JPH0864743A - リードフレームとこれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents
リードフレームとこれを用いた半導体装置の製造方法Info
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- JPH0864743A JPH0864743A JP6224296A JP22429694A JPH0864743A JP H0864743 A JPH0864743 A JP H0864743A JP 6224296 A JP6224296 A JP 6224296A JP 22429694 A JP22429694 A JP 22429694A JP H0864743 A JPH0864743 A JP H0864743A
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- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
にめっき被膜を残すことができるリードフレームを提供
する。 【構成】 フレーム本体1から延出してダイパッド2を
支持する支持リード3と、ダイパッド2の周辺に配置さ
れた複数のインナーリード4と、インナーリード4から
ダムバー5を介して一体的に延出した複数のアウターリ
ード6とを備えたリードフレームであり、アウターリー
ド6の先端面6aは露出して形成され、且つアウターリ
ード6の先端隅部6bはフレーム本体1に導通する連結
リード部7によって互いに接続されている。
Description
フレームとこれを用いた半導体装置の製造方法に関する
ものである。
す平面図である。図7に示すリードフレームにおいて
は、一対のガイドレール部やこれを連結するセクション
バー部等からなるフレーム本体31と、このフレーム本
体31から延出してダイパッド32を支持する支持リー
ド33と、ダイパッド32の周辺に配置された複数のイ
ンナーリード34と、このインナーリード34からダム
バー35を介して一体的に延出したアウターリード36
とを備えている。
半導体製造プロセスを説明する図である。先ず、図8
(a)に示すように、ダイパッド32上に搭載された半
導体素子をモールド樹脂37にて封止したのち、モール
ド樹脂37から延出したリード表面にめっき被膜を形成
する。次いで、図8(b)に示すように、リード間を連
結するダムバー35を切断する。続いて、図9(a)に
示すように、アウターリード36の先端部を切断して、
1ウターリード36とフレーム本体31とを切り離す。
その後、図9(b)に示すように、アウターリード36
を所定の形状に成形する。最後は、モールド樹脂37の
周縁部に沿って支持リード33を切断することにより、
図10に示すように個別に分割された半導体装置38が
得られる。
のリードフレームにおいては、アウターリード36の先
端部がフレーム本体31に接続されていたため、半導体
製造プロセスではアウターリード36の先端部を切断し
たのち、アウターリード36を所定の形状に成形するこ
とになる。したがって、図10に示す半導体装置38の
場合は、アウターリード36の先端面36aにめっき被
膜が被着されておらず、これを基板等に実装した際には
アウターリード36の先端部分におけるはんだの吸い上
がりが不十分となる。このため、良好なはんだフィレッ
トを形成することができず、半導体装置38と実装基板
との間に十分な接合強度が得られないという問題があっ
た。
体製造プロセスでは、リード表面にめっき被膜を形成し
たのち、ダムバー35の切断やアウターリード36の切
断、成形などのリード加工を行うため、リード加工の際
にリード表面のめっき被膜が削り取られてしまう。その
結果、めっき被膜の削れによる外観不良が発生したり、
削り取られた被膜カスがリード加工用金型に付着したり
リード表面に再付着するなどして、リードショート(短
絡不良)が発生したり、リード加工用金型を頻繁にクリ
ーニングしなければならないなど種々の不都合を招く虞
れがあった。
成するためになされたもので、フレーム本体から延出し
てダイパッドを支持する支持リードと、ダイパッドの周
辺に配置された複数のインナーリードと、インナーリー
ドからダムバーを介して一体的に延出した複数のアウタ
ーリードとを備えたリードフレームであり、アウターリ
ードの先端面は露出して形成されており、またアウター
リードの先端隅部はフレーム本体に導通する連結リード
部によって互いに接続された構成となっている。
れたアウターリードの先端面が露出した状態で、その両
サイドの先端隅部が連結リード部によって互いに接続さ
れているため、半導体製造プロセスにおいてリード表面
にめっき被膜を形成し、その後、連結リード部を切断し
てアウターリード間を電気的に分離しても、アウターリ
ードの先端面にはめっき被膜が残るようになる。
ながら詳細に説明する。図1は本発明に係わるリードフ
レームの第1実施例を説明する図である。図1に示すリ
ードフレームにおいては、一対のガイドレール部やこれ
を連結するセクションバー部等からなるフレーム本体1
と、このフレーム本体1から延出してダイパッド2を支
持する支持リード(吊りリードとも呼ばれる)3と、ダ
イパッド2の周辺に配置された複数のインナーリード4
と、このインナーリード4からダムバー5を介して一体
的に延出したアウターリード6とを備えている。ダイパ
ッド2には例えば導電性接着剤を介して図示せぬ半導体
素子が搭載される。半導体素子上には外部引出用電極と
なる複数の電極パッドが形成されており、それらの電極
パッドが金線等のボンディングワイヤを介してインナー
リード4に接続される。さらに、こうしてダイパッド2
上に搭載された半導体素子は上記ボンディングワイヤと
ともにモールド樹脂によって封止される。
リードの先端部がそのままフレーム本体に接続されてい
たが、本第1実施例においては、リード加工時にアウタ
ーリード6の先端部を切断しなくても済むように、アウ
ターリード6の長さを最終的な所要寸法に設定すること
により、その先端面6aが露出した状態で形成されてい
る。また、こうして所定の長さに成形されたアウターリ
ード6の先端隅部6bは連結リード部7によって互いに
接続されている。この連結リード部7は、例えば図示の
ごとくアウターリード6の先端隅部6bにつながるV字
形又はY字形のリード片7aと、各々のリード片7aの
一端を接続する接続リード7bとによって形成されてい
る。さらに、連結リード部7は、フレーム本体1との導
通状態を得るため、コンタクトリード8を介してフレー
ム本体1に接続されている。
接続する連結リード部7の形状としては、上記図1に示
すもの以外にも例えば、図2(a)に示すようにアウタ
ーリード6の先端隅部6bをウェーブ状の連結リード部
7にて接続したり、図2(b)に示すように櫛形の連結
リード部7にて接続したり、あるいは図2(c)に示す
ように連続した枡形の連結リード部7にて接続したりし
て、各々のアウターリード6の先端面6aを露出させて
形成するなど、種々の態様が考えられる。
いては、アウターリード6の先端隅部6bのカッティン
グ領域(図中破線で示す)6cがアウターリード6の厚
みよりも薄く形成されている。カッティング領域6cを
リード厚よりも薄く形成するには、例えばリードフレー
ム全体をエッチングあるいはプレス加工にて形成したの
ち、アウターリード6先端部のカッティング領域6cを
ハーフエッチングすることで容易に可能である。ここ
で、上述した「カッティング領域6c」とは、最終的に
アウターリード6の先端隅部6cを切り離すときにリー
ド加工機によって切断される境界領域のことであり、そ
の領域設定に際しては、リード加工機にてアウターリー
ド6の先端隅部6bを切断したときに切断面がカッティ
ング領域6cから外れないようにリード加工機のフレー
ム位置決め精度等を考慮して設定することが肝要であ
る。
しては、例えば図3(a)に示すように、素子搭載面と
同一面側からハーフエッチングしたり、図3(b)に示
すように素子搭載面と反対側の面からハーフエッチング
したり、あるいは図3(c)に示すように両方の面から
それぞれハーフエッチングして、アウターリード6の厚
みTよりもカッティング領域6cの厚みtを薄く形成す
るなど、種々の態様が考えられる。また、ハーフエッチ
ングの加工領域についても、リード先端に設定したカッ
ティング領域6cだけをマスキングによって局部的に断
面凹溝状に薄く形成する以外にも、例えばアウターリー
ド6の先端隅部6bをつなぐ連結リード部7のリード片
7aまでも含めたかたちでカッティング領域6cを薄く
形成するようにしてもよい。
用いた半導体製造プロセスについて図4を参照しながら
説明する。先ず、図4(a)に示すように、リードフレ
ームのダイパッド2(図1)上に搭載された半導体素子
(不図示)をモールド樹脂9にて封止したのち、モール
ド樹脂9から延出したリード表面にめっき被膜(はんだ
被膜等)を形成する。このめっき被膜の形成に際して
は、コンタクトリード8を介してフレーム本体1に接続
された連結リード部7を通して図示せぬ電源装置から各
々のアウターリード6に電流を流し、図示せぬめっき浴
中の金属イオンを電気化学反応をもってリード表面に析
出させることにより、所定膜厚のめっき被膜を形成す
る。
ード6の先端部よりも連結リード部7の端縁部分7cを
外側に突出させて形成するようにすれば、電源装置から
供給された電流が連結リード部7の端縁部分7cに集中
するようになるため、リード先端部における析出比率の
不安定要因が解消され、リード表面に対し、均一できめ
細かなめっき被膜を形成することができる。
を連結するダムバー5を切断するとともに、アウターリ
ード6とフレーム本体1との間に介在する連結リード部
7とコンタクトリード8とを切断して、各々のアウター
リード6を電気的に分離させる。このとき、リード先端
部では予め設定された上記カッティング領域6c(図
1)に倣ってアウターリード6の先端隅部6cが斜めに
切断される。
ーリード6を所定の形状、例えば図示のごとくガルウイ
ング形状に成形し、さらに、モールド樹脂9の周縁部に
沿って支持リード3を切断することにより、フレーム本
体1から独立した個別の半導体装置が得られる。
ドフレーム上に形成されたアウターリード6の先端面6
aが露出した状態で、その両サイドの先端隅部6bが連
結リード部7によって互いに接続されているため、半導
体製造プロセスではリード表面にめっき被膜を形成した
あとで、アウターリード6の先端隅部6bを切断してリ
ード曲げ加工を施すことにより、フレーム本体1から分
割された半導体装置に対してはアウターリード6の先端
面6aにめっき被膜を残すことができる。また、アウタ
ーリード6の先端隅部6bのカッティング領域6cがリ
ード厚よりも薄く形成されているため、そのカッティン
グ領域6cを境に連結リード部7を切断することによ
り、切断箇所の一部(アウターリード6の先端隅部6
b)にもめっき被膜を残すことができる。
を斜めに切断することで、半導体装置を基板等に実装す
る際のフィレット形成領域(面積)が大きくなるため、
半導体装置と実装基板との間により高い接合強度を得る
ことができる。加えて、アウターリード6の先端隅部6
bが連結リード部7によって互いに接続されているた
め、リード先端部の曲がりや縒れを防止する効果も得ら
れる。
樹脂封止後にめっき被膜を形成するようにしたが、これ
以外にも、樹脂封止前のリードフレーム製造工程で、銅
合金系あるいはニッケル合金系等からなるリードフレー
ムに対し、パラジュウム等を被膜材料とした表面処理を
行って、リード表面にめっき被膜を形成するようにして
もよい。
2実施例を説明する図である。なお、本第2実施例にお
いては、上記第1実施例と同様の構成部分に同じ符号を
付し、重複する説明は省略する。図5に示すリードフレ
ームにおいて、1はフレーム本体、2はダイパッド、3
は支持リード、4はインナーリード、5はダムバー、6
はアウターリード、7は連結リード部である。
と同様にインナーリード4からダムバー5を介して一体
的に延出したアウターリード6の先端面6aが露出した
状態で、その両サイドの先端隅部6bが連結リード部7
によって互いに接続されている。さらに、連結リード部
7は伸張可能な緩衝リード10を介してフレーム本体1
に接続されている。
は、長尺状のフレーム素材を用いたリードフレームの形
成とともに、連結リード部7とフレーム本体1との結合
箇所を、例えばエッチングによって図示のごとくクラン
ク状に細長く形成するか、あるいは図示はしないがウェ
ーブ状に細長く形成することにより伸張可能に構成する
ことができる。さらに、リードフレーム形成時における
緩衝リード10の長さ設定に際しては、後述するリード
曲げ加工にてアウターリード6を成形したときにフレー
ム本体1と連結リード部7との距離変動を緩衝リード1
0の伸びによって吸収できる程度に設定することが肝要
である。
用いた半導体製造プロセスについて図6を参照しながら
説明する。先ず、図6(a)に示すように、リードフレ
ームのダイパッド2(図5)上に搭載された半導体素子
(不図示)をモールド樹脂9にて封止する。
断したのち、図6(b)に示すように、アウターリード
6を所定の形状、例えば図示のごとくガルウイング形状
に成形する。このとき、アウターリード6の成形ととも
に各辺における連結リード部7とフレーム本体1との離
間距離が一定の割合で大きくなるが、本第2実施例では
クランク状に形成された緩衝リード10の伸びによって
連結リード部7がフレーム本体1に接続された状態、つ
まり各々のアウターリード6がフレーム本体1に電気的
に接続された状態(導通状態)に保持される。
ールド樹脂9から延出したリード表面にめっき被膜を形
成する。このめっき被膜の形成に際しては、緩衝リード
10を介してフレーム本体1に接続されている連結リー
ド部7を通して図示せぬ電源装置から各々のアウターリ
ード6に電流を流し、図示せぬめっき浴中の金属イオン
を電気化学反応をもってリード表面に析出させることに
より、所定膜厚のめっき被膜を形成する。
1実施例と同様に、連結リード部7の端縁部分7cをア
ウターリード6の先端部よりも外側に突出して形成する
ことにより、リード表面に良好なめっき被膜を形成する
ことができる。
ィング領域6c(図1参照)に沿って連結リード部7と
緩衝リード10とを切断し、各々のアウターリード6を
電気的に分離させるとともに、モールド樹脂9の周縁部
に沿って支持リード3を切断することにより、フレーム
本体1から独立した個別の半導体装置が得られる。
ターリード6の先端隅部6bを互いに接続している連結
リード部7が緩衝リード10を介してフレーム本体1に
接続されているため、半導体製造プロセスの中ではアウ
ターリード6に曲げ加工を施した後でリード表面にめっ
き被膜を形成することが可能となる。したがって、リー
ド表面のめっき被膜がリード加工用金型との擦れなどに
よって削り取られることがなくなるため、リード加工用
金型やリード表面にめっきカスが付着したり、めっき剥
がれによって外観不良が発生するなどの不都合を一挙に
解消できる。その結果、めっきカスの付着に伴うリード
ショート(短絡不良)の発生を未然に防止できるととも
に、リード加工用金型のクリーニングサイクルを大幅に
延長することが可能となる。
リードフレーム上に形成されたアウターリードの先端面
が露出した状態で、その両サイドの先端隅部が連結リー
ド部によって互いに接続されているため、リード表面に
めっき被膜を形成したあとで、アウターリードの先端隅
部を切断することにより、完成した半導体装置のリード
先端面にめっき被膜を残すことができる。したがって、
半導体装置を基板等に実装した場合には、リード先端面
にもめっき被膜が被着していることから、リードはんだ
付け部分の全域に亘ってはんだの吸い上がりが十分とな
るため、良好なはんだフィレットを形成することがで
き、半導体装置と実装基板との間に十分な接合強度を得
ることが可能となる。
説明する図である。
する図である。
する図である。
説明する図である。
する図である。
1)である。
2)である。
Claims (6)
- 【請求項1】 フレーム本体から延出してダイパッドを
支持する支持リードと、前記ダイパッドの周辺に配置さ
れた複数のインナーリードと、前記インナーリードから
ダムバーを介して一体的に延出した複数のアウターリー
ドとを備えたリードフレームにおいて、 前記アウターリードの先端面が露出して形成されるとと
もに、該アウターリードの先端隅部が前記フレーム本体
に導通する連結リード部によって互いに接続されたこと
を特徴とするリードフレーム。 - 【請求項2】 前記連結リード部は伸張可能な緩衝リー
ドを介して前記フレーム本体に接続されたことを特徴と
する請求項1記載のリードフレーム。 - 【請求項3】 前記アウターリードの先端隅部のカッテ
ィング領域が該アウターリードの厚みよりも薄く形成さ
れたことを特徴とする請求項1又は2記載のリードフレ
ーム。 - 【請求項4】 前記アウターリード間における前記連結
リード部の端縁部分が該アウターリードの先端部よりも
外側に突出して形成されたことを特徴とする請求項1、
2又は3記載のリードフレーム。 - 【請求項5】 請求項1記載のリードフレームを用いた
半導体装置の製造方法であって、 前記ダイパッド上に搭載された半導体素子をモールド樹
脂にて封止したのち、前記モールド樹脂から延出したリ
ード表面にめっき被膜を形成し、 次いで、前記ダムバーと前記連結リード部とを切断した
のち、前記アウターリードを所定の形状に成形すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項6】 請求項2記載のリードフレームを用いた
半導体装置の製造方法であって、 前記ダイパッド上に搭載された半導体素子をモールド樹
脂にて封止したのち、前記ダムバーを切断し、 次いで、前記アウターリードを所定の形状に成形したの
ち、前記モールド樹脂から延出したリード表面にめっき
被膜を形成し、 その後、前記連結リード部と前記緩衝リードとを切断す
ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6224296A JPH0864743A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | リードフレームとこれを用いた半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6224296A JPH0864743A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | リードフレームとこれを用いた半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0864743A true JPH0864743A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16811555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6224296A Pending JPH0864743A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | リードフレームとこれを用いた半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0864743A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09129805A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-16 | Nec Corp | リードフレーム及びこれを用いた半導体装置とその製造 方法 |
KR100608450B1 (ko) * | 2004-03-12 | 2006-08-03 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 제조용 리드프레임 |
US7098081B2 (en) | 2001-09-27 | 2006-08-29 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor device and method of manufacturing the device |
JP2008034830A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-02-14 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置およびリードフレームとその製造方法 |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP6224296A patent/JPH0864743A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09129805A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-16 | Nec Corp | リードフレーム及びこれを用いた半導体装置とその製造 方法 |
US7098081B2 (en) | 2001-09-27 | 2006-08-29 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor device and method of manufacturing the device |
DE10297264B4 (de) * | 2001-09-27 | 2008-10-30 | Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu | Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
KR100608450B1 (ko) * | 2004-03-12 | 2006-08-03 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 제조용 리드프레임 |
JP2008034830A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-02-14 | Seiko Instruments Inc | 半導体装置およびリードフレームとその製造方法 |
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