JPH09103687A - 触媒の製造方法 - Google Patents
触媒の製造方法Info
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- JPH09103687A JPH09103687A JP7263272A JP26327295A JPH09103687A JP H09103687 A JPH09103687 A JP H09103687A JP 7263272 A JP7263272 A JP 7263272A JP 26327295 A JP26327295 A JP 26327295A JP H09103687 A JPH09103687 A JP H09103687A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】担持されている触媒金属粒子の粒径を短時間で
任意に制御可能とし、かつ触媒金属粒子の粒径の分布を
狭くする。 【解決手段】酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返
される雰囲気中で触媒を酸化又は非酸化処理すること
で、担持されている触媒金属の粒径を制御する。Ptは
酸化雰囲気で担体上を移動しやすく凝集しやすい。一方
還元雰囲気では担体上を移動しにくく粒子径が均一とな
りやすい。この両方の反応が交互に行われることによ
り、粒径及び粒径分布を制御することができる。
任意に制御可能とし、かつ触媒金属粒子の粒径の分布を
狭くする。 【解決手段】酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返
される雰囲気中で触媒を酸化又は非酸化処理すること
で、担持されている触媒金属の粒径を制御する。Ptは
酸化雰囲気で担体上を移動しやすく凝集しやすい。一方
還元雰囲気では担体上を移動しにくく粒子径が均一とな
りやすい。この両方の反応が交互に行われることによ
り、粒径及び粒径分布を制御することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関などから
排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒などの触
媒の製造方法に関し、詳しくは担持されている触媒金属
の粒径を容易に制御できる触媒の製造方法に関する。
排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒などの触
媒の製造方法に関し、詳しくは担持されている触媒金属
の粒径を容易に制御できる触媒の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】白金(Pt)やロジウム(Rh)あるい
はパラジウム(Pd)などの貴金属は、その高い触媒活
性から排気ガスの浄化などに広く利用されている。ただ
これらの貴金属は高価であるので、触媒として利用する
にはできるだけ少量でできるだけ大きな活性を得るよう
にすることが望ましく、アルミナなどの多孔質担体に高
分散状態で担持されて用いられている。
はパラジウム(Pd)などの貴金属は、その高い触媒活
性から排気ガスの浄化などに広く利用されている。ただ
これらの貴金属は高価であるので、触媒として利用する
にはできるだけ少量でできるだけ大きな活性を得るよう
にすることが望ましく、アルミナなどの多孔質担体に高
分散状態で担持されて用いられている。
【0003】また、貴金属をこのように高分散状態で担
持するには、貴金属の塩の水溶液を担体に含浸させて乾
燥・焼成する含浸担持法、貴金属の塩の水溶液中に担体
を浸漬して貴金属を含むイオンを吸着させ、その後引き
上げて乾燥・焼成する選択担持法などが知られている。
このように高分散状態で担持された貴金属の粒径はきわ
めて微細となり、排気ガスなどの被処理物との接触面積
が大きくなるため、少量の担持量で高い活性が得られ
る。しかしながら、貴金属の粒径があまりに微細過ぎる
と使用温度や使用雰囲気などにより貴金属粒子に凝集が
生じたりする現象も見られ、貴金属の粒子径には使用目
的あるいは使用条件に応じた最適粒径が存在することが
わかってきた。
持するには、貴金属の塩の水溶液を担体に含浸させて乾
燥・焼成する含浸担持法、貴金属の塩の水溶液中に担体
を浸漬して貴金属を含むイオンを吸着させ、その後引き
上げて乾燥・焼成する選択担持法などが知られている。
このように高分散状態で担持された貴金属の粒径はきわ
めて微細となり、排気ガスなどの被処理物との接触面積
が大きくなるため、少量の担持量で高い活性が得られ
る。しかしながら、貴金属の粒径があまりに微細過ぎる
と使用温度や使用雰囲気などにより貴金属粒子に凝集が
生じたりする現象も見られ、貴金属の粒子径には使用目
的あるいは使用条件に応じた最適粒径が存在することが
わかってきた。
【0004】したがって、上記の方法で高分散で担持さ
れた貴金属粒子は微細であり、その粒径の制御が困難で
あるため、その使用目的あるいは使用条件は特定のもの
に制限されざるを得ない。そこで特開平7−8807号
公報には、貴金属塩溶液中に水素化ホウ素ナトリウムや
エタノールなどの還元剤を添加し、貴金属イオンを還元
して担体上に吸着させる方法が開示されている。この方
法によれば、担持された貴金属粒子の粒径は比較的大き
くなり、貴金属塩や還元剤の種類などを適切に選択する
ことにより粒径を制御することが可能となる。
れた貴金属粒子は微細であり、その粒径の制御が困難で
あるため、その使用目的あるいは使用条件は特定のもの
に制限されざるを得ない。そこで特開平7−8807号
公報には、貴金属塩溶液中に水素化ホウ素ナトリウムや
エタノールなどの還元剤を添加し、貴金属イオンを還元
して担体上に吸着させる方法が開示されている。この方
法によれば、担持された貴金属粒子の粒径は比較的大き
くなり、貴金属塩や還元剤の種類などを適切に選択する
ことにより粒径を制御することが可能となる。
【0005】また、貴金属が担持された担体を大気中や
窒素ガス中で高温焼成する方法も知られている。この方
法は、一旦担持された貴金属粒子の粒径を変化させるこ
とで粒径を制御しようとするものである。
窒素ガス中で高温焼成する方法も知られている。この方
法は、一旦担持された貴金属粒子の粒径を変化させるこ
とで粒径を制御しようとするものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、貴金属塩溶
液中に還元剤を添加する方法では、貴金属が溶液中で還
元された後に担持されるため、貴金属と担体との相互作
用が小さく貴金属粒子が移動しやすくなり、貴金属粒子
が凝集しやすいという不具合がある。なお、貴金属塩と
還元剤との種類の組合せを適切に選択することにより貴
金属粒子の凝集を多少改善できるが、その効果は十分と
はいえなかった。
液中に還元剤を添加する方法では、貴金属が溶液中で還
元された後に担持されるため、貴金属と担体との相互作
用が小さく貴金属粒子が移動しやすくなり、貴金属粒子
が凝集しやすいという不具合がある。なお、貴金属塩と
還元剤との種類の組合せを適切に選択することにより貴
金属粒子の凝集を多少改善できるが、その効果は十分と
はいえなかった。
【0007】また貴金属が担持された担体を大気中で焼
成すると、貴金属の平均粒径は大きくなるものの粒径分
布はきわめて広くなり、微細なものから巨大粒子まで含
まれることとなる。したがって、実際の使用条件では活
性が低い粒径の粒子も含まれることとなり、高価な貴金
属の有効利用を図ることが困難である。一方、貴金属が
担持された担体を窒素ガス雰囲気中で焼成する方法によ
れば、粒径分布を狭くすることができる。しかし大きな
粒径とするためには極めて長時間の焼成が必要となり、
工数面及び省エネルギー面から好ましくない。
成すると、貴金属の平均粒径は大きくなるものの粒径分
布はきわめて広くなり、微細なものから巨大粒子まで含
まれることとなる。したがって、実際の使用条件では活
性が低い粒径の粒子も含まれることとなり、高価な貴金
属の有効利用を図ることが困難である。一方、貴金属が
担持された担体を窒素ガス雰囲気中で焼成する方法によ
れば、粒径分布を狭くすることができる。しかし大きな
粒径とするためには極めて長時間の焼成が必要となり、
工数面及び省エネルギー面から好ましくない。
【0008】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、担体に担持されている触媒金属粒子の粒径
を短時間で任意に制御可能とし、かつ触媒金属粒子の粒
径の分布を狭くすることを目的とする。
ものであり、担体に担持されている触媒金属粒子の粒径
を短時間で任意に制御可能とし、かつ触媒金属粒子の粒
径の分布を狭くすることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の触媒の製造方法は、触媒担体に触媒金属を担持して
触媒金属担持担体とする担持工程と、酸化雰囲気と非酸
化雰囲気が交互に繰り返される雰囲気中で触媒金属担持
担体を繰り返し酸化及び非酸化処理して、担持されてい
る触媒金属の粒径を制御する処理工程と、を有すること
を特徴とする。
明の触媒の製造方法は、触媒担体に触媒金属を担持して
触媒金属担持担体とする担持工程と、酸化雰囲気と非酸
化雰囲気が交互に繰り返される雰囲気中で触媒金属担持
担体を繰り返し酸化及び非酸化処理して、担持されてい
る触媒金属の粒径を制御する処理工程と、を有すること
を特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】触媒担体としては、アルミナ、シ
リカ、チタニア、ジルコニア、シリカ−アルミナ、ゼオ
ライトなどの多孔質担体を用いることができる。コージ
ェライトなどの耐熱性無機物や金属からハニカム形状あ
るいはペレット形状に形成された基材に上記多孔質担体
粉末のコート層を形成して触媒担体としてもよいし、多
孔質担体からハニカム形状あるいはペレット形状に形成
して触媒担体とすることもできる。
リカ、チタニア、ジルコニア、シリカ−アルミナ、ゼオ
ライトなどの多孔質担体を用いることができる。コージ
ェライトなどの耐熱性無機物や金属からハニカム形状あ
るいはペレット形状に形成された基材に上記多孔質担体
粉末のコート層を形成して触媒担体としてもよいし、多
孔質担体からハニカム形状あるいはペレット形状に形成
して触媒担体とすることもできる。
【0011】触媒金属としては、Pt、Rh、Pd、A
u、Ag、Ir、Ruなど、従来公知の金属から一種あ
るいは複数種類を用いることができる。担持工程では、
上記触媒担体に上記触媒金属が担持される。この担持方
法としては、従来公知の各種担持法を利用することがで
きるが、触媒金属が微細粒径で高分散に担持される方法
が望ましい。このような方法としては、触媒金属の塩の
溶液を触媒担体に含浸させて乾燥・焼成する含浸担持
法、触媒金属の塩の溶液中に触媒担体を浸漬して吸着さ
せその後引き上げて乾燥・焼成する選択担持法などがあ
る。
u、Ag、Ir、Ruなど、従来公知の金属から一種あ
るいは複数種類を用いることができる。担持工程では、
上記触媒担体に上記触媒金属が担持される。この担持方
法としては、従来公知の各種担持法を利用することがで
きるが、触媒金属が微細粒径で高分散に担持される方法
が望ましい。このような方法としては、触媒金属の塩の
溶液を触媒担体に含浸させて乾燥・焼成する含浸担持
法、触媒金属の塩の溶液中に触媒担体を浸漬して吸着さ
せその後引き上げて乾燥・焼成する選択担持法などがあ
る。
【0012】担持工程で触媒金属が担持された金属担持
担体は、酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返され
る雰囲気中で繰り返し酸化及び非酸化処理される。ここ
で酸化雰囲気とは酸素などの酸化性ガス成分による酸化
性の雰囲気をいい、非酸化雰囲気とは水素、炭化水素な
どの還元性ガス成分又は窒素ガスなどの不活性ガス成分
による非酸化性の雰囲気をいう。
担体は、酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返され
る雰囲気中で繰り返し酸化及び非酸化処理される。ここ
で酸化雰囲気とは酸素などの酸化性ガス成分による酸化
性の雰囲気をいい、非酸化雰囲気とは水素、炭化水素な
どの還元性ガス成分又は窒素ガスなどの不活性ガス成分
による非酸化性の雰囲気をいう。
【0013】雰囲気中の酸化性ガス成分又は非酸化性ガ
ス成分の濃度は特に制限されないが、触媒金属の担持さ
れている当量以上の濃度であることが好ましく、触媒金
属の担持されている当量の2〜10倍程度の当量を含む
濃度とすることが望ましい。各雰囲気中の酸化性ガス及
び非酸化性ガスの種類あるいは組成については、上記範
囲を満たせば特に制限されない。
ス成分の濃度は特に制限されないが、触媒金属の担持さ
れている当量以上の濃度であることが好ましく、触媒金
属の担持されている当量の2〜10倍程度の当量を含む
濃度とすることが望ましい。各雰囲気中の酸化性ガス及
び非酸化性ガスの種類あるいは組成については、上記範
囲を満たせば特に制限されない。
【0014】この処理工程は一般に加熱下で行われる
が、その温度は触媒金属が酸化又は還元される温度以上
であれば特に制限されず、100〜1200℃の範囲が
適当である。100℃未満では触媒金属に反応が生じず
粒径の制御が困難となり、1200℃を超えると触媒担
体などの収縮が著しく触媒活性が損なわれる恐れがあ
る。特に好ましい500〜1000℃の範囲であれば、
触媒金属の反応速度が適切であるので短時間で所定の粒
径とすることができ、しかも触媒担体の収縮を低く抑制
できる。
が、その温度は触媒金属が酸化又は還元される温度以上
であれば特に制限されず、100〜1200℃の範囲が
適当である。100℃未満では触媒金属に反応が生じず
粒径の制御が困難となり、1200℃を超えると触媒担
体などの収縮が著しく触媒活性が損なわれる恐れがあ
る。特に好ましい500〜1000℃の範囲であれば、
触媒金属の反応速度が適切であるので短時間で所定の粒
径とすることができ、しかも触媒担体の収縮を低く抑制
できる。
【0015】酸化・非酸化の変動周期は、酸化性ガス及
び非酸化性ガスの濃度条件と同様に、触媒金属の担持さ
れている当量以上の酸化性ガス又は非酸化性ガスが接触
すればよく、濃度によっても異なるが1秒〜100分程
度とされる。変動周期が1秒より短いと酸化性ガスと非
酸化性ガスが混ざり合い、所定の酸化雰囲気又は非酸化
雰囲気とならなくなる恐れがある。また100分より長
くなると、雰囲気変動の効果が小さくなり粒径制御が困
難となる。1分〜30分が特に望ましい。また各雰囲気
における処理時間は、実用上その合計で10分〜10時
間とするのが望ましい。
び非酸化性ガスの濃度条件と同様に、触媒金属の担持さ
れている当量以上の酸化性ガス又は非酸化性ガスが接触
すればよく、濃度によっても異なるが1秒〜100分程
度とされる。変動周期が1秒より短いと酸化性ガスと非
酸化性ガスが混ざり合い、所定の酸化雰囲気又は非酸化
雰囲気とならなくなる恐れがある。また100分より長
くなると、雰囲気変動の効果が小さくなり粒径制御が困
難となる。1分〜30分が特に望ましい。また各雰囲気
における処理時間は、実用上その合計で10分〜10時
間とするのが望ましい。
【0016】なお、各雰囲気中の酸化性ガスと非酸化性
ガスの当量を同一とする必要はなく、また各雰囲気にお
ける処理時間を同一とする必要もなく、目的とする粒径
や条件に応じて種々選択して処理することができる。以
下、触媒金属としてPtを用いた場合について、本発明
の作用を説明する。担体上における触媒金属の凝集は、
触媒金属粒子どうしの衝突によって起こることが知られ
ている。またPtの場合は、非酸化雰囲気下よりも酸化
雰囲気下の方が凝集し易いことも知られている。これ
は、Ptの酸化物の蒸気圧がPt金属のそれよりも高い
ことから予想されるように、酸化雰囲気下では気相や担
体表面を伝ってPtの酸化物が移動し易くなるためであ
る。ただし担体上のすべてのPt粒子が同じ速度で移動
するわけではなく、担体の状態は不均一であるから、担
持位置の違いによりPtと担体との相互作用が異なるな
どの原因で、移動しやすいPtと移動しにくいPtとが
存在する。したがって酸化雰囲気で長時間処理すると、
Ptの粒径分布はきわめて広くなってしまう。
ガスの当量を同一とする必要はなく、また各雰囲気にお
ける処理時間を同一とする必要もなく、目的とする粒径
や条件に応じて種々選択して処理することができる。以
下、触媒金属としてPtを用いた場合について、本発明
の作用を説明する。担体上における触媒金属の凝集は、
触媒金属粒子どうしの衝突によって起こることが知られ
ている。またPtの場合は、非酸化雰囲気下よりも酸化
雰囲気下の方が凝集し易いことも知られている。これ
は、Ptの酸化物の蒸気圧がPt金属のそれよりも高い
ことから予想されるように、酸化雰囲気下では気相や担
体表面を伝ってPtの酸化物が移動し易くなるためであ
る。ただし担体上のすべてのPt粒子が同じ速度で移動
するわけではなく、担体の状態は不均一であるから、担
持位置の違いによりPtと担体との相互作用が異なるな
どの原因で、移動しやすいPtと移動しにくいPtとが
存在する。したがって酸化雰囲気で長時間処理すると、
Ptの粒径分布はきわめて広くなってしまう。
【0017】一方、窒素ガスなどの非酸化性雰囲気で
は、Ptは金属状態であるため担体との相互作用が小さ
く、Pt粒子それぞれの移動速度はほぼ同一となる。し
たがって触媒金属の粒径は比較的均一になる。ただしP
t金属はPt酸化物に比べて移動しにくいので、粒径の
成長速度はきわめて小さい。本発明では酸化−非酸化を
周期的に変動させているので、粒径が成長する酸化雰囲
気と担体との相互作用を弱める非酸化雰囲気が交互に存
在し、短時間で粒径分布の狭い粒径とすることができる
ものと考えられる。なお、Ptの場合には、酸素濃度な
ど酸化雰囲気の反応性を変化させることによっても、任
意の平均粒径とすることができる。
は、Ptは金属状態であるため担体との相互作用が小さ
く、Pt粒子それぞれの移動速度はほぼ同一となる。し
たがって触媒金属の粒径は比較的均一になる。ただしP
t金属はPt酸化物に比べて移動しにくいので、粒径の
成長速度はきわめて小さい。本発明では酸化−非酸化を
周期的に変動させているので、粒径が成長する酸化雰囲
気と担体との相互作用を弱める非酸化雰囲気が交互に存
在し、短時間で粒径分布の狭い粒径とすることができる
ものと考えられる。なお、Ptの場合には、酸素濃度な
ど酸化雰囲気の反応性を変化させることによっても、任
意の平均粒径とすることができる。
【0018】その他の触媒金属についても同様であり、
酸化雰囲気と非酸化雰囲気とで凝集のしやすさが異なる
ため、酸化雰囲気と非酸化雰囲気を交互に変動させるこ
とで粒径を制御することができ、粒径分布も狭くするこ
とができる。
酸化雰囲気と非酸化雰囲気とで凝集のしやすさが異なる
ため、酸化雰囲気と非酸化雰囲気を交互に変動させるこ
とで粒径を制御することができ、粒径分布も狭くするこ
とができる。
【0019】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をさら
に具体的に説明する。 (実施例1) <担持工程>θ−アルミナからなり直径2〜4mmのペ
レット状の触媒担体を所定量用意し、所定濃度のジニト
ロジアンミン白金水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸
発させてPtを担持させた。次いで所定濃度の硝酸ロジ
ウム水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸発させてRh
を担持させた。触媒担体1リットル当たりにPtは1g
担持され、Rhは0.1g担持された。
に具体的に説明する。 (実施例1) <担持工程>θ−アルミナからなり直径2〜4mmのペ
レット状の触媒担体を所定量用意し、所定濃度のジニト
ロジアンミン白金水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸
発させてPtを担持させた。次いで所定濃度の硝酸ロジ
ウム水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸発させてRh
を担持させた。触媒担体1リットル当たりにPtは1g
担持され、Rhは0.1g担持された。
【0020】次に、得られたPt−Rh担持担体を11
0℃で一昼夜乾燥後、H2 が20体積%とN2 が80体
積%からなるガス中にて、450℃で3時間保持する水
素還元処理を行ってPt/Rh触媒を調製した。 <処理工程>酸化ガス(5体積%O2 −95体積%
N2 )と還元ガス(10体積%H2 −90体積%N2 )
とを用意し、上記のPt/Rh触媒をそれぞれのガス雰
囲気中にて10分間周期で5分毎に交互に5時間処理し
た。各ガスの温度はそれぞれ1200℃であり、空間速
度はそれぞれSV=6000/hである。
0℃で一昼夜乾燥後、H2 が20体積%とN2 が80体
積%からなるガス中にて、450℃で3時間保持する水
素還元処理を行ってPt/Rh触媒を調製した。 <処理工程>酸化ガス(5体積%O2 −95体積%
N2 )と還元ガス(10体積%H2 −90体積%N2 )
とを用意し、上記のPt/Rh触媒をそれぞれのガス雰
囲気中にて10分間周期で5分毎に交互に5時間処理し
た。各ガスの温度はそれぞれ1200℃であり、空間速
度はそれぞれSV=6000/hである。
【0021】処理工程後のPt/Rh触媒を走査型電子
顕微鏡で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果
を表1及び図1に示す。 (比較例1)実施例1で調製されたPt/Rh触媒を用
い、1200℃、SV=6000/hの大気雰囲気中で
5時間処理した。処理工程後のPt/Rh触媒を走査型
電子顕微鏡で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。
結果を表1に示す。 (比較例2)実施例1で調製されたPt/Rh触媒を用
い、1200℃、SV=6000/hの酸化ガス(5体
積%O2 −95体積%N2 )雰囲気中で5時間処理し
た。処理工程後のPt/Rh触媒を走査型電子顕微鏡で
観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果を表1及
び図2に示す。 (評価)
顕微鏡で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果
を表1及び図1に示す。 (比較例1)実施例1で調製されたPt/Rh触媒を用
い、1200℃、SV=6000/hの大気雰囲気中で
5時間処理した。処理工程後のPt/Rh触媒を走査型
電子顕微鏡で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。
結果を表1に示す。 (比較例2)実施例1で調製されたPt/Rh触媒を用
い、1200℃、SV=6000/hの酸化ガス(5体
積%O2 −95体積%N2 )雰囲気中で5時間処理し
た。処理工程後のPt/Rh触媒を走査型電子顕微鏡で
観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果を表1及
び図2に示す。 (評価)
【0022】
【表1】 表1及び図1、図2より、同じ温度及び同じ時間で処理
しても、ガス種によりPtの粒径と粒径分布が異なるこ
とがわかる。そして比較例1の方が比較例2よりも粒径
が大きいことから、酸素濃度が高いほど粒径が大きくな
ることがわかり、Ptは酸化雰囲気下でシンタリングが
生じやすいことがわかる。つまり酸素濃度によってPt
の粒径を制御することができる。
しても、ガス種によりPtの粒径と粒径分布が異なるこ
とがわかる。そして比較例1の方が比較例2よりも粒径
が大きいことから、酸素濃度が高いほど粒径が大きくな
ることがわかり、Ptは酸化雰囲気下でシンタリングが
生じやすいことがわかる。つまり酸素濃度によってPt
の粒径を制御することができる。
【0023】一方、図2より、比較例2では粒径分布が
広く、Ptは粒径の小さいものから大きいものまで混在
している。つまり酸化雰囲気だけでは粒径分布を狭くす
ることは困難である。しかし図1より、実施例1のよう
に酸化雰囲気と還元雰囲気を交互に繰り返すことで、粒
径分布を著しく狭くすることができることが明らかであ
る。 (実施例2)γ−アルミナからなり直径2〜4mmのペ
レット状の触媒担体を所定量用意し、所定濃度のジニト
ロジアンミン白金水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸
発させてPtを担持させた。触媒担体1リットル当たり
にPtは2g担持された。
広く、Ptは粒径の小さいものから大きいものまで混在
している。つまり酸化雰囲気だけでは粒径分布を狭くす
ることは困難である。しかし図1より、実施例1のよう
に酸化雰囲気と還元雰囲気を交互に繰り返すことで、粒
径分布を著しく狭くすることができることが明らかであ
る。 (実施例2)γ−アルミナからなり直径2〜4mmのペ
レット状の触媒担体を所定量用意し、所定濃度のジニト
ロジアンミン白金水溶液の所定量を含浸させ、水分を蒸
発させてPtを担持させた。触媒担体1リットル当たり
にPtは2g担持された。
【0024】次に、得られたPt担持担体を110℃で
一昼夜乾燥後、H2 が20体積%とN2 が80体積%か
らなるガス中にて、450℃で3時間保持する水素還元
処理を行ってPt触媒を調製した。 <処理工程>酸化ガス(10体積%O2 −95体積%N
2 )と還元ガス(20体積%H2 −CO(H2 に対して
モル比で1/3)−残部N2 )とを用意し、上記のPt
触媒をそれぞれのガス雰囲気中にて20分間周期で10
分毎に交互に5時間処理した。各ガスの温度はそれぞれ
900℃であり、各ガスのW/F(触媒重量当たりの空
間速度)はそれぞれ8.3×10-5g・h/ccであ
る。
一昼夜乾燥後、H2 が20体積%とN2 が80体積%か
らなるガス中にて、450℃で3時間保持する水素還元
処理を行ってPt触媒を調製した。 <処理工程>酸化ガス(10体積%O2 −95体積%N
2 )と還元ガス(20体積%H2 −CO(H2 に対して
モル比で1/3)−残部N2 )とを用意し、上記のPt
触媒をそれぞれのガス雰囲気中にて20分間周期で10
分毎に交互に5時間処理した。各ガスの温度はそれぞれ
900℃であり、各ガスのW/F(触媒重量当たりの空
間速度)はそれぞれ8.3×10-5g・h/ccであ
る。
【0025】処理工程後のPt触媒についてX線回折を
測定するとともに走査型電子顕微鏡で観察し、Ptの粒
径とその分布を調べた。結果を表2に示す。 (比較例3)実施例2で調製されたPt触媒を、大気中
にて600℃で1時間処理した。処理工程後のPt触媒
についてX線回折を測定するとともに走査型電子顕微鏡
で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果を表2
に示す。 (評価)
測定するとともに走査型電子顕微鏡で観察し、Ptの粒
径とその分布を調べた。結果を表2に示す。 (比較例3)実施例2で調製されたPt触媒を、大気中
にて600℃で1時間処理した。処理工程後のPt触媒
についてX線回折を測定するとともに走査型電子顕微鏡
で観察し、Ptの粒径とその分布を調べた。結果を表2
に示す。 (評価)
【0026】
【表2】 表2より、実施例2の方法によれば平均粒径は比較例3
と同等であるものの、粒径分布をきわめて狭くすること
ができることがわかる。
と同等であるものの、粒径分布をきわめて狭くすること
ができることがわかる。
【0027】
【発明の効果】すなわち本発明の触媒の製造方法によれ
ば、触媒金属粒子の粒径を短時間で任意に制御可能であ
り、かつ得られた粒径の分布をきわめて狭くすることが
できる。したがって使用目的あるいは使用条件に応じた
最適粒径に容易に制御することができ、高価な触媒金属
の有効利用を図ることができる。
ば、触媒金属粒子の粒径を短時間で任意に制御可能であ
り、かつ得られた粒径の分布をきわめて狭くすることが
できる。したがって使用目的あるいは使用条件に応じた
最適粒径に容易に制御することができ、高価な触媒金属
の有効利用を図ることができる。
【図1】本発明の一実施例で処理された触媒中のPtの
粒径分布を示すグラフである。
粒径分布を示すグラフである。
【図2】比較例2で処理された触媒中のPtの粒径分布
を示すグラフである。
を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項1】 触媒担体に触媒金属を担持して触媒金属
担持担体とする担持工程と、 酸化雰囲気と非酸化雰囲気が交互に繰り返される雰囲気
中で該触媒金属担持担体を繰り返し酸化及び非酸化処理
して、担持されている該触媒金属の粒径を制御する処理
工程と、を有することを特徴とする触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26327295A JP3441267B2 (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26327295A JP3441267B2 (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 触媒の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09103687A true JPH09103687A (ja) | 1997-04-22 |
JP3441267B2 JP3441267B2 (ja) | 2003-08-25 |
Family
ID=17387163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26327295A Expired - Fee Related JP3441267B2 (ja) | 1995-10-11 | 1995-10-11 | 触媒の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3441267B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11123330A (ja) * | 1997-08-20 | 1999-05-11 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製法 |
JP2002210369A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-30 | Toyota Motor Corp | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
JP2004275919A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
US7150861B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for purification of exhaust gases and process for purification of exhaust gases |
JP2007289960A (ja) * | 2001-05-05 | 2007-11-08 | Umicore Ag & Co Kg | 貴金属含有担持触媒およびその調製ためのプロセス |
JP2009119430A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Toyota Central R&D Labs Inc | 低温酸化触媒、その製造方法、および低温酸化触媒を用いた排ガスの浄化方法 |
JP2011041912A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Daihatsu Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒 |
JP2011041913A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Daihatsu Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒 |
-
1995
- 1995-10-11 JP JP26327295A patent/JP3441267B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11123330A (ja) * | 1997-08-20 | 1999-05-11 | Hino Motors Ltd | 排ガス浄化触媒及びその製法 |
JP2002210369A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-30 | Toyota Motor Corp | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
JP2007289960A (ja) * | 2001-05-05 | 2007-11-08 | Umicore Ag & Co Kg | 貴金属含有担持触媒およびその調製ためのプロセス |
JP4649447B2 (ja) * | 2001-05-05 | 2011-03-09 | ユミコア・アクチエンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト | 貴金属含有担持触媒およびその調製ためのプロセス |
US7150861B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for purification of exhaust gases and process for purification of exhaust gases |
JP2004275919A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
JP2009119430A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Toyota Central R&D Labs Inc | 低温酸化触媒、その製造方法、および低温酸化触媒を用いた排ガスの浄化方法 |
JP2011041912A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Daihatsu Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒 |
JP2011041913A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Daihatsu Motor Co Ltd | 排ガス浄化用触媒 |
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---|---|
JP3441267B2 (ja) | 2003-08-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |