JPH091024A - ディスペンサ装置 - Google Patents
ディスペンサ装置Info
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- JPH091024A JPH091024A JP15315495A JP15315495A JPH091024A JP H091024 A JPH091024 A JP H091024A JP 15315495 A JP15315495 A JP 15315495A JP 15315495 A JP15315495 A JP 15315495A JP H091024 A JPH091024 A JP H091024A
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- coating
- fluid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】流動体をディスペンサにより吐出後吸引する塗
布において、吐出・吸引を行うための気体圧力の制御に
依存せずに、塗布被膜の厚さを調節する。 【構成】吐出ノズル１の外周に、このノズル先端１ａと
鉛直方向に差を設けた吸引ノズル先端２ａを持つ吸引ノ
ズル２により、吸引終了時の塗布液状態を一定とし、さ
らにノズルと基板との距離を変える調整部とにより、こ
の距離を変更することで、塗布量の制御を可能にする。
布において、吐出・吸引を行うための気体圧力の制御に
依存せずに、塗布被膜の厚さを調節する。 【構成】吐出ノズル１の外周に、このノズル先端１ａと
鉛直方向に差を設けた吸引ノズル先端２ａを持つ吸引ノ
ズル２により、吸引終了時の塗布液状態を一定とし、さ
らにノズルと基板との距離を変える調整部とにより、こ
の距離を変更することで、塗布量の制御を可能にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板上に電子部品を固定
するため接着剤を塗布する電子部品固定用接着剤の塗
布、基板上の電子部品を保護するために塗布する保護樹
脂の塗布、または基板上に形成された電子回路の一部を
電解液を介して電気特性を測定するための電解液の塗布
など、を行うためのディスペンサ装置に関し、特に吐出
ノズルの周囲に設けた吸引ノズルと、基板と塗布部との
距離を調整する機構を具備するディスペンサ装置に関す
る。
するため接着剤を塗布する電子部品固定用接着剤の塗
布、基板上の電子部品を保護するために塗布する保護樹
脂の塗布、または基板上に形成された電子回路の一部を
電解液を介して電気特性を測定するための電解液の塗布
など、を行うためのディスペンサ装置に関し、特に吐出
ノズルの周囲に設けた吸引ノズルと、基板と塗布部との
距離を調整する機構を具備するディスペンサ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のディスペンサ装置のシリ
ンジ部、ノズル部においては、塗布流動体を入れたシリ
ンジと吐出ノズルから構成されており、圧力制御された
気体を塗布流動体に加えることにより塗布を行なってい
る。特に精密微少塗布装置においては図４に示すよう
に、塗布流動体を入れたシリンジ５と吐出ノズル１１と
の内側に塗布流動体を吸引する吸引ノズル１２を設けた
構造のディスペンサ装置が特開平４−１８６７１９号公
報に開示されている。
ンジ部、ノズル部においては、塗布流動体を入れたシリ
ンジと吐出ノズルから構成されており、圧力制御された
気体を塗布流動体に加えることにより塗布を行なってい
る。特に精密微少塗布装置においては図４に示すよう
に、塗布流動体を入れたシリンジ５と吐出ノズル１１と
の内側に塗布流動体を吸引する吸引ノズル１２を設けた
構造のディスペンサ装置が特開平４−１８６７１９号公
報に開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述したディ
スペンサ用ノズルでは、高粘度の流動体を塗布すると吸
引ノズルが吐出ノズルの内側にあるため、図５のように
塗布領域の周辺部は、吸引しきれずに流動体１３の被膜
が厚く残る。
スペンサ用ノズルでは、高粘度の流動体を塗布すると吸
引ノズルが吐出ノズルの内側にあるため、図５のように
塗布領域の周辺部は、吸引しきれずに流動体１３の被膜
が厚く残る。
【０００４】また、吸引・圧力と時間との関係をそれぞ
れ制御された気体によって行われるため、吐出された流
動体量と吸引された流動体量はこの気体の制御性に依存
する。このため最終塗布量は、前述の気体の制御能力に
直接左右され、特に微少量の塗布の場合には高性能な気
体の制御装置が必要となり、この能力を超える場合には
塗布量の制御精度が低下することになる。
れ制御された気体によって行われるため、吐出された流
動体量と吸引された流動体量はこの気体の制御性に依存
する。このため最終塗布量は、前述の気体の制御能力に
直接左右され、特に微少量の塗布の場合には高性能な気
体の制御装置が必要となり、この能力を超える場合には
塗布量の制御精度が低下することになる。
【０００５】さらに、吸引ノズル内に大気圧程度の気体
がある状態で流動体を吐出すると吐出時に、吐出流動体
は図６のようなドーナツ状の形となり、流動体の内側に
気体が入り込む。この状態から吸引を行うと、吸引ノズ
ル内に流動体と気体が不連続に吸引される。このため吸
引される流動体量の制御が不可能となり所定の最終塗布
量を得られなくなる。
がある状態で流動体を吐出すると吐出時に、吐出流動体
は図６のようなドーナツ状の形となり、流動体の内側に
気体が入り込む。この状態から吸引を行うと、吸引ノズ
ル内に流動体と気体が不連続に吸引される。このため吸
引される流動体量の制御が不可能となり所定の最終塗布
量を得られなくなる。
【０００６】また、同一基板上の複数箇所に塗布する場
合、１点を塗布した後、２点目の塗布位置にノズルを水
平移動させると、１点目で塗布された流動体の塗布領域
周辺がノズル先端より高いために被膜とノズルが干渉し
塗布後の流動体を変形させてしまう。これを避けるため
には、ディスペンサを基板から離した後ノズルを水平移
動させる必要がある。従って、この動作は塗布箇所の数
だけ増加することになる。
合、１点を塗布した後、２点目の塗布位置にノズルを水
平移動させると、１点目で塗布された流動体の塗布領域
周辺がノズル先端より高いために被膜とノズルが干渉し
塗布後の流動体を変形させてしまう。これを避けるため
には、ディスペンサを基板から離した後ノズルを水平移
動させる必要がある。従って、この動作は塗布箇所の数
だけ増加することになる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のディスペンサ装
置は、上述した問題点を解決するため吐出用ノズルの外
周部に取り付けた吸引ノズルを設ける。また吐出ノズル
先端と吸引ノズル先端外周部に取り付けた吸引ノズルを
設ける。また吐出ノズル先端と吸引ノズル先端位置とに
鉛直方向に対し差を設けたこと。また吸引ノズル先端と
被塗布部との距離を変化させる高さ調整部を有すること
を特徴とする。
置は、上述した問題点を解決するため吐出用ノズルの外
周部に取り付けた吸引ノズルを設ける。また吐出ノズル
先端と吸引ノズル先端外周部に取り付けた吸引ノズルを
設ける。また吐出ノズル先端と吸引ノズル先端位置とに
鉛直方向に対し差を設けたこと。また吸引ノズル先端と
被塗布部との距離を変化させる高さ調整部を有すること
を特徴とする。
【０００８】
【実施例】本発明について図１，図２（ａ）〜（ｃ），
図３（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。図１は、本発
明の第１の実施例の全体構成を示す斜視図であり、図２
は図１のノズル近傍の動作説明の断面図である。図１及
び図２において本実施例の構成を説明する。図１におい
て、流動体を塗布される基板７は、ステージ６に固定さ
れ、さらにステージ６は水平機構部８によって水平移動
が可能である。図２（ａ）〜（ｃ）に示すように内径お
よそ０．７ｍｍの吸引ノズル２の内側に内径０．３ｍｍ
の吐出ノズル１があり、これら吸引ノズル２と吐出ノズ
ル１は、流動体を入れるためのシリンジ５に固定されて
いる。このシリンジ５は、分解能が数μｍ〜数十μｍ程
度の高さ調整機構部９に取り付けられ基板７との距離を
変更できる。高さ調整機構部９，シリンジ５，吐出ノズ
ル１，吸引ノズル２は、上下機構部１０により、一定の
ストロークだけ上下動作が可能である。
図３（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。図１は、本発
明の第１の実施例の全体構成を示す斜視図であり、図２
は図１のノズル近傍の動作説明の断面図である。図１及
び図２において本実施例の構成を説明する。図１におい
て、流動体を塗布される基板７は、ステージ６に固定さ
れ、さらにステージ６は水平機構部８によって水平移動
が可能である。図２（ａ）〜（ｃ）に示すように内径お
よそ０．７ｍｍの吸引ノズル２の内側に内径０．３ｍｍ
の吐出ノズル１があり、これら吸引ノズル２と吐出ノズ
ル１は、流動体を入れるためのシリンジ５に固定されて
いる。このシリンジ５は、分解能が数μｍ〜数十μｍ程
度の高さ調整機構部９に取り付けられ基板７との距離を
変更できる。高さ調整機構部９，シリンジ５，吐出ノズ
ル１，吸引ノズル２は、上下機構部１０により、一定の
ストロークだけ上下動作が可能である。
【０００９】次に本装置を用いた塗布動作について説明
する。図２（ａ）は、塗布前の状態である。上下機構部
１０によってシリンジが加工しシリンジ内の流動体を吐
出ノズル１から圧力制御された気体により吐出する。こ
の塗布液が図２（ｂ）のように吸引ノズルを引ったとこ
ろで吐出動作を終了させる。次に、図２（ｃ）に示すよ
うに塗布液３を吸引ノズル２により吸引する。この動作
終了後に、上下機構部１０によってシリンジを上昇させ
最初の状態に戻す。本実施例によれば、０．２ｍｍ3 程
度の微少塗布を行うことが出来る。
する。図２（ａ）は、塗布前の状態である。上下機構部
１０によってシリンジが加工しシリンジ内の流動体を吐
出ノズル１から圧力制御された気体により吐出する。こ
の塗布液が図２（ｂ）のように吸引ノズルを引ったとこ
ろで吐出動作を終了させる。次に、図２（ｃ）に示すよ
うに塗布液３を吸引ノズル２により吸引する。この動作
終了後に、上下機構部１０によってシリンジを上昇させ
最初の状態に戻す。本実施例によれば、０．２ｍｍ3 程
度の微少塗布を行うことが出来る。
【００１０】さらに、同一基板上の複数箇所に塗布を行
う場合の本発明の第２の実施例を説明する。図３（ａ）
〜（ｅ）は、塗布動作を説明するノズル近傍の断面図で
ある。吐出ノズル先端１ａと鉛直方向におよそ２ｍｍの
差を設けた吸引ノズル先端２ａを備える。そのほかの構
成は、図１と同じである。図３（ａ）は、塗布前の状態
である。上下機構部１０によりシリンジを基板上の塗布
位置に移動後加工させ、図３（ｂ）のように塗布液３が
吸引ノズルの先端２ａを被うまで塗布液３を吐出する。
次に、図３（ｃ）に示すように吸引ノズル内を大気圧よ
り陰圧にすることで吸引を行い、吸引ノズル先端２ａの
周囲の気体が吸入され始めた直後の状態が図３（ｃ）と
なる。その後、塗布液３の形状はその表面張力により変
化し、図３（ｄ）のように吐出ノズル先端１ａと吸引ノ
ズル先端２ａのそれぞれから離れた位置で安定する。次
に水平機構部１０により、例えば図３（ｅ）の移動方向
４の向きに基板を移動させ同一基板内の新たな塗布位置
で固定し、図３（ｂ）から図３（ｄ）までの動作を繰り
返す。さらに塗布が必要な場合には、図３（ｅ），
（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）の動作を必要な塗布数
だけ繰り返し、最後の塗布が終了したら上下機構部１０
によりシリンジ５を上昇させ、最初の状態である図３
（ａ）に戻す。
う場合の本発明の第２の実施例を説明する。図３（ａ）
〜（ｅ）は、塗布動作を説明するノズル近傍の断面図で
ある。吐出ノズル先端１ａと鉛直方向におよそ２ｍｍの
差を設けた吸引ノズル先端２ａを備える。そのほかの構
成は、図１と同じである。図３（ａ）は、塗布前の状態
である。上下機構部１０によりシリンジを基板上の塗布
位置に移動後加工させ、図３（ｂ）のように塗布液３が
吸引ノズルの先端２ａを被うまで塗布液３を吐出する。
次に、図３（ｃ）に示すように吸引ノズル内を大気圧よ
り陰圧にすることで吸引を行い、吸引ノズル先端２ａの
周囲の気体が吸入され始めた直後の状態が図３（ｃ）と
なる。その後、塗布液３の形状はその表面張力により変
化し、図３（ｄ）のように吐出ノズル先端１ａと吸引ノ
ズル先端２ａのそれぞれから離れた位置で安定する。次
に水平機構部１０により、例えば図３（ｅ）の移動方向
４の向きに基板を移動させ同一基板内の新たな塗布位置
で固定し、図３（ｂ）から図３（ｄ）までの動作を繰り
返す。さらに塗布が必要な場合には、図３（ｅ），
（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）の動作を必要な塗布数
だけ繰り返し、最後の塗布が終了したら上下機構部１０
によりシリンジ５を上昇させ、最初の状態である図３
（ａ）に戻す。
【００１１】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので以下に記載する効果を持つ。
ているので以下に記載する効果を持つ。
【００１２】吸引ノズルを吐出ノズルの周囲に設けるこ
とで塗布領域の周辺を吸引でき、高粘度の流動体の塗布
においても厚い被膜部を残すという問題が無く、塗布量
を粘度よく制御できる。さらに、流動体の内部に吸引ノ
ズルが無いため、吐出時に吸引ノズル内が大気圧でも塗
布液に気体を混入することがない。
とで塗布領域の周辺を吸引でき、高粘度の流動体の塗布
においても厚い被膜部を残すという問題が無く、塗布量
を粘度よく制御できる。さらに、流動体の内部に吸引ノ
ズルが無いため、吐出時に吸引ノズル内が大気圧でも塗
布液に気体を混入することがない。
【００１３】次に、吸引ノズルと基板との距離を調節す
る高さ調整機構部を設けることで、吸引ノズルに気体が
吸引されるまで吸引を行っても塗布量の調整はノズル高
さを変えることで可能となり、吐出・吸引のための気体
の圧力・時間の制御装置の能力に依存せずに塗布量を制
御できる。
る高さ調整機構部を設けることで、吸引ノズルに気体が
吸引されるまで吸引を行っても塗布量の調整はノズル高
さを変えることで可能となり、吐出・吸引のための気体
の圧力・時間の制御装置の能力に依存せずに塗布量を制
御できる。
【００１４】同一基板上に複数箇所の塗布を行う場合に
おいても吐出ノズル先端と吸引ノズル先端は鉛直方向に
差を設けてあるため、吸引終了後の塗布液は吸引ノズル
から離れるのはもちろんであるが吐出ノズルからも離れ
る。また、厚い被膜部を残していないため、ノズルと基
板との高さはそのままで次にの塗布位置に移動できる。
おいても吐出ノズル先端と吸引ノズル先端は鉛直方向に
差を設けてあるため、吸引終了後の塗布液は吸引ノズル
から離れるのはもちろんであるが吐出ノズルからも離れ
る。また、厚い被膜部を残していないため、ノズルと基
板との高さはそのままで次にの塗布位置に移動できる。
【図１】本発明によるディスペンサ装置の構成図。
【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の第１の実施
例の塗布動作時の吐出・吸引ノズル近傍状態を示した断
面図。
例の塗布動作時の吐出・吸引ノズル近傍状態を示した断
面図。
【図３】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）は本
発明の第２の実施例の塗布動作時の吐出・吸引ノズル近
傍状態を示した断面図。
発明の第２の実施例の塗布動作時の吐出・吸引ノズル近
傍状態を示した断面図。
【図４】従来の吸引ノズルを持つディスペンサの断面
図。
図。
【図５】従来のディスペンサによる吸引後の塗布液形状
を示した断面図。
を示した断面図。
【図６】従来のディスペンサによる吐出時の塗布液形状
を示した断面図。
を示した断面図。
１ 吐出ノズル １ａ 吐出ノズル先端 ２ 吸引ノズル ２ａ 吸引ノズル先端 ３ 塗布液 ４ 移動方向 ５ シリンジ ７ 基板 ８ 水平機構部 ９ 高さ調整機構部 １１ 吐出ノズル １２ 吸引ノズル １３ 流動体
Claims (3)
- 【請求項１】 流動体を吐出後吸引することにより流動
体を塗布するディスペンサ装置において、吐出ノズルの
外周部に吸引ノズルを設けたディスペンサ装置。 - 【請求項２】 該吸引ノズル先端位置と該叶出ノズル先
端位置とに鉛直方向に対して差を設けた請求項１記載の
ディスペンサ装置。 - 【請求項３】 該吸引ノズル先端と被塗布部との距離を
変化させる高さ調整部を有する請求項１または請求項２
記載のディスペンサ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7153154A JP2739839B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 流動体の塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7153154A JP2739839B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 流動体の塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH091024A true JPH091024A (ja) | 1997-01-07 |
| JP2739839B2 JP2739839B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=15556212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7153154A Expired - Lifetime JP2739839B2 (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 流動体の塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2739839B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008132401A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Ias Inc | ノズルおよび液体回収方法 |
| CN102836789A (zh) * | 2012-09-25 | 2012-12-26 | 衡水英利新能源有限公司 | 打胶机喷嘴 |
| JP2014030813A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Fujitsu Ltd | 塗布ノズル、塗布装置、及び塗布方法 |
| JP5956053B2 (ja) * | 2013-02-14 | 2016-07-20 | 株式会社島津製作所 | 微細パターニング用表面化学処理装置 |
| JP2020089208A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | コネクトオール株式会社 | 積層コアの製造方法、接着剤塗布装置及び積層コアの製造装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06244543A (ja) * | 1993-02-17 | 1994-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 接着剤塗布装置用の接着剤塗布ノズル |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP7153154A patent/JP2739839B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06244543A (ja) * | 1993-02-17 | 1994-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 接着剤塗布装置用の接着剤塗布ノズル |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008132401A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Ias Inc | ノズルおよび液体回収方法 |
| JP4496202B2 (ja) * | 2006-11-27 | 2010-07-07 | 株式会社 イアス | ノズルおよび液体回収方法 |
| JP2014030813A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Fujitsu Ltd | 塗布ノズル、塗布装置、及び塗布方法 |
| CN102836789A (zh) * | 2012-09-25 | 2012-12-26 | 衡水英利新能源有限公司 | 打胶机喷嘴 |
| JP5956053B2 (ja) * | 2013-02-14 | 2016-07-20 | 株式会社島津製作所 | 微細パターニング用表面化学処理装置 |
| JP2020089208A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | コネクトオール株式会社 | 積層コアの製造方法、接着剤塗布装置及び積層コアの製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2739839B2 (ja) | 1998-04-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19971224 |