JPH088374A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH088374A
JPH088374A JP13686594A JP13686594A JPH088374A JP H088374 A JPH088374 A JP H088374A JP 13686594 A JP13686594 A JP 13686594A JP 13686594 A JP13686594 A JP 13686594A JP H088374 A JPH088374 A JP H088374A
Authority
JP
Japan
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wiring terminal
wiring
semiconductor device
terminal
stress
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Pending
Application number
JP13686594A
Other languages
English (en)
Inventor
Takuji Yoshida
卓司 義田
Yukio Kamida
行雄 紙田
Tatsuya Shigemura
達也 茂村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP13686594A priority Critical patent/JPH088374A/ja
Publication of JPH088374A publication Critical patent/JPH088374A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Landscapes

  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、半導体装置に関し、その目的は、各
配線端子半田付け部の応力破壊に耐えることのできる配
線端子を提供し、熱的信頼性の向上をはかることにあ
る。 【構成】図1において、11は半導体素子、12は配線
端子、12aは配線端子半田付け部、13は冷却フィ
ン、14はシリコーンゲル、15はハードレジン、16
はケース、17は端子ブロックである。本発明の半導体
装置は、Cベンド先端の肉厚を薄肉化することで効果的
に配線端子の剛性を低減し、配線端子半田付け部12a
にかかる応力を低減できる構造とした。 【効果】半導体装置内において、配線抵抗をほとんど増
加させることなしに温度変化により発生する配線端子半
田付け部12aの応力を低減できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置においての
高性能化,熱的高信頼性に関する。
【0002】
【従来の技術】図2に従来のパワーモジュール半導体装
置における断面図を示す。両面に金属板を有する絶縁板
10と該絶縁板10上の金属板に固着された半導体素子
11と配線端子12,その絶縁板下の金属板に固着され
た冷却フィン13,それらをコーティングしているシリ
コーンゲル14とその上を覆っているハードレジン15
とケース16,端子ブロック17から成り立っている。
この種のパワーモジュールは数百アンペアの電流が流れ
るため、発生する熱による温度変化及び種々の環境にさ
らされることによる温度変化にさらされる。この場合、
シリコーンゲル14の熱膨張係数(300×10-6
℃)が他の構造体より大きくシリコーンゲル14の膨張
収縮により半導体装置内の各配線端子12の半田付け部
に繰返し大きな応力が加わる。これにより半田部で亀裂
の発生,進展が起こり極端な場合、剥離に至る。このた
め特開昭59−177951号公報のように配線端子12にアル
ファベットのC状の蛇行部分を設けている。この蛇行部
分の設置は端子全体の剛性を小さくし、ゲルの膨張/収
縮により発生する引張力を低減し、結果として半田付け
部での応力低減を目的としたものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術におい
て、半導体装置内の配線端子12はCベンドを設けて前
述したように縦方向の引っ張り応力に対して配線端子半
田付け部の応力を緩和する構造としているが、半導体装
置の設計上、Cベンドの長さを十分に確保できない場合
や配線抵抗低減のため配線端子12を厚肉にした場合、
Cベンドの効果が十分でなくなる。
【0004】本発明の目的は、素子の高性能化に伴い、
上記の課題である配線端子の配線抵抗をほとんど増加さ
せることなく、ベンド効果を高める応力緩和構造とし、
熱的信頼性の高い半導体装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は配線端子を1ヶ
所薄肉化し、効果的に端子の剛性低減したものである。
【0006】
【作用】本発明による配線端子は、一部の肉厚を薄くし
ただけなので配線抵抗はほとんど増加しない。一方で端
子の剛性低減に効果的な場所に肉薄部があるのでゲルの
膨張/収縮による配線端子半田付け部12aの応力を飛
躍的に低減できる。また、配線端子半田付け部12aの
応力を従来の値と変えずに設計した場合、配線端子薄肉
部以外の厚肉化が可能であり、これにより配線抵抗の低
減をすることもでき、高性能化に対応した熱的信頼性の
高い半導体装置を実現できる。
【0007】
【実施例】図1に、本発明の実施例を示す。両面に金属
板を有する絶縁板10と該絶縁板10上の金属板に固着
された半導体素子11と配線端子12,その絶縁板下の
金属板に固着された冷却フィン13,それらをコーティ
ングしているシリコーンゲル14とその上を覆っている
ハードレジン15とケース16,端子ブロック17から
成り立っているパワーモジュールにおいて、配線端子1
2の応力集中箇所1の断面積を薄くしたことを特徴とす
る構成となっている。全断面を薄くすると応力緩和構造
としての機能は向上するが配線抵抗は増加する。また厚
くすると、配線抵抗は低減できるが、配線端子半田付け
部12aに大きな応力が発生し配線端子半田付け部12
aでの亀裂の原因となる。そこで本発明ではCベンドの
先端1の断面2次モーメント低減が端子全体の剛性低減
に効果的であることを構造解析より明らかにし、この箇
所の肉厚を他の配線端子肉厚より薄くすることで、配線
端子全体の剛性を低減し、配線端子半田付け部12aの
応力を緩和する構造としたものである。そこで本構造に
対してモデルを作りシミュレーション解析した。モデル
は端子平面に対して垂直な方向の断面2次モーメントを
大きくさせ、合わせて端子平面と平行方向の断面2次モ
ーメントの減少ができるような最適な厚さを決め、応力
集中箇所のみをその必要な厚さとし、応力のかからない
ところはより厚くし、できるだけ配線抵抗の増加しない
構造とした。計算は、応力集中箇所を通常の形である従
来モデル(図3−(a))横4mm,縦1.2mmの厚さ,ベン
ド長12mmの端子をつくり、それに対してCベンド部先
端を1/2に薄くしたもの(図3−(b))、その他のサ
イズについては同様としたもので比較検討を行った。条
件はゲルが膨張したと仮定しCベンド上部(図3−(a)
3)から100μm縦方向に引張ったものとする。ま
た、材質については電気抵抗が小さいこと、表面酸化が
少ないこと、引っ張り強度が強いこと、半田とのぬれ性
等を考慮した中で銅が上記条件のなかで一番有利な為、
従来通り無酸素銅を使用したものとする。
【0008】比較計算結果を図4−(b)に示した。図4
−(b)の配線端子半田付け部12aにかかる圧縮引っ張
り応力は従来比、56%に低減でき、この結果より配線
抵抗をほとんど増加させることなしに応力緩和効果を増
加させ応力を低下させることを確認した。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば、半導体素子等の動作に
よる発熱でシリコーンゲルと端子の伸び量との差によっ
て発生する応力を、配線抵抗をほとんど増加することな
しに低減する機能を提供でき、半田接合部が破壊される
ということが解消されるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1を示す断面図である。
【図2】従来構造の断面図である。
【図3】(a)従来の端子及び(b)本発明の端子を3
次元的に示した図である。
【図4】(a)半田接合部及び(b)従来と本発明の端
子の応力計算結果比較を示す図である。
【符号の説明】
1…応力集中箇所、10…絶縁板、11…半導体素子、
12…配線端子、12a…配線端子半田付け部、13…冷
却フィン、14…シリコーンゲル、15…ハードレジ
ン、16…ケース、17…端子ブロック。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】枠体が固着された金属基板と、前記金属基
    板上に固着された、導体層を表面に有する絶縁基板と、
    前記導体層上に半導体素子及び配線端子が半田付けさ
    れ、前記枠体内部にゲル状封止体と封止樹脂を充填して
    成り、前記配線端子は中間部にC字形形状を有する半導
    体装置において、前記配線端子の少なくとも一部の厚さ
    を減少させた構造とすることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記配線端子は、厚さ
    を減少させる部分をC字形形状先端部とすることを特徴
    とする半導体装置。
  3. 【請求項3】請求項1において、前記配線端子は、板金
    加工により形成されたもので厚さを減少させる部分は塑
    性加工により形成することを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】請求項1において、前記配線端子は、金属
    材料が銅であることを特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】請求項1において、前記配線端子は、ニッ
    ケル被膜が施されていることを特徴とする半導体装置。
JP13686594A 1994-06-20 1994-06-20 半導体装置 Pending JPH088374A (ja)

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JP13686594A JPH088374A (ja) 1994-06-20 1994-06-20 半導体装置

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JP13686594A JPH088374A (ja) 1994-06-20 1994-06-20 半導体装置

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JPH088374A true JPH088374A (ja) 1996-01-12

Family

ID=15185337

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JP13686594A Pending JPH088374A (ja) 1994-06-20 1994-06-20 半導体装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008258649A (ja) * 2008-06-06 2008-10-23 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2013077688A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Shindengen Electric Mfg Co Ltd 半導体装置

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JP4694594B2 (ja) * 2008-06-06 2011-06-08 三洋電機株式会社 半導体装置
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