JPH0863714A - 薄膜磁気ヘッド製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＡＢＳ面にレール加工を施すに際しての各ヘ
ッド素子ブロックの位置ずれを無くし、各ヘッド素子ブ
ロックに形成されるレール寸法精度を高精度なものとす
る。 【構成】 複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された短冊
状をなすヘッド素子ブロック１を載置するブロック載置
台にブロック位置決め部９を設けると共に、ブロック突
当部１０を設ける。そして、このブロック位置決め部９
とブロック突当部１０にヘッド素子ブロック１を突き当
てるように第１のブロック押付部材４に形成した位置決
め用孔１３の開口周縁部１３ａ，１３ｂをヘッド素子ブ
ロック１に接触させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばハードディスク
等の如き磁気記録媒体に対して記録・再生を行う薄膜磁
気ヘッドの製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ハードディスク駆動装置に搭載
される磁気ヘッドは、誘導型薄膜磁気ヘッド（以下、イ
ンダクティブヘッドという）による記録ヘッドと、短波
長感度に優れた磁気抵抗効果型磁気ヘッド（以下、ＭＲ
ヘッドという）による再生ヘッドとの複合型とされるの
が一般的である。

【０００３】かかる磁気ヘッドとしては、例えばＡｌ₂
Ｏ₃ −ＴｉＣ等からなるスライダー上に、ハードディス
クとの対向面、すなわちＡＢＳ（エア・ベアリング・サ
ーフェス）面に臨んで再生用磁気ギャップを構成するＭ
Ｒヘッドと、記録用磁気ギャップを構成するインダクテ
ィブヘッドを真空薄膜形成技術によって積層形成した構
成とされている。

【０００４】ＭＲヘッドは、例えば先端部と後端部にそ
れぞれ電極を積層した磁気抵抗効果薄膜よりなる磁気抵
抗効果素子（以下、ＭＲ素子という）と、このＭＲ素子
に所要の向きの磁化状態を与えるバイアス導体とを有
し、該ＭＲ素子を絶縁層を介して一対のシールド磁性体
で挟み込んだ，いわゆるシールド構造とされる。

【０００５】一方、インダクティブヘッドは、閉磁路を
構成する一対の記録コアと、これら記録コア間に設けら
れる記録コイルとを備え、これら記録コアの前方端部間
にＡＢＳ面に臨んで記録用磁気ギャップを形成する構造
とされる。

【０００６】上記構成からなる磁気ヘッドを作成するに
は、先ず、Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣ等からなる略円盤状をな
すウエハー上に真空薄膜形成手段によって、ＭＲヘッド
とインダクティブヘッドを順次積層形成する。これらＭ
Ｒヘッドとインダクティブヘッドを積層してなる薄膜磁
気ヘッド素子は、ウエハー上に数行数例となるように所
定間隔で複数形成する。そして、長手方向にこれら複数
の薄膜磁気ヘッド素子が並ぶように１列毎にブロック切
断して、短冊状のヘッド素子ブロックを形成する。

【０００７】次に、各薄膜磁気ヘッド素子のギャップデ
プスを所定の値となるように、上記ヘッド素子ブロック
の媒体対向面となるＡＢＳ面をデプス研磨する。しかる
後、このＡＢＳ面にレール加工を施す。

【０００８】レール加工を施すに当たっては、先ず図１
３に示すように、Ｘ−Ｙテーブル１０１上にバキューム
チャッキングされたガラス板１０２の上に複数のヘッド
素子ブロック１０３を所定ピッチで並べる。すなわち、
Ｘ−Ｙ突当て基準板１０４を用い、上記Ｘ−Ｙテーブル
１０１の送り量を顕微鏡付属のスケーラーで調整しなが
ら、各ヘッド素子ブロック１０３にシアノアクリレート
系の瞬間接着剤を塗布してガラス板１０２上に固定す
る。瞬間接着剤を用いるのは、順次ヘッド素子ブロック
１０３の固定を完了させなければならないからである。

【０００９】次に、各ヘッド素子ブロック１０３のＡＢ
Ｓ面となる面に、シートレジストを熱圧着にて貼付け
る。そして、上記レジスト上に所定のパターンが形成さ
れたパターニングマスクを載せ、露光用光源よりこのパ
ターニングマスクを介してレジストに光を照射する。し
かる後、レジストを現像する。

【００１０】その後、現像によって残存したレジストを
クリーンオーブン内でポストベークする。そして、硬化
したレジストをマスクとしてイオンエッチングし、ＡＢ
Ｓ面に所定パターンのレールを形成する。そして最後
に、ヘッド素子ブロック１０３をスライダー毎に切断
し、サスペンションに取り付けて薄膜磁気ヘッドを完成
させる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ポストベー
ク工程では、レジストを硬化させるために２００℃とさ
れたクリーンオーブン内に２０分間入れる必要がある。
そのため、ヘッド素子ブロック１０３をガラス板１０２
に固定するのに用いた接着剤がポストベーク温度により
劣化し、ブロック貼付け時の位置精度が乱れる。また、
現像工程では水を使用することから、接着剤の強度が低
下し、やはりブロック位置精度が乱れ、その後のレール
加工精度にばらつきを生ずる。また、イオンエッチング
加工を行う際に、真空装置内では接着剤からガスが発生
するため、使用環境が制約される等の不都合がある。

【００１２】そこで本発明は、上述の従来の有する課題
に鑑みて提案されたものであり、ＡＢＳ面にレール加工
を施すに際しての各ヘッド素子ブロックの位置ずれを無
くして、各ヘッド素子ブロックに形成されるレール寸法
精度を高精度なものとなすことができる薄膜磁気ヘッド
製造装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
製造装置は、複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された短
冊状をなすヘッド素子ブロックを載置するブロック載置
面と、該ヘッド素子ブロックの第１の長辺に接するブロ
ック位置決め部とを有した複数のブロック載置部が所定
間隔で配置されたブロック載置台と、上記ブロック載置
台に設けられ、各ヘッド素子ブロックの第１の短辺にそ
れぞれ接するブロック突当部を複数有したブロック突当
部材と、上記各ブロック載置部に対向する位置に開設さ
れた矩形状の孔を有し、その孔内にブック載置部及びブ
ロック突当部を臨ませるブロック押付け部材とからな
る。

【００１４】そして、各ヘッド素子ブロックの整列位置
精度を高精度なものとなすために、上記ブロック押付け
部材に設けられたネジ孔にネジを押し込むことで、該ブ
ロック押付け部材に開設された孔の開口周縁部をヘッド
素子ブロックの第２の長辺と第２の短辺にそれぞれ接触
せしめ、該ヘッド素子ブロックをブロック突当部及びブ
ロック位置決め部に押し付けるようになす。

【００１５】

【作用】本発明においては、複数の薄膜磁気ヘッド素子
が形成された短冊状をなすヘッド素子ブロックの第１の
長辺と第１の短辺がそれぞれブロック位置決め部とブロ
ック突当部によって位置規制されると共に、第２の長辺
と第２の短辺がブロック押付け部材に設けられた孔の開
口周縁部に接触し、該ヘッド素子ブロックが上記ブロッ
ク突当部及びブロック位置決め部に押し付けられるの
で、当該ヘッド素子ブロックの位置が高精度に決まりず
れ等を生じない。従って、ポストベーク時の熱によって
ヘッド素子ブロックを接着固定するための接着剤が劣化
しても、該ヘッド素子ブロックの四面全てが押さえられ
ていることから、当該ヘッド素子ブロックの位置ずれが
起こらない。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１７】本実施例の薄膜磁気ヘッド製造装置は、ウ
エハー上に複数形成された薄膜磁気ヘッド素子を短冊状
に切断したヘッド素子ブロックを複数並べて、このヘッ
ド素子ブロックのＡＢＳ面となる面にレール加工を施す
際に用いる製造装置である。

【００１８】かかる製造装置は、図１及び図２に示すよ
うに、短冊状をなすヘッド素子ブロック１を載置させる
ブロック載置台２と、このブロック載置台２に設けら
れ、ヘッド素子ブロック１の長手方向の位置規制を行う
ブロック突当部材３と、ブロック載置台２に載置された
ヘッド素子ブロック１をブロック突当部材３に押し付け
て当該ヘッド素子ブロック１の位置決めを確実なものと
なす第１のブロック押付部材４と第２のブロック押付部
材５とから構成される。

【００１９】ブロック載置台２は、図２に示すように、
ウエハーより切り出された複数の薄膜磁気ヘッド素子が
形成された短冊状をなすヘッド素子ブロック１を載置す
るためのもので、矩形状をなす基台６上に複数のブロッ
ク載置部７を所定間隔に配置した構成とされている。

【００２０】ブロック載置部７は、平面矩形状をなすブ
ロックを切削加工することにより基台６に対して一体的
に形成され、所定間隔を隔てて互いに平行となるように
設けられている。なお、このブロック載置部７は、基台
６と一体的に形成せずに、別個に作製するようにしても
よい。このブロック載置部７には、ヘッド素子ブロック
１を安定して載置するに足る面積を有するブロック載置
面８と、該ヘッド素子ブロック１の第１の長辺に接して
このヘッド素子ブロック１の短辺方向における位置を規
制するブロック位置決め部９とを有している。

【００２１】ブロック載置面８は、図３及び図４に示す
ように、ヘッド素子ブロック１の面積より若干小さい面
積とされている。そのため、上記ブロック載置面８にヘ
ッド素子ブロック１が載置されると、該ヘッド素子ブロ
ック１の外周縁部がこのブロック載置面８よりはみ出す
ことになる。

【００２２】ブロック位置決め部９は、短冊状とされた
ヘッド素子ブロック１の一方の長辺である第１の長辺１
ａに接してこのヘッド素子ブロック１の位置を規制する
働きをするもので、ブロック載置面８より若干突出した
突起として形成されている。また、このブロック位置決
め部９は、ヘッド素子ブロック１のＡＢＳ面となる面に
レール加工を施す際に、該ブロック位置決め部９までも
が加工されないようにヘッド素子ブロック１の厚みより
も若干低い突起として形成されている。

【００２３】上記ブロック突当部材３は、各ブロック載
置部７に載置されたヘッド素子ブロック１の一方の短辺
である第１の短辺１ｂに接して、このヘッド素子ブロッ
ク１の長手方向における位置を規制するためのものであ
る。このブロック突当部材３は、長方体をなすブロック
を櫛歯状に切削加工する等して各ヘッド素子ブロック１
の第１の短辺１ｂに接するブロック突当部１０を備え、
前記ブロック載置台２に設けられた段差部１１にネジ１
２によって固定されている。

【００２４】かかるブロック突当部１０は、各ブロック
載置部７と対向する位置にそれぞれ設けられ、ヘッド素
子ブロック１の第１の短辺１ｂに接して該ヘッド素子ブ
ロック１の長手方向における位置を規制するようになっ
ている。また、このブロック突当部１０は、その高さが
ブロック位置決め部９と同じ高さとされ、やはりヘッド
素子ブロック１のＡＢＳ面となる面にレール加工を施す
際に、該ブロック突当部１０までもが加工されないよう
にされている。

【００２５】第１のブロック押付部材４と第２のブロッ
ク押付部材５は、ブロック載置部７に載置されたヘッド
素子ブロック１をブロック突当部１０とブロック位置決
め部９に押し付け、該ヘッド素子ブロック１の位置決め
を確実なものとなす役目をする。第１のブロック押付部
材４は、ブロック載置台２よりも２周り程大きな平板と
して形成され、その中央にブロック載置部７及びブロッ
ク突当部１０を臨ませる矩形状をなす位置決め用孔１３
が各ブロック載置部７に対応した位置にそれぞれ設けら
れている。

【００２６】かかる位置決め用孔１３は、ブロック載置
部７に載せられるヘッド素子ブロック１の配列ピッチと
同じピッチで形成されている。そして、この位置決め用
孔１３の開口周縁部のうちヘッド素子ブロック１の第２
の長辺１ｃと第２の短辺１ｄと対向する第１の面１３ａ
と第２の面１３ｂは、後述するネジを締めることによ
り、それぞれヘッド素子ブロック１の第２の長辺１ｃと
第２の短辺１ｄに接するようになっている。

【００２７】第２のブロック押付部材５は、第１のブロ
ック押付部材４と同じ大きさの板状体として形成され、
上記ブロック載置台２上に被せられるようになされてい
る。そして、この第２のブロック押付部材５の中央部に
は、基台６上に配列されたブロック載置部７全体を臨ま
せるに足る大きさとされた矩形状をなす貫通孔１４が形
成されている。また、上記ブロック載置台２と対向する
面には、上記貫通孔１４の開口周縁部に平面矩形状にへ
こんだ凹部１５が設けられている。かかる凹部１５は、
ブロック載置部７が設けられる基台６の主面６ａと接触
するようになっている。

【００２８】上記第１のブロック押付部材４と第２のブ
ロック押付部材５は、第２のブロック押付部材５側から
締め込まれるネジ１６によって固定され、上記ブロック
載置台２に被せられるようにして設けられている。この
第１のブロック押付部材４の上面４ａは、図４に示すよ
うに、ブロック位置決め部９の上端面９ａと同じ高さと
されている。

【００２９】また、第２のブロック押付部材５には、図
１及び図３に示すように、コーナー部分に対角線方向へ
外周縁部より凹部１５へと貫通する雌ネジであるネジ孔
１７が設けられている。このネジ孔１７には、ネジ１８
が螺合するようになっている。かかるネジ１８を締め込
むと、ブロック載置台２が図３中矢印Ａで示す対角線方
向に押され、図５及び図６に示すように、第１のブロッ
ク押付部材４に形成された位置決め用孔１３の第１の面
１３ａと第２の面１３ｂがそれぞれヘッド素子ブロック
１の第２の長辺１ｃと第２の短辺１ｄに接し、当該ヘッ
ド素子ブロック１がブロック突当部１０とブロック位置
決め部９に押し付けられることになる。その結果、ヘッ
ド素子ブロック１の四面１ａ〜１ｄ全部が押さえ込まれ
ることになり、外力や応力等がヘッド素子ブロック１に
加わったとしても、位置ずれを起こすことがない。

【００３０】以上のようにして構成された薄膜磁気ヘッ
ド製造装置を用いてスライダーにレール加工を施すに
は、次のようにして行う。

【００３１】先ず、図７に示すように、Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｔ
ｉＣ等よりなる略円盤状をなすウエハー１９上に真空薄
膜形成手段によって、再生専用のＭＲヘッドと記録専用
のインダクティブヘッドを順次積層形成し、これらＭＲ
ヘッドとインダクティブヘッドの積層薄膜磁気ヘッド素
子（図示は省略する。）を数行数列となるように所定間
隔で複数形成する。

【００３２】次に、長手方向に複数の薄膜磁気ヘッド素
子が並ぶように、上記ウエハー１９を一点鎖線で示す位
置で切断して、短冊状をなすヘッド素子ブロック１を形
成する。

【００３３】次いで、図８に示すように、長手方向に所
定間隔で複数配列された薄膜磁気ヘッド素子２０が形成
されてなるヘッド素子ブロック１のＡＢＳ面となる面１
ａを研磨して、各薄膜磁気ヘッド素子２０のギャップデ
プスを所定のデプスとなるように研磨する。

【００３４】次に、これら複数のヘッド素子ブロック１
のＡＢＳ面となる面１ａにレール加工を施すが、その加
工の際に各ヘッド素子ブロック間のピッチ，傾き、ブロ
ック相互間の基準位置合わせが加工精度を大きく左右す
るため重要になる。すなわち、図９に示すように、複数
のヘッド素子ブロック１（本実施例では、１０ブロック
で１ブロック当たり１０個の薄膜磁気ヘッド素子２０を
同時加工する。）を配列するが、ブロックＡ−Ａ´から
Ｊ−Ｊ´までをラインで見た場合の各ブロック間の素子
位置精度（これをＸ−Ｙ軸座標に見立てた場合、ライン
からのズレ方向をＸ方向とする。）と、ブロック１−１
´から１０−１０´をラインで見た場合の素子位置精度
（これをＸ−Ｙ軸座標に見立てた場合、ラインからのズ
レ方向をＹ方向とする。）が重要になる。つまり、Ｘ−
Ｙ軸座標上に１００個の素子をある規格内に位置するよ
うに配列することが、レール加工を行う際の加工精度に
直結する。

【００３５】そのため、前述した薄膜磁気ヘッド製造装
置を用いてこれらヘッド素子ブロック１を高精度に配列
する。先ず、第１のブロック押付部材４に形成された位
置決め用孔１３よりブロック載置部７の上に各ヘッド素
子ブロック１を落とし込み、該ブロック載置部７のブロ
ック載置面８に載せる。ヘッド素子ブロック１をブロッ
ク載置面８に固定するに際しては、加熱によりアウトガ
スが発生しない真空用グリスを接着剤として用いる。

【００３６】すると、ヘッド素子ブロック１と位置決め
用孔１３との間には、図３及び図４に示すように、隙間
Ｓ₁ ，Ｓ₂ ができる。そして、この状態から第２のブロ
ック押付部材５のコーナー部分に設けられたネジ孔１７
にネジ１８を締め込む。

【００３７】かかるネジ１８を締め込んで行くと、ブロ
ック載置台２が図３中矢印Ａで示す対角線方向に押さ
れ、図５及び図６に示すように、位置決め用孔１３の第
１の面１３ａと第２の面１３ｂがそれぞれヘッド素子ブ
ロック１の第２の長辺１ｃと第２の短辺１ｄに接し、当
該ヘッド素子ブロック１がブロック突当部１０とブロッ
ク位置決め部９に押し付けられる。その結果、先の隙間
Ｓ₁ ，Ｓ₂ が零になり、ヘッド素子ブロック１の四面１
ａ〜１ｄ全部が押さえ込まれ、当該ヘッド素子ブロック
１が位置ずれを起こすようなことが起こらない。このよ
うにしてヘッド素子ブロック１が配置されることで、各
ヘッド素子ブロック１がそれぞれ所定位置に位置決めさ
れることになる。

【００３８】このときのヘッド素子ブロック１の位置精
度をＸ−Ｙ軸座標上で平均値とばらつきとして表示する
と、図１０に示すようになる。図１０は、薄膜磁気ヘッ
ド素子２０が並ぶ方向を図１１に示すようにＹ方向、こ
れと直交する方向をＸ方向と定義したときの薄膜磁気ヘ
ッド素子、１００個のデータである。

【００３９】Ｘ位置精度平均値は１．７５μｍ、σ^n-1
は２．１７μｍであった。一方、Ｙ位置精度平均値は−
１．４０μｍ、σ^n-1 は４．３３μｍであった。そし
て、ＸとＹの各平均値に±３σ^n-1 を加算しエリアを描
いた場合、素子の整列位置精度は±１５μｍ以内に制御
できる。これを図１０中に示す。線Ａは±１５μｍ、線
Ｂは±３σ^n-1 、点Ｃは平均値を示す。

【００４０】そして、ヘッド素子ブロック１のＡＢＳ面
となる面１ａにシートレジストを熱圧着にて貼付ける。
シートレジストとしては、東京応化社製の商品名ＢＦ−
４１０を用いた。次に、シートレジスト上に所定パター
ンとされたパターニングマスクを載せ、該シートレジス
トを露光してレジストパターンを形成する。

【００４１】次いで、炭酸ナトリウム溶液（０．２％）
にて、未露光部分を洗い流す。そして、約２００℃，２
０分なる条件の下に、現像して残存したレジストをクリ
ーンオーブン内に入れる。このときの加熱により、従来
では熱により接着剤が劣化してヘッド素子ブロック１の
位置ずれが発生したが、本実施例ではヘッド素子ブロッ
ク１の四面１ａ〜１ｄ全部が押さえ込まれているため、
位置ずれを起こすようなことがない。

【００４２】次に、硬化したレジストをマスクとして、
イオンエッチングによってヘッド素子ブロック１のＡＢ
Ｓ面となる面１ａにレール加工を施す。イオンエッチン
グは真空装置内で行うが、真空用グリスを接着剤として
用いているので、かかる接着剤からアウトガスが発生し
ない。

【００４３】この他、レール加工を施すに際しては、微
粒子を高圧で吹き付けることにより溝加工等を行うパウ
ダービームエッチング加工法を採用してもよい。

【００４４】そして、図１２に示すように、このヘッド
素子ブロック１を各薄膜磁気ヘッド素子２０毎に切断
し、ＡＢＳ面に寸法精度の高いレール２１，２２，２３
が形成された薄膜磁気ヘッド２４を完成させる。

【００４５】なお、上述の実施例では、ウエハー上にＭ
Ｒヘッドとインダクティブヘッドを積層した複合型の薄
膜磁気ヘッドとしたが、単にウエハーにＭＲヘッドのみ
を形成したヘッドに本発明を適用しても同様の効果があ
る。

【００４６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る薄膜磁気ヘッド製造装置においては、複数の薄
膜磁気ヘッド素子が形成された短冊状をなすヘッド素子
ブロックの四面全体を押さえつけているので、レジスト
を硬化させるポストベーク時の熱により接着剤が劣化し
ても、ヘッド素子ブロックの位置がずれることがない。
従って、各ヘッド素子ブロック毎のレール加工寸法精度
のばらつきを極力小さなものとすることができる。ま
た、ヘッド素子ブロックの位置を高精度に決めることが
できるので、瞬間接着剤を用いる必要が無くなり、真空
装置内で用いてもアウトガスの発生が無い真空用グリス
を接着剤として用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】薄膜磁気ヘッド製造装置の斜視図である。

【図２】薄膜磁気ヘッド製造装置の分解斜視図である。

【図３】薄膜磁気ヘッド製造装置にヘッド素子ブロック
が載置された状態を示す平面図である。

【図４】薄膜磁気ヘッド製造装置にヘッド素子ブロック
が載置された状態を示す断面図である。

【図５】ヘッド素子ブロックを位置決めした状態を示す
平面図である。

【図６】ヘッド素子ブロックを位置決めした状態を示す
断面図である。

【図７】（ａ）はヘッド素子ブロック切断工程を示す平
面図、（ｂ）はヘッド素子ブロックの斜視図である。

【図８】ヘッド素子ブロックのデプス研磨工程を示す拡
大斜視図である。

【図９】（ａ）はヘッド素子ブロックを複数並べたとき
の薄膜磁気ヘッド素子の配列状態を示す平面図、（ｂ）
はヘッド素子ブロックに形成された薄膜磁気ヘッド素子
の位置を示す側面図である

【図１０】薄膜磁気ヘッド素子位置精度を示す特性図で
ある。

【図１１】薄膜磁気ヘッド素子のＸ，Ｙ方向を定義する
ために用いた図である。

【図１２】薄膜磁気ヘッドの斜視図である。

【図１３】従来の薄膜磁気ヘッド製造装置の斜視図であ
る。

【符号の説明】

１ ヘッド素子ブロック ２ ブロック載置台 ３ ブロック突当部材 ４ 第１のブロック押付部材 ５ 第２のブロック押付部材 ６ 基台 ７ ブロック載置部 ８ ブロック載置面 ９ ブロック位置決め部 １０ ブロック突当部 １３ 位置決め用孔 １７ ネジ孔 １９ ウエハー ２０ 薄膜磁気ヘッド素子

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された
   短冊状をなすヘッド素子ブロックを載置するブロック載
   置面と、該ヘッド素子ブロックの第１の長辺に接するブ
   ロック位置決め部とを有した複数のブロック載置部が所
   定間隔で配置されたブロック載置台と、 上記ブロック載置台に設けられ、各ヘッド素子ブロック
   の第１の短辺にそれぞれ接するブロック突当部を複数有
   したブロック突当部材と、 上記各ブロック載置部に対向する位置に開設された矩形
   状の孔を有し、その孔内にブック載置部及びブロック突
   当部を臨ませるブロック押付け部材とを備えてなり、 上記ブロック押付け部材に設けられたネジ孔にネジを押
   し込むことで、該ブロック押付け部材に開設された孔の
   開口周縁部がヘッド素子ブロックの第２の長辺と第２の
   短辺にそれぞれ接触し、該ヘッド素子ブロックをブロッ
   ク突当部及びブロック位置決め部に押し付けるようにし
   たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド製造装置。