JPH0876386A - 電子写真用画像形成部材基板表面粗面化方法、電子写真用受光体製造方法、及び湿式ホーニング組成物 - Google Patents
電子写真用画像形成部材基板表面粗面化方法、電子写真用受光体製造方法、及び湿式ホーニング組成物Info
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- JPH0876386A JPH0876386A JP7237751A JP23775195A JPH0876386A JP H0876386 A JPH0876386 A JP H0876386A JP 7237751 A JP7237751 A JP 7237751A JP 23775195 A JP23775195 A JP 23775195A JP H0876386 A JPH0876386 A JP H0876386A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真複製における干渉縞影響や、黒斑、
白斑の形成等を削減する電子写真用受光体及びその基板
表面粗面化方法を提供する。 【解決手段】 アルミニウム又はアルミニウム合金を含
む基板を有する電子写真用受光体とその基板表面を粗面
化する方法を提供する。スプレーガン３は、円柱状の基
板１の表面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。組成
物７は、約10〜12wt％のガラスビーズと、脱イオン水を
含む。ガラスビーズは、約300 〜約750kg/mm2 のヌープ
硬度、約10μｍより大きく約35μｍより小さい曲率半
径、約1.8 〜約3.2 の比重を含む。基板１を軸を中心に
回転し、スプレーガン３を基板１の軸に並行な軸に沿っ
て約250 〜約350mm ／秒の速度で往復動させて、基板表
面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。こうして基体
１の表面には望ましいスカラップパターンが形成され粗
面が完了する。その後、基板に感光層が塗布される。
白斑の形成等を削減する電子写真用受光体及びその基板
表面粗面化方法を提供する。 【解決手段】 アルミニウム又はアルミニウム合金を含
む基板を有する電子写真用受光体とその基板表面を粗面
化する方法を提供する。スプレーガン３は、円柱状の基
板１の表面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。組成
物７は、約10〜12wt％のガラスビーズと、脱イオン水を
含む。ガラスビーズは、約300 〜約750kg/mm2 のヌープ
硬度、約10μｍより大きく約35μｍより小さい曲率半
径、約1.8 〜約3.2 の比重を含む。基板１を軸を中心に
回転し、スプレーガン３を基板１の軸に並行な軸に沿っ
て約250 〜約350mm ／秒の速度で往復動させて、基板表
面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。こうして基体
１の表面には望ましいスカラップパターンが形成され粗
面が完了する。その後、基板に感光層が塗布される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真用受光体
基板の表面処理方法、該表面処理方法により製造される
基板、そして基板を処理するための組成物に関する。
基板の表面処理方法、該表面処理方法により製造される
基板、そして基板を処理するための組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
電子写真印刷では、受光体（例えば感光体）における画
像形成にコヒーレント照射がますます使用されてきてい
る。不具合なことに、複層受光体と共にコヒーレント照
射源を使用すると、「合板影響」又は「干渉縞影響」と
して知られる印刷品質の欠陥が生じることとなる。この
欠陥は、複層の受光体に広がる境界面からコヒーレント
光が反射される時に発生する、一連の明暗干渉パターン
からなる。有機系受光体（ＯＰＣ受光体）においては、
主に空気と電荷輸送層との境界面（即ち一番上の表面）
からの反射と、アンダーコート層又は電荷ブロッキング
層と基板との境界面（即ち基板の表面）からの反射が、
干渉縞影響の原因である。電荷輸送層表面からの強い反
射や、基板表面からの強い反射が削減又は抑制されれ
ば、かかる影響を減少することができる。
電子写真印刷では、受光体（例えば感光体）における画
像形成にコヒーレント照射がますます使用されてきてい
る。不具合なことに、複層受光体と共にコヒーレント照
射源を使用すると、「合板影響」又は「干渉縞影響」と
して知られる印刷品質の欠陥が生じることとなる。この
欠陥は、複層の受光体に広がる境界面からコヒーレント
光が反射される時に発生する、一連の明暗干渉パターン
からなる。有機系受光体（ＯＰＣ受光体）においては、
主に空気と電荷輸送層との境界面（即ち一番上の表面）
からの反射と、アンダーコート層又は電荷ブロッキング
層と基板との境界面（即ち基板の表面）からの反射が、
干渉縞影響の原因である。電荷輸送層表面からの強い反
射や、基板表面からの強い反射が削減又は抑制されれ
ば、かかる影響を減少することができる。
【０００３】ＳｉＯ2 及び他の粒子を電荷輸送層に導入
することによる電荷輸送層表面の粗面化や、適切なオー
バーコート層の使用等を含めて、電荷輸送層／空気境界
面反射を抑制するための多くの方法が提起されてきた。
することによる電荷輸送層表面の粗面化や、適切なオー
バーコート層の使用等を含めて、電荷輸送層／空気境界
面反射を抑制するための多くの方法が提起されてきた。
【０００４】基板表面反射の強さを抑制するために、例
えば抗反射コーティングや光散乱材料コーティング等の
塗布法や、陽極酸化、乾風吹付、及び湿式ホーニング等
の粗面化法のような多くの方法が提起されてきた。しか
しながら、これらの方法は、受光体の電気的パラメータ
や印刷品質に悪影響を及ぼすことなく基板表面反射を削
減するという主たる目的を達成しなければならない。
えば抗反射コーティングや光散乱材料コーティング等の
塗布法や、陽極酸化、乾風吹付、及び湿式ホーニング等
の粗面化法のような多くの方法が提起されてきた。しか
しながら、これらの方法は、受光体の電気的パラメータ
や印刷品質に悪影響を及ぼすことなく基板表面反射を削
減するという主たる目的を達成しなければならない。
【０００５】受光体の基板表面の粗面化は、表面にセラ
ミック及びガラス粒子を施すことにより行われてきた。
一般にこれらの粒子は、不揃いな粒径分布を有すると共
に、しばしば不規則な形状を有する。例えば、ドイツ特
許出願公開第２，２２４，２２４号は、干渉縞と白斑又
は黒斑の形成をなくすために基板をサテン仕上げにホー
ニングするという電子写真用受光体基板の研摩噴霧処理
を開示する。しかしながらこの特許出願は、研摩剤とし
てガラスビーズを使用しないことを教示しており、ガラ
スビーズを使用しない理由は、ガラスビーズがあまりに
球形であり、この特許出願によれば、ガラスビーズは、
望ましくなく平滑であり且つ光沢の度合の高い表面を生
成しがちであり、そのようなことにより干渉縞が生じる
傾向があるとしている。
ミック及びガラス粒子を施すことにより行われてきた。
一般にこれらの粒子は、不揃いな粒径分布を有すると共
に、しばしば不規則な形状を有する。例えば、ドイツ特
許出願公開第２，２２４，２２４号は、干渉縞と白斑又
は黒斑の形成をなくすために基板をサテン仕上げにホー
ニングするという電子写真用受光体基板の研摩噴霧処理
を開示する。しかしながらこの特許出願は、研摩剤とし
てガラスビーズを使用しないことを教示しており、ガラ
スビーズを使用しない理由は、ガラスビーズがあまりに
球形であり、この特許出願によれば、ガラスビーズは、
望ましくなく平滑であり且つ光沢の度合の高い表面を生
成しがちであり、そのようなことにより干渉縞が生じる
傾向があるとしている。
【０００６】不揃いな粒径分布のために、粗面化プロセ
スで使用される比較的小さい粒子が、粗面化された基板
表面に埋め込まれることがしばしばある。このような小
粒子は、最終的な電子写真画像において黒斑又は白斑を
生じるおそれがある。黒斑は、露光された受光体の放電
領域がトナー粒子で現像される反転現像システムにおい
て発生する。白斑は、露光された受光体の帯電領域がト
ナー粒子で現像される正現像システムで発生する。ま
た、埋まった粒子はしばしば、その後の塗布作業中に基
板から離脱して、最終的な受光体を形成するために使用
される塗布材料を汚染する。加えて、粗面化プロセスに
おいて大きい粒子を使用すると、基板表面に大きなクレ
ーターが生じるおそれがあり、これによりその後の受光
体の塗布の厚みの均一性に悪影響が及ぼされる。
スで使用される比較的小さい粒子が、粗面化された基板
表面に埋め込まれることがしばしばある。このような小
粒子は、最終的な電子写真画像において黒斑又は白斑を
生じるおそれがある。黒斑は、露光された受光体の放電
領域がトナー粒子で現像される反転現像システムにおい
て発生する。白斑は、露光された受光体の帯電領域がト
ナー粒子で現像される正現像システムで発生する。ま
た、埋まった粒子はしばしば、その後の塗布作業中に基
板から離脱して、最終的な受光体を形成するために使用
される塗布材料を汚染する。加えて、粗面化プロセスに
おいて大きい粒子を使用すると、基板表面に大きなクレ
ーターが生じるおそれがあり、これによりその後の受光
体の塗布の厚みの均一性に悪影響が及ぼされる。
【０００７】粗面化に使用される粒子が不規則な形状を
有すると、粒子から小片が砕けて、衝突中に特に粒子の
鋭い縁に沿って圧力が集中し、基板表面に小片が埋まる
傾向がある。さらに、粒子から砕けて基板表面に入り込
まない小片は、静電的誘引又は他の現象により基板表面
にしっかりと付着し、塗布の前にその小片が離脱するこ
とは困難である。さらに、不規則な形状を有する粒子
は、多くの異なるサイズと形状の不均一なくぼみを有す
る不規則な表面組織の形成を引き起こすので、基板の表
面組織の調整は不可能でないとしても困難である。
有すると、粒子から小片が砕けて、衝突中に特に粒子の
鋭い縁に沿って圧力が集中し、基板表面に小片が埋まる
傾向がある。さらに、粒子から砕けて基板表面に入り込
まない小片は、静電的誘引又は他の現象により基板表面
にしっかりと付着し、塗布の前にその小片が離脱するこ
とは困難である。さらに、不規則な形状を有する粒子
は、多くの異なるサイズと形状の不均一なくぼみを有す
る不規則な表面組織の形成を引き起こすので、基板の表
面組織の調整は不可能でないとしても困難である。
【０００８】粒子から砕けて埋没又は強固に付着した小
片は、アンダーコーティング層や電荷発生層等をその後
塗工することにより不均一な被覆を生ずる。このことは
次に、放電領域（反転）現像中に電荷を通常保持する領
域の電荷注入放電に起因して、最終的な電子写真画像に
おいて黒斑を生じさせるおそれがある。帯電領域（正）
現像の場合には、この欠陥は、最終的なゼログラフィッ
ク（静電写真）画像において白斑として現れる。さら
に、くぼみにおける鋭い縁は、画像形成中に高い電界を
生じさせる可能性があり、この高電界は、埋没又は強固
に付着した小片と同じように、反転現像の場合には黒斑
を、そして正現像の場合には白斑を形成することにつな
がる。また、粒子の小片の上や鋭い縁を有する深いくぼ
みの上にアンダーコーティング層が施される場合には、
付着されるアンダーコーティング層が不均一となる。ア
ンダーコーティング層が、鋭い縁を有する深いクレータ
ーに施される場合には、気泡が形成される可能性がある
と共に、かかる気泡は塗布の均一性に悪影響を及ぼす。
片は、アンダーコーティング層や電荷発生層等をその後
塗工することにより不均一な被覆を生ずる。このことは
次に、放電領域（反転）現像中に電荷を通常保持する領
域の電荷注入放電に起因して、最終的な電子写真画像に
おいて黒斑を生じさせるおそれがある。帯電領域（正）
現像の場合には、この欠陥は、最終的なゼログラフィッ
ク（静電写真）画像において白斑として現れる。さら
に、くぼみにおける鋭い縁は、画像形成中に高い電界を
生じさせる可能性があり、この高電界は、埋没又は強固
に付着した小片と同じように、反転現像の場合には黒斑
を、そして正現像の場合には白斑を形成することにつな
がる。また、粒子の小片の上や鋭い縁を有する深いくぼ
みの上にアンダーコーティング層が施される場合には、
付着されるアンダーコーティング層が不均一となる。ア
ンダーコーティング層が、鋭い縁を有する深いクレータ
ーに施される場合には、気泡が形成される可能性がある
と共に、かかる気泡は塗布の均一性に悪影響を及ぼす。
【０００９】セラミック材料等の材料は球形に形状化さ
れることができるが、かかる形状化は複雑且つ困難であ
ると共に費用が高価である。さらに、酸化アルミニウム
から製造されるもの等のセラミック材料は、環境的に許
容できる方法で処分されることが困難である。
れることができるが、かかる形状化は複雑且つ困難であ
ると共に費用が高価である。さらに、酸化アルミニウム
から製造されるもの等のセラミック材料は、環境的に許
容できる方法で処分されることが困難である。
【００１０】本発明は、電子写真複製における干渉縞影
響を削減する方法と、コヒーレント光の反射により生じ
る干渉縞影響を削減する受光体基板と、かかる受光体基
板を製造するための湿式ホーニング組成物を提供するこ
とを目的とする。
響を削減する方法と、コヒーレント光の反射により生じ
る干渉縞影響を削減する受光体基板と、かかる受光体基
板を製造するための湿式ホーニング組成物を提供するこ
とを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、表面を
粗面化する間に画像形成部材基板の表面に粒子の小片が
付着することを回避する。従って、本発明の方法により
製造された受光体基板は、反転現像画像形成中の黒斑の
形成と、正現像画像形成中の白斑の形成を回避する。粒
子の小片が付着することがなくなることにより、より均
一なコーティングの形成が促進されると共に、施される
コーティングの汚染が最小化される。
粗面化する間に画像形成部材基板の表面に粒子の小片が
付着することを回避する。従って、本発明の方法により
製造された受光体基板は、反転現像画像形成中の黒斑の
形成と、正現像画像形成中の白斑の形成を回避する。粒
子の小片が付着することがなくなることにより、より均
一なコーティングの形成が促進されると共に、施される
コーティングの汚染が最小化される。
【００１２】かかる受光体基板を製造するための湿式ホ
ーニング組成物は、経済的で環境にやさしい材料を使用
する。
ーニング組成物は、経済的で環境にやさしい材料を使用
する。
【００１３】アルミニウム若しくはアルミニウム合金を
含む電子写真用画像形成部材の基板の表面を粗面にする
次の方法を提供することにより、以上の目的及びその他
の目的が達成される。この方法は、略球形のガラスビー
ズと脱イオン水とを含む湿式ホーニング組成物を供与す
るステップと、約３．０乃至約４．０kg/cm2のホーニン
グ媒体圧力で前記基板の表面に前記ホーニング組成物を
噴霧して、基板の表面にスカラップ（scallop ）パター
ンを形成するステップとを含む。前記ガラスビーズは、
約３００乃至約７５０kg/mm2のヌープ硬度と、約１０μ
ｍより大きく且つ約３５μｍより小さい曲率半径と、約
１．８乃至約３．２の比重と、を含む。粗面にした後、
基板に感光層を塗布する。
含む電子写真用画像形成部材の基板の表面を粗面にする
次の方法を提供することにより、以上の目的及びその他
の目的が達成される。この方法は、略球形のガラスビー
ズと脱イオン水とを含む湿式ホーニング組成物を供与す
るステップと、約３．０乃至約４．０kg/cm2のホーニン
グ媒体圧力で前記基板の表面に前記ホーニング組成物を
噴霧して、基板の表面にスカラップ（scallop ）パター
ンを形成するステップとを含む。前記ガラスビーズは、
約３００乃至約７５０kg/mm2のヌープ硬度と、約１０μ
ｍより大きく且つ約３５μｍより小さい曲率半径と、約
１．８乃至約３．２の比重と、を含む。粗面にした後、
基板に感光層を塗布する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の方法では、略球形の任意
の適切なガラスビーズを使用することが可能である。ガ
ラスビーズは、最小曲率半径約１０μｍ、最大曲率半径
約３５μｍを有することが好ましい。好適な実施の形態
では、ガラスビーズは最小曲率半径約１２．５μｍ、最
大曲率半径約２０μｍを有する。略球形のガラスビーズ
が約１０μｍより小さい曲率半径を有する場合には、そ
のガラスビーズは、破面を生じて、噴霧中に基板の表面
に埋まる傾向をより多く有する。略球形のガラスビーズ
が約３５μｍより大きい曲率半径を有する場合には、こ
のようなガラスビーズは、基板の表面に望ましくない大
きなクレーターを形成する。このように大きなクレータ
ーが存在すると、その後行われる塗布の厚みや表面被覆
が不均一となる。また、大きなクレーターが存在する
と、望ましくない深い谷又は窪みが形成される傾向があ
り、それにより、その後行われる塗布の均一性に悪影響
が及ぼされる。不均一な塗布と表面被覆は次に、電子写
真画像形成中に形成される画質を低下させる。
の適切なガラスビーズを使用することが可能である。ガ
ラスビーズは、最小曲率半径約１０μｍ、最大曲率半径
約３５μｍを有することが好ましい。好適な実施の形態
では、ガラスビーズは最小曲率半径約１２．５μｍ、最
大曲率半径約２０μｍを有する。略球形のガラスビーズ
が約１０μｍより小さい曲率半径を有する場合には、そ
のガラスビーズは、破面を生じて、噴霧中に基板の表面
に埋まる傾向をより多く有する。略球形のガラスビーズ
が約３５μｍより大きい曲率半径を有する場合には、こ
のようなガラスビーズは、基板の表面に望ましくない大
きなクレーターを形成する。このように大きなクレータ
ーが存在すると、その後行われる塗布の厚みや表面被覆
が不均一となる。また、大きなクレーターが存在する
と、望ましくない深い谷又は窪みが形成される傾向があ
り、それにより、その後行われる塗布の均一性に悪影響
が及ぼされる。不均一な塗布と表面被覆は次に、電子写
真画像形成中に形成される画質を低下させる。
【００１５】本発明の方法で使用される略球形のガラス
ビーズは、図２の（ａ）で示されるように丸い形状を有
する。典型的な丸い形状には、球形、楕円形、玉子形、
及び鋭い縁のない他の形状が含まれる。鋭い縁は、基板
の表面に望ましくない深い隙間を生じるおそれがあると
共に、ビーズの破砕を促進するおそれもあり、そのよう
なことが次に、破砕した粒子を基板の表面に埋め込むこ
とにつながる可能性がある。ガラスビーズは、本発明の
湿式ホーニング組成物中に使用される脱イオン水に溶解
する成分を実質的に有するべきではない。従って、例え
ばガラスは、脱イオン水に容易に溶解するイオン化可能
な材料を実質的に有するべきではない。典型的なガラス
の組成は、例えば、７２．５％のＳｉＯ2 、１５％のＮ
ａ2 Ｏ、７％のＣａＯ、４％のＭｇＯ、１％のＡｌ2 Ｏ
3 、及び他の極微量な成分を含有する。
ビーズは、図２の（ａ）で示されるように丸い形状を有
する。典型的な丸い形状には、球形、楕円形、玉子形、
及び鋭い縁のない他の形状が含まれる。鋭い縁は、基板
の表面に望ましくない深い隙間を生じるおそれがあると
共に、ビーズの破砕を促進するおそれもあり、そのよう
なことが次に、破砕した粒子を基板の表面に埋め込むこ
とにつながる可能性がある。ガラスビーズは、本発明の
湿式ホーニング組成物中に使用される脱イオン水に溶解
する成分を実質的に有するべきではない。従って、例え
ばガラスは、脱イオン水に容易に溶解するイオン化可能
な材料を実質的に有するべきではない。典型的なガラス
の組成は、例えば、７２．５％のＳｉＯ2 、１５％のＮ
ａ2 Ｏ、７％のＣａＯ、４％のＭｇＯ、１％のＡｌ2 Ｏ
3 、及び他の極微量な成分を含有する。
【００１６】ガラスビーズは、基板における望ましいク
レーターの適切な形成を確実にするために、約３００乃
至約７５０kg/mm2（好ましくは、約３２０乃至約６１０
kg/mm2）のヌープ硬度を有するべきである。ガラスビー
ズは、基板表面においてスカラップパターンを形成する
ために使用される噴霧圧で適切な慣性を発揮するため
に、約１．８乃至３．２（好ましくは約２．４乃至約
２．８）の比重を有するべきである。
レーターの適切な形成を確実にするために、約３００乃
至約７５０kg/mm2（好ましくは、約３２０乃至約６１０
kg/mm2）のヌープ硬度を有するべきである。ガラスビー
ズは、基板表面においてスカラップパターンを形成する
ために使用される噴霧圧で適切な慣性を発揮するため
に、約１．８乃至３．２（好ましくは約２．４乃至約
２．８）の比重を有するべきである。
【００１７】ガラスビーズは、基板との衝突中の破砕に
耐えるので、結晶粒子より優れている。結晶粒子は、裂
開面に沿って粉砕する傾向があると共に、図２の（ｂ）
におけるアルミナ粒子により示されるようにより鋭い等
軸晶の外面を有しており、このようなことにより圧力の
集中が発生する。一方ガラスビーズは図２の（ａ）で示
されるように非晶質であると共に、基板との衝突中に生
じる圧力を分配するように丸味を帯びた表面を有する。
耐えるので、結晶粒子より優れている。結晶粒子は、裂
開面に沿って粉砕する傾向があると共に、図２の（ｂ）
におけるアルミナ粒子により示されるようにより鋭い等
軸晶の外面を有しており、このようなことにより圧力の
集中が発生する。一方ガラスビーズは図２の（ａ）で示
されるように非晶質であると共に、基板との衝突中に生
じる圧力を分配するように丸味を帯びた表面を有する。
【００１８】本発明の方法で使用される湿式ホーニング
組成物は、ガラスビーズと、実質的にイオンの溶解して
いない脱イオン水とを含む。一般に、湿式ホーニング組
成物中のガラスビーズの重量％が約１０重量％と約３０
重量％の間にあれば、満足のいく結果を達成することが
できる。湿式ホーニング組成物中に１１乃至１２重量％
のガラスビーズが存在するのが好ましい。ガラスビーズ
の重量％が約１０重量％より小さければ、ホーニングプ
ロセスにおいて表面組織の不均一性が高まる傾向があ
る。ガラスビーズの重量％が約３０重量％より大きい場
合も、ホーニングプロセスにおいて表面組織の不均一性
を高める傾向がある。
組成物は、ガラスビーズと、実質的にイオンの溶解して
いない脱イオン水とを含む。一般に、湿式ホーニング組
成物中のガラスビーズの重量％が約１０重量％と約３０
重量％の間にあれば、満足のいく結果を達成することが
できる。湿式ホーニング組成物中に１１乃至１２重量％
のガラスビーズが存在するのが好ましい。ガラスビーズ
の重量％が約１０重量％より小さければ、ホーニングプ
ロセスにおいて表面組織の不均一性が高まる傾向があ
る。ガラスビーズの重量％が約３０重量％より大きい場
合も、ホーニングプロセスにおいて表面組織の不均一性
を高める傾向がある。
【００１９】本発明の方法では、任意の適切なアルミニ
ウム又はアルミニウム合金の基板を使用することが可能
である。典型的なアルミニウム合金としては、例えば１
０５０、１１００、３００３、６０６１、６０６３等が
含まれる。合金３００３はアルミニウムと、０．１２重
量％のＳｉと、０．４３重量％のＦｅと、０．１４重量
％のＣｕと、１．０４重量％のＭｎと、０．０１重量％
のＭｇと、０．０１重量％のＺｎと、０．０１重量％の
Ｔｉと、極微量のＣｒと、を含む。合金中の介在物及び
金属間化合物の大きさ及び分布は、介在物及び金属間化
合物粒子がホーニングプロセスに対して問題を生じる量
以下であるべきである。多くの大きな介在物や金属間化
合物が存在する場合には、ホーニングされていない領域
部分に不均一な表面組織が生じ得る。同様に、アルミニ
ウム基板の延性は、湿式ホーニングプロセスの完了時に
均一な組織となることを確実にするために、実質的に均
一であるべきである。一般にアルミニウム基板の表面
は、湿式ホーニングの前は比較的平滑である。典型的な
平滑な表面は、例えばダイアモンドラス、特別な押出及
び引抜き法、磨滅、バフ磨き等により形成される。平滑
にした後、基板表面は、（ＲA ＝０．００５μｍ、Ｒ
max ＝０．０５μｍ）から（ＲA ＝０．１３μｍ、Ｒ
max ＝１．３μｍ）の範囲にあるべきである。表面粗面
度ＲA はよく知られていると共に、評価長さ内での中心
線から粗面プロファイルの全起点までの距離の算術的平
均である。ＲA の式を以下に示す。
ウム又はアルミニウム合金の基板を使用することが可能
である。典型的なアルミニウム合金としては、例えば１
０５０、１１００、３００３、６０６１、６０６３等が
含まれる。合金３００３はアルミニウムと、０．１２重
量％のＳｉと、０．４３重量％のＦｅと、０．１４重量
％のＣｕと、１．０４重量％のＭｎと、０．０１重量％
のＭｇと、０．０１重量％のＺｎと、０．０１重量％の
Ｔｉと、極微量のＣｒと、を含む。合金中の介在物及び
金属間化合物の大きさ及び分布は、介在物及び金属間化
合物粒子がホーニングプロセスに対して問題を生じる量
以下であるべきである。多くの大きな介在物や金属間化
合物が存在する場合には、ホーニングされていない領域
部分に不均一な表面組織が生じ得る。同様に、アルミニ
ウム基板の延性は、湿式ホーニングプロセスの完了時に
均一な組織となることを確実にするために、実質的に均
一であるべきである。一般にアルミニウム基板の表面
は、湿式ホーニングの前は比較的平滑である。典型的な
平滑な表面は、例えばダイアモンドラス、特別な押出及
び引抜き法、磨滅、バフ磨き等により形成される。平滑
にした後、基板表面は、（ＲA ＝０．００５μｍ、Ｒ
max ＝０．０５μｍ）から（ＲA ＝０．１３μｍ、Ｒ
max ＝１．３μｍ）の範囲にあるべきである。表面粗面
度ＲA はよく知られていると共に、評価長さ内での中心
線から粗面プロファイルの全起点までの距離の算術的平
均である。ＲA の式を以下に示す。
【００２０】
【数１】
【００２１】上記式において、Ｉｍは評価長さを表し、
【００２２】
【外１】
【００２３】は、中心線から粗面プロファイルの起点ま
での距離の絶対値を示す。Ｒmax は、評価長さ内の最大
の単一粗面ギャップの長さを表す。評価長さは、評価さ
れる横断長さの部分である。連続した５つのサンプリン
グ長さを含む評価長さを標準とする。かかる測定は、Ma
hr Feinpruef社製造のＳ８Ｐ型等のプロファイロメータ
（プロファイル測定器）でなされ得る。一般に、ダイア
モンドチップを有する針は、粗面にされる基板の表面上
を一定速度で横断して、評価長さ内の全データポイント
を得る。ここで参照される全データを得るために使用さ
れるダイアモンドチップの曲率半径は５μｍである。
での距離の絶対値を示す。Ｒmax は、評価長さ内の最大
の単一粗面ギャップの長さを表す。評価長さは、評価さ
れる横断長さの部分である。連続した５つのサンプリン
グ長さを含む評価長さを標準とする。かかる測定は、Ma
hr Feinpruef社製造のＳ８Ｐ型等のプロファイロメータ
（プロファイル測定器）でなされ得る。一般に、ダイア
モンドチップを有する針は、粗面にされる基板の表面上
を一定速度で横断して、評価長さ内の全データポイント
を得る。ここで参照される全データを得るために使用さ
れるダイアモンドチップの曲率半径は５μｍである。
【００２４】一般にアルミニウム基板は、円柱又はドラ
ム形状であり、前述の平滑プロセスの間にＡｌ表面に入
ったあらゆる異物を除去するために、湿式ホーニングの
前に任意の適切な技術により洗浄される。図１は円柱状
の基板を示すが、ホーニング方法のパラメータが満たさ
れる限り、中空若しくは中実のシリンダ、平らなシー
ト、継ぎ目の有る若しくは継ぎ目のないベルト、又は、
例えばディッピング塗布法若しくは蒸着等の慣用の塗布
技術を使用することのできる任意の他の形態等の、任意
の幾何学的形状の基板を使用することができる。
ム形状であり、前述の平滑プロセスの間にＡｌ表面に入
ったあらゆる異物を除去するために、湿式ホーニングの
前に任意の適切な技術により洗浄される。図１は円柱状
の基板を示すが、ホーニング方法のパラメータが満たさ
れる限り、中空若しくは中実のシリンダ、平らなシー
ト、継ぎ目の有る若しくは継ぎ目のないベルト、又は、
例えばディッピング塗布法若しくは蒸着等の慣用の塗布
技術を使用することのできる任意の他の形態等の、任意
の幾何学的形状の基板を使用することができる。
【００２５】図１は、本発明による典型的な湿式ホーニ
ング方法を示し、スプレーガン３は、円柱状の基板１の
表面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。スプレーガ
ン３と処理される基板との間の距離は、約１４０mm
（５．５インチ）乃至約１７８mm（７インチ）である。
円柱状の基板１は、約１２cm／秒乃至約３５cm／秒（こ
こで検査する基板の場合）又は約８０rpm の表面速度で
その軸の回りを回転する。湿式ホーニング組成物７中の
典型的なガラスビーズ濃度は、約１０乃至１２重量％で
あり、残りは脱イオン水である。スプレーガン３に圧力
が与えられる時、チューブ４を介してホーニング組成物
７に与えられる圧力は、約３．０乃至約４．０kg/cm2で
あり、好ましくは約３．１乃至約３．８kg/cm2である。
スプレーガン３は、円柱状基板１の軸に並行な軸に沿っ
て約２５０mm／秒乃至約３５０mm／秒の速度で往復動さ
れる。基板１の表面上の許容可能なスカラップパターン
は、スプレーガン３の単一行程において達成されること
ができる。これらのパラメータは一般に、約７．９mm乃
至約８．０mmの直径のノズル６を有するスプレーガンに
適用可能である。
ング方法を示し、スプレーガン３は、円柱状の基板１の
表面に湿式ホーニング組成物７を噴霧する。スプレーガ
ン３と処理される基板との間の距離は、約１４０mm
（５．５インチ）乃至約１７８mm（７インチ）である。
円柱状の基板１は、約１２cm／秒乃至約３５cm／秒（こ
こで検査する基板の場合）又は約８０rpm の表面速度で
その軸の回りを回転する。湿式ホーニング組成物７中の
典型的なガラスビーズ濃度は、約１０乃至１２重量％で
あり、残りは脱イオン水である。スプレーガン３に圧力
が与えられる時、チューブ４を介してホーニング組成物
７に与えられる圧力は、約３．０乃至約４．０kg/cm2で
あり、好ましくは約３．１乃至約３．８kg/cm2である。
スプレーガン３は、円柱状基板１の軸に並行な軸に沿っ
て約２５０mm／秒乃至約３５０mm／秒の速度で往復動さ
れる。基板１の表面上の許容可能なスカラップパターン
は、スプレーガン３の単一行程において達成されること
ができる。これらのパラメータは一般に、約７．９mm乃
至約８．０mmの直径のノズル６を有するスプレーガンに
適用可能である。
【００２６】望ましい場合には、円柱状の基板１の端を
マスクして、塗布材料を残すべきでない領域の粗面化を
防止することが可能である。マスキングは、基板とホー
ニング媒体との間にシールドを設けるといった任意の適
切な技術により達成されることが可能である。
マスクして、塗布材料を残すべきでない領域の粗面化を
防止することが可能である。マスキングは、基板とホー
ニング媒体との間にシールドを設けるといった任意の適
切な技術により達成されることが可能である。
【００２７】図３の（ａ）と図４の（ａ）で示されるよ
うに、湿式ホーニングプロセスの完了後の基板表面は、
図３の（ｂ）及び図４の（ｂ）で示されるように、埋ま
った粒子や、従来技術のホーニング媒体により生成され
た大きなクレーターのない、均一に調整された粗表面を
有するスカラップパターンを呈する。この表面構造はま
た、図３の（ｂ）で示されるように、突出した縁がアン
ダーコーティング層と電荷発生層の均一性に悪影響を及
ぼすおそれのある鋭い隙間もない。処理された基板の表
面プロファイルが、約０．１乃至約１μｍのＲA 平均粗
面度と、約２μｍから約８μｍまでのＲmax 粗面深さを
有する場合に、最適な結果が得られる。本発明の方法を
実行して表面を粗面にすると常にクレーターが形成され
る。そのクレーターの最大幅の平均は、好ましくは約１
０μｍ乃至約２０μｍである。クレーターが少なくとも
約３０μｍの幅を有する場合にはそのクレーターは大き
すぎて、満足のいく塗布の均一性が得られないというこ
とが判った。（本発明の方法により生じた）クレーター
は、浅く且つ真の半球よりかなり小さい。一般に、各ク
レーターは約０．５乃至３．０μｍの最大深さを有す
る。
うに、湿式ホーニングプロセスの完了後の基板表面は、
図３の（ｂ）及び図４の（ｂ）で示されるように、埋ま
った粒子や、従来技術のホーニング媒体により生成され
た大きなクレーターのない、均一に調整された粗表面を
有するスカラップパターンを呈する。この表面構造はま
た、図３の（ｂ）で示されるように、突出した縁がアン
ダーコーティング層と電荷発生層の均一性に悪影響を及
ぼすおそれのある鋭い隙間もない。処理された基板の表
面プロファイルが、約０．１乃至約１μｍのＲA 平均粗
面度と、約２μｍから約８μｍまでのＲmax 粗面深さを
有する場合に、最適な結果が得られる。本発明の方法を
実行して表面を粗面にすると常にクレーターが形成され
る。そのクレーターの最大幅の平均は、好ましくは約１
０μｍ乃至約２０μｍである。クレーターが少なくとも
約３０μｍの幅を有する場合にはそのクレーターは大き
すぎて、満足のいく塗布の均一性が得られないというこ
とが判った。（本発明の方法により生じた）クレーター
は、浅く且つ真の半球よりかなり小さい。一般に、各ク
レーターは約０．５乃至３．０μｍの最大深さを有す
る。
【００２８】非脱イオン水を湿式ホーニング組成物中で
使用すると、基板のエッチングが発生する可能性があ
る。エッチングは、曇った外観によって特徴付けられ
る。エッチングは、塗布膜を介して目に見える傷等の、
基板表面の欠陥につながるため、望ましくない。また非
脱イオン水は、最終的な電子写真画像形成部材のゼログ
ラフィック（静電写真）特性に悪影響を与える望ましく
ない不純物を生じるおそれがある。例えば非脱イオン水
は、最終的なゼログラフィック印刷において水滴マーク
として現れるといった、基板に悪影響を与えるものを形
成する可能性がある。非脱イオン水中に不純物が存在す
ると、基板表面に沿って化学的特徴に変化がもたらさ
れ、電子写真画像形成部材の表面に沿って不均一な電気
的特徴が生じ、それは結果的に露光状態の不均一な放電
に帰結する。驚くべきことにかかる不均一な表面特徴
は、塗布材料を施す前に基板を連続して洗浄した後でも
残存する。従って、ホーニング懸濁液中のイオンの含有
量は、ppm レベル未満であるべきである。
使用すると、基板のエッチングが発生する可能性があ
る。エッチングは、曇った外観によって特徴付けられ
る。エッチングは、塗布膜を介して目に見える傷等の、
基板表面の欠陥につながるため、望ましくない。また非
脱イオン水は、最終的な電子写真画像形成部材のゼログ
ラフィック（静電写真）特性に悪影響を与える望ましく
ない不純物を生じるおそれがある。例えば非脱イオン水
は、最終的なゼログラフィック印刷において水滴マーク
として現れるといった、基板に悪影響を与えるものを形
成する可能性がある。非脱イオン水中に不純物が存在す
ると、基板表面に沿って化学的特徴に変化がもたらさ
れ、電子写真画像形成部材の表面に沿って不均一な電気
的特徴が生じ、それは結果的に露光状態の不均一な放電
に帰結する。驚くべきことにかかる不均一な表面特徴
は、塗布材料を施す前に基板を連続して洗浄した後でも
残存する。従って、ホーニング懸濁液中のイオンの含有
量は、ppm レベル未満であるべきである。
【００２９】本発明を以下の実施例に関してより詳細に
述べることにするが、本発明はそれに限定されるもので
はないということが理解されるべきである。
述べることにするが、本発明はそれに限定されるもので
はないということが理解されるべきである。
【００３０】
【実施例】約３６０乃至４２０kg/mm2のヌープ硬度と、
ほぼ次の組成、即ち７２．５％のＳｉＯ2 、１５％のＮ
ａ2 Ｏ、７％のＣａＯ、４％のＭｇＯ、及び１％のＡｌ
2Ｏ3 を有するガラスビーズは、米国ニューヨーク州オ
ンタリオのアップステートメタルフィニッシング（Upst
ate Metal Finishing ）から入手できる。４５μｍを越
える曲率半径を有する粒子をなくすように、ビーズを９
０μｍスクリーンを用いて分級する。出発材料は、３５
μｍより大きい曲率半径を有するビーズを完全になくす
ようにする。５．８５kgの分級されたビーズを４９．２
リットルの脱イオン水中で周囲温度で懸濁して、約１２
重量％の懸濁液を製造する。
ほぼ次の組成、即ち７２．５％のＳｉＯ2 、１５％のＮ
ａ2 Ｏ、７％のＣａＯ、４％のＭｇＯ、及び１％のＡｌ
2Ｏ3 を有するガラスビーズは、米国ニューヨーク州オ
ンタリオのアップステートメタルフィニッシング（Upst
ate Metal Finishing ）から入手できる。４５μｍを越
える曲率半径を有する粒子をなくすように、ビーズを９
０μｍスクリーンを用いて分級する。出発材料は、３５
μｍより大きい曲率半径を有するビーズを完全になくす
ようにする。５．８５kgの分級されたビーズを４９．２
リットルの脱イオン水中で周囲温度で懸濁して、約１２
重量％の懸濁液を製造する。
【００３１】受光体基板としての使用に適したアルミニ
ウム合金（３００３タイプ）シリンダの両端を、デュポ
ン社製造のアセタール樹脂であるデルリン（Delrin）
（登録商標）でマスキングし、図１で示されるように蒸
気ホーニング装置８の蒸気ホーニングチャンバ内の対向
するマンドレルの間に挿入する。シリンダ１をホーニン
グする前に蒸気ホーニングチャンバ５を密閉する。シリ
ンダ１を、８０rpm の速度で軸を中心に回転させる。
ウム合金（３００３タイプ）シリンダの両端を、デュポ
ン社製造のアセタール樹脂であるデルリン（Delrin）
（登録商標）でマスキングし、図１で示されるように蒸
気ホーニング装置８の蒸気ホーニングチャンバ内の対向
するマンドレルの間に挿入する。シリンダ１をホーニン
グする前に蒸気ホーニングチャンバ５を密閉する。シリ
ンダ１を、８０rpm の速度で軸を中心に回転させる。
【００３２】１７８mm（７インチ）の固定距離でスプレ
ーガン３をシリンダ１の一端に向ける。ガラスビーズ懸
濁液７をポンプ２によりスプレーガン３に供給し、パイ
プ４を介して３．５kg/cm2（５０psi ）の圧力を与え、
シリンダ１に懸濁液７を噴霧する。圧力を約５秒与えた
後、３５cm／秒（１３．７８ips ）の速度で、シリンダ
１の軸に並行な軸に沿って、シリンダ１の反対の端の方
にスプレーガン３を移動する。シリンダ１の反対側の端
に達した後、加圧、スプレーガン３の移動、及びシリン
ダ１の回転を停止する。得られたホーニングシリンダ１
を蒸気ホーニング装置から取り出し、プロセスの間中シ
リンダ１のホーニング表面が脱イオン水（そして勿論空
気）以外のいかなるものとも接触しないように気をつけ
ながら、脱イオン水のはられたバット内で上記ホーニン
グシリンダ１を浸す。
ーガン３をシリンダ１の一端に向ける。ガラスビーズ懸
濁液７をポンプ２によりスプレーガン３に供給し、パイ
プ４を介して３．５kg/cm2（５０psi ）の圧力を与え、
シリンダ１に懸濁液７を噴霧する。圧力を約５秒与えた
後、３５cm／秒（１３．７８ips ）の速度で、シリンダ
１の軸に並行な軸に沿って、シリンダ１の反対の端の方
にスプレーガン３を移動する。シリンダ１の反対側の端
に達した後、加圧、スプレーガン３の移動、及びシリン
ダ１の回転を停止する。得られたホーニングシリンダ１
を蒸気ホーニング装置から取り出し、プロセスの間中シ
リンダ１のホーニング表面が脱イオン水（そして勿論空
気）以外のいかなるものとも接触しないように気をつけ
ながら、脱イオン水のはられたバット内で上記ホーニン
グシリンダ１を浸す。
【００３３】シリンダを、脱イオン水バットからスプレ
ーリンスタンクに移し、このタンクにおいて、１６リッ
トル／秒の速度で１分間周囲温度にて脱イオン水（２Mo
hm-cm ）をシリンダに吹きつける。シリンダをスプレー
リンスタンクから循環超音波処理タンクに移し、この処
理タンクにおいて、７．６２mm／秒の速度で１分間周囲
温度にて脱イオン水（２Mohm-cm ）にシリンダを浸し、
脱イオン水を３７．８５リットル／秒の速度で循環させ
る。６０秒間含浸させた後、循環を停止して、４０秒間
超音波処理を行う。ネイ（Ney ）超音波ユニットを略以
下の条件で使用する：２KHz のバンド幅で４０KHz 、吸
引時間１秒、トレイン時間１秒、脱ガス時間０．０３
秒、破裂時間０．０１秒、静止時間０．０１秒である。
超音波処理後、循環を再開し、３０秒後にシリンダを
７．６２mm／秒の速度で水から取り出す。水温７０℃を
有する熱い脱イオン水（２Mohm-cm ）のリンスタンクに
シリンダを移す。シリンダを７．６２mm／秒の速度で脱
イオン水に入れ、循環（３７．８５リットル／秒）する
脱イオン水内で３０秒間リンスする。リンス後、シリン
ダを７．６２mm／秒の速度で水から取り出す。シリンダ
を１５秒間乾燥し且つ冷却すると、白斑、黒斑、基板の
傷等の他の印刷欠陥を生じることなく、コヒーレント光
の反射により生じる干渉縞影響をなくす、洗浄された受
光体ホーニング基板が得られる。
ーリンスタンクに移し、このタンクにおいて、１６リッ
トル／秒の速度で１分間周囲温度にて脱イオン水（２Mo
hm-cm ）をシリンダに吹きつける。シリンダをスプレー
リンスタンクから循環超音波処理タンクに移し、この処
理タンクにおいて、７．６２mm／秒の速度で１分間周囲
温度にて脱イオン水（２Mohm-cm ）にシリンダを浸し、
脱イオン水を３７．８５リットル／秒の速度で循環させ
る。６０秒間含浸させた後、循環を停止して、４０秒間
超音波処理を行う。ネイ（Ney ）超音波ユニットを略以
下の条件で使用する：２KHz のバンド幅で４０KHz 、吸
引時間１秒、トレイン時間１秒、脱ガス時間０．０３
秒、破裂時間０．０１秒、静止時間０．０１秒である。
超音波処理後、循環を再開し、３０秒後にシリンダを
７．６２mm／秒の速度で水から取り出す。水温７０℃を
有する熱い脱イオン水（２Mohm-cm ）のリンスタンクに
シリンダを移す。シリンダを７．６２mm／秒の速度で脱
イオン水に入れ、循環（３７．８５リットル／秒）する
脱イオン水内で３０秒間リンスする。リンス後、シリン
ダを７．６２mm／秒の速度で水から取り出す。シリンダ
を１５秒間乾燥し且つ冷却すると、白斑、黒斑、基板の
傷等の他の印刷欠陥を生じることなく、コヒーレント光
の反射により生じる干渉縞影響をなくす、洗浄された受
光体ホーニング基板が得られる。
【００３４】前述の基板を中間層及び／又は感光体層で
以下のように仕上げることが可能である。
以下のように仕上げることが可能である。
【００３５】本発明では１つ以上の中間層を使用するこ
とができる。中間層は、例えばタナカ（Tanaka）他によ
る米国特許第４，６１８，５５２号と、アンドリューズ
（Andrews ）他の米国特許第５，０５１，３２８号（こ
れらの内容を参照して本文の記載の一部とする）で示さ
れるように、基板と感光層の間に従来から使用されてい
る任意の層であり得る。従って中間層は、補助層、バリ
ア層、付着層等であり得る。中間層は、例えばカゼイ
ン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレ
ンアクリル酸共重合体、ポリアミド（ナイロン６、ナイ
ロン６６、ナイロン６１０、共重合ナイロン、アルコキ
シメチル化ナイロン等）、ポリウレタン、ゼラチン等で
あり得る。実施例では、基板とそれに連続するように施
される層との間の中間接着層を、接着力を高めるように
することが望ましい。典型的な接着層は、ポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
リカーボネート、ポリウレタン、ポリメチルメタクリレ
ート、及びそれらの混合物等の薄膜形成ポリマーを包含
する。ディッピング塗布、蒸着等の任意の慣用手段によ
り中間層を付着することが可能であり、該中間層は約
０．１乃至約５μｍの厚みを有することが好ましい。
とができる。中間層は、例えばタナカ（Tanaka）他によ
る米国特許第４，６１８，５５２号と、アンドリューズ
（Andrews ）他の米国特許第５，０５１，３２８号（こ
れらの内容を参照して本文の記載の一部とする）で示さ
れるように、基板と感光層の間に従来から使用されてい
る任意の層であり得る。従って中間層は、補助層、バリ
ア層、付着層等であり得る。中間層は、例えばカゼイ
ン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレ
ンアクリル酸共重合体、ポリアミド（ナイロン６、ナイ
ロン６６、ナイロン６１０、共重合ナイロン、アルコキ
シメチル化ナイロン等）、ポリウレタン、ゼラチン等で
あり得る。実施例では、基板とそれに連続するように施
される層との間の中間接着層を、接着力を高めるように
することが望ましい。典型的な接着層は、ポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポ
リカーボネート、ポリウレタン、ポリメチルメタクリレ
ート、及びそれらの混合物等の薄膜形成ポリマーを包含
する。ディッピング塗布、蒸着等の任意の慣用手段によ
り中間層を付着することが可能であり、該中間層は約
０．１乃至約５μｍの厚みを有することが好ましい。
【００３６】実施例では、電荷輸送層及び電荷発生層が
感光層を構成する。これは、ラミネート型の感光材料と
して呼称される。電荷輸送層と電荷発生層は、ディッピ
ング塗布や蒸着を含む任意の適切な従来技術により付着
されることが可能であり、このことは、例えば米国特許
第４，３９０，６１１号、米国特許第４，５５１，４０
４号、米国特許第４，５８８，６６７号、米国特許第
４，５９６，７５４号、米国特許第４，７９７，３３７
号（これらの内容を参照して、本文の記載の一部とす
る）において示されるように当業界では良く知られてい
る。実施例では、スーダンレッド、ダイアンブルー、ジ
ェーナスグリーンＢ等のアゾ顔料；アルゴルイエロー、
ピレンキノン、インダンスレンブリリアントバイオレッ
トＲＲＰ等のキノン顔料；キノシアニン顔料；ペリレン
顔料；インジゴ、チオインジゴ等のインジゴ顔料；イン
ドファーストオレンジトナー等のビスベンゾイミダゾー
ル顔料；銅フタロシアニン、アルミノクロロ−フタロシ
アニン等のフタロシアニン顔料；キナクリドン顔料；ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、メチルセルロース、ポリアクリレ
ート、セルロースエステル等のバインダ樹脂中のアズレ
ン成分；から選択される電荷発生材料を分散することに
より、電荷発生層を形成することができる。実施例で
は、アンスラセン、ピレン、フェナントレン、若しくは
コロネン等の多環状芳香環、又はインドール、カルバゾ
ール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、イ
ミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリ
ン、チアジアゾール、トリアゾール等の窒素含有ヘテロ
環、を主鎖又は側鎖に有する化合物、そして薄膜形成特
性を有する樹脂中のヒドラゾン化合物から選択されるこ
とのできる正孔輸送材料を溶解することにより、電荷輸
送層を形成することができる。かかる樹脂は、ポリカー
ボネート、ポリメタクリレート、ポリアリーレート、ポ
リスチレン、ポリエステル、ポリスルホン、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−メチルメタクリ
レート共重合体等を包含し得る。
感光層を構成する。これは、ラミネート型の感光材料と
して呼称される。電荷輸送層と電荷発生層は、ディッピ
ング塗布や蒸着を含む任意の適切な従来技術により付着
されることが可能であり、このことは、例えば米国特許
第４，３９０，６１１号、米国特許第４，５５１，４０
４号、米国特許第４，５８８，６６７号、米国特許第
４，５９６，７５４号、米国特許第４，７９７，３３７
号（これらの内容を参照して、本文の記載の一部とす
る）において示されるように当業界では良く知られてい
る。実施例では、スーダンレッド、ダイアンブルー、ジ
ェーナスグリーンＢ等のアゾ顔料；アルゴルイエロー、
ピレンキノン、インダンスレンブリリアントバイオレッ
トＲＲＰ等のキノン顔料；キノシアニン顔料；ペリレン
顔料；インジゴ、チオインジゴ等のインジゴ顔料；イン
ドファーストオレンジトナー等のビスベンゾイミダゾー
ル顔料；銅フタロシアニン、アルミノクロロ−フタロシ
アニン等のフタロシアニン顔料；キナクリドン顔料；ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルピロリドン、メチルセルロース、ポリアクリレ
ート、セルロースエステル等のバインダ樹脂中のアズレ
ン成分；から選択される電荷発生材料を分散することに
より、電荷発生層を形成することができる。実施例で
は、アンスラセン、ピレン、フェナントレン、若しくは
コロネン等の多環状芳香環、又はインドール、カルバゾ
ール、オキサゾール、イソキサゾール、チアゾール、イ
ミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリ
ン、チアジアゾール、トリアゾール等の窒素含有ヘテロ
環、を主鎖又は側鎖に有する化合物、そして薄膜形成特
性を有する樹脂中のヒドラゾン化合物から選択されるこ
とのできる正孔輸送材料を溶解することにより、電荷輸
送層を形成することができる。かかる樹脂は、ポリカー
ボネート、ポリメタクリレート、ポリアリーレート、ポ
リスチレン、ポリエステル、ポリスルホン、スチレン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−メチルメタクリ
レート共重合体等を包含し得る。
【００３７】実施例では、感光材料は、電荷発生材料、
電荷輸送材料、及びバインダ樹脂（これらの３つの材料
は上述の通りであり得る）を含む単層型からなり得る。
単層型の感光材料は、ディッピング塗布及び蒸着を含む
任意の適切な技術により付着されることが可能であると
ともに、例えば、ムトウ（Mutoh ）他の米国特許第５，
００４，６６２号、ニシグチ（Nishiguchi）他の米国特
許第４，９６５，１５５号（これらの内容を参照して本
文の記載の一部とする）で示されている。
電荷輸送材料、及びバインダ樹脂（これらの３つの材料
は上述の通りであり得る）を含む単層型からなり得る。
単層型の感光材料は、ディッピング塗布及び蒸着を含む
任意の適切な技術により付着されることが可能であると
ともに、例えば、ムトウ（Mutoh ）他の米国特許第５，
００４，６６２号、ニシグチ（Nishiguchi）他の米国特
許第４，９６５，１５５号（これらの内容を参照して本
文の記載の一部とする）で示されている。
【００３８】本発明に従って製造した感光性画像形成部
材を、ゼロックスレーザプリンタ４２１３型において約
３８０Ｖの初期帯電電圧での印刷品質を評価するために
テストした。４２１３レーザプリンタは、露光源として
７８０nmの波長のレーザダイオードと、１１μｍのトナ
ーで単一成分放電領域現像（ＤＡＤ）を有する。指定さ
れたハーフトーンパターンを用いて、グレースケール印
刷モードにおいて干渉縞の影響をテストした。干渉縞又
は合板縞は見受けられず、また黒斑に起因する印刷品質
の低下も見られなかった。例えば６００乃至８００nmの
範囲で動作する露光光源を有するもの等他のレーザベー
スマシンを用いても、同様の結果が達成され得る。
材を、ゼロックスレーザプリンタ４２１３型において約
３８０Ｖの初期帯電電圧での印刷品質を評価するために
テストした。４２１３レーザプリンタは、露光源として
７８０nmの波長のレーザダイオードと、１１μｍのトナ
ーで単一成分放電領域現像（ＤＡＤ）を有する。指定さ
れたハーフトーンパターンを用いて、グレースケール印
刷モードにおいて干渉縞の影響をテストした。干渉縞又
は合板縞は見受けられず、また黒斑に起因する印刷品質
の低下も見られなかった。例えば６００乃至８００nmの
範囲で動作する露光光源を有するもの等他のレーザベー
スマシンを用いても、同様の結果が達成され得る。
【００３９】本発明を詳細に且つ特定の実施例を用いて
述べてきたが、本発明の主旨及びその範囲から逸脱する
ことがなければ、多様な変化及び変更をなすことができ
ることが、当業者には明らかであろう。
述べてきたが、本発明の主旨及びその範囲から逸脱する
ことがなければ、多様な変化及び変更をなすことができ
ることが、当業者には明らかであろう。
【図１】本発明で使用することのできる湿式ホーニング
装置の概略図である。
装置の概略図である。
【図２】（ａ）は、本発明で使用可能な球形ガラスビー
ズホーニング媒体のスキャニング電子マイクログラフ
（顕微鏡写真）である。（ｂ）は、従来技術で用いられ
てきたＡｌ2 Ｏ3 ホーニング媒体のスキャニング電子マ
イクログラフ（顕微鏡写真）である。
ズホーニング媒体のスキャニング電子マイクログラフ
（顕微鏡写真）である。（ｂ）は、従来技術で用いられ
てきたＡｌ2 Ｏ3 ホーニング媒体のスキャニング電子マ
イクログラフ（顕微鏡写真）である。
【図３】（ａ）は、本発明で使用可能な分級されたガラ
スビーズホーニング媒体によりホーニングされたＡｌ表
面のスキャニング電子マイクログラフ（顕微鏡写真）で
ある。（ｂ）は、従来技術で用いられてきた不規則なア
ルミナ媒体でホーニングされたＡｌ表面のスキャニング
電子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。
スビーズホーニング媒体によりホーニングされたＡｌ表
面のスキャニング電子マイクログラフ（顕微鏡写真）で
ある。（ｂ）は、従来技術で用いられてきた不規則なア
ルミナ媒体でホーニングされたＡｌ表面のスキャニング
電子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。
【図４】（ａ）は、本発明で使用可能な粉砕ガラスビー
ズホーニング媒体によりホーニングされたＡｌ表面を、
図３の（ａ）のものより低い倍率で見たスキャニング電
子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。（ｂ）は、従
来技術で用いられてきた、粉砕されていないガラスホー
ニング媒体によりホーニングされたＡｌ表面のスキャニ
ング電子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。
ズホーニング媒体によりホーニングされたＡｌ表面を、
図３の（ａ）のものより低い倍率で見たスキャニング電
子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。（ｂ）は、従
来技術で用いられてきた、粉砕されていないガラスホー
ニング媒体によりホーニングされたＡｌ表面のスキャニ
ング電子マイクログラフ（顕微鏡写真）である。
１ 基板 ２ ポンプ ３ スプレーガン ４ パイプ ５ 蒸気ホーニングチャンバ ６ ノズル ７ 湿式ホーニング組成物
フロントページの続き (72)発明者 ラリー シアラッタ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14625 ロチェスター ベルビスタ ドライヴ 271 (72)発明者 ロナルド ティー．コスミダー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14450 フェアポート ウッド リリー レーン 36
Claims (3)
- 【請求項１】 電子写真用画像形成部材における基板表
面を粗面化する方法であって、 脱イオン水と略球形のガラスビーズとを含む湿式ホーニ
ング組成物を供与するステップと、約３．０乃至約４．
０kg/cm2の噴霧圧で前記基板表面に前記湿式ホーニング
組成物を噴霧して、前記基板表面上にスカラップパター
ンを形成するステップと、を含み、 前記基板がアルミニウム又はアルミニウム合金を含み、 前記ガラスビーズが、 約３００乃至約７５０kg/mm2のヌープ硬度と、 約１０μｍより大きく且つ約３５μｍより小さい曲率半
径と、 約１．８乃至約３．２の比重と、を含むことを特徴とす
る電子写真用画像形成部材基板表面粗面化方法。 - 【請求項２】 電子写真用受光体を製造する方法であっ
て、 アルミニウム又はアルミニウム合金を含む基板を提供す
るステップと、 脱イオン水と、約３００乃至約７５０kg/mm2のヌープ硬
度、約１０μｍより大きく且つ約３５μｍより小さい曲
率半径、及び約１．８乃至約３．２の比重を有する略球
形のガラスビーズと、を含む湿式ホーニング組成物を提
供するステップと、 約３．０乃至約４．０kg/cm2の噴霧圧で前記基板に前記
湿式ホーニング組成物を噴霧して、粗面化された表面を
前記基板上に形成するステップと、 前記基板上に感光層を形成するステップと、を含む電子
写真用受光体製造方法。 - 【請求項３】 脱イオン水と略球形のガラスビーズとを
含む、電子写真用受光体基板を製造するための湿式ホー
ニング組成物であって、前記ガラスビーズが、約３００
乃至約７５０kg/mm2のヌープ硬度と、約１０μｍより大
きく且つ約３５μｍより小さい曲率半径と、約１．８乃
至約３．２の比重と、を有することを特徴とする湿式ホ
ーニング組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/298,802 US5573445A (en) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | Liquid honing process and composition for interference fringe suppression in photosensitive imaging members |
| US298802 | 1994-08-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0876386A true JPH0876386A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=23152055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7237751A Withdrawn JPH0876386A (ja) | 1994-08-31 | 1995-08-23 | 電子写真用画像形成部材基板表面粗面化方法、電子写真用受光体製造方法、及び湿式ホーニング組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5573445A (ja) |
| JP (1) | JPH0876386A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013005599A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | 昭和電工株式会社 | アルミニウム合金及びアルミニウム合金押出材の製造方法 |
| CN114083443A (zh) * | 2021-10-11 | 2022-02-25 | 凯瑞电子(诸城)有限公司 | 一种电磁继电器外壳用旋转喷砂式抛光装置 |
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|---|---|---|---|---|
| US5709587A (en) * | 1996-03-25 | 1998-01-20 | Kennametal Inc. | Method and apparatus for honing an elongate rotary tool |
| JP3365213B2 (ja) * | 1996-08-07 | 2003-01-08 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体及びその製造方法 |
| US5821026A (en) * | 1997-04-28 | 1998-10-13 | Xerox Corporation | Substrate treatment method using soluble particles |
| US6051148A (en) * | 1998-03-05 | 2000-04-18 | Xerox Corporation | Photoreceptor fabrication method |
| US5919594A (en) * | 1998-05-26 | 1999-07-06 | Xerox Corporation | Substrate honing method |
| US6048657A (en) * | 1999-01-28 | 2000-04-11 | Xerox Corporation | Surface treatment method without external power source |
| US7361439B2 (en) * | 2005-01-03 | 2008-04-22 | Xerox Corporation | Lathe surface for coating streak suppression |
| JP4737342B1 (ja) * | 2010-09-24 | 2011-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 環状体の製造方法 |
| CN104520070B (zh) * | 2012-06-01 | 2018-07-17 | 史密夫和内修有限公司 | 矫形外科植入物精整的方法 |
| JP6935674B2 (ja) * | 2017-03-22 | 2021-09-15 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6876297B2 (ja) * | 2017-05-16 | 2021-05-26 | 株式会社不二製作所 | 人工歯の研磨方法 |
| AU2021292336A1 (en) * | 2020-06-19 | 2023-02-02 | Conox, LLC | Blasting abrasives and method of producing blasting abrasives |
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| JPS5827496B2 (ja) * | 1976-07-23 | 1983-06-09 | 株式会社リコー | 電子写真用セレン感光体 |
| US4390611A (en) * | 1980-09-26 | 1983-06-28 | Shozo Ishikawa | Electrophotographic photosensitive azo pigment containing members |
| US4551404A (en) * | 1981-06-18 | 1985-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Disazo electrophotographic photosensitive member |
| US4623609A (en) * | 1981-07-24 | 1986-11-18 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Process for forming patterns using ionizing radiation sensitive resist |
| JPS6079360A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-05-07 | Kyocera Corp | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| JPS60112049A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-18 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | 電子写真用感光体 |
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| US4618552A (en) * | 1984-02-17 | 1986-10-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Light receiving member for electrophotography having roughened intermediate layer |
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| JP2668985B2 (ja) * | 1988-09-26 | 1997-10-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
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1994
- 1994-08-31 US US08/298,802 patent/US5573445A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-08-23 JP JP7237751A patent/JPH0876386A/ja not_active Withdrawn
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5573445A (en) | 1996-11-12 |
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