、１４９との間に挟まれて
締め付けられ、両外管１４４ｂ、１４３ｂが容器部分１
４１側に固定される。

【００３６】最後に、外管１４３ｂ、１４４ｂ内部の円
柱状の空間中に、内管１４３ａ、１４４ａがそれぞれ差
し込まれる。なお、内管１４３ａ、１４４ａには、処理
液供給管（図示を省略）の２つに分岐した一対の端部が
接続され固定される。

【００３７】図８は、図６に示す内管１４４ａ及び外管
１４４ｂからなるノズル部分の固定方法をより詳しく説
明する図である。容器部分１４１を構成する後板１４１
ｂの内面側には、リング状の突起１８０が形成されてお
り、この突起１８０に外管１４４ｂの一端の内面が嵌り
込んで、外管１４４ｂの一端の位置合わせが達成され
る。

【００３８】一方、容器部分１４１を構成する前板１４
１ａの開口部１４９の内面には、外管１４４ｂの他端が
嵌り込んでその位置合わせが達成される。そして、開口
部１４９の外周に切ったネジに取付けナット１４３ｃ内
面のネジが螺合して容器部分１４１と外管１４４ｂとが
相互に固定される。なお、外管１４４ｂに設けたフラン
ジ１８２とカラー部１４９との間には、環状のシール材
１４４ｄが挟み込まれており、外管１４４ｂ及び容器部
分１４１間の槽外の接続部分における水密性が保たれ
る。

【００３９】さらに、外管１４４ｂの一端の位置合わせ
のためのリング状の突起１８０の中央には、円形の突起
１８１が形成されており、この突起１８１に内管１４４
ａの一端の内面が嵌り込んで、内管１４４ａの一端の位
置合わせが達成される。一方、外管１４４ｂの他端は内
径が細くなっており、その内面側にＯリング１４４ｅが
仕込まれている。このＯリング１４４ｅに内管１４４ａ
の他端が嵌り込んでその位置合わせが達成される。な
お、Ｏリング１４４ｅを設けたことにより、内管１４４
ａ及び外管１４４ｂ間の接続部分における水密性が保た
れる。

【００４０】第２実施例に係る基板処理装置の処理槽で
は、あり溝構造を用いて容器部分１４１を組立ててお
り、溶接はシールのために用いるのみであるので、容器
部分１４１に溶接による歪みが生じにくい。したがっ
て、部品の加工精度をそのまま維持して容器部分１４１
を精密に作製することが可能になる。逆に言えば、熱変
形の大きい材料を用いても所望の形状を有する容器部分
１４１を容易に作製することができるようになった。ま
た、あり溝構造を用いて容器部分１４１を組立ているの
で、溶接強度が十分に見込めないような材料を用いた場
合にも、作製後の容器部分１４１の強度を十分に高める
ことができる。また、内管１４４ａ及び外管１４４ｂを
一組とするノズル部分が着脱自在であり、ノズル部分の
交換が簡易に行えるので、ノズル部分の材質や形状の変
更が容易となる。このように、ノズル部分の材質や形状
の変更が容易となったことにより、部品の共通化を図る
ことができ、これによって処理槽のバリエーションを増
やし、かつ、見込み作製やコストダウンの利益も期待で
きる。

【００４１】以上実施例に即してこの発明を説明した
が、この発明は上記実施例に限定されるものではない。
例えば、上記実施例では希フッ酸などの薬液に対する耐
性を高めるため処理槽をＰＥＥＫ材で形成しているが、
他の樹脂材料、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフロロエチ
レン）材、ＰＦＡ（４フッ化エチレン−パーフロロアル
キルビニルエーテル共重合樹脂）材、ＰＶＣ（ポリビニ
ルクロライド）材、ＰＶＤＦ（フッ化ビニリデン）材な
どの耐化学薬品性を有する各種樹脂材を用いて処理槽を
形成することもできる。この際、処理液として使用する
薬液に対する耐性に応じて樹脂材を適宜選択することも
できる。但し、ＰＥＥＫ材等のように親水性の大きい樹
脂材の方が気泡の発生付着による汚染を防止できる点で
は優れる。

【００４２】また、上記実施例では容器部分４１、１４
１を溶接やあり溝構造を用いて作製しているが、これら
を構成すべき板材を嵌合部材やボルトを用いて組み立て
たり、さらに溶接で補強したり、シールしたりすること
によって容器部分４１、１４１を作製することができ
る。

【００４３】さらに、上記実施例では容器部分４１、１
４１などをＰＥＥＫ材から機械加工によって切り出した
板材などを用いて作製しているが、これらをＰＥＥＫ材
から予め所定の寸法に成形してある板材などの組み立て
によって作製することもできる。

【００４４】さらに、上記実施例では明示していない
が、実施例の基板処理装置は、単一の処理槽４中に薬液
や純水などの各種処理液２を順次投入して処理槽４中の
基板Ｗに一連の処理を行う多機能槽を含む浸漬処理装置
とすることもでき、複数の処理槽４のそれぞれに異なる
種処理液２を貯留してこれら複数の処理槽４に所定の手
順で基板Ｗを投入して基板Ｗに一連の処理を行う多槽式
浸漬処理装置とすることもできる。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の基板処
理装置によれば、処理槽が樹脂材で形成されているの
で、基板処理のための薬液として例えば希フッ酸を用い
て基板表面の酸化膜をエッチングする場合などにおい
て、薬液によって処理槽の内壁面や薬液の吐出口が侵食
されることを有効に防止することができる。よって、基
板処理に際して汚染が生じにくく、常に一様な処理液の
吐出が可能になる。しかも、処理槽を樹脂材で形成する
ことにより、簡易に精度良く処理槽を作製することがで
きる。

【００４６】また、請求項２の基板処理装置によれば、
処理槽中で基板を支持する支持部材が樹脂材で形成され
ているので、薬液によって支持部材の表面が侵食される
ことを有効に防止することができ、基板処理に際して汚
染が生じにくくなる。

【００４７】また、請求項３の基板処理装置によれば、
処理槽が処理槽中に薬液を吐出する薬液吐出部を有し、
薬液吐出部が処理槽の本体部分に対して着脱自在である
ので、薬液吐出部のみの交換が可能となり、簡易に薬液
吐出部の材質や形状等の仕様を変更することができる。

【００４８】また、請求項４の基板処理装置によれば、
処理槽が、処理槽中に順次供給される複数種の処理液に
よって基板に一連の処理を施す多機能槽であり、処理槽
中に薬液を吐出する２重管構造の薬液吐出管を備えるの
で、各種薬液が投入される多機能槽において、基板処理
時の汚染を防止して、常に一様な処理液の吐出を可能に
することができる。

【００４９】また、請求項５の基板処理装置によれば、
樹脂材がＰＥＥＫ材であるので、耐薬品性に優れ、基板
処理時における汚染や、処理液の吐出の不均一の問題を
確実に防止できる。しかも、ＰＥＥＫ材は良好な親水性
を有するので処理槽の内壁面などに気泡が付着すること
を防止でき、基板処理時における汚染や処理不良の問題
が生じることを防止できる。さらに、ＰＥＥＫ材を用い
ることにより、簡易な加工・組立により処理槽を比較的
高精度で作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例の基板処理装置の要部である処理槽
及び支持部材の構造を示す図である。

【図２】図１の処理槽の組み立てを示す図である。

【図３】図１の処理槽に取り付けられたノズル部分の構
造を示す断面図である。

【図４】図１の支持部材の組み立てを示す図である。

【図５】処理槽中に配置される支持部材の状態等を説明
する図である。

【図６】第２実施例の基板処理装置の要部である処理槽
の構造を示す図である。

【図７】図６の処理槽を構成する板材間の接続を説明す
る図である。

【図８】図６の処理槽に取り付けられるノズル部分の構
造を示す断面図である。

【符号の説明】

２処理液４処理槽６支持部材４３、４４、１４３、１４４ノズル部分４３ａ、４４ａ、１４３ａ、１４４ａ内管４３ｂ、４４ｂ、１４３ｂ、１４４ｂ内管

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】薬液を収容する処理槽中に基板を支持す
ることにより、当該基板に薬液処理を施す基板処理装置
において、前記処理槽が樹脂材で形成されていることを特徴とする
基板処理装置。
【請求項２】前記処理槽中で前記基板を支持する支持
部材が樹脂材で形成されていることを特徴とする請求項
１記載の基板処理装置。
【請求項３】前記処理槽は、当該処理槽中に薬液を吐
出する薬液吐出部を有し、当該薬液吐出部は、前記処理
槽の本体部分に対して着脱自在であることを特徴とする
請求項１及び請求項２のいずれか記載の基板処理装置。
【請求項４】前記処理槽は、当該処理槽中に順次供給
される複数種の処理液によって前記基板に一連の処理を
施す多機能槽であり、当該処理槽中に薬液を吐出する２
重管構造の薬液吐出管を備えることを特徴とする請求項
１及び請求項２のいずれか記載の基板処理装置。
【請求項５】前記樹脂材は、ＰＥＥＫ材であることを
特徴とする請求項１から請求項４のいずれか記載の基板
処理装置。