JPH0887101A - マスク検査装置 - Google Patents
マスク検査装置Info
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- JPH0887101A JPH0887101A JP22067994A JP22067994A JPH0887101A JP H0887101 A JPH0887101 A JP H0887101A JP 22067994 A JP22067994 A JP 22067994A JP 22067994 A JP22067994 A JP 22067994A JP H0887101 A JPH0887101 A JP H0887101A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 多重描画を行って形成したマスクのパターン
を１つの設計データとの比較で１パスで検査することが
できるマスク検査装置を提供すること。 【構成】 多重露光によりＬＳＩのパターンが形成され
たマスクに光を照射し、その透過光を検出してマスクパ
ターンの像を撮像し、撮像パターンデータと設計パター
ンデータとの比較によりパターン欠陥の有無を検査する
マスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレーム
に分割してフレーム単位で検査を行い、かつフレーム単
位の検査の中で検査不要部を設定することを特徴とす
る。
を１つの設計データとの比較で１パスで検査することが
できるマスク検査装置を提供すること。 【構成】 多重露光によりＬＳＩのパターンが形成され
たマスクに光を照射し、その透過光を検出してマスクパ
ターンの像を撮像し、撮像パターンデータと設計パター
ンデータとの比較によりパターン欠陥の有無を検査する
マスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレーム
に分割してフレーム単位で検査を行い、かつフレーム単
位の検査の中で検査不要部を設定することを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マスク検査装置に係わ
り、特に１パスの検査の中に検査不要部の処理機能を備
えたマスク検査装置に関する。
り、特に１パスの検査の中に検査不要部の処理機能を備
えたマスク検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の製造において、パター
ン転写に供されるフォトマスクにパターン断線などの欠
陥が存在すると、所望する半導体素子を得られずに歩留
りの低下を招く。そこで従来、電子ビーム描画装置で製
作されたフォトマスクのパターン欠陥などを検査するパ
ターン検査装置が用いられている。この装置は、フォト
マスクに光を照射してマスク上に形成されているパター
ンに応じた光信号を検出し、該マスクにパターンを形成
する際に用いられた設計データから得られる基準信号
と、上記検出信号とを比較照合して、マスク上のパター
ン欠陥の有無及びパターンの正否を検査するというもの
である。
ン転写に供されるフォトマスクにパターン断線などの欠
陥が存在すると、所望する半導体素子を得られずに歩留
りの低下を招く。そこで従来、電子ビーム描画装置で製
作されたフォトマスクのパターン欠陥などを検査するパ
ターン検査装置が用いられている。この装置は、フォト
マスクに光を照射してマスク上に形成されているパター
ンに応じた光信号を検出し、該マスクにパターンを形成
する際に用いられた設計データから得られる基準信号
と、上記検出信号とを比較照合して、マスク上のパター
ン欠陥の有無及びパターンの正否を検査するというもの
である。
【０００３】図３により、従来の検査方法を説明する。
図３は、検査の対象となるマスクの構成要素を示してい
る。いま、第ｎフレームを検査する場合、検査開始点
（ＦＳ）と検査終了点（ＦＥ）を指定し、ＦＳからＦＥ
間を１パスで検査する。設計パターンと撮像パターンと
の比較で差があれば、エラーとして出力する。
図３は、検査の対象となるマスクの構成要素を示してい
る。いま、第ｎフレームを検査する場合、検査開始点
（ＦＳ）と検査終了点（ＦＥ）を指定し、ＦＳからＦＥ
間を１パスで検査する。設計パターンと撮像パターンと
の比較で差があれば、エラーとして出力する。
【０００４】しかしながら、この種の装置にあっては次
のような問題があった。図３のマスク（ＭＫＯ）の描画
は、描画装置の多重描画機能で行う。即ち、図５に示す
ように、マスクパターンデータ（ＭＫ１）とマスクパタ
ーンデータ（ＭＫ２）を連続して描画することにより、
結果としてマスク（ＭＫＯ）を得る。このマスク（ＭＫ
Ｏ）を検査する場合、検査データとしてＭＫ１を使うと
ＭＫ２の部分でエラーを起こす。逆に、検査データとし
てＭＫ２を使うとＭＫ１の部分でエラーを起こす。
のような問題があった。図３のマスク（ＭＫＯ）の描画
は、描画装置の多重描画機能で行う。即ち、図５に示す
ように、マスクパターンデータ（ＭＫ１）とマスクパタ
ーンデータ（ＭＫ２）を連続して描画することにより、
結果としてマスク（ＭＫＯ）を得る。このマスク（ＭＫ
Ｏ）を検査する場合、検査データとしてＭＫ１を使うと
ＭＫ２の部分でエラーを起こす。逆に、検査データとし
てＭＫ２を使うとＭＫ１の部分でエラーを起こす。
【０００５】なお、ＭＫ１とＭＫ２の両者を合成したＭ
ＫＯの検査データを作ることは、極めて効率が悪いし、
また描画データが検査データにならないことにもなり、
望ましくない。
ＫＯの検査データを作ることは、極めて効率が悪いし、
また描画データが検査データにならないことにもなり、
望ましくない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のマ
スク検査装置においては、複数のマスクパターンデータ
を用いてパターンが形成されるため、１パスで検査する
場合、多重描画を行った部分は１つの設計データとの比
較では検査できない問題があった。
スク検査装置においては、複数のマスクパターンデータ
を用いてパターンが形成されるため、１パスで検査する
場合、多重描画を行った部分は１つの設計データとの比
較では検査できない問題があった。
【０００７】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、多重描画を行って形成
したマスクのパターンであっても１つの設計データとの
比較で１パスで検査することができ、検査効率の向上を
はかり得るマスク検査装置を提供することにある。
ので、その目的とするところは、多重描画を行って形成
したマスクのパターンであっても１つの設計データとの
比較で１パスで検査することができ、検査効率の向上を
はかり得るマスク検査装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、次のような構成を採用している。即ち、本
発明（請求項１）は、所定のパターンが形成されたマス
クに光を照射し、その透過光又は反射光を検出してマス
クパターンの像を撮像し、撮像パターンと設計パターン
との比較により欠陥の有無を検査するマスク検査装置に
おいて、検査領域を短冊状のフレームに分割してフレー
ム単位で検査を行う手段と、フレーム単位の検査の中で
検査不要部を設定する手段とを具備してなることを特徴
とする。
に本発明は、次のような構成を採用している。即ち、本
発明（請求項１）は、所定のパターンが形成されたマス
クに光を照射し、その透過光又は反射光を検出してマス
クパターンの像を撮像し、撮像パターンと設計パターン
との比較により欠陥の有無を検査するマスク検査装置に
おいて、検査領域を短冊状のフレームに分割してフレー
ム単位で検査を行う手段と、フレーム単位の検査の中で
検査不要部を設定する手段とを具備してなることを特徴
とする。
【０００９】また、本発明（請求項２）は、所定のパタ
ーンが形成されたマスクに光を照射し、その透過光又は
反射光を検出してマスクパターンの像を撮像し、撮像パ
ターンと設計パターンとの比較により欠陥の有無を検査
するマスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレ
ームに分割してフレーム単位で検査を行う手段と、フレ
ームの検査開始位置と終了位置を設定する手段と、フレ
ームにおける検査不要部の開始位置と終了位置を設定す
る手段と、前記マスクの検査位置を検出する手段と、前
記設定された検査不要部の位置データと前記検出された
検査位置に基づき、検査位置が検査範囲の内側か外側か
を判定する手段と、検査範囲内の時は欠陥判定を実行
し、検査範囲外のときは欠陥判定を実行しないように制
御する手段とを具備してなることを特徴とする。
ーンが形成されたマスクに光を照射し、その透過光又は
反射光を検出してマスクパターンの像を撮像し、撮像パ
ターンと設計パターンとの比較により欠陥の有無を検査
するマスク検査装置において、検査領域を短冊状のフレ
ームに分割してフレーム単位で検査を行う手段と、フレ
ームの検査開始位置と終了位置を設定する手段と、フレ
ームにおける検査不要部の開始位置と終了位置を設定す
る手段と、前記マスクの検査位置を検出する手段と、前
記設定された検査不要部の位置データと前記検出された
検査位置に基づき、検査位置が検査範囲の内側か外側か
を判定する手段と、検査範囲内の時は欠陥判定を実行
し、検査範囲外のときは欠陥判定を実行しないように制
御する手段とを具備してなることを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明によれば、１パスの検査の中で、検査不
要部を設定することにより、１フレーム当たり複数回の
検査範囲を設定することができる。これにより、多重描
画を行って形成したマスクのパターンであっても、１つ
の設計データとの比較により１パスで検査することが可
能となる。なお、多重描画部分に関しては、別の設計デ
ータを用いて検査を行えばよい。
要部を設定することにより、１フレーム当たり複数回の
検査範囲を設定することができる。これにより、多重描
画を行って形成したマスクのパターンであっても、１つ
の設計データとの比較により１パスで検査することが可
能となる。なお、多重描画部分に関しては、別の設計デ
ータを用いて検査を行えばよい。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は、本発明の一実施例に係わるマスク検査装
置の概略構成を示すブロック図である。図中１１は計算
機であり、計算機１１から検査開始位置データＰＹ（２
ｉ−１）と検査終了位置データＰＹ（２ｉ）をメモリ１
４に、検査開始前に記憶させる。メモリ１４は、このＰ
Ｙデータを順番に検査範囲判定回路１５に出力する。検
査範囲判定回路１５は、位置回路１３からの現在の位置
データとメモリ１４からのＰＹデータから検査範囲の位
置側か外側かを判定し、検査範囲信号を出力する。この
検査範囲判定信号により、検査回路１２は検査範囲内の
時は欠陥判定を実行し、検査範囲外の時は欠陥判定を実
行しない。メモリコントロール回路１６は、計算機１１
からのＰＹデータをメモリ１４に書き込む時のコントロ
ールと、検査範囲判定信号によりメモリ１４の出力をＰ
Ｙ（１），ＰＹ（２），…と順次切り替える。
する。図１は、本発明の一実施例に係わるマスク検査装
置の概略構成を示すブロック図である。図中１１は計算
機であり、計算機１１から検査開始位置データＰＹ（２
ｉ−１）と検査終了位置データＰＹ（２ｉ）をメモリ１
４に、検査開始前に記憶させる。メモリ１４は、このＰ
Ｙデータを順番に検査範囲判定回路１５に出力する。検
査範囲判定回路１５は、位置回路１３からの現在の位置
データとメモリ１４からのＰＹデータから検査範囲の位
置側か外側かを判定し、検査範囲信号を出力する。この
検査範囲判定信号により、検査回路１２は検査範囲内の
時は欠陥判定を実行し、検査範囲外の時は欠陥判定を実
行しない。メモリコントロール回路１６は、計算機１１
からのＰＹデータをメモリ１４に書き込む時のコントロ
ールと、検査範囲判定信号によりメモリ１４の出力をＰ
Ｙ（１），ＰＹ（２），…と順次切り替える。
【００１２】なお、検査回路１２における欠陥検査は、
マスクに光を照射してマスク上に形成されているパター
ンに応じた光信号を検出し、該マスクにパターンを形成
する際に用いられた設計データから得られる基準信号
と、上記検出信号とを比較照合して、マスク上のパター
ン欠陥の有無及びパターンの正否を検査するというもの
である。
マスクに光を照射してマスク上に形成されているパター
ンに応じた光信号を検出し、該マスクにパターンを形成
する際に用いられた設計データから得られる基準信号
と、上記検出信号とを比較照合して、マスク上のパター
ン欠陥の有無及びパターンの正否を検査するというもの
である。
【００１３】マスクパターンの像を撮像する手段として
は、図２に示すように、光源２１からの光をレンズ２２
により微小な点ビームに絞ってマスク２３に照射し、マ
スク２３の透過光をレンズ２４により受光素子２５に結
像し、マスク２３をＸ，Ｙ方向に走査することにより、
フレーム単位に撮像データを得る。また、比較的大きな
スポットビームをマスク２３に照射すると共にその透過
光を２次元の撮像素子で検出してフレーム単位の撮像デ
ータを得るようにしてもよい。
は、図２に示すように、光源２１からの光をレンズ２２
により微小な点ビームに絞ってマスク２３に照射し、マ
スク２３の透過光をレンズ２４により受光素子２５に結
像し、マスク２３をＸ，Ｙ方向に走査することにより、
フレーム単位に撮像データを得る。また、比較的大きな
スポットビームをマスク２３に照射すると共にその透過
光を２次元の撮像素子で検出してフレーム単位の撮像デ
ータを得るようにしてもよい。
【００１４】次に、上記装置を用いたパターン欠陥検査
方法について、図３及び図４を参照して説明する。図３
は検査の対象となるマスクの構成要素を示し、図４は１
つのフレームにおける位置データの様子を示している。
なお、ここでは設計データとしてＭＫ１を用いるものと
する。
方法について、図３及び図４を参照して説明する。図３
は検査の対象となるマスクの構成要素を示し、図４は１
つのフレームにおける位置データの様子を示している。
なお、ここでは設計データとしてＭＫ１を用いるものと
する。
【００１５】まず、外部より、図３に示すマスクの検査
不要部の開始点ＮＣＳ（ｊ）と終了点ＮＣＥ（ｊ）情報
を与える。ここでは、ＮＣＳ１，ＮＣＥ１とＮＣＳ２，
ＮＣＥ２の情報を与える。
不要部の開始点ＮＣＳ（ｊ）と終了点ＮＣＥ（ｊ）情報
を与える。ここでは、ＮＣＳ１，ＮＣＥ１とＮＣＳ２，
ＮＣＥ２の情報を与える。
【００１６】この情報を基にプログラムで、フレーム毎
の検査不要部（図３中にハッチングで示す部分）の開始
点ＰＹ（２ｉ）と終了点ＰＹ（２ｉ＋１）を求める。こ
こでは、ＰＹ２，ＰＹ３とＰＹ４，ＰＹ５である。
の検査不要部（図３中にハッチングで示す部分）の開始
点ＰＹ（２ｉ）と終了点ＰＹ（２ｉ＋１）を求める。こ
こでは、ＰＹ２，ＰＹ３とＰＹ４，ＰＹ５である。
【００１７】第ｎフレームの検査開始前にＰＹ（２
ｉ），ＰＹ（２ｉ＋１）の情報をハードに与える。第ｎ
フレームの検査中にハードは、ＰＹ（２ｉ）〜ＰＹ（２
ｉ＋１）を除く領域、即ちＰＹ（２ｉ−１）〜ＰＹ（２
ｉ）の間のみ欠陥判定を実行する。ここでは、ＰＹ１〜
ＰＹ２，ＰＹ３〜ＰＹ４，ＰＹ５〜ＰＹ６の領域でのみ
欠陥判定を実行する。
ｉ），ＰＹ（２ｉ＋１）の情報をハードに与える。第ｎ
フレームの検査中にハードは、ＰＹ（２ｉ）〜ＰＹ（２
ｉ＋１）を除く領域、即ちＰＹ（２ｉ−１）〜ＰＹ（２
ｉ）の間のみ欠陥判定を実行する。ここでは、ＰＹ１〜
ＰＹ２，ＰＹ３〜ＰＹ４，ＰＹ５〜ＰＹ６の領域でのみ
欠陥判定を実行する。
【００１８】これにより、ＭＫ１のデータをもとにフレ
ーム内の多重露光部分を除いて欠陥検査を行うことにな
り、従来のようにＭＫ２の部分でエラーが生じる等の不
都合も生じない。
ーム内の多重露光部分を除いて欠陥検査を行うことにな
り、従来のようにＭＫ２の部分でエラーが生じる等の不
都合も生じない。
【００１９】このようにして本実施例によれば、１フレ
ームの検査の中で検査不要部を設定することにより、１
フレーム当たり複数回の検査範囲を設定することがで
き、これにより、多重描画を行って形成したマスクのパ
ターンを１つの設計データとの比較で１パスで検査する
ことが可能となる。しかも、多重描画の複数の設計デー
タを合成した検査データを作る必要もなく、極めて効率
良く検査を行うことができる。
ームの検査の中で検査不要部を設定することにより、１
フレーム当たり複数回の検査範囲を設定することがで
き、これにより、多重描画を行って形成したマスクのパ
ターンを１つの設計データとの比較で１パスで検査する
ことが可能となる。しかも、多重描画の複数の設計デー
タを合成した検査データを作る必要もなく、極めて効率
良く検査を行うことができる。
【００２０】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。実施例では、１つの設計データを用い
て１パスで１フレームの検査を行ったが、別の設計デー
タに対する検査も行うには、新たに検査不要部を設定し
て同じフレームを検査すればよい。また、マスクパター
ンの撮像データを得る手段としては、マスクの透過光を
検出するのではなく、マスクからの反射光を検出するよ
うにしてもよい。さらに、２次元の撮像データを得るた
めには、光源及び受光素子に対しマスクを相対的に移動
させたり、受光素子としてＣＣＤ撮像素子のような２次
元の撮像素子を用いればよい。その他、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができ
る。
るものではない。実施例では、１つの設計データを用い
て１パスで１フレームの検査を行ったが、別の設計デー
タに対する検査も行うには、新たに検査不要部を設定し
て同じフレームを検査すればよい。また、マスクパター
ンの撮像データを得る手段としては、マスクの透過光を
検出するのではなく、マスクからの反射光を検出するよ
うにしてもよい。さらに、２次元の撮像データを得るた
めには、光源及び受光素子に対しマスクを相対的に移動
させたり、受光素子としてＣＣＤ撮像素子のような２次
元の撮像素子を用いればよい。その他、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができ
る。
【００２１】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、１
パスの検査の中に検査不要部を設定することにより、多
重描画したマスクであっても１つの設計データとの比較
での欠陥検査を行うことができ、効率良い検査を行うこ
とが可能となる。
パスの検査の中に検査不要部を設定することにより、多
重描画したマスクであっても１つの設計データとの比較
での欠陥検査を行うことができ、効率良い検査を行うこ
とが可能となる。
【図１】本発明の一実施例に係わるマスク検査装置の概
略構成を示すブロック図。
略構成を示すブロック図。
【図２】マスクパターン像を撮像する手段の一例を示す
図。
図。
【図３】検査の対象となるマスクの構成要素を示す図。
【図４】１つのフレームにおける位置データの様子を示
す図。
す図。
【図５】多重描画による問題点を説明するための図。
１１…計算機 １２…検査回路 １３…位置回路 １４…メモリ １５…検査範囲判定回路 １６…メモリコントロール回路 ２１…光源 ２２，２４…レンズ ２３…マスク ２４…受光素子
Claims (2)
- 【請求項１】所定のパターンが形成されたマスクに光を
照射し、その透過光又は反射光を検出してマスクパター
ンの像を撮像し、撮像パターンと設計パターンとの比較
により欠陥の有無を検査するマスク検査装置において、 検査領域を短冊状のフレームに分割してフレーム単位で
検査を行う手段と、フレーム単位の検査の中で検査不要
部を設定する手段とを具備してなることを特徴とするマ
スク検査装置。 - 【請求項２】所定のパターンが形成されたマスクに光を
照射し、その透過光又は反射光を検出してマスクパター
ンの像を撮像し、撮像パターンと設計パターンとの比較
により欠陥の有無を検査するマスク検査装置において、 検査領域を短冊状のフレームに分割してフレーム単位で
検査を行う手段と、フレームの検査開始位置と終了位置
を設定する手段と、フレームにおける検査不要部の開始
位置と終了位置を設定する手段と、前記マスクの検査位
置を検出する手段と、前記設定された検査不要部の位置
データと前記検出された検査位置に基づき、検査位置が
検査範囲の内側か外側かを判定する手段と、検査範囲内
の時は欠陥判定を実行し、検査範囲外のときは欠陥判定
を実行しないように制御する手段とを具備してなること
を特徴とするマスク検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22067994A JPH0887101A (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | マスク検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22067994A JPH0887101A (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | マスク検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887101A true JPH0887101A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=16754773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22067994A Pending JPH0887101A (ja) | 1994-09-14 | 1994-09-14 | マスク検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0887101A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005533283A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-11-04 | ケイデンス デザイン システムズ インコーポレイテッド | コンテクスト特定のマスク書込のための方法及びシステム |
| JP2006502422A (ja) * | 2002-07-12 | 2006-01-19 | ケイデンス デザイン システムズ インコーポレイテッド | コンテクスト特定型のマスク検査のための方法及びシステム |
| JP2006039059A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Toshiba Corp | フォトマスクデータの作成方法およびフォトマスクの製造方法 |
| JP2007333783A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Fujitsu Ltd | 露光用マスクの検査装置、検査方法、製造方法および露光用マスク |
| JP2008147584A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | 検査データ作成方法および検査方法 |
-
1994
- 1994-09-14 JP JP22067994A patent/JPH0887101A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005533283A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-11-04 | ケイデンス デザイン システムズ インコーポレイテッド | コンテクスト特定のマスク書込のための方法及びシステム |
| JP2006502422A (ja) * | 2002-07-12 | 2006-01-19 | ケイデンス デザイン システムズ インコーポレイテッド | コンテクスト特定型のマスク検査のための方法及びシステム |
| JP2006039059A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Toshiba Corp | フォトマスクデータの作成方法およびフォトマスクの製造方法 |
| US7735055B2 (en) | 2004-07-23 | 2010-06-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of creating photo mask data, method of photo mask manufacturing, and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2007333783A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Fujitsu Ltd | 露光用マスクの検査装置、検査方法、製造方法および露光用マスク |
| JP2008147584A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Toshiba Corp | 検査データ作成方法および検査方法 |
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