JPH088153A - レジスト除去方法およびその装置 - Google Patents

レジスト除去方法およびその装置

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JPH088153A
JPH088153A JP16473394A JP16473394A JPH088153A JP H088153 A JPH088153 A JP H088153A JP 16473394 A JP16473394 A JP 16473394A JP 16473394 A JP16473394 A JP 16473394A JP H088153 A JPH088153 A JP H088153A
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JP
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adhesive tape
wafer
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resist
peeling
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JP16473394A
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Masayuki Yamamoto
雅之 山本
Minoru Ametani
稔 雨谷
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハ表面の不要物を簡単良好に剥離除去す
る。 【構成】 レジストパターンが存在する物品上に紫外線
硬化型の粘着テープTを貼付ける機構8と、物品上に貼
付けられた粘着テープTを上方から加熱する機構11
と、加熱された後の粘着テープTに紫外線を照射する機
構34と、粘着テープTを剥離して物品表面のレジスト
を除去する機構9とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体、回路、
各種プリント基板、各種マスク、リードフレームなどの
各種微細加工部品の製造時において、不要となったレジ
ストからなる画像(レジストパターン上に残したレジス
ト)を剥離除去するための方法およびその装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体のデバイス製造におい
て、シリコンウエハなどの半導体基板上にレジスト材を
塗布し、通常のフォトプロセスにより、所定の画像(レ
ジストパターン)が形成される。これをマスクとして、
例えばイオン注入、エッチング、ドーピングなどの各種
の処理がなされる。その後不要になった画像が除去さ
れ、所定の回路が形成される。次いで、次の回路を形成
するため、再度レジスト材を塗布するというサイクルが
繰り返し行われる。また、各種基板に回路を形成する場
合も、画像形成後、不要になった画像が除去される。こ
の際、不要になったレジスト材からなる画像の除去は、
アッシャー(灰化手段)や溶剤(剥離液)、薬品などに
よって行われるのが一般的である。
【0003】しかしながら、画像の除去にアッシャーを
用いると、その作業に長時間を要したり、レジスト材中
の不純物イオンがウエハに注入されるおそれがあった。
また、溶剤や薬品を用いると、作業環境を害するという
問題を生じていた。そこで、最近では、不要となったレ
ジスト画像の除去に際し、粘着テープ類をレジスト膜画
像の上面に貼付け、この粘着テープ類とレジストを一体
に剥離して、レジスト膜画像を除去する方法が提案され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した粘着
テープ類を用いる方法においても、次のような問題点が
ある。すなわち、半導体基板などの物品上のレジスト材
は極めて微細なため、貼付けられた粘着テープの粘着剤
との接触面積が小さく、剥離されないで物品上に残る場
合があった。また、レジスト材と物品との密着強度が大
きいために、完全に物品上からレジスト材を除去するこ
とが困難である。
【0005】本発明は、このような事情に着目してなさ
れたものであって、粘着テープを用いてのレジスト除去
手段において、半導体基板などの物品上のレジスト膜を
簡単確実に剥離除去できるようにすることを目的とする
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は次のような構成をとる。すなわち、請求項
1に記載の発明は、レジストパターンが存在する物品上
に粘着テープを貼付け、物品上に貼付けられた粘着テー
プを上方から加熱した後、粘着テープを剥離することで
前記物品表面のレジストを除去することを特徴とするも
のである。
【0007】また、請求項2に記載の発明は、レジスト
パターンが存在する物品上に紫外線硬化型の粘着テープ
を貼付ける工程と、物品上に貼付けられた粘着テープを
上方から加熱する工程と、加熱された後の粘着テープに
紫外線を照射する工程と、粘着テープを剥離して物品表
面のレジストを除去する工程とをこの順序で順次遂行す
ることを特徴とするものである。
【0008】また、請求項3に記載の発明は、レジスト
パターンが存在する物品上に粘着テープを貼付け、前記
粘着テープを剥離することによって前記物品表面のレジ
ストを除去する装置であって、テーブル上の前記物品の
表面に粘着テープを貼付ける粘着テープ貼付け機構と、
前記物品の表面に貼付けられた前記粘着テープを上方か
ら加熱する粘着テープ加熱機構と、貼付けられた前記粘
着テープを前記物品表面から剥離する粘着テープ剥離機
構とを備えてなるものである。
【0009】また、請求項4に記載の発明は、請求項3
に記載の装置において、前記粘着テープ加熱機構を、前
記物品の表面に貼付けられた前記粘着テープの上面に接
触して、この粘着テープを加熱するようにしたものであ
る。
【0010】
【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項1に
記載の方法によれば、レジストパターンが存在する物品
上に粘着テープを貼付けた後、その粘着テープを上方か
ら加熱することで、粘着テープの粘着剤が軟化してレジ
ストパターンの凹凸内部に流れ込み、粘着剤とレジスト
パターンの接触面積増加が図られる。この状態で粘着テ
ープを物品から剥離することで、物品表面から不要レジ
ストが取り除かれる。
【0011】また、請求項2に記載の方法によれば、上
記請求項1に記載の方法において、紫外線硬化型の粘着
テープ加熱処理して粘着剤とレジストパターンの接触面
積増加を図った後、紫外線照射を行うことで粘着テープ
の粘着剤が硬化し、物品上の不要レジストと粘着剤との
接着力が強化する。そして、このように物品上の不要レ
ジストと粘着剤とを確実に接着させた状態で粘着テープ
を物品から剥離することで、物品表面から不要レジスト
が確実に取り除かれる。
【0012】また、請求項3に記載の装置によれば、
テーブル上の前記物品の表面への粘着テープ貼付け処
理、粘着テープの上方からの加熱処理、および、貼付け
られた粘着テープの剥離処理がそれぞれテープ貼付け機
構、テープ加熱機構、および、テープ剥離機構によって
順次自動的に遂行される。
【0013】また、請求項4に記載の装置によれば、粘
着テープ加熱処理においては、粘着テープに直接接触し
て均一且つ確実な加熱が実行される。
【0014】
【実施例】以下、本発明を半導体ウエハに適用した場合
のレジスト除去装置の実施例を図面を参照して説明す
る。
【0015】〔第1実施例〕図1は第1実施例の全体平
面図、図2は全体正面図、図3は第1および第2支持テ
ーブルの駆動構造を示す正面図、図4は粘着テープ貼付
け機構と粘着テープ剥離機構を示す正面図、図5は粘着
テープ加熱機構を示す一部切り欠き側面図である。
【0016】図において、1はウエハ供給台、2は処理
済みウエハの回収台、3はウエハ搬送用のロボットアー
ム、4はウエハ位置合わせ用のアライメントステージ、
5は粘着テープ貼付けに用いられる第1支持テーブル、
6は粘着テープ剥離に用いられる常温(もしくは低温)
の第2支持テーブル、7は粘着テープ供給部、8は粘着
テープ貼付け機構、9は粘着テープ剥離機構、10は粘
着テープ回収部、11は粘着テープ加熱機構、また、1
2は紫外線照射機構である。
【0017】以下、各部の構造を図6および図7に模式
的に示した処理工程を参照しながら説明する。被処理ウ
エハWは処理表面を上向きにした水平姿勢でカセットC
に積層収納されてウエハ供給台1に装填される。このウ
エハ供給台1は、モータ13aによって水平回動される
支持アーム16の両端に一対装備されるとともに、それ
ぞれがモータ13bによって自転可能に装着されてお
り、支持アームの回動および自らの自転によってロボッ
トアーム3に対向する方向に姿勢変更される。
【0018】ロボットアーム3は支点P周りに回転可
能、かつ、水平方向に屈伸して全方向に進退可能に構成
されており、対向姿勢のウエハ供給台1のカセットCか
らウエハWを1枚吸着保持して取り出す。
【0019】取り出されウエハWはロボットアーム3に
よってアライメントステージ4上に移載され、ここでオ
リエンテーションフラットおよび/またはノッチ等が検
出されることに基づき、ウエハWの位置合わせが行われ
る。
【0020】位置合わせされたウエハWは再びロボット
アーム3に支持されて第1支持テーブル5上に供給され
る。この第1支持テーブル5の中心には昇降される吸着
パッド14が備えられるとともに、その周囲にウエハ固
定用の真空吸着部15が備えられており、図6(a)に
示すように、上昇している吸着パッド14上に前記ウエ
ハWが供給載置された後、図6(b)に示すように、吸
着パッド14が下降してウエハWは第1支持テーブル5
上に一定姿勢で吸着保持されるようになっている。
【0021】なお、この第1支持テーブル5は、図3に
示すように、シリンダ17によって左右水平移動される
可動台18に前記第2支持テーブル6とともに設置され
ている。
【0022】第1支持テーブル5上にウエハWが保持さ
れると、粘着テープ供給部7のテープロール19からの
紫外線硬化型の粘着テープTの繰り出し、および、粘着
テープ貼付け機構8によるテープ貼付け作動が行われ
る。なお、粘着テープTはその供給経路中でセパレータ
tと分離されて、接着面が下向きになるように送り出さ
れる。
【0023】粘着テープ貼付け機構8は、図4に示すよ
うに、貼付けローラ20を上下動可能に支持するととも
に、ガイドレール21に沿って移動可能に配備された可
動台22を、モータ23で駆動される送りネジ24によ
って左右水平移動させるように構成されており、図6
(c)に示すように、ウエハ径より幅広の粘着テープT
を貼付けローラ20によってウエハWの上面に押し付け
ながら右方に水平走行する。
【0024】粘着テープTの貼付けが完了すると、図6
(d)に示すように、粘着テープ加熱機構11が第1支
持テーブル5上に下降して、上記のように貼付けられた
粘着テープTの上面に接触される。
【0025】この粘着テープ加熱機構11は、図5に示
すように、シリンダ25で昇降される可動枠26の下部
に、バネ27によって緩衝的に上下動可能な支持ロッド
28を介してヒータ本体29を支持したものであり、ヒ
ータ本体29は、加熱面材30と断熱材31との間に発
熱体32を積層して構成されている。また、この粘着テ
ープ加熱機構11は、非使用時にはヒータ本体29をケ
ース33内に格納して、ケース下方を図示しないシャッ
ターで閉塞して安全を図っている。
【0026】そして、ヒータ本体29は80〜150°
Cに維持されており、粘着テープTを加熱して粘着剤を
軟化することで、粘着剤がウエハW表面のレジストパタ
ーンの凹凸内部に流れ込み、粘着剤とレジストパターン
の接触面積増加が図るように構成されている。
【0027】なお、ここで前記第1支持テーブル5のウ
エハ載置面は断熱材で構成するか、あるいは、上面ヒー
タと同等に加熱し得る構成として、加えられた熱がウエ
ハWおよびウエハ載置面を介して逃げないようにしてい
る。
【0028】粘着テープTの貼付けおよび加熱が完了す
ると、図6(e)に示すように、吸着パッド14が上昇
してウエハWが持ち上げられ、進出してきたロボットア
ーム3でウエハWが支持される。
【0029】ウエハWがロボットアーム3で支持される
と、吸着パッド14が下降して、第2支持テーブル6が
ロボットアーム3の直下に位置するように可動台18が
図中の右方に移動される。この第2支持テーブル6の中
心には、昇降可能な吸着パッド35が備えられるととも
に、その周囲にウエハ固定用の真空吸着部36が備えら
れている。
【0030】第2支持テーブル6がウエハWを支持した
ロボットアーム3の直下に移動されると、図7(f)に
示すように、吸着パッド35が上昇し、続いてロボット
アーム3が後退し、吸着パッド35が下降することによ
って、ウエハWが第2支持テーブル6上に吸着保持され
る。
【0031】ウエハWが第2支持テーブル6上に吸着保
持されると、図7(g)に示すように、紫外線照射機構
12のフード34が第1支持テーブル5上に下降し、外
部への漏洩なくウエハWへの紫外線照射が行われる。こ
の紫外線照射によって紫外線硬化型の粘着テープTの接
着剤が硬化し、ウエハ上の不要レジストと粘着剤との接
着力強化が図られるのである。
【0032】紫外線照射が完了すると、次に、粘着テー
プ剥離機構9によるテープ剥離作動が行われる。粘着テ
ープ剥離機構9は、上下動可能な可動剥離ローラ39、
位置固定の固定剥離ローラ40、固定剥離ローラ40に
押しつけ付勢された挟持ローラ41を支持するととも
に、ガイドレール21に沿って移動可能に配備された可
動台43を、モータ44で駆動される送りネジ45によ
って左右水平移動させるように構成されている。そし
て、図7(h)に示すように、可動台43が図中の右方
に走行することで、ウエハWから粘着テープTを引剥が
してゆく。なお、このとき可動台43の移動タイミング
と固定ローラ40の回転始動タイミングとをずらすこと
により、粘着テープTの剥離角度を任意に調整できるよ
うになっている。すなわち、粘着テープTの剥離力が大
きい場合は、可動台43の移動よりも若干遅れて固定ロ
ーラ40を回転させることにより、粘着テープTの剥離
角度θを小さくすることができるので、粘着テープTの
剥離作動が容易になる。
【0033】この粘着テープTの剥離によって、ウエハ
W上の不要レジストRが粘着テープTとともに剥離除去
されていく。この際、第2支持テーブル6上のウエハW
は室温(あるいは、室温以下)まで冷却され、粘着テー
プTの粘着剤も同様に冷却されているので、粘着剤がウ
エハW表面に転写残留することが回避される。そして、
粘着テープ剥離機構9および巻き取りロール46へのテ
ープ巻き取り回収と、粘着テープ剥離機構9および粘着
テープ貼付け機構8の復帰移動が行われて、テープ巻き
掛け経路は初期の状態に戻る。
【0034】粘着テープ剥離処理を受けたウエハWは、
図7(i)に示すように、吸着パッド35の上昇によっ
て第2支持テーブル6上で持ち上げられた後、ロボット
アーム3に支持されて搬出され、処理済みウエハの回収
台2に装填されているカセットCに送り込まれてゆく。
なお、このウエハの回収台2も、モータ38aで駆動さ
れて回転する支持アーム37の両端に支持され、モータ
38bによって自転されるようになっている。
【0035】〔第2実施例〕本発明に係る第2実施例装
置の構成を図8を参照して説明する。図8は、本発明に
係るウエハ表面のレジスト除去装置の第2実施例の平面
図である。なお、図中、上述した第1実施例装置と同一
符号で示す部分は、第1実施例装置と同一構成であるの
で、ここでの詳細な説明は省略する。
【0036】第2実施例は、基本的には上記第1実施例
装置にウエハ加湿機構50を備え、粘着テープTの貼付
け処理前にウエハWの表面を加湿してレジストとの接着
力を低下させておくように構成されている。
【0037】まず、上記第1実施例と同様に、ウエハ供
給台1のカセットCからロボットアーム3に吸着保持さ
れて取り出されたウエハWは、ロボットアーム3の後退
および回転によって、ウエハ加湿機構50に供給され
る。
【0038】ウエハ加湿機構50について、図9を参照
して説明する。図9はウエハ加湿機構50の縦断正面図
である。このウエハ加湿機構50は、一側端部にウエハ
出入り口51を備えたチャンバー52と、ウエハ出入り
口51を開閉するようシリンダ53で昇降されるシャッ
ター54と、チャンバー内に搬入されてきたウエハWを
載置する断熱構造の支持台55と、その中心においてシ
リンダ56によってで昇降される真空吸着パッド57
と、支持台55のウエハ載置面に設置されたピエゾ素子
等の熱電子冷却素子58と、チャンバー内の空気を吸引
排除する真空吸引装置59とを備えており、密閉減圧し
たチャンバー52内でウエハWを冷却した後、ウエハW
を室温状態の外気に接触させることで、空気中の水分を
微細な水滴としてウエハW表面に結露させて加湿するよ
う構成されている。
【0039】上記ウエハ加湿機構50で加湿されたウエ
ハWは、再びロボットアーム3により支持されてアライ
メントステージ4上に移載され、以後、上記第1実施例
と同様の処理が行われ、ウエハWからレジストが取り除
かれる。
【0040】なお、上記第2実施例では、ウエハ加湿機
構50を冷却結露により加湿する形態のものとしている
が、チャンバーに水蒸気を供給してレジストを加湿する
形態のものを利用することも可能である。
【0041】また、上記第2実施例では、ウエハ供給台
1の奥部に配備して、ウエハ供給台1から供給されてき
たウエハWを1枚づつ加湿処理しているが、本発明はこ
れに限定されず、例えばウエハ加湿機構50をウエハ供
給台1上に備えて、カセットC単位でウエハWを加湿処
理してもよい。要するに、ウエハW表面に粘着テープT
を貼付ける以前にウエハWを加湿すればよいのである。
【0042】また、アライメントステージ4を取り外
し、ウエハ加湿機構50の支持台55上で加湿処理した
後にウエハWの位置合わせを行ってもよい。
【0043】上記各実施例において、粘着テープ加熱機
構11は、直接に粘着テープTに接触して加熱するもの
に限らず、例えば、赤外線ランプを用いた加熱、熱風に
よる加熱、電磁誘導加熱、あるいは、超音波加熱、等の
非接触型の加熱手段を利用することも可能である。
【0044】さらに、上記各実施例では半導体ウエハ表
面のレジストを除去する場合を例にあげたが、本発明は
これに限定されず、レジスト材からなり画像が存在する
物品であればいかなるものでも適用できる。
【0045】また、上記各実施例において、1回の粘着
テープ貼付け剥離処理で十分に剥離しにくいレジストの
除去に対しては、1枚のウエハWについて粘着テープ貼
付け剥離処理を異なった方向から複数回行うことで対処
できる。
【0046】また、上記各実施例において、第1支持テ
ーブル5を加熱した高温テーブルにすれば、ウエハWに
貼付けた粘着テープTを表裏から加熱でき、一層粘着剤
とレジストとの接触性能が高まる。
【0047】
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、請求項
1の方法によると次のような効果が得られる。
【0048】(1)粘着テープを用いてウエハ表面の不
要物を接着して剥離除去するので、従来のアッシング技
術のように不純物がウエハ上に残留することがなく、ウ
エハの汚染なく不要物除去を行うことができる。
【0049】(2)物品上に貼付けた粘着テープを上か
ら直接的に加熱することによって粘着剤とレジストとの
接触を高めるので、粘着テープ剥離に伴うレジストの剥
離除去が確実となる。
【0050】(3)また、請求項2の方法によると、紫
外線照射によって粘着剤とレジストとの接着が強化され
るので、粘着テープ剥離に伴うレジストの剥離除去が一
層確実となる。
【0051】(4)また、請求項3の装置によると、請
求項1に記載の方法を好適に実施することができる。
【0052】(5)さらに、請求項4の装置によると、
粘着テープ加熱処理を加熱手段の直接接触によって効果
的に行うことができ、粘着テープ全体を均一に加熱し
て、接着面全体でのレジスト剥離除去機能を高めること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るレジスト除去装置の第1実施例の
全体平面図である。
【図2】第1実施例の全体正面図である。
【図3】第1および第2支持テーブルの駆動構造を示す
正面図である。
【図4】粘着テープ貼付け機構と粘着テープ剥離機構を
示す正面図である。
【図5】粘着テープ加熱機構を示す一部切り欠き側面図
である。
【図6】実施例装置の処理工程図である。
【図7】実施例装置の処理工程図である。
【図8】第2実施例の全体平面図である。
【図9】ウエハ加湿機構の縦断正面図である。
【符号の説明】
1 ウエハ供給台 2 ウエハ回収台 3 ロボットアーム 4 アライメントステージ 5 第1支持テーブル 6 第2支持テーブル 7 粘着テープ供給部 8 粘着テープ貼付け機構 9 粘着テープ剥離機構 10 粘着テープ回収部 11 粘着テープ加熱機構 12 紫外線照射機構 T 粘着テープ W ウエハ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レジストパターンが存在する物品上に粘
    着テープを貼付け、物品上に貼付けられた粘着テープを
    上方から加熱した後、粘着テープを剥離することで前記
    物品表面のレジストを除去することを特徴とするレジス
    ト除去方法。
  2. 【請求項2】 レジストパターンが存在する物品上に紫
    外線硬化型の粘着テープを貼付ける工程と、物品上に貼
    付けられた粘着テープを上方から加熱する工程と、加熱
    された後の粘着テープに紫外線を照射する工程と、粘着
    テープを剥離して物品表面のレジストを除去する工程と
    をこの順序で順次遂行することを特徴とするレジスト除
    去方法。
  3. 【請求項3】 レジストパターンが存在する物品上に粘
    着テープを貼付け、前記粘着テープを剥離することによ
    って前記物品表面のレジストを除去する装置であって、 テーブル上の前記物品の表面に粘着テープを貼付ける粘
    着テープ貼付け機構と、前記物品の表面に貼付けられた
    前記粘着テープを上方から加熱する粘着テープ加熱機構
    と、貼付けられた前記粘着テープを前記物品表面から剥
    離する粘着テープ剥離機構とを備えてなるレジスト除去
    装置。
  4. 【請求項4】 前記粘着テープ加熱機構は、前記物品の
    表面に貼付けられた前記粘着テープの上面に接触して、
    この粘着テープを加熱するものである請求項3に記載の
    レジスト除去装置。
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