JPH11130790A - 2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオシド類の製造方法 - Google Patents
2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオシド類の製造方法Info
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- JPH11130790A JPH11130790A JP9315968A JP31596897A JPH11130790A JP H11130790 A JPH11130790 A JP H11130790A JP 9315968 A JP9315968 A JP 9315968A JP 31596897 A JP31596897 A JP 31596897A JP H11130790 A JPH11130790 A JP H11130790A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオ
シド類の新規な製造法。 【構成】5−O−(2−ピリミジル)−2−デオキシ−
1−チオリボフラノシド誘導体に活性化剤とアリールチ
オールを反応させて分子内グリコシル化反応を行うこと
により、2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオ
ヌクレオシド誘導体を、β体に対する極めて高い選択率
で効率良く製造することができる。
シド類の新規な製造法。 【構成】5−O−(2−ピリミジル)−2−デオキシ−
1−チオリボフラノシド誘導体に活性化剤とアリールチ
オールを反応させて分子内グリコシル化反応を行うこと
により、2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオ
ヌクレオシド誘導体を、β体に対する極めて高い選択率
で効率良く製造することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、5’位に硫黄官能
基を有するヌクレオシド類の新規な製造法に関する。さ
らに詳細には、本発明は、アンチセンス分子に代表され
るDNAに相補的に作用する医薬候補化合物の構成要素
となりうる5’−チオヌクレオシド誘導体の製造方法に
関する。
基を有するヌクレオシド類の新規な製造法に関する。さ
らに詳細には、本発明は、アンチセンス分子に代表され
るDNAに相補的に作用する医薬候補化合物の構成要素
となりうる5’−チオヌクレオシド誘導体の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】5’−チオヌクレオシドの合成法として
従来知られている方法は、5’位に脱離基を導入したヌ
クレオシド類に硫黄求核剤で置換する方法や光延反応を
応用した方法などが挙げられる。[例えば、J. H. Marr
iott ら,Tetrahedron Lett. 31巻, 7485頁, 1990年、お
よびS. H. Kawaiら,Can. J. Chem. 70巻, 1573頁, 1992
年など]。
従来知られている方法は、5’位に脱離基を導入したヌ
クレオシド類に硫黄求核剤で置換する方法や光延反応を
応用した方法などが挙げられる。[例えば、J. H. Marr
iott ら,Tetrahedron Lett. 31巻, 7485頁, 1990年、お
よびS. H. Kawaiら,Can. J. Chem. 70巻, 1573頁, 1992
年など]。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では導入できる硫黄官能基に制限があり、より一般
的な方法が求められている。また、糖と核酸塩基のカッ
プリングと同時に5’位にアリールチオ基を導入するこ
とができれば、さまざまな誘導体の合成が可能となると
期待される。
方法では導入できる硫黄官能基に制限があり、より一般
的な方法が求められている。また、糖と核酸塩基のカッ
プリングと同時に5’位にアリールチオ基を導入するこ
とができれば、さまざまな誘導体の合成が可能となると
期待される。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者は、上記
の課題を解決するために鋭意研究を行なった結果、チオ
グリコシドより容易に誘導される下記一般式[1]:
の課題を解決するために鋭意研究を行なった結果、チオ
グリコシドより容易に誘導される下記一般式[1]:
【化1】(式[1]中、R1はアシル、アリールメチ
ル、トリアルキルシリル基などの通常用いられる水酸基
の保護基、R2はアリール、アルキル基を示す。)で表
わされる2−デオキシ−1−チオ−D−リボフラノシド
誘導体に有機溶媒中、活性化剤とアリールメルカプタン
で処理すると下記式[2]:
ル、トリアルキルシリル基などの通常用いられる水酸基
の保護基、R2はアリール、アルキル基を示す。)で表
わされる2−デオキシ−1−チオ−D−リボフラノシド
誘導体に有機溶媒中、活性化剤とアリールメルカプタン
で処理すると下記式[2]:
【化2】(式[2]中、R1はアシル、アリールメチ
ル、トリアルキルシリル基などの通常用いられる水酸基
の保護基、R3はアリール基を示す。)で表される
2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオヌクレオ
シド誘導体が得られることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。
ル、トリアルキルシリル基などの通常用いられる水酸基
の保護基、R3はアリール基を示す。)で表される
2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオヌクレオ
シド誘導体が得られることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。
【0005】すなわち本発明の目的は、医薬候補化合物
の構成要素となりうる5’−チオヌクレオシド誘導体の
製造方法を提供することである。
の構成要素となりうる5’−チオヌクレオシド誘導体の
製造方法を提供することである。
【0006】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の製造方法につい
て詳細に述べる。
て詳細に述べる。
【0007】本発明に使用される前記一般式[1]で表
わされるチオグリコシド誘導体において、R1はアシ
ル、アリールメチル、トリアルキルシリル基などの通常
用いられる水酸基の保護基より選ばれるものであり、好
ましくは、ベンジル基を用いる。また、R2はアルキル
基、アリール基であれば良く、特に制限はない。
わされるチオグリコシド誘導体において、R1はアシ
ル、アリールメチル、トリアルキルシリル基などの通常
用いられる水酸基の保護基より選ばれるものであり、好
ましくは、ベンジル基を用いる。また、R2はアルキル
基、アリール基であれば良く、特に制限はない。
【0008】本発明の主たる構成要素であるグリコシル
化反応は、非プロトン性溶媒(例えば、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、アセ
トニトリルなど)をチオグリコシド誘導体[1]1mo
lに対して100〜500l、好ましくは200〜30
0l用い、窒素あるいはアルゴンなどの不活性ガス雰囲
気下で、モレキュラーシーブス4Aを添加し、反応温度
−78〜25℃、好ましくは−20〜0℃にて行うこと
ができる。また、反応時間は1〜12時間、好ましくは
3〜5時間程度である。
化反応は、非プロトン性溶媒(例えば、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、アセ
トニトリルなど)をチオグリコシド誘導体[1]1mo
lに対して100〜500l、好ましくは200〜30
0l用い、窒素あるいはアルゴンなどの不活性ガス雰囲
気下で、モレキュラーシーブス4Aを添加し、反応温度
−78〜25℃、好ましくは−20〜0℃にて行うこと
ができる。また、反応時間は1〜12時間、好ましくは
3〜5時間程度である。
【0009】この反応に使用される活性化剤としては特
にジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロ
ボラオートが好ましい。その使用量は、チオグリコシド
誘導体[1]1molに対して1〜5mol、好ましく
は1.1〜2molである。
にジメチル(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロ
ボラオートが好ましい。その使用量は、チオグリコシド
誘導体[1]1molに対して1〜5mol、好ましく
は1.1〜2molである。
【0010】この反応に使用されるチオールとしてはベ
ンゼンチオール、ニトロベンゼンチオール、メトキシベ
ンゼンチオールなどのアリルチオールであり、その使用
量は、チオグリコシド誘導体[1]1molに対して1
〜10mol、好ましくは2〜5molである。
ンゼンチオール、ニトロベンゼンチオール、メトキシベ
ンゼンチオールなどのアリルチオールであり、その使用
量は、チオグリコシド誘導体[1]1molに対して1
〜10mol、好ましくは2〜5molである。
【0011】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、これらは発明の範囲を限定するものではない。N
MRスペクトルは、日本電子社製EX−400を用いて
測定した。
るが、これらは発明の範囲を限定するものではない。N
MRスペクトルは、日本電子社製EX−400を用いて
測定した。
【0012】
【実施例1】 1−(3−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−フ
ェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキシ
ピリミジンの製造
ェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキシ
ピリミジンの製造
【0013】アルゴン雰囲気下、フェニル 3−O−ベ
ンジル−5−O−(4−メトキシピリミジン−2−イ
ル)−2−デオキシ−D−リボフラノシド 79mg
(0.18mmol)をアセトニトリル45mlに溶解
して、モレキュラーシーブス4Aを0.9g加える。室
温で一晩反応させた後、−20℃に冷却し、ジメチル
(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロボラート3
8mg(0.19mmol)加える。−20℃で1時間
反応させた後、ジイソプロピルエチルアミン(0.03
2ml,0.36mmol)とベンゼンチオール(0.
161ml,0.36mmol)を続けて加え反応液を
0℃迄上げ、0℃でさらに2時間反応させる。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え中和し、モレキュラーシーブ
スを濾過した後、濾液をクロロホルムで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより単離精製して1−(3
−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−フェニルチ
オ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキシピリミジ
ンを59mg(収率77%)得る。1HNMRによりそ
の構造を確認した。 得られたスペクトルデータを以下
に示す。
ンジル−5−O−(4−メトキシピリミジン−2−イ
ル)−2−デオキシ−D−リボフラノシド 79mg
(0.18mmol)をアセトニトリル45mlに溶解
して、モレキュラーシーブス4Aを0.9g加える。室
温で一晩反応させた後、−20℃に冷却し、ジメチル
(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロボラート3
8mg(0.19mmol)加える。−20℃で1時間
反応させた後、ジイソプロピルエチルアミン(0.03
2ml,0.36mmol)とベンゼンチオール(0.
161ml,0.36mmol)を続けて加え反応液を
0℃迄上げ、0℃でさらに2時間反応させる。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え中和し、モレキュラーシーブ
スを濾過した後、濾液をクロロホルムで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより単離精製して1−(3
−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−フェニルチ
オ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキシピリミジ
ンを59mg(収率77%)得る。1HNMRによりそ
の構造を確認した。 得られたスペクトルデータを以下
に示す。
【0014】1HNMR(CDCl3):δ2.01 (ddd, J
=6.8, 6.8, 13.7 Hz, 1H), 2.75 (ddd, J=2.9, 6.3, 1
3.7 Hz, 1H), 3.23 (t, J=5.4 Hz, 2H), 3.94 (s, 3H),
4.12 (ddd, J=3.4, 3.4, 6.8 Hz, 1H), 4.34 (dd, J=
5.1, 9.0 Hz, 1H), 4.40 (d, J=11.7 Hz, 1H), 4.53
(d, J=11.7 Hz, 1H), 5.82 (d, J=7.2 Hz, 1H), 6.21
(t, J=6.8 Hz, 1H), 7.10-7.42 (m, 10H), 7.71 (d, J=
7.3 Hz, 1H).
=6.8, 6.8, 13.7 Hz, 1H), 2.75 (ddd, J=2.9, 6.3, 1
3.7 Hz, 1H), 3.23 (t, J=5.4 Hz, 2H), 3.94 (s, 3H),
4.12 (ddd, J=3.4, 3.4, 6.8 Hz, 1H), 4.34 (dd, J=
5.1, 9.0 Hz, 1H), 4.40 (d, J=11.7 Hz, 1H), 4.53
(d, J=11.7 Hz, 1H), 5.82 (d, J=7.2 Hz, 1H), 6.21
(t, J=6.8 Hz, 1H), 7.10-7.42 (m, 10H), 7.71 (d, J=
7.3 Hz, 1H).
【0015】
【実施例2】 1−(3−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−p
−ニトロフェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4
−メトキシピリミジンの製造
−ニトロフェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4
−メトキシピリミジンの製造
【0016】アルゴン雰囲気下、フェニル 3−O−ベ
ンジル−5−O−(4−メトキシピリミジン−2−イ
ル)−2−デオキシ−D−リボフラノシド 86mg
(0.20mmol)をアセトニトリル50mlに溶解
して、モレキュラーシーブス4Aを1.0g加える。室
温で一晩反応させた後、−20℃に冷却し、ジメチル
(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロボラート5
8mg(0.29mmol)加える。−20℃で1時間
反応させた後、ジイソプロピルエチルアミン0.071
ml(0.40mmol)とp−ニトロベンゼンチオー
ル65mg(0.42mmol)を続けて加え反応液を
0℃迄上げ、0℃でさらに2時間反応させる。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え中和し、モレキュラーシーブ
スを濾過した後、濾液をクロロホルムで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより単離精製して1−(3
−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−p−ニトロ
フェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキ
シピリミジンを72mg(収率75%)得る。1HNM
Rによりその構造を確認した。 得られたスペクトルデ
ータを以下に示す。
ンジル−5−O−(4−メトキシピリミジン−2−イ
ル)−2−デオキシ−D−リボフラノシド 86mg
(0.20mmol)をアセトニトリル50mlに溶解
して、モレキュラーシーブス4Aを1.0g加える。室
温で一晩反応させた後、−20℃に冷却し、ジメチル
(メチルチオ)スルホニウムテトラフルオロボラート5
8mg(0.29mmol)加える。−20℃で1時間
反応させた後、ジイソプロピルエチルアミン0.071
ml(0.40mmol)とp−ニトロベンゼンチオー
ル65mg(0.42mmol)を続けて加え反応液を
0℃迄上げ、0℃でさらに2時間反応させる。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え中和し、モレキュラーシーブ
スを濾過した後、濾液をクロロホルムで抽出する。有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより単離精製して1−(3
−O−ベンジル−2,5−ジデオキシ−5−p−ニトロ
フェニルチオ−β−D−リボフラノシル)−4−メトキ
シピリミジンを72mg(収率75%)得る。1HNM
Rによりその構造を確認した。 得られたスペクトルデ
ータを以下に示す。
【0017】1HNMR(CDCl3):δ=2.14-2.24
(m, 1H), 2.66-2.75 (m, 1H), 3.34 (dd, J=5.4, 14.2
Hz, 1H), 3.39 (dd, J=5.4, 14.2 Hz, 1H), 3.95 (s, 3
H), 4.14-4.20 (m, 1H), 4.32-4.38 (m, 1H), 4.45 (d,
J=11.7 Hz, 1H), 4.58 (d, J=11.7 Hz, 1H), 5.83 (d,
J=7.3 Hz, 1H), 6.20 (t, J=6.8 Hz, 1H), 7.27-7.42
(m, 7H), 7.62 (d, J=7.3 Hz, 1H), 8.10 (d, J=8.8 H
z, 2H).
(m, 1H), 2.66-2.75 (m, 1H), 3.34 (dd, J=5.4, 14.2
Hz, 1H), 3.39 (dd, J=5.4, 14.2 Hz, 1H), 3.95 (s, 3
H), 4.14-4.20 (m, 1H), 4.32-4.38 (m, 1H), 4.45 (d,
J=11.7 Hz, 1H), 4.58 (d, J=11.7 Hz, 1H), 5.83 (d,
J=7.3 Hz, 1H), 6.20 (t, J=6.8 Hz, 1H), 7.27-7.42
(m, 7H), 7.62 (d, J=7.3 Hz, 1H), 8.10 (d, J=8.8 H
z, 2H).
【0018】
【発明の効果】本発明によって、前記一般式[1]で表
わされるチオグリコシド誘導体に活性化剤とアリールチ
オールを反応させることにより、前記一般式[2]で表
される2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオヌ
クレオシド誘導体を効率良く製造することができる。
わされるチオグリコシド誘導体に活性化剤とアリールチ
オールを反応させることにより、前記一般式[2]で表
される2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオヌ
クレオシド誘導体を効率良く製造することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】下記一般式[1]: 【化1】 (式[1]中、R1はアシル、アリールメチル、トリア
ルキルシリル基などの通常用いられる水酸基の保護基、
R2はアリール、アルキル基を示す。)で表わされる2
−デオキシ−1−チオ−D−リボフラノシド誘導体に有
機溶媒中、活性化剤とアリールメルカプタンで処理する
ことを特徴とする下記式[2]: 【化2】 (式[2]中、R1はアシル、アリールメチル、トリア
ルキルシリル基などの通常用いられる水酸基の保護基、
R3はアリール基を示す。)で表される2’,5’−ジ
デオキシ−5’−アリールチオヌクレオシド誘導体の製
造方法。 - 【請求項2】活性化剤としてジメチルメチルチオ(メチ
ルスルホニウム)テトラフルオロボラートを用いること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。 - 【請求項3】特許請求の範囲第1項および第2項記載の
製造方法によって得られる下記式[2]で表される
2’,5’−ジデオキシ−5’−アリールチオヌクレオ
シド誘導体 【化2】(式[2]中、R1はアシル、アリールメチ
ル、トリアルキルシリル基などの通常用いられる水酸基
の保護基、R3はアリール基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9315968A JPH11130790A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオシド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9315968A JPH11130790A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオシド類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11130790A true JPH11130790A (ja) | 1999-05-18 |
Family
ID=18071760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9315968A Pending JPH11130790A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 2’,5’−ジデオキシ−5’−チオヌクレオシド類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11130790A (ja) |
-
1997
- 1997-10-31 JP JP9315968A patent/JPH11130790A/ja active Pending
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