JPH08833B2 - ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法 - Google Patents

ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法

Info

Publication number
JPH08833B2
JPH08833B2 JP5088032A JP8803293A JPH08833B2 JP H08833 B2 JPH08833 B2 JP H08833B2 JP 5088032 A JP5088032 A JP 5088032A JP 8803293 A JP8803293 A JP 8803293A JP H08833 B2 JPH08833 B2 JP H08833B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silicon
aromatic ring
compound
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP5088032A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06271591A (ja
Inventor
正人 田中
浩 山下
Original Assignee
工業技術院長
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 工業技術院長 filed Critical 工業技術院長
Priority to JP5088032A priority Critical patent/JPH08833B2/ja
Publication of JPH06271591A publication Critical patent/JPH06271591A/ja
Publication of JPH08833B2 publication Critical patent/JPH08833B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも2個のケイ
素−ケイ素結合を有する鎖状ポリシラン類とキノン類と
の反応による、ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケ
イ素化合物の製造方法に関するものである。本発明によ
り提供されるケイ素化合物は、ビス(シロキシ)芳香環
を有し特徴的な紫外吸収を示すので、各種の感光性材料
としての利用が見込まれる。また本発明で得られる高分
子ケイ素化合物は、熱的に安定なシロキサン結合、芳香
環等を有していることから、耐熱材料、エンジニアリン
グプラスチック用材料等としての用途も期待できる。
【0002】
【従来の技術】ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケ
イ素化合物は、一般には、Si−Cl、Si−OR、あ
るいはSi−NHR’結合(R,R’=アルキル、アリ
ール基)を有するケイ素化合物とジヒドロキシ芳香族化
合物との縮合反応で製造されていた。しかしこれらの方
法では、塩化水素、アルコール、あるいはアミンの副生
を伴い、それらを除去する必要があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を克服し、少なくとも2個のケイ素−ケイ素結合を有す
る鎖状ポリシラン類とキノン類とから、ビス(シロキ
シ)芳香環骨格を有するケイ素化合物を製造する方法を
提供することをその目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、パラジウム触媒存
在下での反応により、少なくとも2個のケイ素−ケイ素
結合を有する鎖状ポリシラン類のケイ素−ケイ素結合に
キノン類が速やかに挿入し、縮合反応の場合のような副
生物の生成を伴うことなくビス(シロキシ)芳香環骨格
を有するケイ素化合物が生成するという新規な事実を見
いだし、この知見に基づいて本発明を完成させるに至っ
た。
【0005】すなわち本発明は、パラジウム触媒存在
下、ケイ素−ケイ素結合を少なくとも2個有する鎖状ポ
リシラン類(後記一般式(I)で示される化合物)とキ
ノン類とを反応させることを特徴とするビス(シロキ
シ)芳香環骨格を少なくとも1個有するケイ素化合物の
効率的製造方法を提供するものである。本発明において
原料として用いられる、少なくとも2個のケイ素−ケイ
素結合を有する鎖状ポリシラン類は、下記の一般式
(I)
【0006】
【化4】
【0007】(式中、R2 及びR3 はアルキル基または
アルコキシ基であり、それらは互いに同一でも異なって
もよい。nは3以上の整数を示す。末端基はアルキル
基、アルコキシ基または水素原子である。)で表わされ
るポリシラン骨格を有するものである。
【0008】一般式(I)中のR2 及びR3 を例示すれ
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基メトキシ基等が挙げられる。それらの置換基等
を有する一般式(I)で表わされる鎖状ポリシラン類を
例示すれば、オクタメチルトリシラン、デカメチルテト
ラシラン、テトラデカメチルヘキサシラン、ポリ(ジメ
チルシリレン)、ポリ(ジエチルシリレン)、ポリ(メ
チルプロピルシリレン)、ポリ(ブチルメチルシリレ
ン)、ポリ(ヘキシルメチルシリレン)、ポリ(メトキ
シメチルシリレン)等を挙げることができる。また、本
発明において用いられるキノン類は、環内の炭素数が2
0以下の芳香族炭化水素化合物を母体化合物とし、一般
【0009】
【化5】
【0010】(式中、bは1である。)で表わされる骨
格を有するキノン類であり、環上の水素原子が、炭化水
素基、塩素原子、含酸素基、含窒素基又は含硫黄基等の
1価の基で置換されていてもよい。それらのキノン類を
例示すれば、oまたはp−ベンゾキノン、2,5−ジメ
チル−p−ベンゾキノン、2,3,5,6−テトラメチ
ル−p−ベンゾキノン、2,5−ジ−tert−ブチル
−p−ベンゾキノン、2,3,5,6−テトラクロロ−
p−ベンゾキノン、2,3,5,6−テトラフルオロ−
p−ベンゾキノン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシア
ノ−p−ベンゾキノン、2−メトキシ−p−ベンゾキノ
ン、1,2または1,4−ナフトキノン、1,2−ナフ
トキノン−4−スルホニル=クロリド、1,2−、1,
4−または9,10−アントラキノン、9,10−フェ
ナントラキノン、1,6−ピレンキノン及び3,10−
ペリレンキノン等が挙げられる。
【0011】本発明方法により提供される、少なくとも
1個のビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合
物は、下記の一般式(III) で表わされる骨格を有するも
のである。
【0012】
【化6】
【0013】(式中、R2 及びR3 は、各々前記と同じ
意味をもつ。R1 は、環内の炭素数が20以下の芳香族
炭化水素化合物から、最短2個の環内炭素原子で隔てら
れた位置の2個の環内炭素原子にそれぞれ結合した2個
の水素原子を取り除いて得られる2価の芳香環基を表わ
す。また、p及びqはp≧1、q≧0、p+q≧3の関
係を満たす整数を示す。末端基はアルキル基、アルコキ
シ基または水素原子である。
【0014】一般式(III) 中のR1 を例示すると、p−
フェニレン基、2,3,5,6−テトラクロロ−1,4
−フェニレン基、2,3,5,6−テトラフルオロ−
1,4−フェニレン基、1,4−ナフチレン基、9,1
0−アントリレン基及び9,10−フェナントリレン基
等が挙げられる。また、それらの基等を有する一般式
(III) で表わされるケイ素化合物を具体的に示すと、
ジメチルビス(p−トリメチルシロキシフェニルオキ
シ)シラン、ポリ[(p−フェニレンジオキシ)ジメチ
ルシリレン]、ポリ[(p−フェニレンジオキシ)ジエ
チルシリレン]、ポリ[(2,3,5,6−テトラクロ
ロ−1,4−フェニレンジオキシ)ジメチルシリレ
ン]、ポリ[(2,3,5,6−テトラフルオロ−1,
4−フェニレンジオキシ)メチルプロピルシリレン]、
ポリ[(1,4−ナフチレンジオキシ)ジメチルシリレ
ン]、ポリ[(9,10−アントリレンジオキシ)ジメ
チルシリレン]、及びポリ[(9,10−フェナントリ
レンジオキシ)ジメチルシリレン]等を挙げることがで
きる。
【0015】本発明の反応に用いられるキノン類の量
は、用いられる鎖状ポリシラン類中のケイ素−ケイ素結
合の数をnとし、生成物におけるビス(シロキシ)芳香
環骨格の数をmとすると、所望のm/nすなわちポリシ
ラン鎖へのキノン類の挿入の程度に応じて任意に選ぶこ
とができるが、原料の鎖状ポリシラン類に対するモル比
として1/n:1以上、通常は1/n:1〜10:1で
ある。
【0016】本発明において用いられるパラジウム触媒
としては、パラジウム錯体、パラジウム塩、金属または
担持金属パラジウム触媒等、従来公知のものを含む各種
のものが使用できる。それらの具体例を示すと、ビス
(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、ジクロロビス
(ベンゾニトリル)パラジウム、ジ−μ−クロロビス
(π−アリル)二パラジウム、ジクロロ(η−1,5−
シクロオクタジエン)パラジウム、テトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリメ
チルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリエチ
ルホスフィン)パラジウム、ジヨードビス(ジエチルフ
ェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロビス(トリブ
チルホスフィン)パラジウム、ジブロモ[1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム、ジクロ
ロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロ
ロビス(トリ−o−トリルホスフィン)パラジウム、酢
酸パラジウム、塩化パラジウム、活性炭担持パラジウム
等が挙げられる。これらの錯体、塩等は、それらを2種
以上同時に用いてもよく、また上記例示した金属錯体に
含まれる配位子、1−ホスファ−2,6,7−トリオキ
サ−4−エチルビシクロ[2.2.2]オクタン及びト
リメチルホスファイト等の配位子と共存させて使用する
こともできる。パラジウム触媒の原料の鎖状ポリシラン
類あるいはキノン類に対するモル比は、任意に選ぶこと
ができるが、通常、0.00001:1〜0.5:1の
範囲である。
【0017】本発明方法において反応は、0℃以上、好
ましくは20〜200℃の反応温度で実施される。ま
た、本発明方法においては、溶媒の有無にかかわらず鎖
状ポリシラン類とキノン類を反応させることができる
が、溶媒を用いる場合は、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、デカリン等の炭化水素溶媒やジブチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒の他、原料の鎖状ポリシラン
類及びキノン類と反応するものを除いた各種の有機溶媒
を用いることができる。反応液からの目的生成物の分離
精製は、一般に、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶、
再沈殿等の有機化学的に通常用いられる手段により、容
易に行われる。
【0018】
【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【0019】実施例1 ジクロロビス(トリエチルホスフィン)パラジウム
0.01mmol、ポリ(ジメチルシリレン)(重量平
均分子量 〜4.7×103 、分子量分布指数(重量平
均分子量/数平均分子量) 〜1.8、1分子当りのケ
イ素−ケイ素結合の平均個数 〜45) 58mg(構
成繰り返し単位当り1.0mmol)、p−ベンゾキノ
ン 1.1mmol、及びベンゼン 0.5mlを窒素
下、封管中120℃で18時間かき混ぜながら加熱し
た。褐色反応溶液にベンゼンを加えてろ過した後、ろ液
を減圧下濃縮した。褐色濃縮物をヘキサンで洗浄し、減
圧下乾燥させた結果、ポリ[(p−ジオキシフェニレ
ン)ジメチルシリレン] 141mg(重量平均分子量
1.5×104 、構成繰り返し単位当り0.85mm
ol、収率85%)を得た。この生成ポリマーをベンゼ
ンに溶解し、イソプロピルアルコールに添加した後、混
合溶液を減圧下濃縮すると、褐色沈殿物が生成した。こ
れをイソプロピルアルコールで洗浄し、減圧下乾燥させ
て生成ポリマーの高分子量成分 77mg(構成繰り返
し単位当り0.46mmol、収率46%)を得た。こ
の高分子量成分のスペクトルデータ等は以下の通りであ
った。 重量平均分子量(標準ポリスチレン基準):2.3×1
4 分子量分布指数(重量平均分子量/数平均分子量):
3.81 H−NMR(C66 ):δ 0.22(br s,
6H,H3 C−Si),6.91(br s,4H,ベ
ンゼン環プロトン)ppm13 C−NMR(C66 ):δ −2.5(2C,C−
Si), 120.9(4C), 149.5(2C)
ppm29 Si−NMR(C66 ):δ −5.2ppm IR(KBr):1502 s, 1263 m, 1
234 m, 1214 s, 936 s, 839 s, 806 m cm
-1
【0020】実施例2 ジクロロビス(トリエチルホスフィン)パラジウム
0.008mmol、オクタメチルトリシラン 0.2
0mmol、p−ベンゾキノン 0.44mmol、及
びベンゼン 0.05mlを窒素下、封管中120℃で
12時間加熱した。ガスクロマトグラフィーで生成物を
分析した結果、ジメチルビス(p−トリメチルシロキシ
フェニルオキシ)シランが15%の収率で生成したこと
がわかった。このケイ素化合物のスペクトルデータは以
下の通りであった。 MS(EI,70eV):m/z(相対強度) 420
(M+ ,100), 73(64) HI−MS(EI,70eV): 計算値(C2032
34 ) 420.1609; 観測値 420.1
593
【0021】
【発明の効果】本発明の方法により、入手容易なキノン
類と少なくとも2個のケイ素−ケイ素結合を有する鎖状
ポリシラン類とから、ビス(シロキシ)芳香環骨格を有
するケイ素化合物を簡単な操作で製造でき、またそれら
の分離、精製も容易である。したがって、本発明の工業
的意義は多大である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パラジウム触媒存在下、少なくとも2個
    のケイ素−ケイ素結合を有する一般式 【化1】 (式中、R 2 及びR 3 はアルキル基またはアルコキシ基
    であり、それらは互いに同一でも異なってもよい。nは
    3以上の整数を示す。また、末端基は、アルキル基、ア
    ルコキシ基または水素原子である。) で表わされる鎖状ポリシラン類と、環内の炭素数が20
    以下の芳香族炭化水素化合物を母体化合物とし、一般式 【化2】 (式中、bは1である。) で表わされる骨格を有するキノン類を反応させることを
    特徴とする、一般式 【化3】 (式中、R 1 は、前記の芳香族炭化水素化合物から、最
    短2個の環内炭素原子で隔てられた位置の2個の環内炭
    素原子にそれぞれ結合した2個の水素原子を取り除いて
    得られる2価の芳香環基を表わす。R 2 及びR 3 は前記
    と同じ意味をもつ。また、末端基は、アルキル基、アル
    コキシ基または水素原子であり、p及びqは、p≧1、
    q≧0、p+q≧3の関係を満たす整数を示す。) で表わされるビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ
    素化合物の製造方法。
JP5088032A 1993-03-23 1993-03-23 ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法 Expired - Lifetime JPH08833B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5088032A JPH08833B2 (ja) 1993-03-23 1993-03-23 ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5088032A JPH08833B2 (ja) 1993-03-23 1993-03-23 ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06271591A JPH06271591A (ja) 1994-09-27
JPH08833B2 true JPH08833B2 (ja) 1996-01-10

Family

ID=13931490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5088032A Expired - Lifetime JPH08833B2 (ja) 1993-03-23 1993-03-23 ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08833B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2716380B2 (ja) * 1994-11-04 1998-02-18 平岡織染株式会社 耐熱性シート

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04266628A (ja) * 1990-12-21 1992-09-22 Knorr Bremse Ag 実用車の圧力媒体によって操作されるディスクブレーキのためのライニング摩耗表示装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04266628A (ja) * 1990-12-21 1992-09-22 Knorr Bremse Ag 実用車の圧力媒体によって操作されるディスクブレーキのためのライニング摩耗表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06271591A (ja) 1994-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6362074B2 (ja) ポリボロシロキサンおよびその製造方法、ボロシラン化合物の製造方法
JP2574012B2 (ja) ポリシラン化合物の製造方法
JP3041424B1 (ja) カルボシランボラジン系ポリマ―およびその製造方法
JPH08833B2 (ja) ビス(シロキシ)芳香環骨格を有するケイ素化合物の製造方法
JP2682962B2 (ja) 含金属高分子ケイ素化合物の製造方法
JP2791397B2 (ja) 新規な有機ハロシラン化合物
JP2976009B2 (ja) ビスシロキシ化合物、その製造方法、およびそれを用いた感光性または耐熱性材料
JP3602754B2 (ja) カルボラン含有ケイ素系重合体及びその製造方法
JPH06256526A (ja) 主鎖にケイ素を含む有機ポリマーとその製造方法
JP3567250B2 (ja) 芳香族ポリカルボシラン類
JPH06128381A (ja) 高分子量ポリシランの製造法
JP2721860B2 (ja) ポリシラン化合物の製造方法
JP3062737B2 (ja) 含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法
JP2776184B2 (ja) ケイ素系高分子化合物
JP3468685B2 (ja) カルボラン含有ケイ素系重合体及びその製造方法
JPH05132559A (ja) ポリシロキサン系ケイ素化合物、その製造方法、およびそれを用いた感光性材料
JP3101706B2 (ja) 含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法
JP3468680B2 (ja) カルボラン含有ケイ素系重合体の製造方法
JP2914221B2 (ja) 新規な有機ハロシラン化合物
JPH0696640B2 (ja) ビス(シロキシ)芳香環骨格を有する高分子ケイ素化合物の製造方法
JP2500539B2 (ja) ポリシランの製造方法
JP3479681B2 (ja) 可溶性含ケイ素ステップラダー型ポリマーとその製造方法
JPH11116687A (ja) カルボラン含有ケイ素系重合体及びその製造方法
JP3063718B2 (ja) ケイ素系高分子化合物の製造方法
JPH07233176A (ja) 含ケイ素5環性化合物、含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法