JPH085838A - 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 - Google Patents
位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置Info
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 171
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims abstract description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 26
- -1 pyridine-2,5-diyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 9
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 61
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 15
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 11
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005264 High molar mass liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Chemical class 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 1-palmitoyl-2-arachidonoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCC IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910012463 LiTaO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000000787 lecithin Substances 0.000 description 1
- 229940067606 lecithin Drugs 0.000 description 1
- 235000010445 lecithin Nutrition 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoylsilicon Chemical compound [Si]C(=O)C=C RQAGEUFKLGHJPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten(VI) oxide Inorganic materials O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】広視野角の位相差板となる液晶オリゴマーフィ
ルムもしくは液晶オリゴマー重合物フィルムおよびそれ
らの工業的な製造方法、並びに該液晶オリゴマーフィル
ムともしくは該液晶オリゴマー重合物フィルムと位相差
フィルムとを積層した広視野角の複合位相差板およびこ
れらを用いた視野角特性の優れた液晶表示装置を提供す
る。 【構成】正の屈折率異方性を有し、ネマチック相または
スメクチック相を示す非重合性液晶オリゴマーからなる
フィルムで、該液晶オリゴマーはたとえば下記反復単位
化１および化２を含む直鎖または環状の液晶オリゴマー
であり、該液晶オリゴマー１分子中の反復単位（Ｉ）、
（ＩＩ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 とするとｎ1 とｎ2
との和は、１分子当り平均して４以上１０，０００以下
であり、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰角
として１０°以上８０°以下の範囲で傾いていることを
特徴とする配向液晶オリゴマーフィルム。 【化１】 【化２】
ルムもしくは液晶オリゴマー重合物フィルムおよびそれ
らの工業的な製造方法、並びに該液晶オリゴマーフィル
ムともしくは該液晶オリゴマー重合物フィルムと位相差
フィルムとを積層した広視野角の複合位相差板およびこ
れらを用いた視野角特性の優れた液晶表示装置を提供す
る。 【構成】正の屈折率異方性を有し、ネマチック相または
スメクチック相を示す非重合性液晶オリゴマーからなる
フィルムで、該液晶オリゴマーはたとえば下記反復単位
化１および化２を含む直鎖または環状の液晶オリゴマー
であり、該液晶オリゴマー１分子中の反復単位（Ｉ）、
（ＩＩ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 とするとｎ1 とｎ2
との和は、１分子当り平均して４以上１０，０００以下
であり、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰角
として１０°以上８０°以下の範囲で傾いていることを
特徴とする配向液晶オリゴマーフィルム。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はツイストネマチック（以
下ＴＮということがある）型液晶表示素子やスーパーツ
イストネマチック（以下ＳＴＮということがある）型液
晶表示素子などに用いられる位相差フィルムとその製造
方法および該位相差フィルムを用いた液晶表示装置に関
するものである。
下ＴＮということがある）型液晶表示素子やスーパーツ
イストネマチック（以下ＳＴＮということがある）型液
晶表示素子などに用いられる位相差フィルムとその製造
方法および該位相差フィルムを用いた液晶表示装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】位相差フィルムは光学的均質性と耐久性
を備え、一軸配向性を有する高分子フィルムであって、
液晶表示素子の表示品質を向上させるための光学補償板
として一般に用いられている。位相差フィルムを用いた
ＳＴＮ型液晶表示素子は、軽い、薄い、安価である等の
長所を持つ反面、視野角特性が悪い、白黒のレベルが劣
っているなどの短所を有していた。これらの短所は位相
差フィルムを２枚積層するなどの方法によりかなり改良
されてきたが、視野角特性についてはいまだ満足できる
レベルに達しておらず、また特定の方向について視野角
を制御する方法についても工業的方法が開発されていな
い。
を備え、一軸配向性を有する高分子フィルムであって、
液晶表示素子の表示品質を向上させるための光学補償板
として一般に用いられている。位相差フィルムを用いた
ＳＴＮ型液晶表示素子は、軽い、薄い、安価である等の
長所を持つ反面、視野角特性が悪い、白黒のレベルが劣
っているなどの短所を有していた。これらの短所は位相
差フィルムを２枚積層するなどの方法によりかなり改良
されてきたが、視野角特性についてはいまだ満足できる
レベルに達しておらず、また特定の方向について視野角
を制御する方法についても工業的方法が開発されていな
い。
【０００３】光学軸がフィルム面から傾斜した光学異方
体を用いて液晶表示装置の視野角特性を改良した例とし
て、特開平３−２７６１２３号公報には液晶セル中に液
晶分子または主鎖型の高分子液晶を傾斜配向させ、最大
屈折率方向を基板から傾斜させた複屈折層が開示されて
いる。さらに、液晶分子を傾斜配向させた液晶セルを２
つ重ねたもの、同様に高分子液晶を傾斜配向させて２つ
重ねたもの、高分子フィルムを熱的、機械的に変形させ
て積層したものが例示されている。特開平３−２７６１
２４号公報には液晶セルの両面に斜方蒸着を施し、液晶
分子の長軸方向が厚み方向に分布を持つ複屈折層が例示
されている。
体を用いて液晶表示装置の視野角特性を改良した例とし
て、特開平３−２７６１２３号公報には液晶セル中に液
晶分子または主鎖型の高分子液晶を傾斜配向させ、最大
屈折率方向を基板から傾斜させた複屈折層が開示されて
いる。さらに、液晶分子を傾斜配向させた液晶セルを２
つ重ねたもの、同様に高分子液晶を傾斜配向させて２つ
重ねたもの、高分子フィルムを熱的、機械的に変形させ
て積層したものが例示されている。特開平３−２７６１
２４号公報には液晶セルの両面に斜方蒸着を施し、液晶
分子の長軸方向が厚み方向に分布を持つ複屈折層が例示
されている。
【０００４】特開平５−１５７９１３号公報には高分子
フィルムの延伸方法を工夫してフィルム面内から傾斜さ
せた光学軸を持たせ、ＳＴＮ液晶表示素子の視野角特性
を改良したことが開示されている。
フィルムの延伸方法を工夫してフィルム面内から傾斜さ
せた光学軸を持たせ、ＳＴＮ液晶表示素子の視野角特性
を改良したことが開示されている。
【０００５】また、特開平６−７５１１６号公報には、
光学軸がフィルム法線方向から傾斜した高分子フィルム
を用いて液晶表示装置の視角角特性を改善したことが開
示されている。
光学軸がフィルム法線方向から傾斜した高分子フィルム
を用いて液晶表示装置の視角角特性を改善したことが開
示されている。
【０００６】次に、Society for Information Display
International Symposium Digest of Technical Papers
（１９９３）第２７７頁には光学軸がフィルム法線方向
から傾斜した光学異方体２つとフィルム面内に光学軸を
有する光学異方体とを使うことによってＴＮ液晶表示装
置の視野角特性を原理的に向上させることが可能である
ことが報告されている。
International Symposium Digest of Technical Papers
（１９９３）第２７７頁には光学軸がフィルム法線方向
から傾斜した光学異方体２つとフィルム面内に光学軸を
有する光学異方体とを使うことによってＴＮ液晶表示装
置の視野角特性を原理的に向上させることが可能である
ことが報告されている。
【０００７】液晶分子の配向を得る方法については表示
用セル中での液晶分子の配向が表示品質に大きく影響す
るために多くの試みが報告されており、低分子液晶の場
合は配向膜を使って配向を制御する方法が一般的であ
る。配向膜としては例えば水平配向を得るためにポリイ
ミドなどの高分子膜を基板上に設け、表面を布などで擦
ったのち低分子液晶を配向させる方法や、基板にＳｉＯ
2 、ＳｉＯ、ＭｇＯ、ＭｇＦ2 などの無機物を斜め蒸着
し、水平配向膜に使う方法、延伸した高分子フィルムを
使う方法などが知られている（液晶の基礎と応用、９７
〜１００ページ、工業調査会、１９９１年）。また、低
分子液晶の傾斜配向を得るための方法も公知であり、ポ
リイミドなどの有機配向膜や、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｍｇ
Ｏ、ＭｇＦ 2 などの無機物の斜方蒸着が知られている。
これらの配向膜は液晶ディスプレイ素子中の液晶分子の
配向を均一にさせることや、プレチルトを与え、良好な
表示画質を実現している。
用セル中での液晶分子の配向が表示品質に大きく影響す
るために多くの試みが報告されており、低分子液晶の場
合は配向膜を使って配向を制御する方法が一般的であ
る。配向膜としては例えば水平配向を得るためにポリイ
ミドなどの高分子膜を基板上に設け、表面を布などで擦
ったのち低分子液晶を配向させる方法や、基板にＳｉＯ
2 、ＳｉＯ、ＭｇＯ、ＭｇＦ2 などの無機物を斜め蒸着
し、水平配向膜に使う方法、延伸した高分子フィルムを
使う方法などが知られている（液晶の基礎と応用、９７
〜１００ページ、工業調査会、１９９１年）。また、低
分子液晶の傾斜配向を得るための方法も公知であり、ポ
リイミドなどの有機配向膜や、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｍｇ
Ｏ、ＭｇＦ 2 などの無機物の斜方蒸着が知られている。
これらの配向膜は液晶ディスプレイ素子中の液晶分子の
配向を均一にさせることや、プレチルトを与え、良好な
表示画質を実現している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、非重合
性液晶オリゴマーや重合性液晶オリゴマーを配向処理し
た基材上に成膜した位相差フィルムにおいて、該液晶オ
リゴマーの光学軸が法線方向に対して傾いて、フィルム
面内の一定の方向に配向しているものは知られていなか
った。また、光学軸が基板面から傾いた液晶オリゴマー
の製造方法については、透明電極付きガラス板に挟み、
電場をかけることにより配向させることしか知られてお
らず（1993年春季 第40回応用物理学会 講演番号29aZ
K-11）、従来の方法では、工業的に有利な製造方法が確
立されていないという問題があった。本発明の目的は、
広視野角の位相差板となる液晶オリゴマーフィルムもし
くは液晶オリゴマー重合物フィルムおよびそれらの工業
的な製造方法、並びに該液晶オリゴマーフィルムともし
くは該液晶オリゴマー重合物フィルムと位相差フィルム
とを積層した広視野角の複合位相差板およびこれらを用
いた視野角特性の優れた液晶表示装置を提供することに
ある。
性液晶オリゴマーや重合性液晶オリゴマーを配向処理し
た基材上に成膜した位相差フィルムにおいて、該液晶オ
リゴマーの光学軸が法線方向に対して傾いて、フィルム
面内の一定の方向に配向しているものは知られていなか
った。また、光学軸が基板面から傾いた液晶オリゴマー
の製造方法については、透明電極付きガラス板に挟み、
電場をかけることにより配向させることしか知られてお
らず（1993年春季 第40回応用物理学会 講演番号29aZ
K-11）、従来の方法では、工業的に有利な製造方法が確
立されていないという問題があった。本発明の目的は、
広視野角の位相差板となる液晶オリゴマーフィルムもし
くは液晶オリゴマー重合物フィルムおよびそれらの工業
的な製造方法、並びに該液晶オリゴマーフィルムともし
くは該液晶オリゴマー重合物フィルムと位相差フィルム
とを積層した広視野角の複合位相差板およびこれらを用
いた視野角特性の優れた液晶表示装置を提供することに
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る液晶オリゴマーが基材面に対して傾斜して配向するこ
とを見いだし、配向液晶オリゴマー単独によりまたは一
軸配向性を有する位相差フィルムと組み合わせることに
より、白黒レベルに優れ、良好な視野角特性を有した液
晶表示素子が得られることを見出して本発明を完成する
に至った。
を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有す
る液晶オリゴマーが基材面に対して傾斜して配向するこ
とを見いだし、配向液晶オリゴマー単独によりまたは一
軸配向性を有する位相差フィルムと組み合わせることに
より、白黒レベルに優れ、良好な視野角特性を有した液
晶表示素子が得られることを見出して本発明を完成する
に至った。
【００１０】すなわち、本発明は次に記す発明からな
る。 （１）正の屈折率異方性を有し、ネマチック相またはス
メクチック相を示す非重合性液晶オリゴマーからなるフ
ィルムで、該液晶オリゴマーは下記反復単位（Ｉ）およ
び（ＩＩ）を含む直鎖または環状の液晶オリゴマーであ
り、該液晶オリゴマー１分子中の反復単位（Ｉ）、（Ｉ
Ｉ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 とするとｎ1 とｎ2 との
和は、１分子当り平均して４以上１０，０００以下であ
り、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰角とし
て１０°以上８０°以下の範囲で傾いていることを特徴
とする配向液晶オリゴマーフィルム。
る。 （１）正の屈折率異方性を有し、ネマチック相またはス
メクチック相を示す非重合性液晶オリゴマーからなるフ
ィルムで、該液晶オリゴマーは下記反復単位（Ｉ）およ
び（ＩＩ）を含む直鎖または環状の液晶オリゴマーであ
り、該液晶オリゴマー１分子中の反復単位（Ｉ）、（Ｉ
Ｉ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 とするとｎ1 とｎ2 との
和は、１分子当り平均して４以上１０，０００以下であ
り、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰角とし
て１０°以上８０°以下の範囲で傾いていることを特徴
とする配向液晶オリゴマーフィルム。
【化９】
【化１０】 〔式中、Ａは下式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ 2 ）k1、（ＣＨ2 ）k2基と結合す
る位置にある。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式
（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に
水素、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基であ
る。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）の
とき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に水素または炭
素数１〜６のアルキル基である。
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ 2 ）k1、（ＣＨ2 ）k2基と結合す
る位置にある。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式
（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に
水素、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基であ
る。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）の
とき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に水素または炭
素数１〜６のアルキル基である。
【化１１】
【化１２】 また、ｋ１、ｋ２はそれぞれ独立に２〜１０の整数であ
り、ｍ１、ｍ２はそれぞれ独立に０または１であり、ｐ
１、ｐ２、ｐ３はそれぞれ独立に０または１であり、Ａ
ｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ａｒ4 、Ａｒ5 はそれぞれ独立
に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン
基、ピリジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−
２、５−ジイル基であり、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 はそれぞれ
独立に−ＣＨ 2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、
−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−または
り、ｍ１、ｍ２はそれぞれ独立に０または１であり、ｐ
１、ｐ２、ｐ３はそれぞれ独立に０または１であり、Ａ
ｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ａｒ4 、Ａｒ5 はそれぞれ独立
に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン
基、ピリジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−
２、５−ジイル基であり、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 はそれぞれ
独立に−ＣＨ 2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、
−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−または
【化１３】 で示される２価の基であり、Ｒ2 、Ｒ4 はそれぞれ独立
に水素、ハロゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキ
ル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。〕
に水素、ハロゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキ
ル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。〕
【００１１】（２）正の屈折率異方性を有し、ネマチッ
ク相またはスメクチック相を示す重合性液晶オリリゴマ
ーの重合物からなるフィルムで、該液晶オリゴマーは請
求項１記載の反復単位（Ｉ）と反復単位（ＩＩ）および
下記反復単位（ＶＩ）と下記反復単位（ＶＩＩ）の４つ
の反復単位のうち少なくとも３つの反復単位を含む直鎖
または環状の液晶オリゴマーであり、該オリゴマー１分
子中の反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＶＩ）および（Ｖ
ＩＩ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 、ｎ3 およびｎ4 とす
るとき、ｎ1 〜ｎ4 はそれぞれ独立に０〜２０の整数で
あり、かつ４≦ｎ1 ＋ｎ2 ＋ｎ3 ＋ｎ4 ≦２１であり、
ｎ1 〜ｎ4 のうち少なくとも３種が１以上の整数であ
り、反復単位（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の末端基が重合
しており、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰
角として１０°以上８０°以下の範囲で傾いていること
を特徴とする配向液晶オリゴマー重合物フィルム。
ク相またはスメクチック相を示す重合性液晶オリリゴマ
ーの重合物からなるフィルムで、該液晶オリゴマーは請
求項１記載の反復単位（Ｉ）と反復単位（ＩＩ）および
下記反復単位（ＶＩ）と下記反復単位（ＶＩＩ）の４つ
の反復単位のうち少なくとも３つの反復単位を含む直鎖
または環状の液晶オリゴマーであり、該オリゴマー１分
子中の反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＶＩ）および（Ｖ
ＩＩ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2 、ｎ3 およびｎ4 とす
るとき、ｎ1 〜ｎ4 はそれぞれ独立に０〜２０の整数で
あり、かつ４≦ｎ1 ＋ｎ2 ＋ｎ3 ＋ｎ4 ≦２１であり、
ｎ1 〜ｎ4 のうち少なくとも３種が１以上の整数であ
り、反復単位（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の末端基が重合
しており、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰
角として１０°以上８０°以下の範囲で傾いていること
を特徴とする配向液晶オリゴマー重合物フィルム。
【００１２】
【化１４】
【化１５】
【００１３】〔式中、Ａは（１）における式（ＩＩＩ）
または（ＩＶ）で表される基であり、式（ＩＩＩ）にお
いて−Ｓｉ−Ｏ−は式（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の主鎖
であり、式（ＩＶ）において−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）
または（ＩＩ）の主鎖であり、ＣＯＯ基は（Ｃ
Ｈ2 ）k3，（ＣＨ2 ）k4と結合する位置にある。式（Ｖ
Ｉ）または（ＶＩＩ）においてＡが式（ＩＩＩ）のと
き、Ｒ5 またはＲ7 はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜
６のアルキル基またはフェニル基である。式（ＶＩ）ま
たは（ＶＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）のとき、Ｒ5 ま
たはＲ7 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のア
ルキル基である。ｋ３、ｋ４は２〜１０の整数であり、
ｍ３、ｍ４は０または１であり、ｐ４、ｐ５、ｐ６は０
または１であり、Ａｒ6 〜Ａｒ10はそれぞれ独立に１，
４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリ
ジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−２，５−ジ
イル基であり、Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 はそれぞれ独立に−Ｃ
Ｈ 2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 − 、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ
−、−Ｎ＝Ｎ−または
または（ＩＶ）で表される基であり、式（ＩＩＩ）にお
いて−Ｓｉ−Ｏ−は式（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の主鎖
であり、式（ＩＶ）において−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）
または（ＩＩ）の主鎖であり、ＣＯＯ基は（Ｃ
Ｈ2 ）k3，（ＣＨ2 ）k4と結合する位置にある。式（Ｖ
Ｉ）または（ＶＩＩ）においてＡが式（ＩＩＩ）のと
き、Ｒ5 またはＲ7 はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜
６のアルキル基またはフェニル基である。式（ＶＩ）ま
たは（ＶＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）のとき、Ｒ5 ま
たはＲ7 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のア
ルキル基である。ｋ３、ｋ４は２〜１０の整数であり、
ｍ３、ｍ４は０または１であり、ｐ４、ｐ５、ｐ６は０
または１であり、Ａｒ6 〜Ａｒ10はそれぞれ独立に１，
４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリ
ジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−２，５−ジ
イル基であり、Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 はそれぞれ独立に−Ｃ
Ｈ 2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 − 、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ
−、−Ｎ＝Ｎ−または
【化１６】 で示される２価の基であり、Ｒ6 、Ｒ8 はそれぞれ独立
に水素または炭素数１から５のアルキル基である。〕
に水素または炭素数１から５のアルキル基である。〕
【００１４】（３）前記（１）記載の非重合性液晶オリ
ゴマーまたは（２）記載の重合性液晶オリゴマー重合物
が、表面に配向処理を施した基材上に成膜されているこ
とを特徴とする位相差フィルム。
ゴマーまたは（２）記載の重合性液晶オリゴマー重合物
が、表面に配向処理を施した基材上に成膜されているこ
とを特徴とする位相差フィルム。
【００１５】（４）前記（１）記載の非重合性液晶オリ
ゴマーを配向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行
なうことにより該液晶オリゴマーをフィルム面から仰角
として１０°以上８０°以下に配向させることを特徴と
する（３）記載の位相差フィルムの製造方法。
ゴマーを配向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行
なうことにより該液晶オリゴマーをフィルム面から仰角
として１０°以上８０°以下に配向させることを特徴と
する（３）記載の位相差フィルムの製造方法。
【００１６】（５）前記（２）記載の重合性液晶オリゴ
マーを配向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行な
い光学軸をフィルム面から仰角として１０°以上８０°
以下に配向させた後、反復単位（ＶＩ）または（ＶＩ
Ｉ）の末端基を重合することを特徴とする（３）記載の
位相差フィルムの製造方法。
マーを配向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行な
い光学軸をフィルム面から仰角として１０°以上８０°
以下に配向させた後、反復単位（ＶＩ）または（ＶＩ
Ｉ）の末端基を重合することを特徴とする（３）記載の
位相差フィルムの製造方法。
【００１７】（６）フィルム面内に光学軸を有し、かつ
正の屈折率異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一
軸配向した位相差フィルムと、（３）記載の位相差フィ
ルムとが積層されてなる複合位相差板。
正の屈折率異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一
軸配向した位相差フィルムと、（３）記載の位相差フィ
ルムとが積層されてなる複合位相差板。
【００１８】（７）電極を有する基板に挟持された、正
の誘電率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ
螺旋軸を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からな
る液晶セルと、その外側に配置される偏光フィルムとの
間に、（１）記載の配向液晶オリゴマーフィルム、
（２）記載の配向液晶オリゴマー重合物フィルム、
（３）記載の位相差フィルムおよび（６）記載の複合位
相差板から選ばれた少なくとも一つを配置することを特
徴とする液晶表示装置。
の誘電率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ
螺旋軸を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からな
る液晶セルと、その外側に配置される偏光フィルムとの
間に、（１）記載の配向液晶オリゴマーフィルム、
（２）記載の配向液晶オリゴマー重合物フィルム、
（３）記載の位相差フィルムおよび（６）記載の複合位
相差板から選ばれた少なくとも一つを配置することを特
徴とする液晶表示装置。
【００１９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いる反復単位（Ｉ）および（ＩＩ）を含む非重合性液
晶オリゴマー、または反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｖ
Ｉ）および（ＶＩＩ）の４種の反復単位のうち少なくと
も３種を含む重合性液晶オリゴマーは、液晶状態で正の
屈折率異方性を有し、ネマチック相またはスメクチック
相をとる側鎖型液晶オリゴマーである。側鎖型液晶オリ
ゴマーの骨格鎖はポリ−１−置換アクリル酸エステル、
ポリシロキサンなどが例示され、直鎖あるいは環状のも
のが利用できるが、オリゴマーの化学的安定性の観点か
ら、環状の構造が好ましい。ポリ−１−置換アクリル酸
エステルではポリメタクリル酸エステルまたはポリアク
リル酸エステルが好ましく、より好ましくはポリメタク
リル酸エステルである。これらの中で、ポリシロキサン
系の側鎖型液晶オリゴマーが好ましい。液晶性を与える
基（以下、メソゲン基ということがある。）は屈曲鎖
（以下、スペーサーということがある。）を介して、主
鎖と結合したものが一般的に使用できる。
用いる反復単位（Ｉ）および（ＩＩ）を含む非重合性液
晶オリゴマー、または反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｖ
Ｉ）および（ＶＩＩ）の４種の反復単位のうち少なくと
も３種を含む重合性液晶オリゴマーは、液晶状態で正の
屈折率異方性を有し、ネマチック相またはスメクチック
相をとる側鎖型液晶オリゴマーである。側鎖型液晶オリ
ゴマーの骨格鎖はポリ−１−置換アクリル酸エステル、
ポリシロキサンなどが例示され、直鎖あるいは環状のも
のが利用できるが、オリゴマーの化学的安定性の観点か
ら、環状の構造が好ましい。ポリ−１−置換アクリル酸
エステルではポリメタクリル酸エステルまたはポリアク
リル酸エステルが好ましく、より好ましくはポリメタク
リル酸エステルである。これらの中で、ポリシロキサン
系の側鎖型液晶オリゴマーが好ましい。液晶性を与える
基（以下、メソゲン基ということがある。）は屈曲鎖
（以下、スペーサーということがある。）を介して、主
鎖と結合したものが一般的に使用できる。
【００２０】非重合性または重合性液晶オリゴマーは、
使用温度すなわち室温から６０℃程度で液晶状態である
ことが必要である。基材との積層時の乾燥や配向処理の
ために、液晶相から等方相への転移温度〔以下、液晶相
／等方相の転移温度（Ｔｉ）と記すことがある。〕が２
００℃以下になるように、好ましくは１７０℃以下とな
るように、さらに好ましくは１５０℃以下となるように
スペーサーの長さやメソゲン基の種類、重合度を選択す
ることが好ましく、さらに転移温度を調整するために液
晶モノマーを混合してもよい。また、非重合性または重
合性液晶オリゴマーの結晶相またはガラス相と液晶相と
の転移温度については、室温以下の方が好ましく、具体
的には２０℃以下が好ましく、より好ましくは１０℃以
下である。
使用温度すなわち室温から６０℃程度で液晶状態である
ことが必要である。基材との積層時の乾燥や配向処理の
ために、液晶相から等方相への転移温度〔以下、液晶相
／等方相の転移温度（Ｔｉ）と記すことがある。〕が２
００℃以下になるように、好ましくは１７０℃以下とな
るように、さらに好ましくは１５０℃以下となるように
スペーサーの長さやメソゲン基の種類、重合度を選択す
ることが好ましく、さらに転移温度を調整するために液
晶モノマーを混合してもよい。また、非重合性または重
合性液晶オリゴマーの結晶相またはガラス相と液晶相と
の転移温度については、室温以下の方が好ましく、具体
的には２０℃以下が好ましく、より好ましくは１０℃以
下である。
【００２１】本発明で用いる非重合性または重合性液晶
オリゴマーの配向の容易さを決める要因として反復単位
の数が重要である。反復単位の数が大きいと粘度が高
く、また液晶転移温度が高いために、配向に高温や長時
間が必要になり、また反復単位の数が小さいと配向が室
温状態で緩和するので好ましくない。反復単位（Ｉ）お
よび（ＩＩ）からなる非重合性液晶オリゴマーの場合の
重合度は平均して４以上１０，０００以下であり、好ま
しくは４以上１，０００以下であり、より好ましくは４
以上２１以下である。さらに、反復単位（Ｉ）、（Ｉ
Ｉ）、（ＶＩ）および（ＶＩＩ）のうち少なくとも３種
の反復単位からなる重合性液晶オリゴマーの場合の反復
単位の数ｎ1 〜ｎ4 は、それぞれ独立に０〜２０の整数
であり、ｎ1 ＋ｎ2 ＋ｎ3 ＋ｎ4 の合計が４〜２１の整
数であり、かつｎ1 〜ｎ4 のうち少なくとも３種が１以
上の整数であるように選ばれる。重合性液晶オリゴマー
の配向性と重合後の配向の固定の観点から、ｎ1 とｎ2
との和とｎ3 とｎ4 との和との比は１：５から５：１の
範囲が好ましく、より好ましくは１：３から３：１であ
る。ｎ1 〜ｎ4 の比の制御は後述のようにこれら液晶オ
リゴマーを合成するときに行なうことができる。
オリゴマーの配向の容易さを決める要因として反復単位
の数が重要である。反復単位の数が大きいと粘度が高
く、また液晶転移温度が高いために、配向に高温や長時
間が必要になり、また反復単位の数が小さいと配向が室
温状態で緩和するので好ましくない。反復単位（Ｉ）お
よび（ＩＩ）からなる非重合性液晶オリゴマーの場合の
重合度は平均して４以上１０，０００以下であり、好ま
しくは４以上１，０００以下であり、より好ましくは４
以上２１以下である。さらに、反復単位（Ｉ）、（Ｉ
Ｉ）、（ＶＩ）および（ＶＩＩ）のうち少なくとも３種
の反復単位からなる重合性液晶オリゴマーの場合の反復
単位の数ｎ1 〜ｎ4 は、それぞれ独立に０〜２０の整数
であり、ｎ1 ＋ｎ2 ＋ｎ3 ＋ｎ4 の合計が４〜２１の整
数であり、かつｎ1 〜ｎ4 のうち少なくとも３種が１以
上の整数であるように選ばれる。重合性液晶オリゴマー
の配向性と重合後の配向の固定の観点から、ｎ1 とｎ2
との和とｎ3 とｎ4 との和との比は１：５から５：１の
範囲が好ましく、より好ましくは１：３から３：１であ
る。ｎ1 〜ｎ4 の比の制御は後述のようにこれら液晶オ
リゴマーを合成するときに行なうことができる。
【００２２】非重合性または重合性液晶オリゴマーは主
鎖とメソゲン基を結ぶスペーサーによっても、液晶転移
温度、配向性が影響される。短いスペーサーではメソゲ
ン基の配向性が良好でなく、また長いスペーサーではメ
ソゲン基の配向後の緩和が起こりやすいことから、スペ
ーサーとして、炭素数２から１０までのアルキレン基ま
たはアルキレンオキシ基が好ましい。特に高配向性の観
点から炭素数２から６までのアルキレン基またはアルキ
レンオキシ基が好ましい。また、合成の容易さから、ア
ルキレンオキシ基がより好ましい。具体的には好ましい
基として−（ＣＨ2 ）2 −、−（ＣＨ2 ）3 −、−（Ｃ
Ｈ 2 ）4 −、−（ＣＨ2 ）5 −、−（ＣＨ2 ）6 −、−
（ＣＨ2 ）3 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）4 −Ｏ−、−（ＣＨ
2 ）5 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）6 −Ｏ−などが例示され
る。
鎖とメソゲン基を結ぶスペーサーによっても、液晶転移
温度、配向性が影響される。短いスペーサーではメソゲ
ン基の配向性が良好でなく、また長いスペーサーではメ
ソゲン基の配向後の緩和が起こりやすいことから、スペ
ーサーとして、炭素数２から１０までのアルキレン基ま
たはアルキレンオキシ基が好ましい。特に高配向性の観
点から炭素数２から６までのアルキレン基またはアルキ
レンオキシ基が好ましい。また、合成の容易さから、ア
ルキレンオキシ基がより好ましい。具体的には好ましい
基として−（ＣＨ2 ）2 −、−（ＣＨ2 ）3 −、−（Ｃ
Ｈ 2 ）4 −、−（ＣＨ2 ）5 −、−（ＣＨ2 ）6 −、−
（ＣＨ2 ）3 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）4 −Ｏ−、−（ＣＨ
2 ）5 −Ｏ−、−（ＣＨ2 ）6 −Ｏ−などが例示され
る。
【００２３】本発明の配向した液晶オリゴマーフィルム
または液晶オリゴマー重合物フィルムでは、屈折率の異
方性が大きいことが工業上有利である。このためには、
メソゲン基は屈折率異方性の大きな基が好ましい。この
ようなメソゲン基を与える構造としては、反復単位
（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＶＩ）または（ＶＩＩ）式中のＡ
ｒ 1 〜Ａｒ10 が、それぞれ独立に１，４−フェニレン
基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−
ジイル基またはピリミジン−２，５−ジイル基のものが
挙げられる。また、これらの環を結合する２価の基Ｌ1
〜Ｌ6 が、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、
−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−もしくは
または液晶オリゴマー重合物フィルムでは、屈折率の異
方性が大きいことが工業上有利である。このためには、
メソゲン基は屈折率異方性の大きな基が好ましい。この
ようなメソゲン基を与える構造としては、反復単位
（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＶＩ）または（ＶＩＩ）式中のＡ
ｒ 1 〜Ａｒ10 が、それぞれ独立に１，４−フェニレン
基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−
ジイル基またはピリミジン−２，５−ジイル基のものが
挙げられる。また、これらの環を結合する２価の基Ｌ1
〜Ｌ6 が、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、
−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−もしくは
【００２４】
【化１７】 である基、またはＡｒ1 とＡｒ2 が直接結合した基、Ａ
ｒ2 とＡｒ3 が直接結合した基、Ａｒ4 とＡｒ5 が直接
結合した基、Ａｒ6 とＡｒ7 が直接結合した基、Ａｒ7
とＡｒ8 が直接結合した基、Ａｒ9 とＡｒ10が直接結合
した基が挙げられる。より好ましくは、Ａｒ1 〜Ａｒ10
がそれぞれ独立に１，４−フェニレン基、１，４−シク
ロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミ
ジン−２，５−ジイル基であり、さらに好ましくは１，
４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基であ
る。また、結合基Ｌ1 〜Ｌ6 はそれぞれ独立に−ＣＨ2
−ＣＨ 2 −，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−基が好ましく、さ
らに好ましくは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−基である。また
結合基が無い場合も好ましく用いられる。
ｒ2 とＡｒ3 が直接結合した基、Ａｒ4 とＡｒ5 が直接
結合した基、Ａｒ6 とＡｒ7 が直接結合した基、Ａｒ7
とＡｒ8 が直接結合した基、Ａｒ9 とＡｒ10が直接結合
した基が挙げられる。より好ましくは、Ａｒ1 〜Ａｒ10
がそれぞれ独立に１，４−フェニレン基、１，４−シク
ロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミ
ジン−２，５−ジイル基であり、さらに好ましくは１，
４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基であ
る。また、結合基Ｌ1 〜Ｌ6 はそれぞれ独立に−ＣＨ2
−ＣＨ 2 −，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−基が好ましく、さ
らに好ましくは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−基である。また
結合基が無い場合も好ましく用いられる。
【００２５】反復単位（Ｉ）におけるＲ2 基、反復単位
（ＩＩ）におけるＲ4 基は、メソゲン基の屈折率異方性
や配向性に影響し、屈折率異方性の高い配向液晶オリゴ
マーフィルムを得る観点から、それぞれ独立に水素、ハ
ロゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基または
炭素数１〜１０のアルコキシ基が選ばれる。好ましく
は、水素、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、より好ましく
は水素、シアノ基または炭素数１〜１０のアルコキシ基
である。
（ＩＩ）におけるＲ4 基は、メソゲン基の屈折率異方性
や配向性に影響し、屈折率異方性の高い配向液晶オリゴ
マーフィルムを得る観点から、それぞれ独立に水素、ハ
ロゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基または
炭素数１〜１０のアルコキシ基が選ばれる。好ましく
は、水素、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、より好ましく
は水素、シアノ基または炭素数１〜１０のアルコキシ基
である。
【００２６】反復単位（ＶＩ）または（ＶＩＩ）におけ
る末端基は、液晶オリゴマーの配向を重合により固定す
る基である。重合基としてはそれぞれ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ
6 ）＝ＣＨ2 または−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ8 ）＝ＣＨ2 （Ｒ
6 またはＲ8 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜５
のアルキル基を表す。）であり、アクリレート基、メタ
クリレート基が例示される。これらの基の重合方法には
特に制限はないが、ラジカル開始剤による光重合や熱重
合が例示され、操作の簡便さや配向の固定の効率の観点
から、光重合が好ましい。光重合の開始剤としては公知
のものが利用できる。
る末端基は、液晶オリゴマーの配向を重合により固定す
る基である。重合基としてはそれぞれ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ
6 ）＝ＣＨ2 または−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ8 ）＝ＣＨ2 （Ｒ
6 またはＲ8 はそれぞれ独立に水素または炭素数１〜５
のアルキル基を表す。）であり、アクリレート基、メタ
クリレート基が例示される。これらの基の重合方法には
特に制限はないが、ラジカル開始剤による光重合や熱重
合が例示され、操作の簡便さや配向の固定の効率の観点
から、光重合が好ましい。光重合の開始剤としては公知
のものが利用できる。
【００２７】反復単位（Ｉ）の例示を表１〜６に、反復
単位（ＩＩ）の例示を表７〜８に示す。ここで、すべて
の例示の反復単位の主鎖はポリシロキサン鎖である。こ
こで、表中のＲ2 基欄の数字が例示する反復単位の番号
を示す。すなわち、例えば、表１における右側のＲ2 基
欄中の１〜８０がそれぞれ反復単位の番号であり、表１
には計８０個の反復単位が例示されている。例えば、番
号３１は、反復単位（Ｉ）において、Ｒ1 がメチル基で
あり、スペーサーに当たる部分のｋ１が３であり、ｍ１
が１であり、したがってスペーサーとして−（ＣＨ2 ）
3 −Ｏ−であり、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 がそれぞれ
１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、
１，４−シクロヘキシレン基であり、ｐ１が０であり、
したがって（Ｌ1 ）p1はなく、（Ｌ2 ）p2 が−ＣＨ2
ＣＨ2 −であり、Ｒ2 が−ＣＮである反復単位を示すも
のである。すなわち、番号３１は、下記化１８で示され
る反復単位を示す。
単位（ＩＩ）の例示を表７〜８に示す。ここで、すべて
の例示の反復単位の主鎖はポリシロキサン鎖である。こ
こで、表中のＲ2 基欄の数字が例示する反復単位の番号
を示す。すなわち、例えば、表１における右側のＲ2 基
欄中の１〜８０がそれぞれ反復単位の番号であり、表１
には計８０個の反復単位が例示されている。例えば、番
号３１は、反復単位（Ｉ）において、Ｒ1 がメチル基で
あり、スペーサーに当たる部分のｋ１が３であり、ｍ１
が１であり、したがってスペーサーとして−（ＣＨ2 ）
3 −Ｏ−であり、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 がそれぞれ
１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、
１，４−シクロヘキシレン基であり、ｐ１が０であり、
したがって（Ｌ1 ）p1はなく、（Ｌ2 ）p2 が−ＣＨ2
ＣＨ2 −であり、Ｒ2 が−ＣＮである反復単位を示すも
のである。すなわち、番号３１は、下記化１８で示され
る反復単位を示す。
【化１８】
【００２８】
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】
【表５】
【００３３】
【表６】
【００３４】
【表７】
【００３５】
【表８】
【００３６】これらの反復単位（Ｉ）のなかで、Ｌ1 ま
たはＬ2 を有する番号１５１〜１６５、２３６〜２５
０、４０１〜４１５、４８６〜５００の反復単位が好ま
しく、より好ましくは番号１５３〜１５５、１５８〜１
６０、１６３〜１６５、２３８〜２４０、２４３〜２４
５、２４８〜２５０、４０３〜４０５、４０８〜４１
０、４１３〜４１５、４８８〜４９０、４９３〜４９
５、４９８〜５００の反復単位である。またこれらの反
復単位（ＩＩ）のなかで、５０６〜５１５、５４１〜５
４５、５５１〜５６０、５８６〜５９０、５９６〜６１
０、６３１〜６３５、６４１〜６５０、６７６〜６８０
の反復単位が好ましく、より好ましくは５０８〜５１
０、５５３〜５５５、５９８〜６００、６４３〜６４５
の反復単位である。
たはＬ2 を有する番号１５１〜１６５、２３６〜２５
０、４０１〜４１５、４８６〜５００の反復単位が好ま
しく、より好ましくは番号１５３〜１５５、１５８〜１
６０、１６３〜１６５、２３８〜２４０、２４３〜２４
５、２４８〜２５０、４０３〜４０５、４０８〜４１
０、４１３〜４１５、４８８〜４９０、４９３〜４９
５、４９８〜５００の反復単位である。またこれらの反
復単位（ＩＩ）のなかで、５０６〜５１５、５４１〜５
４５、５５１〜５６０、５８６〜５９０、５９６〜６１
０、６３１〜６３５、６４１〜６５０、６７６〜６８０
の反復単位が好ましく、より好ましくは５０８〜５１
０、５５３〜５５５、５９８〜６００、６４３〜６４５
の反復単位である。
【００３７】反復単位（ＶＩ）の例示を表９〜１２に、
反復単位（ＶＩＩ）の例示を表１３、１４に示す。ここ
で、すべての例示の反復単位の主鎖はポリシロキサン鎖
である。ここで、前記と同様に表中の数字が例示する反
復単位を示す。すなわち、例えば、表９における右側の
欄中の６８１〜７３０がそれぞれ反復単位の例示であ
り、表９には計５０個の反復単位が例示されている。例
えば、番号７２６は、反復単位（ＶＩ）において、Ｒ5
がメチル基であり、スペーサーに当たる部分のｋ３が３
であり、ｍ３が１であり、したがってスペーサーとして
−（ＣＨ2 ）3 −Ｏ−であり、Ａｒ6 、Ａｒ7 、Ａｒ8
がそれぞれ１，４−フェニレン基、１，４−フェニレン
基、１，４−フェニレン基であり、（Ｌ4 ）p4がＣＯＯ
であり、ｐ５が０であり、したがって（Ｌ5 ）p5はな
く、Ｒ6 がメチル基である反復単位を示すものである。
すなわち、番号７２６は、下記化１９で示される反復単
位を示す。
反復単位（ＶＩＩ）の例示を表１３、１４に示す。ここ
で、すべての例示の反復単位の主鎖はポリシロキサン鎖
である。ここで、前記と同様に表中の数字が例示する反
復単位を示す。すなわち、例えば、表９における右側の
欄中の６８１〜７３０がそれぞれ反復単位の例示であ
り、表９には計５０個の反復単位が例示されている。例
えば、番号７２６は、反復単位（ＶＩ）において、Ｒ5
がメチル基であり、スペーサーに当たる部分のｋ３が３
であり、ｍ３が１であり、したがってスペーサーとして
−（ＣＨ2 ）3 −Ｏ−であり、Ａｒ6 、Ａｒ7 、Ａｒ8
がそれぞれ１，４−フェニレン基、１，４−フェニレン
基、１，４−フェニレン基であり、（Ｌ4 ）p4がＣＯＯ
であり、ｐ５が０であり、したがって（Ｌ5 ）p5はな
く、Ｒ6 がメチル基である反復単位を示すものである。
すなわち、番号７２６は、下記化１９で示される反復単
位を示す。
【化１９】
【００３８】
【表９】
【００３９】
【表１０】
【００４０】
【表１１】
【００４１】
【表１２】
【００４２】
【表１３】
【００４３】
【表１４】
【００４４】これらの反復単位（ＶＩ）の中で、メタク
リレート基を有する番号７２６、７２８、７３０、７７
６、７７８、７８０、８２６、８２８、８３０、８７
６、８７８、８８０の反復単位が好ましく、より好まし
くは番号７２８、７３０、７７８、７８０、８２８、８
３０、８７８、８８０の反復単位である。また反復単位
（ＶＩＩ）の中で、メタクリレート基を有する番号８８
４、８８６、８９８、９０２、９０４、９１６、９２
０、９２２、９３４、９３８、９４０、９５２の反復単
位が好ましく、より好ましくは８８４、９０２、９２
０、９３８の反復単位である。
リレート基を有する番号７２６、７２８、７３０、７７
６、７７８、７８０、８２６、８２８、８３０、８７
６、８７８、８８０の反復単位が好ましく、より好まし
くは番号７２８、７３０、７７８、７８０、８２８、８
３０、８７８、８８０の反復単位である。また反復単位
（ＶＩＩ）の中で、メタクリレート基を有する番号８８
４、８８６、８９８、９０２、９０４、９１６、９２
０、９２２、９３４、９３８、９４０、９５２の反復単
位が好ましく、より好ましくは８８４、９０２、９２
０、９３８の反復単位である。
【００４５】これらの非重合性または重合性液晶オリゴ
マーの合成方法としては、それぞれ特公昭６３−４１４
００号公報、特公昭６３−４７７５９号公報または特開
平２−１４９５４４号公報に記載の方法が採用できる。
例えばポリシロキサン鎖に該側鎖のメソゲン基を付加さ
せる方法やメソゲン基を屈曲性のスペーサー基を介して
有するアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルを重
合する方法が例示される。ポリシロキサン鎖にメソゲン
基を付加する場合には、反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、
（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の側鎖のメソゲン基と同じ構
造を有し、スペーサーであるアルキレンオキシ基を生成
する末端に不飽和２重結合を有するω−アルケニルオキ
シ基を有する反応原料をポリシロキサンと白金触媒下に
反応させることで得られる。
マーの合成方法としては、それぞれ特公昭６３−４１４
００号公報、特公昭６３−４７７５９号公報または特開
平２−１４９５４４号公報に記載の方法が採用できる。
例えばポリシロキサン鎖に該側鎖のメソゲン基を付加さ
せる方法やメソゲン基を屈曲性のスペーサー基を介して
有するアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルを重
合する方法が例示される。ポリシロキサン鎖にメソゲン
基を付加する場合には、反復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、
（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の側鎖のメソゲン基と同じ構
造を有し、スペーサーであるアルキレンオキシ基を生成
する末端に不飽和２重結合を有するω−アルケニルオキ
シ基を有する反応原料をポリシロキサンと白金触媒下に
反応させることで得られる。
【００４６】これらの非重合性または重合性液晶オリゴ
マーは、反応時に、それぞれのメソゲン基に対応する反
応原料仕込み比率で２種類〜４種類のメソゲン基の結合
比率を制御することができる。同様に、主鎖がアクリル
酸エステル系またはα−アルキル−アクリル酸エステル
系では相当するメソゲン基を有する２種類〜４種類のモ
ノマーを共重合する際にモノマーの仕込み比率を制御す
ることで各メソゲン基の比率を制御できる。このように
して得られた非重合性または重合性液晶オリゴマーは、
ネマチック相またはスメクチック相を示すものが好まし
く用いられる。これらの液晶オリゴマーは単独で用いて
もよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
マーは、反応時に、それぞれのメソゲン基に対応する反
応原料仕込み比率で２種類〜４種類のメソゲン基の結合
比率を制御することができる。同様に、主鎖がアクリル
酸エステル系またはα−アルキル−アクリル酸エステル
系では相当するメソゲン基を有する２種類〜４種類のモ
ノマーを共重合する際にモノマーの仕込み比率を制御す
ることで各メソゲン基の比率を制御できる。このように
して得られた非重合性または重合性液晶オリゴマーは、
ネマチック相またはスメクチック相を示すものが好まし
く用いられる。これらの液晶オリゴマーは単独で用いて
もよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００４７】次に本発明で用いる部材を説明する本発明
で用いる基材としてはガラスなどの無機質基板や、高分
子フィルム、正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分子
からなるフィルムを延伸した位相差フィルムなどが用い
られる。
で用いる基材としてはガラスなどの無機質基板や、高分
子フィルム、正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分子
からなるフィルムを延伸した位相差フィルムなどが用い
られる。
【００４８】無機質基板としては透明もしくは半透明の
ガラス板、または液晶セルに使用されるガラス板の外側
や、Ｓｉ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｚｒなどの酸化物やフッ化物な
どの無機化合物やセラミックスが例示される。
ガラス板、または液晶セルに使用されるガラス板の外側
や、Ｓｉ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｚｒなどの酸化物やフッ化物な
どの無機化合物やセラミックスが例示される。
【００４９】高分子フィルムとしては、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチ
レン、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが例
示され、好ましくはポリカーボネート、ポリスルホン、
３酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレンが例示される。
ト、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、２酢酸セルロース、３酢酸セルロース、ポリスチ
レン、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが例
示され、好ましくはポリカーボネート、ポリスルホン、
３酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
スチレンが例示される。
【００５０】本発明の製造方法では非重合性または重合
性液晶オリゴマーの光学軸をフィルム面から傾斜するた
めに熱処理を行うが、熱処理温度で光学的性質や形状の
変化が起こらない高分子が好ましく、ガラス転移温度が
高い熱可塑性エンジニアリング高分子、または可塑材が
添加されている高分子では流動温度が高い高分子が挙げ
られる。高分子のガラス転移温度は特に制限はないが、
好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１１０℃以
上である。この条件を満たす高分子として３酢酸セルロ
ース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレンテレフタレートが好ましく、さ
らに好ましくは３酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホンである。
性液晶オリゴマーの光学軸をフィルム面から傾斜するた
めに熱処理を行うが、熱処理温度で光学的性質や形状の
変化が起こらない高分子が好ましく、ガラス転移温度が
高い熱可塑性エンジニアリング高分子、または可塑材が
添加されている高分子では流動温度が高い高分子が挙げ
られる。高分子のガラス転移温度は特に制限はないが、
好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１１０℃以
上である。この条件を満たす高分子として３酢酸セルロ
ース、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレンテレフタレートが好ましく、さ
らに好ましくは３酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホンである。
【００５１】これらの基板に用いる高分子フィルムの厚
みとしては、１μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、特に好ま
しくは４０μｍ以上２００μｍ以下である。
みとしては、１μｍ以上５００μｍ以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、特に好ま
しくは４０μｍ以上２００μｍ以下である。
【００５２】後述するように高分子フィルム上に非重合
性または重合性液晶オリゴマーを成膜するために、該液
晶オリゴマーを溶媒に溶解し塗布することも可能である
が、塗布の際に高分子フィルムに耐溶剤性を付与するた
めに表面に公知の耐溶剤性膜を形成してもよい。具体的
に耐溶剤性膜の形成方法としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、
Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無機化合物を表面に
蒸着する方法；ポリビニルアルコール・ポリエチレンビ
ニルアルコール共重合体、プルラン、デキストリンなど
の水溶性の高分子を塗布する方法またはポリウレタン
系、アクリルオリゴマー系、アクリル−シリコン系もし
くはオルガノポリシロキサン系樹脂などのモノマーを塗
布した後熱重合や光重合にてモノマー間を三次元的に架
橋する方法などが例示される。
性または重合性液晶オリゴマーを成膜するために、該液
晶オリゴマーを溶媒に溶解し塗布することも可能である
が、塗布の際に高分子フィルムに耐溶剤性を付与するた
めに表面に公知の耐溶剤性膜を形成してもよい。具体的
に耐溶剤性膜の形成方法としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、
Ｚｒなどの酸化物やフッ化物などの無機化合物を表面に
蒸着する方法；ポリビニルアルコール・ポリエチレンビ
ニルアルコール共重合体、プルラン、デキストリンなど
の水溶性の高分子を塗布する方法またはポリウレタン
系、アクリルオリゴマー系、アクリル−シリコン系もし
くはオルガノポリシロキサン系樹脂などのモノマーを塗
布した後熱重合や光重合にてモノマー間を三次元的に架
橋する方法などが例示される。
【００５３】本発明では一軸配向した熱可塑性高分子よ
りなる位相差フィルムを基材として用いることが可能で
あるが、基材として使われる位相差フィルムの材質や膜
厚、レターデーションなどの特性について特に制限はな
く、最終的な液晶パネルにしたときに要求される特性か
ら適宜選択すればよい。これらの位相差フィルムを基材
として用いる場合にも上述した表面に耐溶剤性を付与す
るための処理を適宜行ってもよい。
りなる位相差フィルムを基材として用いることが可能で
あるが、基材として使われる位相差フィルムの材質や膜
厚、レターデーションなどの特性について特に制限はな
く、最終的な液晶パネルにしたときに要求される特性か
ら適宜選択すればよい。これらの位相差フィルムを基材
として用いる場合にも上述した表面に耐溶剤性を付与す
るための処理を適宜行ってもよい。
【００５４】これらの熱可塑性高分子からなる位相差フ
ィルムの原料として用いるフィルム（以下、原反フィル
ムということがある。）の製造方法としては、溶剤キャ
スト法、押出成形法、プレス成形法などの成形方法を用
いればよい。該原反フィルムを、フィルム面内に光学軸
を持つ一軸配向した位相差フィルムとする延伸方法とし
ては、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮
延伸法などが例示される。均質な位相差フィルムを得る
には、溶剤キャスト法により成膜したフィルムをテンタ
ー延伸法により延伸することが好ましい。
ィルムの原料として用いるフィルム（以下、原反フィル
ムということがある。）の製造方法としては、溶剤キャ
スト法、押出成形法、プレス成形法などの成形方法を用
いればよい。該原反フィルムを、フィルム面内に光学軸
を持つ一軸配向した位相差フィルムとする延伸方法とし
ては、テンター延伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮
延伸法などが例示される。均質な位相差フィルムを得る
には、溶剤キャスト法により成膜したフィルムをテンタ
ー延伸法により延伸することが好ましい。
【００５５】本発明において液晶オリゴマーまたは液晶
オリゴマー重合物の光学軸は基板面から傾斜している
が、傾斜方向を基板面で一定の方向に揃えるための配向
処理が必須である。配向処理としてはラビング法や斜方
蒸着法など公知の水平配向法を用いることが可能であ
る。
オリゴマー重合物の光学軸は基板面から傾斜している
が、傾斜方向を基板面で一定の方向に揃えるための配向
処理が必須である。配向処理としてはラビング法や斜方
蒸着法など公知の水平配向法を用いることが可能であ
る。
【００５６】ラビング法を用いる場合、非重合性または
重合性液晶オリゴマーを成膜する基材を直接ラビングし
ても構わないが、基材上に配向膜を成膜してからラビン
グするほうが好ましい。配向膜としては液晶分子を水平
配向させるものであれば公知の物が使用可能である。例
えばポリイミドやポリアミドなどの熱硬化性の樹脂やポ
リビニルアルコールなど水平配向用の配向用材料が例示
される。更に高分子フィルム基材に耐溶剤性を付与する
ための水溶性の高分子や、ポリウレタン系、アクリルオ
リゴマー系、アクリル−シリコン系もしくはオルガノポ
リシロキサン系樹脂などのモノマーを塗布した後熱重合
や光重合にてモノマー間を三次元的に架橋して得られた
架橋物などを配向膜として用いてもよい。ラビング法に
用いられるローラーの材質については特に制限はなく、
公知のバフ布や植毛ローラが用いられる。
重合性液晶オリゴマーを成膜する基材を直接ラビングし
ても構わないが、基材上に配向膜を成膜してからラビン
グするほうが好ましい。配向膜としては液晶分子を水平
配向させるものであれば公知の物が使用可能である。例
えばポリイミドやポリアミドなどの熱硬化性の樹脂やポ
リビニルアルコールなど水平配向用の配向用材料が例示
される。更に高分子フィルム基材に耐溶剤性を付与する
ための水溶性の高分子や、ポリウレタン系、アクリルオ
リゴマー系、アクリル−シリコン系もしくはオルガノポ
リシロキサン系樹脂などのモノマーを塗布した後熱重合
や光重合にてモノマー間を三次元的に架橋して得られた
架橋物などを配向膜として用いてもよい。ラビング法に
用いられるローラーの材質については特に制限はなく、
公知のバフ布や植毛ローラが用いられる。
【００５７】配向膜の膜厚については、一般的に０. ０
１μｍ以上であれば配向性能を発揮するが、配向膜が厚
すぎると作業性が悪くなることから、０. ０１〜５. ０
μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ０２〜３. ０μ
ｍである。耐溶剤性を付与するための表面処理膜を配向
膜として用いる場合には薄すぎると耐溶剤性がなくなる
ので、この場合の配向膜の膜厚は０．１〜１０. ０μｍ
が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５. ０μｍであ
る。
１μｍ以上であれば配向性能を発揮するが、配向膜が厚
すぎると作業性が悪くなることから、０. ０１〜５. ０
μｍが好ましく、さらに好ましくは０. ０２〜３. ０μ
ｍである。耐溶剤性を付与するための表面処理膜を配向
膜として用いる場合には薄すぎると耐溶剤性がなくなる
ので、この場合の配向膜の膜厚は０．１〜１０. ０μｍ
が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５. ０μｍであ
る。
【００５８】斜方蒸着法としては無機物の斜方蒸着膜を
使う方法や、これら無機物の斜方蒸着膜を作成したあと
でレシチンなどの界面活性剤やシランカップリング剤や
チタンカップリング剤などの公知の垂直配向剤で表面処
理する方法が例示される。無機物の斜方蒸着を行なう際
には、一様な斜め配向が得られる観点から無機物を基材
に対して浅い角度から入射することが好ましく、具体的
には基材面から仰角で４５°以内が好ましく、より好ま
しくは３０°以内である。これらの斜方蒸着膜を用いて
得られる液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フ
ィルムの光学軸の傾く方向は蒸着方向に一致するので、
蒸着方向を設定することで、フィルム面内の任意の方向
に光学軸を設定することができる。しかし、光学軸の傾
斜角と蒸着角とは一般には一致せず、用いる配向剤や非
重合性または重合性液晶オリゴマーにより異なる。
使う方法や、これら無機物の斜方蒸着膜を作成したあと
でレシチンなどの界面活性剤やシランカップリング剤や
チタンカップリング剤などの公知の垂直配向剤で表面処
理する方法が例示される。無機物の斜方蒸着を行なう際
には、一様な斜め配向が得られる観点から無機物を基材
に対して浅い角度から入射することが好ましく、具体的
には基材面から仰角で４５°以内が好ましく、より好ま
しくは３０°以内である。これらの斜方蒸着膜を用いて
得られる液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フ
ィルムの光学軸の傾く方向は蒸着方向に一致するので、
蒸着方向を設定することで、フィルム面内の任意の方向
に光学軸を設定することができる。しかし、光学軸の傾
斜角と蒸着角とは一般には一致せず、用いる配向剤や非
重合性または重合性液晶オリゴマーにより異なる。
【００５９】本発明における斜方蒸着に用いる無機物と
しては蒸着時に柱状成長することが好ましく、ＳｉＯ、
ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２）、ＭｇＯ、Ｍ
ｇＯ y （ここで０＜ｙ＜１）、ＭｇＦ2 、Ｐｔ、Ｚｎ
Ｏ、ＭｏＯ3 、ＷＯ3 、Ｔａ2Ｏ5 、ＳｎＯ2 、ＣｅＯ
2 、ＬｉＮｂＯ3 、ＬｉＴａＯ3 、ＺｒＯ2 、Ｂｉ2 Ｏ
3 、ＴｉＺｒＯ4 、ＨｆＯ2 などが例示され、この中で
もＳｉＯ、ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２）、
ＭｇＯ、ＭｇＯy （ここで０＜ｙ＜１）、ＭｇＦ 2 、Ｐ
ｔ、ＺｎＯが好ましく用いられ、更に好ましくはＳｉ
Ｏ、ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２） が用い
られる。
しては蒸着時に柱状成長することが好ましく、ＳｉＯ、
ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２）、ＭｇＯ、Ｍ
ｇＯ y （ここで０＜ｙ＜１）、ＭｇＦ2 、Ｐｔ、Ｚｎ
Ｏ、ＭｏＯ3 、ＷＯ3 、Ｔａ2Ｏ5 、ＳｎＯ2 、ＣｅＯ
2 、ＬｉＮｂＯ3 、ＬｉＴａＯ3 、ＺｒＯ2 、Ｂｉ2 Ｏ
3 、ＴｉＺｒＯ4 、ＨｆＯ2 などが例示され、この中で
もＳｉＯ、ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２）、
ＭｇＯ、ＭｇＯy （ここで０＜ｙ＜１）、ＭｇＦ 2 、Ｐ
ｔ、ＺｎＯが好ましく用いられ、更に好ましくはＳｉ
Ｏ、ＳｉＯ2 、ＳｉＯx （ここで１＜ｘ＜２） が用い
られる。
【００６０】斜方蒸着法については、抵抗加熱による蒸
着や電子線加熱による蒸着方法やスパッタリング法が例
示される。高融点の無機物を蒸着するため電子線加熱に
よる蒸着法やスパッタリング法が好ましい。蒸着の際の
真空度は、蒸着膜の均一性の観点から圧力の上限を定
め、生産性の観点から圧力の下限を定めることが好まし
い。具体的には１×１０-3〜１×１０-7Ｔｏｒｒが例示
され、好ましくは５×１０-4〜５×１０-6Ｔｏｒｒであ
る。無機物の蒸着速度については、蒸着速度が遅いと生
産性が悪くなり、蒸着速度が速いと蒸着膜の均一性が悪
くなることから、蒸着速度は０．０１〜１０ｎｍ／秒が
好ましく、更に好ましくは０．１〜５ｎｍ／秒である。
蒸着した無機物の膜厚については、膜厚が薄いと配向が
悪くなり、膜厚が厚いと生産性が悪くなることから、
０．０１μｍ〜１０００μｍが例示され、好ましくは
０．０５〜１００μｍ、更に好ましくは０．１〜５μｍ
である。
着や電子線加熱による蒸着方法やスパッタリング法が例
示される。高融点の無機物を蒸着するため電子線加熱に
よる蒸着法やスパッタリング法が好ましい。蒸着の際の
真空度は、蒸着膜の均一性の観点から圧力の上限を定
め、生産性の観点から圧力の下限を定めることが好まし
い。具体的には１×１０-3〜１×１０-7Ｔｏｒｒが例示
され、好ましくは５×１０-4〜５×１０-6Ｔｏｒｒであ
る。無機物の蒸着速度については、蒸着速度が遅いと生
産性が悪くなり、蒸着速度が速いと蒸着膜の均一性が悪
くなることから、蒸着速度は０．０１〜１０ｎｍ／秒が
好ましく、更に好ましくは０．１〜５ｎｍ／秒である。
蒸着した無機物の膜厚については、膜厚が薄いと配向が
悪くなり、膜厚が厚いと生産性が悪くなることから、
０．０１μｍ〜１０００μｍが例示され、好ましくは
０．０５〜１００μｍ、更に好ましくは０．１〜５μｍ
である。
【００６１】次いで本発明の位相差フィルムの製造方法
について説明する。高分子基材上に非重合性または重合
性液晶オリゴマーを成膜し熱処理を行い配向させる方法
を例として説明する。まず基材上に配向膜を塗布する。
高分子フィルム上に配向膜を塗布する場合に、配向膜の
均一性や基材に対する密着性を向上する観点から、高分
子フィルムまたは耐溶剤性を付与するための表面処理し
た高分子フィルムの表面をプラズマ処理、コロナ処理、
紫外線照射、酸やアルカリを用いた処理など公知の表面
改質技術によりこれら高分子フィルムの表面張力を大き
くする処理を施してもよい。配向膜の塗布法としてはロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法、スピ
ンコート法、スプレーコート法、プリント法、デッピン
グ法などが例示される。この中でも基材が高分子フィル
ムの場合、生産性良く均一な膜厚が得られることからロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法が好ま
しい。また、基材がガラス板など無機基板の場合、上記
した方法のほかにスピンコート法も好ましく用いられ
る。
について説明する。高分子基材上に非重合性または重合
性液晶オリゴマーを成膜し熱処理を行い配向させる方法
を例として説明する。まず基材上に配向膜を塗布する。
高分子フィルム上に配向膜を塗布する場合に、配向膜の
均一性や基材に対する密着性を向上する観点から、高分
子フィルムまたは耐溶剤性を付与するための表面処理し
た高分子フィルムの表面をプラズマ処理、コロナ処理、
紫外線照射、酸やアルカリを用いた処理など公知の表面
改質技術によりこれら高分子フィルムの表面張力を大き
くする処理を施してもよい。配向膜の塗布法としてはロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法、スピ
ンコート法、スプレーコート法、プリント法、デッピン
グ法などが例示される。この中でも基材が高分子フィル
ムの場合、生産性良く均一な膜厚が得られることからロ
ールコート法、グラビアコート法、バーコート法が好ま
しい。また、基材がガラス板など無機基板の場合、上記
した方法のほかにスピンコート法も好ましく用いられ
る。
【００６２】次いで配向膜がポリイミドなどの熱硬化性
樹脂の場合、熱処理を行う。熱処理温度は使われる配向
膜に応じて適宜選択することができる。高分子フィルム
に耐溶剤性を付与するための光硬化性樹脂を配向膜とし
て用いる場合には紫外線硬化など公知の硬化方法が使わ
れる。
樹脂の場合、熱処理を行う。熱処理温度は使われる配向
膜に応じて適宜選択することができる。高分子フィルム
に耐溶剤性を付与するための光硬化性樹脂を配向膜とし
て用いる場合には紫外線硬化など公知の硬化方法が使わ
れる。
【００６３】次いで配向膜をラビングする。ラビングロ
ーラーの配向膜への押し込み量や、ローラーの回転数、
基材に対するローラーの移動速度、ラビング回数などに
特に制限はない。基材として熱可塑性高分子よりなる一
軸配向した位相差フィルムを用いる場合、ラビング方向
と位相差フィルムの光学軸のなす角度についても制限は
なく、液晶パネルにした場合に要求される特性により適
宜選択すればよい。
ーラーの配向膜への押し込み量や、ローラーの回転数、
基材に対するローラーの移動速度、ラビング回数などに
特に制限はない。基材として熱可塑性高分子よりなる一
軸配向した位相差フィルムを用いる場合、ラビング方向
と位相差フィルムの光学軸のなす角度についても制限は
なく、液晶パネルにした場合に要求される特性により適
宜選択すればよい。
【００６４】次いで配向膜を有する基材上に非重合性ま
たは重合性液晶オリゴマーを成膜する。該液晶オリゴマ
ーの成膜方法として、液晶オリゴマーを溶液状態で塗布
する方法、等方相状態で塗布する方法が例示され、溶液
状態から塗布する方法が好ましい。塗布方法としては通
常のロールコート法、グラビアコート法、バーコート
法、スピンコート法、スプレーコート法、プリント法、
デッピング法などが例示される。この中でも高分子基材
上に生産性良く均一な膜厚が得られることからロールコ
ート法、グラビアコート法、バーコート法が好ましい。
また基材がガラス板など無機基板の場合は上記した方法
のほかにスピンコート法も好ましく用いられる。
たは重合性液晶オリゴマーを成膜する。該液晶オリゴマ
ーの成膜方法として、液晶オリゴマーを溶液状態で塗布
する方法、等方相状態で塗布する方法が例示され、溶液
状態から塗布する方法が好ましい。塗布方法としては通
常のロールコート法、グラビアコート法、バーコート
法、スピンコート法、スプレーコート法、プリント法、
デッピング法などが例示される。この中でも高分子基材
上に生産性良く均一な膜厚が得られることからロールコ
ート法、グラビアコート法、バーコート法が好ましい。
また基材がガラス板など無機基板の場合は上記した方法
のほかにスピンコート法も好ましく用いられる。
【００６５】非重合性または重合性液晶オリゴマーフィ
ルムの厚みとしては、０. １〜２０μｍが好ましく、さ
らに好ましくは０. ５〜１０μｍであり、特に好ましく
は１〜７μｍである。０. １μｍより薄いと光学的な特
性の発現が小さくなり、２０μｍを超えると配向しにく
いので好ましくない。
ルムの厚みとしては、０. １〜２０μｍが好ましく、さ
らに好ましくは０. ５〜１０μｍであり、特に好ましく
は１〜７μｍである。０. １μｍより薄いと光学的な特
性の発現が小さくなり、２０μｍを超えると配向しにく
いので好ましくない。
【００６６】次いで非重合性または重合性液晶オリゴマ
ーフィルムの熱処理を行う。熱処理温度をＴt 、非重合
性または重合性液晶オリゴマーの結晶相またはガラス相
から液晶相への転移温度をＴg 、基材や配向膜の変形が
生じる温度をＴk と書くことにすると、熱処理温度はＴ
g ＋３０℃≦Ｔt ≦Ｔk −３０℃が好ましく、Ｔg ＋４
０℃≦Ｔt ≦Ｔk −４０℃の範囲で熱処理することがよ
り好ましい。熱処理時間はあまり短いと傾斜配向が実現
せず、あまり長いと工業的に好ましくないので、０．２
分以上２０時間以下が好ましく、１分以上１時間以下が
さらに好ましい。以上の熱処理により、非重合性または
重合性液晶オリゴマーのメソゲン基はフィルム面に対し
て傾いた方向に配向し、フィルム面に対して傾いた光学
軸を持つようになる。熱処理における加熱速度、冷却速
度については特に制限はない。
ーフィルムの熱処理を行う。熱処理温度をＴt 、非重合
性または重合性液晶オリゴマーの結晶相またはガラス相
から液晶相への転移温度をＴg 、基材や配向膜の変形が
生じる温度をＴk と書くことにすると、熱処理温度はＴ
g ＋３０℃≦Ｔt ≦Ｔk −３０℃が好ましく、Ｔg ＋４
０℃≦Ｔt ≦Ｔk −４０℃の範囲で熱処理することがよ
り好ましい。熱処理時間はあまり短いと傾斜配向が実現
せず、あまり長いと工業的に好ましくないので、０．２
分以上２０時間以下が好ましく、１分以上１時間以下が
さらに好ましい。以上の熱処理により、非重合性または
重合性液晶オリゴマーのメソゲン基はフィルム面に対し
て傾いた方向に配向し、フィルム面に対して傾いた光学
軸を持つようになる。熱処理における加熱速度、冷却速
度については特に制限はない。
【００６７】高分子フィルムを基材として非重合性また
は重合性液晶オリゴマーの熱処理を行う場合、用いる基
材のガラス転移温度、または添加材が添加されている基
材では基材の流動温度以上では基材の変形が生じるなど
製法上問題となるので、熱処理温度に応じた基材を選択
することが好ましい。
は重合性液晶オリゴマーの熱処理を行う場合、用いる基
材のガラス転移温度、または添加材が添加されている基
材では基材の流動温度以上では基材の変形が生じるなど
製法上問題となるので、熱処理温度に応じた基材を選択
することが好ましい。
【００６８】重合性液晶オリゴマーを用いる場合は、フ
ィルム面に対して傾いた光学軸を持つように配向処理し
たのち、該液晶オリゴマーを重合する。重合方法として
は配向を保持したままで重合することが必要であるか
ら、光重合、γ線などの放射線重合や熱重合が例示され
る。光重合や熱重合では公知の重合開始剤を用いること
ができる。これらの重合方法の中で工程の簡単さから、
光重合と熱重合が好ましく、さらに、配向の保持の良好
さから光重合がより好ましい。
ィルム面に対して傾いた光学軸を持つように配向処理し
たのち、該液晶オリゴマーを重合する。重合方法として
は配向を保持したままで重合することが必要であるか
ら、光重合、γ線などの放射線重合や熱重合が例示され
る。光重合や熱重合では公知の重合開始剤を用いること
ができる。これらの重合方法の中で工程の簡単さから、
光重合と熱重合が好ましく、さらに、配向の保持の良好
さから光重合がより好ましい。
【００６９】本発明では液晶オリゴマーまたは液晶オリ
ゴマー重合物位相差フィルムと、熱可塑性高分子を一軸
配向した位相差フィルムを積層して用いてもよい。液晶
オリゴマー位相差フィルムを作る際のラビング方向と高
分子位相差フィルムの光学軸のなす角度について制限は
なく、液晶パネルとしたときに要求される特性に応じて
適宜選択すればよい。
ゴマー重合物位相差フィルムと、熱可塑性高分子を一軸
配向した位相差フィルムを積層して用いてもよい。液晶
オリゴマー位相差フィルムを作る際のラビング方向と高
分子位相差フィルムの光学軸のなす角度について制限は
なく、液晶パネルとしたときに要求される特性に応じて
適宜選択すればよい。
【００７０】本発明の液晶表示装置は、電極を有するガ
ラスや透明プラスチック基板に挟持されたＴＮまたはＳ
ＴＮ液晶セルとその外側に配置された偏光フィルムとの
間に、液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フィ
ルム、液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フィ
ルムと高分子位相差フィルムとの積層体よりなる複合位
相差板を配置する。これらの液晶オリゴマーまたは液晶
オリゴマー重合物フィルムや複合位相差板を配置する位
置、配置する順序や配置する方向について特に限定はな
く、液晶パネルとしたときに要求される特性に応じて適
宜選択すればよい。具体的な配置としてＴＮ液晶表示装
置の場合はＴＮセルの片側、または両側にそれぞれ１枚
以上配置したものが例示される。またＳＴＮ液晶表示装
置の場合はＳＴＮセルと位相差フィルムの間に１枚以上
配置したものや、位相差フィルムと偏光板の間に１枚以
上配置したものや、位相差フィルムとセルの間および偏
光フィルムとの間にそれぞれ１枚以上配置したものが例
示される。
ラスや透明プラスチック基板に挟持されたＴＮまたはＳ
ＴＮ液晶セルとその外側に配置された偏光フィルムとの
間に、液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フィ
ルム、液晶オリゴマーまたは液晶オリゴマー重合物フィ
ルムと高分子位相差フィルムとの積層体よりなる複合位
相差板を配置する。これらの液晶オリゴマーまたは液晶
オリゴマー重合物フィルムや複合位相差板を配置する位
置、配置する順序や配置する方向について特に限定はな
く、液晶パネルとしたときに要求される特性に応じて適
宜選択すればよい。具体的な配置としてＴＮ液晶表示装
置の場合はＴＮセルの片側、または両側にそれぞれ１枚
以上配置したものが例示される。またＳＴＮ液晶表示装
置の場合はＳＴＮセルと位相差フィルムの間に１枚以上
配置したものや、位相差フィルムと偏光板の間に１枚以
上配置したものや、位相差フィルムとセルの間および偏
光フィルムとの間にそれぞれ１枚以上配置したものが例
示される。
【００７１】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。得られた
非重合性または重合性液晶オリゴマーのガラス転移点や
液晶相と等方相との転移温度は偏光顕微鏡観察と示差走
査熱量計（ＤＳＣ）によって評価した。液晶オリゴマー
を走査速度１０℃／分で走査し２回目以降のデータから
転移温度を評価した。ガラス相／液晶相の転移温度（Ｔ
g ）については昇温時の吸熱カーブの一次微分のピーク
に相当する温度をＴg と見なし、液晶相／等方相の転移
温度（Ｔi ）については液晶相／等方相転移による吸熱
ピークに相当する温度をＴi と見なした。
が、本発明はこれに限定されるものではない。得られた
非重合性または重合性液晶オリゴマーのガラス転移点や
液晶相と等方相との転移温度は偏光顕微鏡観察と示差走
査熱量計（ＤＳＣ）によって評価した。液晶オリゴマー
を走査速度１０℃／分で走査し２回目以降のデータから
転移温度を評価した。ガラス相／液晶相の転移温度（Ｔ
g ）については昇温時の吸熱カーブの一次微分のピーク
に相当する温度をＴg と見なし、液晶相／等方相の転移
温度（Ｔi ）については液晶相／等方相転移による吸熱
ピークに相当する温度をＴi と見なした。
【００７２】得られた液晶オリゴマーまたは液晶オリゴ
マー重合物フィルムがフィルム面に対して傾斜した光学
軸を有することは、液晶オリゴマーの傾斜方向に該位相
差フィルムを傾斜したときのレターデーション変化、お
よび液晶オリゴマー傾斜方向と直交する方向に該位相差
フィルムを傾斜したときのクロスニコル下での透過光量
変化から確認した。なおレターデーションの測定は偏光
顕微鏡で５４６ｎｍの光でセナルモン法を用いて行っ
た。図１を用いて説明すると、ラビング方向をｃとした
とき、ｂを傾斜軸にして位相差フィルムを回転したとき
レターデーションの極小値が０以外の所にあること、傾
斜軸ａを中心にして基板を回転した時透過光量があまり
変化しないことから傾斜配向していることを確認した。
また、得られた液晶オリゴマーフィルムまたは液晶オリ
ゴマー重合物フィルムが面内で均一な配向をしているこ
とは、クロスニコル下で液晶オリゴマーフィルムまたは
液晶オリゴマー重合物フィルムを水平に置き、水平にし
たまま面内で回転したときに消光位があることにより確
認した。
マー重合物フィルムがフィルム面に対して傾斜した光学
軸を有することは、液晶オリゴマーの傾斜方向に該位相
差フィルムを傾斜したときのレターデーション変化、お
よび液晶オリゴマー傾斜方向と直交する方向に該位相差
フィルムを傾斜したときのクロスニコル下での透過光量
変化から確認した。なおレターデーションの測定は偏光
顕微鏡で５４６ｎｍの光でセナルモン法を用いて行っ
た。図１を用いて説明すると、ラビング方向をｃとした
とき、ｂを傾斜軸にして位相差フィルムを回転したとき
レターデーションの極小値が０以外の所にあること、傾
斜軸ａを中心にして基板を回転した時透過光量があまり
変化しないことから傾斜配向していることを確認した。
また、得られた液晶オリゴマーフィルムまたは液晶オリ
ゴマー重合物フィルムが面内で均一な配向をしているこ
とは、クロスニコル下で液晶オリゴマーフィルムまたは
液晶オリゴマー重合物フィルムを水平に置き、水平にし
たまま面内で回転したときに消光位があることにより確
認した。
【００７３】実施例１ 洗浄したガラス基板にポリイミド配向膜をスピンコート
法により成膜し、２００℃で３時間熱処理した。得られ
た配向膜の膜厚は約０. ０５μｍであった。次いで配向
膜をラビングマシーンを用いてラビングした。特公昭６
３−４１４００号公報記載の方法と同様にして、下記化
２０で示されるメソゲン前駆体と下記化２１で示される
メソゲン前駆体を７：３の混合比でペンタメチルシクロ
ペンタシロキサンと反応させ環状ペンタシロキサン非重
合性液晶オリゴマーを得た。偏光顕微鏡観察とＤＳＣに
より調べると、この非重合性液晶オリゴマーは４１℃〜
１５０℃の範囲でネマティック相を示した。これを塩化
メチレンに２０％になるように溶解し、ラビングしたポ
リイミド配向膜付きガラス基板にスピンコートした。
法により成膜し、２００℃で３時間熱処理した。得られ
た配向膜の膜厚は約０. ０５μｍであった。次いで配向
膜をラビングマシーンを用いてラビングした。特公昭６
３−４１４００号公報記載の方法と同様にして、下記化
２０で示されるメソゲン前駆体と下記化２１で示される
メソゲン前駆体を７：３の混合比でペンタメチルシクロ
ペンタシロキサンと反応させ環状ペンタシロキサン非重
合性液晶オリゴマーを得た。偏光顕微鏡観察とＤＳＣに
より調べると、この非重合性液晶オリゴマーは４１℃〜
１５０℃の範囲でネマティック相を示した。これを塩化
メチレンに２０％になるように溶解し、ラビングしたポ
リイミド配向膜付きガラス基板にスピンコートした。
【００７４】
【化２０】
【化２１】 得られた非重合性液晶オリゴマーフィルムはクロスニコ
ル下で白濁しており膜厚は２．５μｍであった。得られ
た膜を１５０℃まで加熱し冷却した。冷却した後得られ
た非重合性液晶オリゴマーフィルムをクロスニコル下で
観察したところ、消光位を示したことから均一な配向が
得られたことがわかった。図１にラビング方向とレター
デーション測定の時の傾斜軸を示し、傾斜軸ｂで傾斜し
たときのレターデーションの変化を図２に示す。図２に
おいて、傾斜によりレターデーションが変化し、傾斜角
が＋５０°以上のところにレターデーションの極小値を
有し、左右非対称な形をしているという３点から、非重
合性液晶オリゴマーは水平面から傾斜して配向している
ことがわかった。
ル下で白濁しており膜厚は２．５μｍであった。得られ
た膜を１５０℃まで加熱し冷却した。冷却した後得られ
た非重合性液晶オリゴマーフィルムをクロスニコル下で
観察したところ、消光位を示したことから均一な配向が
得られたことがわかった。図１にラビング方向とレター
デーション測定の時の傾斜軸を示し、傾斜軸ｂで傾斜し
たときのレターデーションの変化を図２に示す。図２に
おいて、傾斜によりレターデーションが変化し、傾斜角
が＋５０°以上のところにレターデーションの極小値を
有し、左右非対称な形をしているという３点から、非重
合性液晶オリゴマーは水平面から傾斜して配向している
ことがわかった。
【００７５】また、得られた配向液晶オリゴマー位相差
フィルムをＴＮ液晶セルと偏光板の間に挿入すると良好
な視野角特性を示す。また、得られた配向液晶オリゴマ
ー位相差フィルムとポリカーボネートフィルムを延伸し
て得られた位相差フィルムを積層し、複合位相差フィル
ムとし、ＳＴＮセルと偏光板の間に挿入すると良好な視
野角特性を示す。
フィルムをＴＮ液晶セルと偏光板の間に挿入すると良好
な視野角特性を示す。また、得られた配向液晶オリゴマ
ー位相差フィルムとポリカーボネートフィルムを延伸し
て得られた位相差フィルムを積層し、複合位相差フィル
ムとし、ＳＴＮセルと偏光板の間に挿入すると良好な視
野角特性を示す。
【００７６】
【発明の効果】本発明の、フィルムの光学軸がフィルム
面より仰角で１０°〜８０°である配向した液晶オリゴ
マーフィルムを用いることや、一軸配向した位相差フィ
ルムと組み合わせたりすることにより、広視野角の複合
位相差板が得られる。また、これらをＴＮやＳＴＮ型液
晶表示装置に適用することにより、液晶表示装置の表示
特性、特に視野角特性を著しく向上させることができ
る。
面より仰角で１０°〜８０°である配向した液晶オリゴ
マーフィルムを用いることや、一軸配向した位相差フィ
ルムと組み合わせたりすることにより、広視野角の複合
位相差板が得られる。また、これらをＴＮやＳＴＮ型液
晶表示装置に適用することにより、液晶表示装置の表示
特性、特に視野角特性を著しく向上させることができ
る。
【図１】レターデーション測定時の配置図。
【図２】実施例１における傾斜軸ｂで傾斜したときのレ
ターデーションの変化を示す図。
ターデーションの変化を示す図。
【図３】実施例１における傾斜軸ａで傾斜したときのク
ロスニコル下での透過光量変化を示す図。
ロスニコル下での透過光量変化を示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ // Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＲ
Claims (9)
- 【請求項１】正の屈折率異方性を有し、ネマチック相ま
たはスメクチック相を示す非重合性液晶オリゴマーから
なるフィルムで、該液晶オリゴマーは下記反復単位
（Ｉ）および（ＩＩ）を含む直鎖または環状の液晶オリ
ゴマーであり、該液晶オリゴマー１分子中の反復単位
（Ｉ）、（ＩＩ）の数をそれぞれｎ1 、ｎ2とするとｎ
1 とｎ2 との和は、１分子当り平均して４以上１０，０
００以下であり、かつ該フィルムの光学軸がフィルム面
から仰角として１０°以上８０°以下の範囲で傾いてい
ることを特徴とする配向液晶オリゴマーフィルム。 【化１】 【化２】 〔式中、Ａは下式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される
基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ−Ｏ−は式
（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であり、式（ＩＶ）におい
て−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（ＩＩ）の主鎖であ
り、ＣＯＯ基は（ＣＨ 2 ）k1、（ＣＨ2 ）k2基と結合す
る位置にある。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式
（ＩＩＩ）のとき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に
水素、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基であ
る。式（Ｉ）または（ＩＩ）においてＡが式（ＩＶ）の
とき、Ｒ1 またはＲ3 は、それぞれ独立に水素または炭
素数１〜６のアルキル基である。 【化３】 【化４】 また、ｋ１、ｋ２はそれぞれ独立に２〜１０の整数であ
り、ｍ１、ｍ２はそれぞれ独立に０または１であり、ｐ
１、ｐ２、ｐ３はそれぞれ独立に０または１であり、Ａ
ｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ａｒ4 、Ａｒ5 はそれぞれ独立
に１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン
基、ピリジン−２，５−ジイル基またはピリミジン−
２、５−ジイル基であり、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 はそれぞれ
独立に−ＣＨ 2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、
−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−または 【化５】 で示される２価の基であり、Ｒ2 、Ｒ4 はそれぞれ独立
に水素、ハロゲン、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキ
ル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基である。〕 - 【請求項２】正の屈折率異方性を有し、ネマチック相ま
たはスメクチック相を示す重合性液晶オリゴマーの重合
物からなるフィルムで、該液晶オリゴマーは請求項１記
載の反復単位（Ｉ）と反復単位（ＩＩ）および下記反復
単位（ＶＩ）と下記反復単位（ＶＩＩ）の４つの反復単
位のうち少なくとも３つの反復単位を含む直鎖または環
状の液晶オリゴマーであり、該オリゴマー１分子中の反
復単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＶＩ）および（ＶＩＩ）の
数をそれぞれｎ1 、ｎ2 、ｎ3およびｎ4 とするとき、
ｎ1 〜ｎ4 はそれぞれ独立に０〜２０の整数であり、か
つ４≦ｎ1 ＋ｎ2 ＋ｎ3 ＋ｎ4 ≦２１であり、ｎ1 〜ｎ
4 のうち少なくとも３種が１以上の整数であり、反復単
位（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の末端基が重合しており、
かつ該フィルムの光学軸がフィルム面から仰角として１
０°以上８０°以下の範囲で傾いていることを特徴とす
る配向液晶オリゴマー重合物フィルム。 【化６】 【化７】 〔式中、Ａは請求項１における式（ＩＩＩ）または（Ｉ
Ｖ）で表される基であり、式（ＩＩＩ）において−Ｓｉ
−Ｏ−は式（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の主鎖であり、式
（ＩＶ）において−Ｃ−ＣＨ2 −は式（Ｉ）または（Ｉ
Ｉ）の主鎖であり、ＣＯＯ基は（ＣＨ2 ）k3，（Ｃ
Ｈ2 ）k4と結合する位置にある。式（ＶＩ）または（Ｖ
ＩＩ）においてＡが式（ＩＩＩ）のとき、Ｒ5 またはＲ
7 はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６のアルキル基ま
たはフェニル基である。式（ＶＩ）または（ＶＩＩ）に
おいてＡが式（ＩＶ）のとき、Ｒ5 またはＲ7 はそれぞ
れ独立に水素または炭素数１〜６のアルキル基である。
ｋ３、ｋ４は２〜１０の整数であり、ｍ３、ｍ４は０ま
たは１であり、ｐ４、ｐ５、ｐ６は０または１であり、
Ａｒ6 〜Ａｒ10はそれぞれ独立に１，４−フェニレン
基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−
ジイル基またはピリミジン−２，５−ジイル基であり、
Ｌ4 、Ｌ5 、Ｌ6 はそれぞれ独立に−ＣＨ 2 −Ｏ−、−
Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−また
は 【化８】 で示される２価の基であり、Ｒ6 、Ｒ8 はそれぞれ独立
に水素または炭素数１から５のアルキル基である。〕 - 【請求項３】請求項１記載の非重合性液晶オリゴマーま
たは請求項２記載の重合性液晶オリゴマー重合物が、表
面に配向処理を施した基材上に成膜されていることを特
徴とする位相差フィルム。 - 【請求項４】基材がガラス板または高分子フィルムであ
ることを特徴とする請求項３記載の位相差フィルム。 - 【請求項５】基材が、フィルム面内に光学軸を有し、か
つ正の屈折率異方性を有する、熱可塑性高分子からなる
一軸配向した位相差フィルムであることを特徴とする請
求項３記載の位相差フィルム。 - 【請求項６】請求項１記載の非重合性液晶オリゴマーを
配向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行なうこと
により液晶オリゴマーをフィルム面から仰角として１０
°以上８０°以下に配向させることを特徴とする請求項
３記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項７】請求項２記載の重合性液晶オリゴマーを配
向処理を施した基材上に成膜後、熱処理を行ない光学軸
をフィルム面から仰角として１０°以上８０°以下に配
向させた後、反復単位（ＶＩ）または（ＶＩＩ）の末端
基を重合することを特徴とする請求項３記載の位相差フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項８】フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈
折率異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向
した位相差フィルムと、請求項３記載の位相差フィルム
とが積層されてなる複合位相差板。 - 【請求項９】電極を有する基板に挟持された、正の誘電
率異方性を有し、電圧無印加時にほぼ水平にかつ螺旋軸
を基板に垂直方向にねじれ配向した液晶層からなる液晶
セルと、その外側に配置される偏光フィルムとの間に、
請求項１記載の配向液晶オリゴマーフィルム、請求項２
記載の配向液晶オリゴマー重合物フィルム、請求項３記
載の位相差フィルムおよび請求項８記載の複合位相差板
から選ばれた少なくとも一つを配置することを特徴とす
る液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14000594A JP3432595B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14000594A JP3432595B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH085838A true JPH085838A (ja) | 1996-01-12 |
| JP3432595B2 JP3432595B2 (ja) | 2003-08-04 |
Family
ID=15258721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14000594A Expired - Fee Related JP3432595B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | 位相差フィルムとその製造方法および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3432595B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7388637B2 (en) | 2003-03-06 | 2008-06-17 | Nitto Denko Corporation | Method for producing film with tilted alignment, film with tilted alignment, and image display using same |
| US7704569B2 (en) | 2003-03-06 | 2010-04-27 | Nitto Denko Corporation | Method for producing film with twisted tilted alignment, film with twisted tilted alignment, and image display using same |
| JP2021518466A (ja) * | 2018-03-22 | 2021-08-02 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． | シリコーンポリマーおよびそれを含む組成物 |
| JP2021518474A (ja) * | 2018-03-22 | 2021-08-02 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． | シリコーンポリマー |
-
1994
- 1994-06-22 JP JP14000594A patent/JP3432595B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7388637B2 (en) | 2003-03-06 | 2008-06-17 | Nitto Denko Corporation | Method for producing film with tilted alignment, film with tilted alignment, and image display using same |
| US7704569B2 (en) | 2003-03-06 | 2010-04-27 | Nitto Denko Corporation | Method for producing film with twisted tilted alignment, film with twisted tilted alignment, and image display using same |
| JP2021518466A (ja) * | 2018-03-22 | 2021-08-02 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． | シリコーンポリマーおよびそれを含む組成物 |
| JP2021518474A (ja) * | 2018-03-22 | 2021-08-02 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｃ． | シリコーンポリマー |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3432595B2 (ja) | 2003-08-04 |
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