JPH0873488A - 1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体の製造法 - Google Patents
1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体の製造法Info
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- JPH0873488A JPH0873488A JP23417994A JP23417994A JPH0873488A JP H0873488 A JPH0873488 A JP H0873488A JP 23417994 A JP23417994 A JP 23417994A JP 23417994 A JP23417994 A JP 23417994A JP H0873488 A JPH0873488 A JP H0873488A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジ
ノン誘導体のβ−選択的な合成。 【構成】糖供与体として5位にピリダジンを導入したフ
ェニル 2−デオキシ−1−チオ−D−リボフラノシド
を用い、ジメチル(メチルチオ)スルホニウム塩を活性
化剤として分子内N−グリコシル化反応を行うことによ
り、1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン
誘導体をβ−選択的に得ることができる。
ノン誘導体のβ−選択的な合成。 【構成】糖供与体として5位にピリダジンを導入したフ
ェニル 2−デオキシ−1−チオ−D−リボフラノシド
を用い、ジメチル(メチルチオ)スルホニウム塩を活性
化剤として分子内N−グリコシル化反応を行うことによ
り、1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン
誘導体をβ−選択的に得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬品として有効な生
物学的活性の期待される、1−(2−デオキシリボフラ
ノシル)ピリダジノン誘導体の立体選択的な製造方法に
関するものである。
物学的活性の期待される、1−(2−デオキシリボフラ
ノシル)ピリダジノン誘導体の立体選択的な製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の方法】1−(2−デオキシリボフラノシル)ピ
リダジノン誘導体の合成法は、1−クロロ−2−デオキ
シ糖誘導体とシリル化したピリダジノンをルイス酸の存
在下で縮合させる方法が一般的である[J. Med. Chem. 2
5巻, 81頁, 1982年、およびJ.Heterocyclic Chem. 20
巻, 369頁, 1983年]。
リダジノン誘導体の合成法は、1−クロロ−2−デオキ
シ糖誘導体とシリル化したピリダジノンをルイス酸の存
在下で縮合させる方法が一般的である[J. Med. Chem. 2
5巻, 81頁, 1982年、およびJ.Heterocyclic Chem. 20
巻, 369頁, 1983年]。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、生成物がα−アノマーとβ−アノマーの混合物
として得られるために、天然型のβ体を合成するには効
率が悪く、また、そのアノマーの分離にも煩雑な操作が
必要であり工業的に有利な方法とはいい難い。
法では、生成物がα−アノマーとβ−アノマーの混合物
として得られるために、天然型のβ体を合成するには効
率が悪く、また、そのアノマーの分離にも煩雑な操作が
必要であり工業的に有利な方法とはいい難い。
【0004】本発明は、1−(2−デオキシリボフラノ
シル)ピリダジノン誘導体のβアノマーのみを効率よく
提供することを目的とするものである。
シル)ピリダジノン誘導体のβアノマーのみを効率よく
提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、化3の反応工程に示すような5位にピリダジンを
導入した1−チオリボフラノシドを、活性化剤としてジ
メチル(メチルチオ)スルホニウム塩を作用させて分子
内N−グリコシル化反応を行うことによりβ−N−グリ
コシドが選択的に得られることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
結果、化3の反応工程に示すような5位にピリダジンを
導入した1−チオリボフラノシドを、活性化剤としてジ
メチル(メチルチオ)スルホニウム塩を作用させて分子
内N−グリコシル化反応を行うことによりβ−N−グリ
コシドが選択的に得られることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
【化3】 (化3中、R1はベンジル基、R2はアルキルあるいはア
リール基)
リール基)
【0006】すなわち本発明は、一般式[1]で表され
るチオグリコシドの、分子内N−グリコシル化反応を特
徴とする、一般式[2]で表される1−(2−デオキシ
リボフラノシル)ピリダジノン誘導体のβ−選択的な製
造方法に関するものである。
るチオグリコシドの、分子内N−グリコシル化反応を特
徴とする、一般式[2]で表される1−(2−デオキシ
リボフラノシル)ピリダジノン誘導体のβ−選択的な製
造方法に関するものである。
【0007】以下、本発明について詳述する。本発明方
法における原料化合物である1−チオグリコシド誘導体
は、一般式[1]で表されるものである。R1の具体例
としては通常の水酸基の保護基として使用されるもので
あればよく、例えば、ベンジル基等が例示できる。R2
の具体例としては通常チオグリコシドとして用いられて
いるものであればよく、例えばメチル基、エチル基、フ
ェニル基を挙げることができ、好ましくはフェニル基が
用いられる。
法における原料化合物である1−チオグリコシド誘導体
は、一般式[1]で表されるものである。R1の具体例
としては通常の水酸基の保護基として使用されるもので
あればよく、例えば、ベンジル基等が例示できる。R2
の具体例としては通常チオグリコシドとして用いられて
いるものであればよく、例えばメチル基、エチル基、フ
ェニル基を挙げることができ、好ましくはフェニル基が
用いられる。
【0008】一般式[1]で表されるチオグリコシドの
分子内N−グリコシル化反応において、活性化剤として
はジメチル(メチルチオ)スルホニウム塩が好ましく、
たとえばジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフ
ルオロボラート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウム
トリフラートのようなメチルスルフェニウムイオンを発
生する試剤が用いられる。活性化剤の使用量は、一般式
[1]で表される化合物1モルに対して1〜2モル、好
ましくは1.1〜1.3モルである。
分子内N−グリコシル化反応において、活性化剤として
はジメチル(メチルチオ)スルホニウム塩が好ましく、
たとえばジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフ
ルオロボラート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウム
トリフラートのようなメチルスルフェニウムイオンを発
生する試剤が用いられる。活性化剤の使用量は、一般式
[1]で表される化合物1モルに対して1〜2モル、好
ましくは1.1〜1.3モルである。
【0009】反応は、非プロトン性有機溶媒中(たとえ
ば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど)、窒素ある
いはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で、モレキュラ
ーシーブス4Aを添加して実施し、反応温度は−78〜
25℃、好ましくは−20℃〜室温である。
ば、アセトニトリル、ジクロロメタンなど)、窒素ある
いはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で、モレキュラ
ーシーブス4Aを添加して実施し、反応温度は−78〜
25℃、好ましくは−20℃〜室温である。
【0010】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する。
NMRスペクトルは、JEOL社製EX−400を用い
て測定した。
NMRスペクトルは、JEOL社製EX−400を用い
て測定した。
【0011】
【実施例1】1−(3−O−ベンジル−2−デオキシ−
β−D−リボフラノシル)−3−メトキシ−(1H)−
ピリダジン−6−オン[一般式[2]、R1=Bn]の
製造
β−D−リボフラノシル)−3−メトキシ−(1H)−
ピリダジン−6−オン[一般式[2]、R1=Bn]の
製造
【0012】フェニル 3−O−ベンジル−2−デオキ
シ−5−O−(3−メトキシ−1−ピリダジル)−1−
チオ−D−リボフラノシド(74 mg, 0.175 mmol)にアル
ゴン雰囲気下アセトニトリル 44 ml、モレキュラーシー
ブス4A 0.4 gを加える。30分後、−20℃に冷却
し、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオ
ロボラート39 mg (0.200 mmol)を加える。10分後に1
規定の水酸化ナトリウム水溶液を15 ml加え、更に2時
間反応させる。飽和塩化アンモニウム水溶液(15 ml)を
加えた後、水層をクロロホルムで抽出し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮する。シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=1:2)
により標記化合物 48 mg(収率85%)を得た。1H
NMR等各種スペクトルデータよりその構造を確認し
た。得られたデータを下に示す。
シ−5−O−(3−メトキシ−1−ピリダジル)−1−
チオ−D−リボフラノシド(74 mg, 0.175 mmol)にアル
ゴン雰囲気下アセトニトリル 44 ml、モレキュラーシー
ブス4A 0.4 gを加える。30分後、−20℃に冷却
し、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオ
ロボラート39 mg (0.200 mmol)を加える。10分後に1
規定の水酸化ナトリウム水溶液を15 ml加え、更に2時
間反応させる。飽和塩化アンモニウム水溶液(15 ml)を
加えた後、水層をクロロホルムで抽出し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮する。シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=1:2)
により標記化合物 48 mg(収率85%)を得た。1H
NMR等各種スペクトルデータよりその構造を確認し
た。得られたデータを下に示す。
【0013】融点:94−95℃(EtOH).1 HNMR(CDCl3):δ=2.38 (ddd, 1H, J=3.9,
6.8, 13.7 Hz), 2.58 (ddd, 1H, J=6.5, 6.5, 12.9 H
z), 3.12 (br, 1H), 3.68 (d, 1H, J=9.8 Hz), 3.76
(s, 3H), 3.87 (dd, 1H, J=2.9, 11.7 Hz), 4.22 (dd,
1H, J=2.9, 6.3 Hz),4.39-4.42 (m, 1H), 4.55 (d, 1H,
J=12.2 Hz), 4.61 (d, 1H, 11.7 Hz), 6.80(t, 1H, J=
6.6 Hz), 6.86 (d, 1H, J=9.8 Hz), 6.90 (d, 1H, J=9.
8 Hz), 7.28-7.36 (m, 5H).13 CNMR(CDCl3):δ=36.2, 54.5, 63.3, 71.
6, 79.2, 85.4, 86.3,127.2, 127.7, 127.9, 128.5, 13
3.6, 137.7, 153.5, 159.0. IR(KBr):3360, 2930, 2860, 1670, 1590, 129
0, 1110, 1020 cm-1. 元素分析:計算値 C17H20N2O5:C,61.44;
H,6.07%.測定値:C,61.45;H,6.3
9%.
6.8, 13.7 Hz), 2.58 (ddd, 1H, J=6.5, 6.5, 12.9 H
z), 3.12 (br, 1H), 3.68 (d, 1H, J=9.8 Hz), 3.76
(s, 3H), 3.87 (dd, 1H, J=2.9, 11.7 Hz), 4.22 (dd,
1H, J=2.9, 6.3 Hz),4.39-4.42 (m, 1H), 4.55 (d, 1H,
J=12.2 Hz), 4.61 (d, 1H, 11.7 Hz), 6.80(t, 1H, J=
6.6 Hz), 6.86 (d, 1H, J=9.8 Hz), 6.90 (d, 1H, J=9.
8 Hz), 7.28-7.36 (m, 5H).13 CNMR(CDCl3):δ=36.2, 54.5, 63.3, 71.
6, 79.2, 85.4, 86.3,127.2, 127.7, 127.9, 128.5, 13
3.6, 137.7, 153.5, 159.0. IR(KBr):3360, 2930, 2860, 1670, 1590, 129
0, 1110, 1020 cm-1. 元素分析:計算値 C17H20N2O5:C,61.44;
H,6.07%.測定値:C,61.45;H,6.3
9%.
【0014】
【発明の効果】本発明によって、従来選択的に合成する
事が困難であった1−(2−デオキシリボフラノシル)
ピリダジノン誘導体のβ−アノマーのみを効率よく提供
することが可能となった。
事が困難であった1−(2−デオキシリボフラノシル)
ピリダジノン誘導体のβ−アノマーのみを効率よく提供
することが可能となった。
Claims (2)
- 【請求項1】化1で示されるピリダジン誘導体に活性化
剤を作用させ分子内でN−グリコシ 【化1】 (化1中,R1はベンジル基、R2はアルキル基またはア
リール基)ル化反応を行うことによる化2で表される1
−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体
の製造方法。 【化2】 (化2中、R1はベンジル基) - 【請求項2】活性化剤としてジメチル(メチルチオ)ス
ルホニウム塩を用いることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23417994A JPH0873488A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23417994A JPH0873488A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0873488A true JPH0873488A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=16966918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23417994A Pending JPH0873488A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 1−(2−デオキシリボフラノシル)ピリダジノン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0873488A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114890961A (zh) * | 2022-04-04 | 2022-08-12 | 郑州大学 | 一种可见光催化芳基化氮杂尿嘧啶的制备方法 |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP23417994A patent/JPH0873488A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114890961A (zh) * | 2022-04-04 | 2022-08-12 | 郑州大学 | 一种可见光催化芳基化氮杂尿嘧啶的制备方法 |
CN114890961B (zh) * | 2022-04-04 | 2023-11-14 | 郑州大学 | 一种可见光催化芳基化氮杂尿嘧啶的制备方法 |
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