JPH0876277A - 可変マスク機構のマスク位置決め方法 - Google Patents
可変マスク機構のマスク位置決め方法Info
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- JPH0876277A JPH0876277A JP6212644A JP21264494A JPH0876277A JP H0876277 A JPH0876277 A JP H0876277A JP 6212644 A JP6212644 A JP 6212644A JP 21264494 A JP21264494 A JP 21264494A JP H0876277 A JPH0876277 A JP H0876277A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/62—Holders for the original
- G03B27/6271—Holders for the original in enlargers
- G03B27/6285—Handling strips
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 可変マスク機構の製造コストを低減しつつ、
ネガフィルム上の画像コマサイズの変更に対応して簡易
に開口量を変更する。 【構成】 ネガキャリアに開口部による開口量を調節す
るマスク片122、124が配置される。モータ130
が回転すると、マスク片122、124が開閉動する。
コントローラがモータ130の回転を制御して、マスク
片122、124を、ネガフィルム上の画像の濃度を測
定可能な範囲に位置合わせした状態で、濃度を測定す
る。この後、このマスク片122、124を移動して、
画像焼付位置上に位置する印画紙に焼付露光可能な範囲
に位置合わせする。これにより、開口部の開口量をマス
ク片122、124が実質的に変え、印画紙にネガフィ
ルム上の画像が焼付露光される。
ネガフィルム上の画像コマサイズの変更に対応して簡易
に開口量を変更する。 【構成】 ネガキャリアに開口部による開口量を調節す
るマスク片122、124が配置される。モータ130
が回転すると、マスク片122、124が開閉動する。
コントローラがモータ130の回転を制御して、マスク
片122、124を、ネガフィルム上の画像の濃度を測
定可能な範囲に位置合わせした状態で、濃度を測定す
る。この後、このマスク片122、124を移動して、
画像焼付位置上に位置する印画紙に焼付露光可能な範囲
に位置合わせする。これにより、開口部の開口量をマス
ク片122、124が実質的に変え、印画紙にネガフィ
ルム上の画像が焼付露光される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ネガフィルム上の画像
を感光材料に焼付露光する際に露光光線を通過させる開
口部の開口量を調整する可変マスク機構のマスク位置決
め方法に関し、例えば、写真プリンタあるいは写真プリ
ンタとプロセッサとを組み合わせたプリンタプロセッサ
等に採用される。
を感光材料に焼付露光する際に露光光線を通過させる開
口部の開口量を調整する可変マスク機構のマスク位置決
め方法に関し、例えば、写真プリンタあるいは写真プリ
ンタとプロセッサとを組み合わせたプリンタプロセッサ
等に採用される。
【0002】
【従来の技術】プリンタプロセッサは所謂ミニラボと称
されDPE店等に設置されている。このプリンタプロセ
ッサは、ネガフィルムに記録された画像を印画紙へ焼付
露光するプリンタ部と、焼付露光処理された印画紙を現
像処理するプロセッサ部とが一体となっており、長尺状
の印画紙をプリンタプロセッサにセットするのみで、自
動的にプリンタ部及びプロセッサ部内を搬送し処理でき
る。このプリンタプロセッサのプリンタ部では、ネガフ
ィルムの画像を選択された所定の大きさに拡大して印画
紙に焼付けるようになっており、画像が焼付けられた印
画紙が順次プロセッサ部へ搬送されて現像され、写真プ
リントとして仕上げられる。
されDPE店等に設置されている。このプリンタプロセ
ッサは、ネガフィルムに記録された画像を印画紙へ焼付
露光するプリンタ部と、焼付露光処理された印画紙を現
像処理するプロセッサ部とが一体となっており、長尺状
の印画紙をプリンタプロセッサにセットするのみで、自
動的にプリンタ部及びプロセッサ部内を搬送し処理でき
る。このプリンタプロセッサのプリンタ部では、ネガフ
ィルムの画像を選択された所定の大きさに拡大して印画
紙に焼付けるようになっており、画像が焼付けられた印
画紙が順次プロセッサ部へ搬送されて現像され、写真プ
リントとして仕上げられる。
【0003】ところで、横方向の長さを普通サイズであ
るフルサイズの写真プリントの2倍としているパノラマ
サイズの写真プリントが、フルサイズの他に普及してい
るが、さらに近年、画像コマサイズが増加する傾向にあ
る。
るフルサイズの写真プリントの2倍としているパノラマ
サイズの写真プリントが、フルサイズの他に普及してい
るが、さらに近年、画像コマサイズが増加する傾向にあ
る。
【0004】また、1本のネガフィルムの撮影途中にお
いて、フルサイズ用の画像コマであるフルサイズコマと
パノラマサイズ用の画像コマであるパノラマサイズコマ
等との間でアスペクト比を自由に切替えできるようにし
たコマサイズ切換えカメラが市販されている。このコマ
サイズ切換えカメラを使用すると、フルサイズコマ及
び、パノラマサイズコマ等のフルサイズコマとはアスペ
クト比の異なる画面サイズのコマが1本のネガフィルム
に、混在することになる。
いて、フルサイズ用の画像コマであるフルサイズコマと
パノラマサイズ用の画像コマであるパノラマサイズコマ
等との間でアスペクト比を自由に切替えできるようにし
たコマサイズ切換えカメラが市販されている。このコマ
サイズ切換えカメラを使用すると、フルサイズコマ及
び、パノラマサイズコマ等のフルサイズコマとはアスペ
クト比の異なる画面サイズのコマが1本のネガフィルム
に、混在することになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、複数種類の画
像コマサイズが1本のネガフィルム内に混在するように
なった結果、ネガフィルムを位置決めするネガキャリア
上にネガフィルムを固定する為のネガマスクが、画像コ
マサイズに対応して多種必要となると共に、煩雑なネガ
マスクの交換作業が頻繁に必要となるという欠点が、近
年特に目立つようになった。この為、ネガマスクを交換
しなくともマスクサイズを変更できる可変マスク機構の
採用が望まれるようになった。
像コマサイズが1本のネガフィルム内に混在するように
なった結果、ネガフィルムを位置決めするネガキャリア
上にネガフィルムを固定する為のネガマスクが、画像コ
マサイズに対応して多種必要となると共に、煩雑なネガ
マスクの交換作業が頻繁に必要となるという欠点が、近
年特に目立つようになった。この為、ネガマスクを交換
しなくともマスクサイズを変更できる可変マスク機構の
採用が望まれるようになった。
【0006】そして、このような可変マスク機構を採用
した場合においても、ネガフィルム上の画像を印画紙に
焼き付ける際に、予めネガフィルムの濃度を測定する必
要がある。この為、ネガフィルム側から送られた光線を
プリズム等によって反射させて濃度測定器側に送り、こ
の濃度測定器で測定していた。
した場合においても、ネガフィルム上の画像を印画紙に
焼き付ける際に、予めネガフィルムの濃度を測定する必
要がある。この為、ネガフィルム側から送られた光線を
プリズム等によって反射させて濃度測定器側に送り、こ
の濃度測定器で測定していた。
【0007】以上より、濃度測定器で測定する測光時
と、印画紙に画像を焼付露光する露光時とで、光路長が
異なり、これに伴って、本来必要とされるマスクの開度
が変化していた。しかし、従来は、測光時と露光時との
間でマスクの開度を変えずに双方の条件を満たし得る同
一の位置にマスクが位置していたので、必要以上に高精
度なマスクの位置決めが必要となり、結果として、可変
マスク機構の製造コストが上昇していた。
と、印画紙に画像を焼付露光する露光時とで、光路長が
異なり、これに伴って、本来必要とされるマスクの開度
が変化していた。しかし、従来は、測光時と露光時との
間でマスクの開度を変えずに双方の条件を満たし得る同
一の位置にマスクが位置していたので、必要以上に高精
度なマスクの位置決めが必要となり、結果として、可変
マスク機構の製造コストが上昇していた。
【0008】本発明は上記事実を考慮し、可変マスク機
構の製造コストを低減しつつ、ネガフィルム上の画像コ
マサイズの変更に対応して簡易に開口量を変更し得る可
変マスク機構のマスク位置決め方法を得ることを目的と
する。
構の製造コストを低減しつつ、ネガフィルム上の画像コ
マサイズの変更に対応して簡易に開口量を変更し得る可
変マスク機構のマスク位置決め方法を得ることを目的と
する。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1による可変マス
ク機構のマスク位置決め方法は、ネガフィルム上の画像
を感光材料に焼付露光する際に、感光材料を焼付露光す
る光線を部分的に遮るマスクを移動して、この光線が通
過する開口部の開口量を変更し得る可変マスク機構を用
いた可変マスク機構のマスク位置決め方法であって、前
記マスクをネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な範
囲に位置合わせした状態で、濃度測定器により画像の濃
度を測定した後、前記マスクをネガフィルム上の画像を
焼付露光可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変
え、前記濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置さ
れた感光材料を焼付露光する、ことを特徴とする。
ク機構のマスク位置決め方法は、ネガフィルム上の画像
を感光材料に焼付露光する際に、感光材料を焼付露光す
る光線を部分的に遮るマスクを移動して、この光線が通
過する開口部の開口量を変更し得る可変マスク機構を用
いた可変マスク機構のマスク位置決め方法であって、前
記マスクをネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な範
囲に位置合わせした状態で、濃度測定器により画像の濃
度を測定した後、前記マスクをネガフィルム上の画像を
焼付露光可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変
え、前記濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置さ
れた感光材料を焼付露光する、ことを特徴とする。
【0010】請求項2による可変マスク機構のマスク位
置決め方法は、ネガフィルム上の画像を感光材料に焼付
露光する際に、感光材料を焼付露光する光線を部分的に
遮るマスクを移動して、この光線が通過する開口部の開
口量を変更し得る可変マスク機構を用いた可変マスク機
構のマスク位置決め方法であって、前記マスクをネガフ
ィルム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせし
た状態で、濃度測定器により画像の濃度を測定した後、
一旦、原点として設定された位置に前記マスクを移動
し、この後、前記マスクをネガフィルム上の画像を焼付
露光可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変え、
前記濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置された
感光材料を焼付露光する、ことを特徴とする。
置決め方法は、ネガフィルム上の画像を感光材料に焼付
露光する際に、感光材料を焼付露光する光線を部分的に
遮るマスクを移動して、この光線が通過する開口部の開
口量を変更し得る可変マスク機構を用いた可変マスク機
構のマスク位置決め方法であって、前記マスクをネガフ
ィルム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせし
た状態で、濃度測定器により画像の濃度を測定した後、
一旦、原点として設定された位置に前記マスクを移動
し、この後、前記マスクをネガフィルム上の画像を焼付
露光可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変え、
前記濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置された
感光材料を焼付露光する、ことを特徴とする。
【0011】
【作用】請求項1に係る可変マスク機構のマスク位置決
め方法の作用を以下に説明する。
め方法の作用を以下に説明する。
【0012】光線を部分的に遮るマスクを、ネガフィル
ム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせした状
態で、濃度測定器により画像の濃度を測定した後、この
マスクを移動して、感光材料に焼付露光可能な範囲に位
置合わせする。これにより、開口部の開口量を実質的に
変えて、濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置さ
れた感光材料に、ネガフィルム上の画像が焼付露光され
る。
ム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせした状
態で、濃度測定器により画像の濃度を測定した後、この
マスクを移動して、感光材料に焼付露光可能な範囲に位
置合わせする。これにより、開口部の開口量を実質的に
変えて、濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置さ
れた感光材料に、ネガフィルム上の画像が焼付露光され
る。
【0013】従って、測光時と露光時とでマスクの位置
が変わるので、測光時及び露光時それぞれにおける許容
範囲内でマスクを停止すればよくなる。この為、測光時
と露光時との間でマスクの開度を変えない場合と比較し
て、測光時及び露光時におけるマスクの位置の許容範囲
が大きくなり、高精度な位置精度がマスクに要求され
ず、マスク停止精度を十分確保できる。そして、この結
果として、必要以上に高精度なマスクの位置決めが必要
とならず、可変マスク機構の製造コストが低減される。
が変わるので、測光時及び露光時それぞれにおける許容
範囲内でマスクを停止すればよくなる。この為、測光時
と露光時との間でマスクの開度を変えない場合と比較し
て、測光時及び露光時におけるマスクの位置の許容範囲
が大きくなり、高精度な位置精度がマスクに要求され
ず、マスク停止精度を十分確保できる。そして、この結
果として、必要以上に高精度なマスクの位置決めが必要
とならず、可変マスク機構の製造コストが低減される。
【0014】請求項2に係る可変マスク機構のマスク位
置決め方法の作用を以下に説明する。
置決め方法の作用を以下に説明する。
【0015】本請求項によれば、請求項と同様な作用を
奏するが、濃度の測定と焼付露光との間に、原点として
設定された位置にマスクを移動する動作を入れた為、可
変マスク機構によるバックラッシュ等があっても、濃度
の測定及び焼付露光の際などにおけるマスク位置の精度
をより容易に確保できる。
奏するが、濃度の測定と焼付露光との間に、原点として
設定された位置にマスクを移動する動作を入れた為、可
変マスク機構によるバックラッシュ等があっても、濃度
の測定及び焼付露光の際などにおけるマスク位置の精度
をより容易に確保できる。
【0016】
【実施例】本発明に係る可変マスク機構のマスク位置決
め方法の一実施例が実行されるプリンタプロセッサを図
1から図12に示し、これらの図に基づき本実施例を説
明する。
め方法の一実施例が実行されるプリンタプロセッサを図
1から図12に示し、これらの図に基づき本実施例を説
明する。
【0017】図1には本発明の一実施例に係るプリンタ
プロセッサ10の概略が示されており、このプリンタプ
ロセッサ10のプリンタ部を構成する写真焼付部12
は、印画紙Pが収納されたペーパマガジン14を装填で
きるような構造となっている。
プロセッサ10の概略が示されており、このプリンタプ
ロセッサ10のプリンタ部を構成する写真焼付部12
は、印画紙Pが収納されたペーパマガジン14を装填で
きるような構造となっている。
【0018】このペーパマガジン14の図1上、左上側
には、印画紙Pの先端部付近が巻き掛けられる駆動ロー
ラ16が回転自在に支持されており、写真焼付部12内
の図示しないモータの駆動力をこの駆動ローラ16が受
けて回転する。また、駆動ローラ16に対向した位置に
は、印画紙Pを介して一対のニップローラ18が配置さ
れている。この為、駆動ローラ16がこれらニップロー
ラ18との間で印画紙Pを挟持して、印画紙Pを写真焼
付部12内へ送り出すことになる。
には、印画紙Pの先端部付近が巻き掛けられる駆動ロー
ラ16が回転自在に支持されており、写真焼付部12内
の図示しないモータの駆動力をこの駆動ローラ16が受
けて回転する。また、駆動ローラ16に対向した位置に
は、印画紙Pを介して一対のニップローラ18が配置さ
れている。この為、駆動ローラ16がこれらニップロー
ラ18との間で印画紙Pを挟持して、印画紙Pを写真焼
付部12内へ送り出すことになる。
【0019】他方、写真焼付部12内には、上下一対の
刃からなると共にモータ20によりこの刃が移動される
カッタ22が設置されており、ペーパマガジン14から
出て来た印画紙Pをこのカッタ22が即座に切断するこ
とになる。
刃からなると共にモータ20によりこの刃が移動される
カッタ22が設置されており、ペーパマガジン14から
出て来た印画紙Pをこのカッタ22が即座に切断するこ
とになる。
【0020】図1上、カッタ22に対して右側である印
画紙Pの搬送方向下流側には、上面が水平方向(図1
上、左右方向)に沿うように形成された支持台46が配
置されている。この支持台46とカッタ22との間に
は、無端ベルト44が巻き掛けられる巻掛ローラ52が
水平方向(図1上、紙面に対して直交する方向)に配置
されている。また、この巻掛ローラ52の上側には、巻
掛ローラ52との間で無端ベルト44を挟持するニップ
ローラ54が配置されている。
画紙Pの搬送方向下流側には、上面が水平方向(図1
上、左右方向)に沿うように形成された支持台46が配
置されている。この支持台46とカッタ22との間に
は、無端ベルト44が巻き掛けられる巻掛ローラ52が
水平方向(図1上、紙面に対して直交する方向)に配置
されている。また、この巻掛ローラ52の上側には、巻
掛ローラ52との間で無端ベルト44を挟持するニップ
ローラ54が配置されている。
【0021】この支持台46に対して印画紙Pの搬送方
向下流側には、無端ベルト44が巻き掛けられる案内ロ
ーラ56が位置している。この案内ローラ56に隣接し
た位置には、下面側が巻掛ローラ52上面側とほぼ同一
の高さとなるような押さえローラ58が配置されてお
り、この押さえローラ58が無端ベルト44の外周を押
圧している。
向下流側には、無端ベルト44が巻き掛けられる案内ロ
ーラ56が位置している。この案内ローラ56に隣接し
た位置には、下面側が巻掛ローラ52上面側とほぼ同一
の高さとなるような押さえローラ58が配置されてお
り、この押さえローラ58が無端ベルト44の外周を押
圧している。
【0022】すなわち、図1に示すように、この部分の
無端ベルト44をS字状としている。さらに、無端ベル
ト44は、案内ローラ56の下側でテンションローラ6
2へ巻き掛けられて、逆三角形の移動軌跡が形成されて
いる。そして、案内ローラ56は、図示しないモータの
駆動力によって駆動回転され、無端ベルト44を図1
上、時計回転方向に回転させる。
無端ベルト44をS字状としている。さらに、無端ベル
ト44は、案内ローラ56の下側でテンションローラ6
2へ巻き掛けられて、逆三角形の移動軌跡が形成されて
いる。そして、案内ローラ56は、図示しないモータの
駆動力によって駆動回転され、無端ベルト44を図1
上、時計回転方向に回転させる。
【0023】一方、無端ベルト44にはその全域に亘っ
て多数の小孔(図示せず)が形成されており、この無端
ベルト44の一部が載置される支持台46の上面には、
無端ベルト44の小孔に対応して多数の孔部(図示せ
ず)が形成されている。さらに、この支持台46の内部
は空洞状に形成されており、無端ベルト44の幅方向両
端に対応して形成された一対の連通ダクト66(図上、
一方のみ示す)がこの支持台46に接続されている。こ
れらの連通ダクト66は、支持台46の下側を通過する
無端ベルト44の部分を迂回して無端ベルト44の下方
へと至り、吸引ファン68が設けられたファンボックス
70へと接続されている。
て多数の小孔(図示せず)が形成されており、この無端
ベルト44の一部が載置される支持台46の上面には、
無端ベルト44の小孔に対応して多数の孔部(図示せ
ず)が形成されている。さらに、この支持台46の内部
は空洞状に形成されており、無端ベルト44の幅方向両
端に対応して形成された一対の連通ダクト66(図上、
一方のみ示す)がこの支持台46に接続されている。こ
れらの連通ダクト66は、支持台46の下側を通過する
無端ベルト44の部分を迂回して無端ベルト44の下方
へと至り、吸引ファン68が設けられたファンボックス
70へと接続されている。
【0024】他方、図1に示される如く、支持台46上
を移動する無端ベルト44の上部には、イーゼル装置6
4が設けられており、縁有画像を印画紙P上に焼き付け
る場合に、このイーゼル装置64内の図示しない可動片
で印画紙Pの周囲を覆うようになっている。
を移動する無端ベルト44の上部には、イーゼル装置6
4が設けられており、縁有画像を印画紙P上に焼き付け
る場合に、このイーゼル装置64内の図示しない可動片
で印画紙Pの周囲を覆うようになっている。
【0025】また、プリンタプロセッサ10の外枠を構
成するケーシング10A外であってイーゼル装置64の
直上の位置には、光を拡散する拡散ボックス28が配置
されており、その右隣に、それぞれ光路への挿入フィル
タ量を変え得るよう移動可能なC、M、Yの3組のフィ
ルタから構成されるCCフィルタ24が配置されてい
る。従って、このCCフィルタ24に隣合って位置する
光源26から照射された光線がCCフィルタ24を通過
した後、拡散ボックス28により拡散されつつ屈曲され
て、直下に送られることになる。そして、このケーシン
グ10Aの上面に載置されているネガキャリア30上の
ネガフィルムNをこの光線が透過する。
成するケーシング10A外であってイーゼル装置64の
直上の位置には、光を拡散する拡散ボックス28が配置
されており、その右隣に、それぞれ光路への挿入フィル
タ量を変え得るよう移動可能なC、M、Yの3組のフィ
ルタから構成されるCCフィルタ24が配置されてい
る。従って、このCCフィルタ24に隣合って位置する
光源26から照射された光線がCCフィルタ24を通過
した後、拡散ボックス28により拡散されつつ屈曲され
て、直下に送られることになる。そして、このケーシン
グ10Aの上面に載置されているネガキャリア30上の
ネガフィルムNをこの光線が透過する。
【0026】さらに、写真焼付部12内に設置されたガ
イドレール32に、支持板34が水平方向(図1上、紙
面に対して直交する方向)に移動可能に支持されてお
り、前記光線の光軸線S上にそれぞれ配置されるように
プリズム36及びズームレンズ38がこの支持板34に
取り付けられている。
イドレール32に、支持板34が水平方向(図1上、紙
面に対して直交する方向)に移動可能に支持されてお
り、前記光線の光軸線S上にそれぞれ配置されるように
プリズム36及びズームレンズ38がこの支持板34に
取り付けられている。
【0027】従って、ネガフィルムNを透過して露光光
線となった光線は、プリズム36を通過した後、さらに
拡大倍率を変更可能なズームレンズ38を通過してイー
ゼル装置64の下に位置する印画紙P上に、ネガフィル
ムNの画像を結像させる。
線となった光線は、プリズム36を通過した後、さらに
拡大倍率を変更可能なズームレンズ38を通過してイー
ゼル装置64の下に位置する印画紙P上に、ネガフィル
ムNの画像を結像させる。
【0028】また、写真焼付部12内には、ネガフィル
ムNの濃度を測定する例えば色フィルタとCCD等の光
センサにより構成される濃度測定器40が配置されてお
り、プリズム36により水平方向に屈曲された光線がこ
の濃度測定器40に送られるようになっている。この濃
度測定器40は、図示しないコントローラに接続されて
おり、濃度測定器40によって測定されたデータ及び、
作業者によりキー入力されたデータに基づいて、焼付露
光時の露光補正値が設定される。
ムNの濃度を測定する例えば色フィルタとCCD等の光
センサにより構成される濃度測定器40が配置されてお
り、プリズム36により水平方向に屈曲された光線がこ
の濃度測定器40に送られるようになっている。この濃
度測定器40は、図示しないコントローラに接続されて
おり、濃度測定器40によって測定されたデータ及び、
作業者によりキー入力されたデータに基づいて、焼付露
光時の露光補正値が設定される。
【0029】さらに、ズームレンズ38とイーゼル装置
64の間の光路には、CCフィルタ24で色と強度が調
光されネガフィルムNを透過した光を、所定時間の間焼
付露光するブラックシャッタ41が設けられている。
64の間の光路には、CCフィルタ24で色と強度が調
光されネガフィルムNを透過した光を、所定時間の間焼
付露光するブラックシャッタ41が設けられている。
【0030】以上のような構造に写真焼付部12がなっ
ている為、ペーパマガジン14から送り出された印画紙
Pは、カッタ22で所望長さに切断された後に、無端ベ
ルト44に乗せられて露光光線の光軸線S上の位置であ
る画像焼付位置へと搬送される。そして、光源26側か
らの露光光線がプリズム36及びズームレンズ38等を
介して印画紙Pに到達し、ブラックシャッタ41が所定
時間開くことにより、ネガフィルムNに記録された画像
が印画紙P上に焼き付けられ、この画像が焼き付けられ
た部分が画像部分となる。
ている為、ペーパマガジン14から送り出された印画紙
Pは、カッタ22で所望長さに切断された後に、無端ベ
ルト44に乗せられて露光光線の光軸線S上の位置であ
る画像焼付位置へと搬送される。そして、光源26側か
らの露光光線がプリズム36及びズームレンズ38等を
介して印画紙Pに到達し、ブラックシャッタ41が所定
時間開くことにより、ネガフィルムNに記録された画像
が印画紙P上に焼き付けられ、この画像が焼き付けられ
た部分が画像部分となる。
【0031】この際、支持台46内の空気は、連通ダク
ト66を介して無端ベルト44のループ内から幅方向両
端へ抜け出し、吸引ファン68で吸引されて外部へ吹き
出されるので、支持台46内が負圧となる。この負圧は
支持台46の孔部、無端ベルト44の小孔を介して無端
ベルト44上の印画紙Pへと伝達され、印画紙Pが矢印
Aで示すように、無端ベルト44へ吸引される。この
為、印画紙Pが単に無端ベルト44に乗せられるだけで
なく、無端ベルト44側に吸引されるので、印画紙P
が、確実に無端ベルト44により搬送されると共に、画
像焼付位置上で水平状態に配置されることになる。
ト66を介して無端ベルト44のループ内から幅方向両
端へ抜け出し、吸引ファン68で吸引されて外部へ吹き
出されるので、支持台46内が負圧となる。この負圧は
支持台46の孔部、無端ベルト44の小孔を介して無端
ベルト44上の印画紙Pへと伝達され、印画紙Pが矢印
Aで示すように、無端ベルト44へ吸引される。この
為、印画紙Pが単に無端ベルト44に乗せられるだけで
なく、無端ベルト44側に吸引されるので、印画紙P
が、確実に無端ベルト44により搬送されると共に、画
像焼付位置上で水平状態に配置されることになる。
【0032】さらに、画像の焼付けが終了した印画紙P
は、案内ローラ56と押さえローラ58との間に挟持さ
れて、その搬送方向が水平方向から垂直方向へと変更さ
れて垂直方向に送り出される。この後、印画紙Pの搬送
経路を表す経路Kで示されように、印画紙Pは、複数対
のローラによって構成される搬送路60を介して、現
像、漂白定着、水洗及び乾燥の各処理を行うプロセッサ
部72へ搬送される。
は、案内ローラ56と押さえローラ58との間に挟持さ
れて、その搬送方向が水平方向から垂直方向へと変更さ
れて垂直方向に送り出される。この後、印画紙Pの搬送
経路を表す経路Kで示されように、印画紙Pは、複数対
のローラによって構成される搬送路60を介して、現
像、漂白定着、水洗及び乾燥の各処理を行うプロセッサ
部72へ搬送される。
【0033】以上でネガフィルムNの画像1コマ分の焼
付露光処理が終了する。これを繰り返すことにより、焼
付露光処理された印画紙Pが1枚づつ順次プロセッサ部
72に搬送される。
付露光処理が終了する。これを繰り返すことにより、焼
付露光処理された印画紙Pが1枚づつ順次プロセッサ部
72に搬送される。
【0034】このプロセッサ部72の内の現像槽74に
は現像液が溜められていて、印画紙Pをこの現像液に浸
して現像処理を行う。現像処理された印画紙Pは現像槽
74と隣接する漂白定着槽76へ搬送される。漂白定着
槽76には漂白定着液が溜められていて、印画紙Pをこ
の漂白定着液に浸して漂白処理及び定着処理を行う。定
着処理された印画紙Pは、漂白定着槽76に隣接すると
共にそれぞれ水洗水が溜められた複数の水洗槽からなる
水洗部78へ搬送され、印画紙Pを水洗槽内の水洗水に
浸して水洗処理を行う。尚、これら現像槽74、漂白定
着槽76及び水洗槽は、プロセッサ部72内に設置され
た複数の補充タンク90よりそれぞれ現像補充液、漂白
定着補充液及び水洗補充水が送られて、液が補充され
る。
は現像液が溜められていて、印画紙Pをこの現像液に浸
して現像処理を行う。現像処理された印画紙Pは現像槽
74と隣接する漂白定着槽76へ搬送される。漂白定着
槽76には漂白定着液が溜められていて、印画紙Pをこ
の漂白定着液に浸して漂白処理及び定着処理を行う。定
着処理された印画紙Pは、漂白定着槽76に隣接すると
共にそれぞれ水洗水が溜められた複数の水洗槽からなる
水洗部78へ搬送され、印画紙Pを水洗槽内の水洗水に
浸して水洗処理を行う。尚、これら現像槽74、漂白定
着槽76及び水洗槽は、プロセッサ部72内に設置され
た複数の補充タンク90よりそれぞれ現像補充液、漂白
定着補充液及び水洗補充水が送られて、液が補充され
る。
【0035】水洗処理された印画紙Pは水洗部78の上
部に位置する乾燥部80へ搬送される。乾燥部80は、
印画紙Pの搬送経路の下側に配置されたチャンバ82側
より矢印B方向に沿って送風される熱風に印画紙Pをさ
らして、印画紙Pを乾燥させる。
部に位置する乾燥部80へ搬送される。乾燥部80は、
印画紙Pの搬送経路の下側に配置されたチャンバ82側
より矢印B方向に沿って送風される熱風に印画紙Pをさ
らして、印画紙Pを乾燥させる。
【0036】乾燥部80に対して印画紙Pの搬送方向下
流側には複数対のローラによって構成される搬送路84
が配設されており、乾燥処理が終了して乾燥部80から
排出された印画紙Pは、これら複数対のローラにそれぞ
れ挟持されてプリンタプロセッサ10の外部へ排出さ
れ、積み重ねられる。
流側には複数対のローラによって構成される搬送路84
が配設されており、乾燥処理が終了して乾燥部80から
排出された印画紙Pは、これら複数対のローラにそれぞ
れ挟持されてプリンタプロセッサ10の外部へ排出さ
れ、積み重ねられる。
【0037】尚、現像、漂白定着、水洗等の各処理がな
された印画紙Pが、現像液の劣化を試験する為の特殊な
印画紙であれば、搬送路84の上部に設置された濃度計
92に送られて、濃度計92により印画紙Pの濃度が計
測されることになる。
された印画紙Pが、現像液の劣化を試験する為の特殊な
印画紙であれば、搬送路84の上部に設置された濃度計
92に送られて、濃度計92により印画紙Pの濃度が計
測されることになる。
【0038】また、焼付露光に際して、写真焼付部12
内のズームレンズ38では対応できない特殊な拡大倍率
を必要とする場合には、支持板34を水平方向(図1
上、紙面に対して直交する方向)に移動して、光軸線S
上からプリズム36及びズームレンズ38を外すことに
する。そして、図示しないレンズを光軸線S上に設置す
ると共に、写真焼付部12内に設置されている測光ミラ
ー42を光軸線S上に移動する。
内のズームレンズ38では対応できない特殊な拡大倍率
を必要とする場合には、支持板34を水平方向(図1
上、紙面に対して直交する方向)に移動して、光軸線S
上からプリズム36及びズームレンズ38を外すことに
する。そして、図示しないレンズを光軸線S上に設置す
ると共に、写真焼付部12内に設置されている測光ミラ
ー42を光軸線S上に移動する。
【0039】次に、本実施例のネガキャリア30に搭載
された可変マスク機構を説明する。図2に示すように、
ケーシング10A上のネガキャリア30には、開閉可能
なカバー112が取り付けられている。このカバー11
2を図3に示すように開放すると、溝状に形成されてネ
ガフィルムNを通過させるネガフィルム通過部30Aが
現れる。また、カバー112の下部には、ネガキャリア
30に回動可能に取り付けられるホルダ114に矢印C
方向に沿って挿入されて装着される圧着板(アッパーネ
ガマスクともいう)116と、ネガフィルム通過部30
A上に設置されるマスク(アンダーネガマスクともい
う)118とが位置している。そして、このマスク11
8及び圧着板116には、それぞれネガフィルムNの最
大の画面サイズであるフルサイズの画像コマN1(図1
2に示す)より若干大きな面積の窓部119A及び窓部
119Bが形成されている。
された可変マスク機構を説明する。図2に示すように、
ケーシング10A上のネガキャリア30には、開閉可能
なカバー112が取り付けられている。このカバー11
2を図3に示すように開放すると、溝状に形成されてネ
ガフィルムNを通過させるネガフィルム通過部30Aが
現れる。また、カバー112の下部には、ネガキャリア
30に回動可能に取り付けられるホルダ114に矢印C
方向に沿って挿入されて装着される圧着板(アッパーネ
ガマスクともいう)116と、ネガフィルム通過部30
A上に設置されるマスク(アンダーネガマスクともい
う)118とが位置している。そして、このマスク11
8及び圧着板116には、それぞれネガフィルムNの最
大の画面サイズであるフルサイズの画像コマN1(図1
2に示す)より若干大きな面積の窓部119A及び窓部
119Bが形成されている。
【0040】このマスク118が装着されるネガキャリ
ア30の位置には、マスク118及び圧着板116の窓
部119A、119Bより大きい矩形状をした開口部3
0Bが形成されている。従って、矢印D方向にホルダ1
14を回動して、圧着板116をマスク118に当接し
た状態とすると、光源26側から照射された光線が、マ
スク118の窓部119Aと圧着板116の窓部119
Bとの間に位置したネガフィルムNを、通過し得るよう
になっている。
ア30の位置には、マスク118及び圧着板116の窓
部119A、119Bより大きい矩形状をした開口部3
0Bが形成されている。従って、矢印D方向にホルダ1
14を回動して、圧着板116をマスク118に当接し
た状態とすると、光源26側から照射された光線が、マ
スク118の窓部119Aと圧着板116の窓部119
Bとの間に位置したネガフィルムNを、通過し得るよう
になっている。
【0041】また、図4に示すように、ネガキャリア3
0には、中央に光源26側からの光を妨げないように開
口部30Bより大きな矩形状の窓部121を有した支持
台120が、図示しないボルトによりねじ止められてい
る。この支持台120上には、図6に示すように、窓部
121を挟んで第1のスライド材126及び第2のスラ
イド材128がそれぞれ配置されている。
0には、中央に光源26側からの光を妨げないように開
口部30Bより大きな矩形状の窓部121を有した支持
台120が、図示しないボルトによりねじ止められてい
る。この支持台120上には、図6に示すように、窓部
121を挟んで第1のスライド材126及び第2のスラ
イド材128がそれぞれ配置されている。
【0042】さらに、図5及び図6に示すように、細長
い板材により形成されたマスク片122の基端側をボル
ト123でその先端側にねじ止めたこの第1のスライド
材126は、第1のスライド材126の長手方向に沿っ
てそれぞれ長く形成された一対の長孔126Aを有して
いて、支持台120に植設された一対のピン120Aが
これら一対の長孔126Aを貫通している。この為、第
1のスライド材126及びマスク片122は、第1のス
ライド材126の長手方向に沿って往復動可能とされて
いる。
い板材により形成されたマスク片122の基端側をボル
ト123でその先端側にねじ止めたこの第1のスライド
材126は、第1のスライド材126の長手方向に沿っ
てそれぞれ長く形成された一対の長孔126Aを有して
いて、支持台120に植設された一対のピン120Aが
これら一対の長孔126Aを貫通している。この為、第
1のスライド材126及びマスク片122は、第1のス
ライド材126の長手方向に沿って往復動可能とされて
いる。
【0043】他方、マスク片122と同じく細長い板材
により形成されたマスク片124の基端側をボルト12
5でこの中程にねじ止めた第2のスライド材128は、
第2のスライド材128の長手方向に沿ってそれぞれ長
く形成された一対の長孔128Aを有していて、支持台
120に植設された一対のピン120Bがこれら一対の
長孔128Aを貫通している。この為、第2のスライド
材128及びマスク片124は、第2のスライド材12
8の長手方向に沿って往復動可能とされている。
により形成されたマスク片124の基端側をボルト12
5でこの中程にねじ止めた第2のスライド材128は、
第2のスライド材128の長手方向に沿ってそれぞれ長
く形成された一対の長孔128Aを有していて、支持台
120に植設された一対のピン120Bがこれら一対の
長孔128Aを貫通している。この為、第2のスライド
材128及びマスク片124は、第2のスライド材12
8の長手方向に沿って往復動可能とされている。
【0044】そして、これらスライド材126、128
の基端側には、それぞれ相互に対向してラック126
B、128Bが形成されている。さらに、第1のスライ
ド材126にねじ止められたマスク片122は、第2の
スライド材128上にまで伸びていて、このマスク片1
22の先端側が第2のスライド材128に当接して案内
されている。また、第2のスライド材128にねじ止め
られたマスク片124は、第1のスライド材126上に
まで伸びていて、マスク片124の先端側が第1のスラ
イド材126に当接して案内されている。尚、これらマ
スク片122、124とネガフィルムNとの間は、図4
に示すように、マスク118を間に挟んでいるため、所
定量の隙間を有する。
の基端側には、それぞれ相互に対向してラック126
B、128Bが形成されている。さらに、第1のスライ
ド材126にねじ止められたマスク片122は、第2の
スライド材128上にまで伸びていて、このマスク片1
22の先端側が第2のスライド材128に当接して案内
されている。また、第2のスライド材128にねじ止め
られたマスク片124は、第1のスライド材126上に
まで伸びていて、マスク片124の先端側が第1のスラ
イド材126に当接して案内されている。尚、これらマ
スク片122、124とネガフィルムNとの間は、図4
に示すように、マスク118を間に挟んでいるため、所
定量の隙間を有する。
【0045】一方、この支持台120には、パルスモー
タであるモータ130がスペーサ134を介して一対の
ボルト136によりねじ止められて取付けられており、
このモータ130の回転軸130Aに駆動ギヤ132が
固着されている。
タであるモータ130がスペーサ134を介して一対の
ボルト136によりねじ止められて取付けられており、
このモータ130の回転軸130Aに駆動ギヤ132が
固着されている。
【0046】図5及び図6に示すように、この駆動ギヤ
132とそれぞれ噛み合う大歯車142A、144A及
び、小歯車142B、144Bからなる一対の第1従動
ギヤ142、144が、それぞれ回転可能に支持台12
0に支持されている。さらに、これら小歯車142B、
144Bとそれぞれ噛み合う大歯車146A、148A
及び、小歯車146B、148Bからなる一対の第2従
動ギヤ146、148が、それぞれ回転可能に支持台1
20に支持されている。
132とそれぞれ噛み合う大歯車142A、144A及
び、小歯車142B、144Bからなる一対の第1従動
ギヤ142、144が、それぞれ回転可能に支持台12
0に支持されている。さらに、これら小歯車142B、
144Bとそれぞれ噛み合う大歯車146A、148A
及び、小歯車146B、148Bからなる一対の第2従
動ギヤ146、148が、それぞれ回転可能に支持台1
20に支持されている。
【0047】これら第2従動ギヤ146、148の小歯
車146B、148Bは、それぞれ一対のスライド材1
26、128のラック126B、128Bに噛み合わさ
れている。
車146B、148Bは、それぞれ一対のスライド材1
26、128のラック126B、128Bに噛み合わさ
れている。
【0048】以上より、これらスライド材126、12
8は、従動ギヤ142、144、146、148で減速
されたモータ130の回転によって、それぞれの長手方
向に沿って相互に逆方向に往復動される。
8は、従動ギヤ142、144、146、148で減速
されたモータ130の回転によって、それぞれの長手方
向に沿って相互に逆方向に往復動される。
【0049】さらに、支持台120の一端には、先端側
が水平方向に屈曲された壁部120Cが垂直方向に伸び
るように形成されていて、この屈曲された先端側に、透
過型の光センサ152が配置されている。そして、第2
のスライド材128は、上方向に屈曲された被検出部1
28Cを有していて、この被検出部128Cが光センサ
152内を通過することで、第2のスライド材128の
位置を検出可能とされている。
が水平方向に屈曲された壁部120Cが垂直方向に伸び
るように形成されていて、この屈曲された先端側に、透
過型の光センサ152が配置されている。そして、第2
のスライド材128は、上方向に屈曲された被検出部1
28Cを有していて、この被検出部128Cが光センサ
152内を通過することで、第2のスライド材128の
位置を検出可能とされている。
【0050】従って、例えばこの被検出部128Cが光
センサ152内に入った後、モータ130が逆回転して
被検出部128Cにより光センサ152内の透過光が遮
られなくなった時に、スライド材126、128及びマ
スク片122、124等が存在する位置が、原点として
設定された位置となって、これら部材の位置が把握され
る。
センサ152内に入った後、モータ130が逆回転して
被検出部128Cにより光センサ152内の透過光が遮
られなくなった時に、スライド材126、128及びマ
スク片122、124等が存在する位置が、原点として
設定された位置となって、これら部材の位置が把握され
る。
【0051】また、モータ130は、図示しないマスク
調整用のキーの操作により駆動回転するように、コント
ーラに接続されている。従って、マスク調整用のキーが
操作されてモータ130が回転すると、これら第1従動
ギヤ142、144及び第2従動ギヤ146、148が
回転する。この結果、第2従動ギヤ146、148と噛
み合うラック126B、128Bを有した一対のスライ
ド材126、128が相互に逆方向に移動することで、
マスク片122、124が図7上、上下方向に沿って相
互に逆方向に移動して、このマスク片122、124が
開閉動することになる。
調整用のキーの操作により駆動回転するように、コント
ーラに接続されている。従って、マスク調整用のキーが
操作されてモータ130が回転すると、これら第1従動
ギヤ142、144及び第2従動ギヤ146、148が
回転する。この結果、第2従動ギヤ146、148と噛
み合うラック126B、128Bを有した一対のスライ
ド材126、128が相互に逆方向に移動することで、
マスク片122、124が図7上、上下方向に沿って相
互に逆方向に移動して、このマスク片122、124が
開閉動することになる。
【0052】一方、ネガキャリア30の下側に位置する
プリズム36が、ネガフィルムNを通過した露光光線を
プリズム36の図1及び図9上、左側に位置する濃度測
定器40側と、プリズム36の下側に位置するズームレ
ンズ38側とに分ける。この際、プリズム36と濃度測
定器40の入射側レンズ40A(図9及び図10で直線
状に示す)との間の距離と、プリズム36とズームレン
ズ38の入射側レンズ38A(図9及び図10で直線状
に示す)との間の距離とでは、一般に相互に異なる。
プリズム36が、ネガフィルムNを通過した露光光線を
プリズム36の図1及び図9上、左側に位置する濃度測
定器40側と、プリズム36の下側に位置するズームレ
ンズ38側とに分ける。この際、プリズム36と濃度測
定器40の入射側レンズ40A(図9及び図10で直線
状に示す)との間の距離と、プリズム36とズームレン
ズ38の入射側レンズ38A(図9及び図10で直線状
に示す)との間の距離とでは、一般に相互に異なる。
【0053】そして、フルサイズの画像コマN1を例と
して表す図9に示すように、ネガフィルムN上の画像を
有した画像コマN1も、実際に測光や露光される測光有
効エリアE1及び露光有効エリアE2は、画像コマN1
の全面積より若干小さく設定されており、また、画像コ
マN1の外側のネガフィルムNの部分である外周部N3
は、透明となっている。
して表す図9に示すように、ネガフィルムN上の画像を
有した画像コマN1も、実際に測光や露光される測光有
効エリアE1及び露光有効エリアE2は、画像コマN1
の全面積より若干小さく設定されており、また、画像コ
マN1の外側のネガフィルムNの部分である外周部N3
は、透明となっている。
【0054】この為、測光有効エリアE1及び露光有効
エリアE2内を通過した光源26側からの光線は、確実
に濃度測定器40及びズームレンズ38の入射側レンズ
40A、38Aに入るようにする必要がある。この一
方、ネガフィルムNの透明な外周部N3を通過した光源
26側からの光線が、これら濃度測定器40及びズーム
レンズ38の入射側レンズ40A、38Aに入らないよ
うにする必要がある。
エリアE2内を通過した光源26側からの光線は、確実
に濃度測定器40及びズームレンズ38の入射側レンズ
40A、38Aに入るようにする必要がある。この一
方、ネガフィルムNの透明な外周部N3を通過した光源
26側からの光線が、これら濃度測定器40及びズーム
レンズ38の入射側レンズ40A、38Aに入らないよ
うにする必要がある。
【0055】つまり、図9に示す如く、有効エリアE
1、E2内を通過した光線が確実に入射側レンズ40
A、38Aに入るように、測光時おいては位置より外
側に、一対のマスク片122、124の相互に対向する
部分である内端を位置させる必要があり、露光時おいて
は位置より外側に一対のマスク片122、124の内
端を位置させる必要がある。また、図10に示す如く、
外周部N3を通過した光線が入射側レンズ40A、38
Aに入らないように、測光時おいては位置より内側に
一対のマスク片122、124の内端を位置させる必要
があり、露光時おいては位置より内側に一対のマスク
片122、124の内端を位置させる必要がある。
1、E2内を通過した光線が確実に入射側レンズ40
A、38Aに入るように、測光時おいては位置より外
側に、一対のマスク片122、124の相互に対向する
部分である内端を位置させる必要があり、露光時おいて
は位置より外側に一対のマスク片122、124の内
端を位置させる必要がある。また、図10に示す如く、
外周部N3を通過した光線が入射側レンズ40A、38
Aに入らないように、測光時おいては位置より内側に
一対のマスク片122、124の内端を位置させる必要
があり、露光時おいては位置より内側に一対のマスク
片122、124の内端を位置させる必要がある。
【0056】以上より、図11に示すように、濃度測定
器40で光量を測定する測光時おいては、位置と位置
との間の範囲にマスク片122、124の内端が入る
ようにモータ130を回転してマスク片122、124
を移動する必要がある。また、印画紙Pに画像を焼付露
光する露光時おいては、位置と位置との間の範囲に
マスク片122、124の内端が入るようにモータ13
0を回転してマスク片122、124を移動する必要が
ある。
器40で光量を測定する測光時おいては、位置と位置
との間の範囲にマスク片122、124の内端が入る
ようにモータ130を回転してマスク片122、124
を移動する必要がある。また、印画紙Pに画像を焼付露
光する露光時おいては、位置と位置との間の範囲に
マスク片122、124の内端が入るようにモータ13
0を回転してマスク片122、124を移動する必要が
ある。
【0057】次に本実施例の測光時及び露光時における
動作を説明する。まず、ネガキャリア30上に送られた
ネガフィルムN上の画像コマが、フルサイズの画像コマ
N1であるかパノラマサイズの画像コマN2であるか
を、作業者が確認し、例えば画像コマN1であれば、図
示しないマスク調整用のキーの操作によりモータ130
を駆動回転し、画像コマN1に対応したモードとする。
動作を説明する。まず、ネガキャリア30上に送られた
ネガフィルムN上の画像コマが、フルサイズの画像コマ
N1であるかパノラマサイズの画像コマN2であるか
を、作業者が確認し、例えば画像コマN1であれば、図
示しないマスク調整用のキーの操作によりモータ130
を駆動回転し、画像コマN1に対応したモードとする。
【0058】そして、コントローラがモータ130を制
御して、光源26からの光線を部分的に遮るマスク片1
22、124を、ネガフィルムN上の画像の濃度を測定
可能な範囲である位置、間に位置合わせした状態
で、濃度測定器40によりこの画像コマN1の画像の濃
度を測定する。この後、このマスク片122、124を
移動して、画像焼付位置上に位置する印画紙Pに焼付露
光可能な範囲である位置、間に位置合わせする。こ
れにより、開口部30Aの開口量をマスク片122、1
24が実質的に変えて、濃度測定器40側への光路と異
なる光路である光軸線S上に配置された印画紙Pに、ネ
ガフィルムN上の画像が焼付露光される。
御して、光源26からの光線を部分的に遮るマスク片1
22、124を、ネガフィルムN上の画像の濃度を測定
可能な範囲である位置、間に位置合わせした状態
で、濃度測定器40によりこの画像コマN1の画像の濃
度を測定する。この後、このマスク片122、124を
移動して、画像焼付位置上に位置する印画紙Pに焼付露
光可能な範囲である位置、間に位置合わせする。こ
れにより、開口部30Aの開口量をマスク片122、1
24が実質的に変えて、濃度測定器40側への光路と異
なる光路である光軸線S上に配置された印画紙Pに、ネ
ガフィルムN上の画像が焼付露光される。
【0059】従って、測光時と露光時とでマスク片12
2、124の位置が変わるので、図11に示すように、
測光時おける許容範囲T1及び露光時における許容範囲
T2内で、マスク片122、124をそれぞれ停止すれ
ばよくなる。この為、測光時と露光時との間でマスク片
122、124の開度を変えない場合、これら許容範囲
T1、T2の重複範囲となる許容範囲T3内にマスク片
122、124を停止しなければならないのに対して、
測光時及び露光時におけるマスク片122、124の位
置の許容範囲T1、T2がそれぞれ大きくなり、高精度
な位置決め精度がマスク片122、124に要求され
ず、マスク片122、124の停止精度を十分確保でき
る。
2、124の位置が変わるので、図11に示すように、
測光時おける許容範囲T1及び露光時における許容範囲
T2内で、マスク片122、124をそれぞれ停止すれ
ばよくなる。この為、測光時と露光時との間でマスク片
122、124の開度を変えない場合、これら許容範囲
T1、T2の重複範囲となる許容範囲T3内にマスク片
122、124を停止しなければならないのに対して、
測光時及び露光時におけるマスク片122、124の位
置の許容範囲T1、T2がそれぞれ大きくなり、高精度
な位置決め精度がマスク片122、124に要求され
ず、マスク片122、124の停止精度を十分確保でき
る。
【0060】つまり、許容範囲T1を1.6mmとし、許
容範囲T2を1.4mmとして、これら許容範囲T1、T
2の重複範囲を0.7mmとすれば、この0.7mmが許容
範囲T3となる。従って、マスク片122、124の開
度を変えない場合、0.7mmしか許容される範囲が得ら
れないのに対して、本実施例によれば、測光時には1.
6mmの範囲で停止すればよく、露光時には1.4mmの範
囲で停止すればよいことになる。この結果、必要以上に
高精度なマスク片122、124の位置決めが必要とな
らず、可変マスク機構の製造コストが低減されることに
なる。
容範囲T2を1.4mmとして、これら許容範囲T1、T
2の重複範囲を0.7mmとすれば、この0.7mmが許容
範囲T3となる。従って、マスク片122、124の開
度を変えない場合、0.7mmしか許容される範囲が得ら
れないのに対して、本実施例によれば、測光時には1.
6mmの範囲で停止すればよく、露光時には1.4mmの範
囲で停止すればよいことになる。この結果、必要以上に
高精度なマスク片122、124の位置決めが必要とな
らず、可変マスク機構の製造コストが低減されることに
なる。
【0061】また、測光時と露光時との間に、一旦、原
点として設定された位置にマスク片122、124を移
動する動作を入れた後、焼付露光する方法が考えれる。
点として設定された位置にマスク片122、124を移
動する動作を入れた後、焼付露光する方法が考えれる。
【0062】この場合、可変マスク機構の駆動ギヤ13
2、従動ギヤ142、144、146、148及びラッ
ク126B、128Bの噛み合いに伴うバックラッシュ
等があっても、測光及び焼付露光の際におけるマスク片
122、124の停止位置の精度をより容易に確保でき
る。
2、従動ギヤ142、144、146、148及びラッ
ク126B、128Bの噛み合いに伴うバックラッシュ
等があっても、測光及び焼付露光の際におけるマスク片
122、124の停止位置の精度をより容易に確保でき
る。
【0063】一方、ネガフィルムNの画像コマサイズが
変更されると、これに伴って、ネガキャリア30上では
以下のように動作する。
変更されると、これに伴って、ネガキャリア30上では
以下のように動作する。
【0064】画像コマサイズが変わった場合、作業者が
マスク調整用のキーを操作することになる。そして、こ
のキーが操作されると、図6に示すモータ130が駆動
回転し、マスク片122、124が相互に逆方向に移動
する。そして、ネガキャリア30の開口部30Bの開口
量が調整された状態で、ネガフィルムN上の画像がプリ
ンタプロセッサ10内の画像焼付位置に位置する印画紙
Pに焼付露光される。
マスク調整用のキーを操作することになる。そして、こ
のキーが操作されると、図6に示すモータ130が駆動
回転し、マスク片122、124が相互に逆方向に移動
する。そして、ネガキャリア30の開口部30Bの開口
量が調整された状態で、ネガフィルムN上の画像がプリ
ンタプロセッサ10内の画像焼付位置に位置する印画紙
Pに焼付露光される。
【0065】例えば、図12に示すように、ネガフィル
ムN上の画像コマの種類が変わり、図7に示すようなフ
ルサイズの画像コマN1(26×36mm)に対応した開
口量W1(26mm)から、図8に示すようなパノラマサ
イズの画像コマN2(13×36mm)に対応した開口量
W2(13mm)に調整する場合は、マスク調整用のキー
を作業者が操作する。この結果、モータ130が駆動回
転してマスク片122、124が開閉動し、開口量W2
に調整される。
ムN上の画像コマの種類が変わり、図7に示すようなフ
ルサイズの画像コマN1(26×36mm)に対応した開
口量W1(26mm)から、図8に示すようなパノラマサ
イズの画像コマN2(13×36mm)に対応した開口量
W2(13mm)に調整する場合は、マスク調整用のキー
を作業者が操作する。この結果、モータ130が駆動回
転してマスク片122、124が開閉動し、開口量W2
に調整される。
【0066】従って、印画紙P上に、89×127mmの
フルサイズのプリントサイズから89×254mmのパノ
ラマサイズのプリントサイズに変更されて焼付露光され
ることになる。尚、この変更の際当然に、焼付露光の拡
大倍率が変更される。そして、このパノラマサイズの画
像コマN2の場合も、上記のフルサイズの画像コマN1
の場合と同様に、測光時と露光時との間でマスク片12
2、124の位置が変更される。
フルサイズのプリントサイズから89×254mmのパノ
ラマサイズのプリントサイズに変更されて焼付露光され
ることになる。尚、この変更の際当然に、焼付露光の拡
大倍率が変更される。そして、このパノラマサイズの画
像コマN2の場合も、上記のフルサイズの画像コマN1
の場合と同様に、測光時と露光時との間でマスク片12
2、124の位置が変更される。
【0067】また、上記実施例において、キー操作によ
り開口量を変更するようにしたが、例えばセンサにより
画像コマサイズを検出して、自動的にモータ130を駆
動回転することによって、マスク片122、124を開
閉動するようにしてもよい。さらに、これらマスク片1
22、124の材質としては、ステンレス鋼等の金属或
いは、合成樹脂等が加工性及び製造コストなどから最適
と考えられる。
り開口量を変更するようにしたが、例えばセンサにより
画像コマサイズを検出して、自動的にモータ130を駆
動回転することによって、マスク片122、124を開
閉動するようにしてもよい。さらに、これらマスク片1
22、124の材質としては、ステンレス鋼等の金属或
いは、合成樹脂等が加工性及び製造コストなどから最適
と考えられる。
【0068】一方、上記実施例において、ネガフィルム
Nに、フルサイズ及びパノラマサイズの2種類のアスペ
クト比の異なる画像コマがあることを前提として説明し
たが、3種類以上のアスペクト比の異なる画像コマが存
在しても本発明が適用できることはいうまでもない。そ
して、上記実施例において、測光有効エリアE1及び露
光有効エリアE2の大きさを相互に相違させたが同一の
大きさとしてもよい。また、可変マスク機構等の構造も
上記実施例の構造、形状等に限定されるものではなく、
例えば、上記実施例の可変マスク機構の替わりに、カム
等を用いて回転運動を直線状の運動に変換するようにし
てもよいことは、当然である。
Nに、フルサイズ及びパノラマサイズの2種類のアスペ
クト比の異なる画像コマがあることを前提として説明し
たが、3種類以上のアスペクト比の異なる画像コマが存
在しても本発明が適用できることはいうまでもない。そ
して、上記実施例において、測光有効エリアE1及び露
光有効エリアE2の大きさを相互に相違させたが同一の
大きさとしてもよい。また、可変マスク機構等の構造も
上記実施例の構造、形状等に限定されるものではなく、
例えば、上記実施例の可変マスク機構の替わりに、カム
等を用いて回転運動を直線状の運動に変換するようにし
てもよいことは、当然である。
【0069】
【発明の効果】以上説明した如く本発明に係る可変マス
ク機構のマスク位置決め方法は、可変マスク機構の製造
コストを低減しつつ、ネガフィルム上の画像コマサイズ
の変更に対応して簡易に開口量を変更できるという優れ
た効果を有している。
ク機構のマスク位置決め方法は、可変マスク機構の製造
コストを低減しつつ、ネガフィルム上の画像コマサイズ
の変更に対応して簡易に開口量を変更できるという優れ
た効果を有している。
【図1】本発明の一実施例に用いられるプリンタプロセ
ッサを示す概略構成図である。
ッサを示す概略構成図である。
【図2】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアの
斜視図である。
斜視図である。
【図3】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアの
斜視図であって、カバーが開放された状態を示す図であ
る。
斜視図であって、カバーが開放された状態を示す図であ
る。
【図4】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアの
断面図である。
断面図である。
【図5】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアに
採用された可変マスク機構の拡大断面図である。
採用された可変マスク機構の拡大断面図である。
【図6】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアに
採用された可変マスク機構の斜視図である。
採用された可変マスク機構の斜視図である。
【図7】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアに
採用された可変マスク機構の平面図であって、フルサイ
ズの画像コマに対応した状態を示す図である。
採用された可変マスク機構の平面図であって、フルサイ
ズの画像コマに対応した状態を示す図である。
【図8】本発明の一実施例に用いられるネガキャリアに
採用された可変マスク機構の平面図であって、パノラマ
サイズの画像コマに対応した状態を示す図である。
採用された可変マスク機構の平面図であって、パノラマ
サイズの画像コマに対応した状態を示す図である。
【図9】本発明の一実施例の可変マスク機構を通過する
有効エリア内の露光光線の光路を示す概念図である。
有効エリア内の露光光線の光路を示す概念図である。
【図10】本発明の一実施例の可変マスク機構を通過す
る画像コマ外周部分の光線の光路を示す概念図である。
る画像コマ外周部分の光線の光路を示す概念図である。
【図11】本発明の一実施例の可変マスク機構を通過す
る光線の光路を拡大して示す概念図である。
る光線の光路を拡大して示す概念図である。
【図12】ネガフィルムの画像コマの種類を表す説明図
である。
である。
10 プリンタプロセッサ(装置本体) 30 ネガキャリア 30B 開口部 40 濃度測定器 122 マスク片 124 マスク片 N ネガフィルム P 印画紙(感光材料)
Claims (2)
- 【請求項1】 ネガフィルム上の画像を感光材料に焼付
露光する際に、感光材料を焼付露光する光線を部分的に
遮るマスクを移動して、この光線が通過する開口部の開
口量を変更し得る可変マスク機構を用いた可変マスク機
構のマスク位置決め方法であって、 前記マスクをネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な
範囲に位置合わせした状態で、濃度測定器により画像の
濃度を測定した後、 前記マスクをネガフィルム上の画像を焼付露光可能な範
囲に移動して前記開口部の開口量を変え、前記濃度測定
器側への光路と異なる光路上に配置された感光材料を焼
付露光する、 ことを特徴とする可変マスク機構のマスク位置決め方
法。 - 【請求項2】 ネガフィルム上の画像を感光材料に焼付
露光する際に、感光材料を焼付露光する光線を部分的に
遮るマスクを移動して、この光線が通過する開口部の開
口量を変更し得る可変マスク機構を用いた可変マスク機
構のマスク位置決め方法であって、 前記マスクをネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な
範囲に位置合わせした状態で、濃度測定器により画像の
濃度を測定した後、 一旦、原点として設定された位置に前記マスクを移動
し、 この後、前記マスクをネガフィルム上の画像を焼付露光
可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変え、前記
濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置された感光
材料を焼付露光する、 ことを特徴とする可変マスク機構のマスク位置決め方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21264494A JP3445374B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 写真プリンタの可変マスク機構および可変マスク機構のマスク位置決め方法 |
US08/447,697 US5515138A (en) | 1994-09-06 | 1995-05-23 | Method of positioning mask using variable mask mechanism and variable mask mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21264494A JP3445374B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 写真プリンタの可変マスク機構および可変マスク機構のマスク位置決め方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0876277A true JPH0876277A (ja) | 1996-03-22 |
JP3445374B2 JP3445374B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=16626054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21264494A Expired - Fee Related JP3445374B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 写真プリンタの可変マスク機構および可変マスク機構のマスク位置決め方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5515138A (ja) |
JP (1) | JP3445374B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5767950A (en) * | 1996-04-15 | 1998-06-16 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for calibrating iris of photographic printer |
US6094541A (en) * | 1998-03-04 | 2000-07-25 | Eastman Kodak Company | System and method for transferring images on an image content of a first format to a photosensitive film of a second format |
TW501836U (en) * | 2001-01-05 | 2002-09-01 | Benq Corp | Fixing film apparatus capable of fixing film with different specifications |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4093378A (en) * | 1976-11-01 | 1978-06-06 | International Business Machines Corporation | Alignment apparatus |
GB2035610B (en) * | 1978-10-20 | 1983-03-23 | Hitachi Ltd | Wafer projection aligner |
US4937618A (en) * | 1984-10-18 | 1990-06-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment and exposure apparatus and method for manufacture of integrated circuits |
US4786944A (en) * | 1986-02-10 | 1988-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Composite image printing method and apparatus |
JPH0640198B2 (ja) * | 1986-02-17 | 1994-05-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 主要画像検出方法及びこれを用いた写真焼付露光量決定方法 |
US4816874A (en) * | 1987-01-19 | 1989-03-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure determining device for color image reproduction |
US4821073A (en) * | 1987-11-19 | 1989-04-11 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for measuring characteristics of photographic negatives |
JP2506186B2 (ja) * | 1989-04-20 | 1996-06-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真焼付装置 |
JP2862385B2 (ja) * | 1991-03-13 | 1999-03-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP21264494A patent/JP3445374B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-05-23 US US08/447,697 patent/US5515138A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5515138A (en) | 1996-05-07 |
JP3445374B2 (ja) | 2003-09-08 |
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