JPH085684B2 - 石英ガラスの製法 - Google Patents
石英ガラスの製法Info
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- JPH085684B2 JPH085684B2 JP2049100A JP4910090A JPH085684B2 JP H085684 B2 JPH085684 B2 JP H085684B2 JP 2049100 A JP2049100 A JP 2049100A JP 4910090 A JP4910090 A JP 4910090A JP H085684 B2 JPH085684 B2 JP H085684B2
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- erbium
- aluminum
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- chloride
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/01433—Reactant delivery systems for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the porous glass preform
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
- C03B2201/36—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers doped with rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
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- C03C2201/36—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals containing rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ファイバ型光増幅器等に好適なアルミニ
ウムとエルビウムとがドープされた石英ガラスを製造す
る方法に関する。
ウムとエルビウムとがドープされた石英ガラスを製造す
る方法に関する。
ファイバ型光増幅器として、エルビウムをドープした
光ファイバが知られている。しかし、このエルビウムド
ープ光ファイバにあっては、その動作特性に比較的大き
な波長依存性を有しており、通信用光源の波長の微かな
変動により、動作利得が大きく変化する不都合がある。
光ファイバが知られている。しかし、このエルビウムド
ープ光ファイバにあっては、その動作特性に比較的大き
な波長依存性を有しており、通信用光源の波長の微かな
変動により、動作利得が大きく変化する不都合がある。
このため、近時、アルミニウムとエルビウムとを共に
添加した光ファイバが、波長依存性が小さく、上述の不
都合を解消しうるものとして開発されつつある。
添加した光ファイバが、波長依存性が小さく、上述の不
都合を解消しうるものとして開発されつつある。
しかしながら、アルミニウムをエルビウムとともに石
英ガラス中に均一に添加することは、以下に記載のよう
に困難であり、工業的製造が事実上不可能に近い状態に
ある。
英ガラス中に均一に添加することは、以下に記載のよう
に困難であり、工業的製造が事実上不可能に近い状態に
ある。
すなわち、アルミニウムをドーパントするためのドー
パント原料としては、三塩化アルミニウム（AlCl3）を
用いることになる。ところが、この三塩化アルミニウム
は常温では固体であり、かつ180〜182℃で昇華する昇華
性を有していることから通常の四塩化ケイ素（SiCl4）
や四塩化ゲルマニウム（GeCl4）などのガス化に用いら
れるハブリング法が適用できない。このため、固体状の
三塩化アルミニウムを昇華点以上の温度に加熱してガス
化し、これをガラス生成系に供給し、ガス状の四塩化ケ
イ素などの他のガラス原料ガスとともにMCVD法、VAD法
などの気相合成法によってこれらの酸化物からなるガラ
ス微粒子の集合体（スート）とする方法がとられてい
る。
パント原料としては、三塩化アルミニウム（AlCl3）を
用いることになる。ところが、この三塩化アルミニウム
は常温では固体であり、かつ180〜182℃で昇華する昇華
性を有していることから通常の四塩化ケイ素（SiCl4）
や四塩化ゲルマニウム（GeCl4）などのガス化に用いら
れるハブリング法が適用できない。このため、固体状の
三塩化アルミニウムを昇華点以上の温度に加熱してガス
化し、これをガラス生成系に供給し、ガス状の四塩化ケ
イ素などの他のガラス原料ガスとともにMCVD法、VAD法
などの気相合成法によってこれらの酸化物からなるガラ
ス微粒子の集合体（スート）とする方法がとられてい
る。
しかし、この方法にあっては、三塩化アルミニウムを
その昇華点付近で加熱する際の温度制御が極めて難し
く、このため昇華ガスのガス量を一定に保つことやある
いはガス量を変化させることが困難である。
その昇華点付近で加熱する際の温度制御が極めて難し
く、このため昇華ガスのガス量を一定に保つことやある
いはガス量を変化させることが困難である。
また、このようにしてアルミニウムを不均一ではある
がドープしたガラス微粒子集合体を次工程として塩化エ
ルビウム酸水溶液に浸漬してエルビウムを添加し、つい
でこれを加熱し透明ガラス化してアルミニウムとエルビ
ウムとをドープすることになるが、それぞれのドーパン
トの添加が別々の工程で行われるため、両者の添加比率
の制御が難しいと言う問題がある。
がドープしたガラス微粒子集合体を次工程として塩化エ
ルビウム酸水溶液に浸漬してエルビウムを添加し、つい
でこれを加熱し透明ガラス化してアルミニウムとエルビ
ウムとをドープすることになるが、それぞれのドーパン
トの添加が別々の工程で行われるため、両者の添加比率
の制御が難しいと言う問題がある。
よって、この発明での課題は、アルミニウムとエルビ
ウムとを均一に添加することができ、またこれらの添加
比率を容易に制御することができるアルミニウム・エル
ビウム共添加石英ガラスの製法を提供することにある。
ウムとを均一に添加することができ、またこれらの添加
比率を容易に制御することができるアルミニウム・エル
ビウム共添加石英ガラスの製法を提供することにある。
かかる課題を解決するため、この発明では気相合成法
によって得られ、その嵩密度が0.4〜0.7g/cm3の範囲で
全体に均一である石英ガラス微粒子集合体に、塩化アル
ミニウムと塩化エルビウムを溶解したアルコール溶液を
浸透せしめたのち、これを加熱して、アルミニウムとエ
ルビウムが石英ガラス中にドープされた石英ガラス体は
得る方法を採用した。
によって得られ、その嵩密度が0.4〜0.7g/cm3の範囲で
全体に均一である石英ガラス微粒子集合体に、塩化アル
ミニウムと塩化エルビウムを溶解したアルコール溶液を
浸透せしめたのち、これを加熱して、アルミニウムとエ
ルビウムが石英ガラス中にドープされた石英ガラス体は
得る方法を採用した。
以下、この方法を詳しく説明する。
まず、母体となるべき石英ガラス微粒子集合体を用意
する。この石英ガラス微粒子集合体は、VAD法、OVD法な
どの周知の気相合成法によって得られるもので、熱酸化
反応や火炎加水分解反応によって合成された酸化ケイ素
あるいは酸化ケイ素と酸化ゲルマニウム、酸化ホウ素な
どのドーパントとの混合酸化物からなる微粒子を堆積さ
せてなる多孔質体である。
する。この石英ガラス微粒子集合体は、VAD法、OVD法な
どの周知の気相合成法によって得られるもので、熱酸化
反応や火炎加水分解反応によって合成された酸化ケイ素
あるいは酸化ケイ素と酸化ゲルマニウム、酸化ホウ素な
どのドーパントとの混合酸化物からなる微粒子を堆積さ
せてなる多孔質体である。
この石英ガラス微粒子集合体の形状は、VAD法による
ものであれば、棒状の出発母材の先端にその軸方向に石
英ガラス微粒子が堆積した棒状であり、またOVD法によ
るものであれば棒状の出発母材の外周面にその半径方向
に石英ガラス微粒子を堆積させたのち、出発母材を引き
抜いた筒状となっているが、これらに限られることはな
い。
ものであれば、棒状の出発母材の先端にその軸方向に石
英ガラス微粒子が堆積した棒状であり、またOVD法によ
るものであれば棒状の出発母材の外周面にその半径方向
に石英ガラス微粒子を堆積させたのち、出発母材を引き
抜いた筒状となっているが、これらに限られることはな
い。
この石英ガラス微粒子集合体は、その嵩密度が0.4〜
0.7g/cm3の範囲にあることが望ましく、かつその中心部
分と表面部分とで嵩密度が均一であることが好ましい。
嵩密度が0.4g/cm3未満では機械的強度が不足し、次工程
での塩化アルミニウムと塩化エルビウムのアルコール溶
液の浸透操作に耐えられず、0.7g/cm3を越えると上記ア
ルコール溶液の集合体中心部分への浸透が速やかにかつ
十分に行われなくなる。嵩密度が0.4g/cm3未満であれ
ば、ヘリウム、アルゴンなどの不活性雰囲気中で、加熱
処理することによって0.4〜0.7g/cm3の範囲内に高める
ことができる。このための加熱温度は、石英ガラス微粒
子集合体を構成するガラスの種類によって異なり、石英
ガラスのみから構成されたものでは1200〜1300℃の範囲
で、石英ガラスに酸化ゲルマニウムや酸化ホウ素などが
添加されたガラスから構成されたものでは700〜1100℃
の範囲で熱処理される。この加熱処理により、石英ガラ
ス微粒子集合体をなすガラス微粒子の表面が溶融し、ガ
ラス微粒子間の間隙が縮まったものとなり、これに伴い
その嵩密度も0.4〜0.7g/cm3程度に増加する。
0.7g/cm3の範囲にあることが望ましく、かつその中心部
分と表面部分とで嵩密度が均一であることが好ましい。
嵩密度が0.4g/cm3未満では機械的強度が不足し、次工程
での塩化アルミニウムと塩化エルビウムのアルコール溶
液の浸透操作に耐えられず、0.7g/cm3を越えると上記ア
ルコール溶液の集合体中心部分への浸透が速やかにかつ
十分に行われなくなる。嵩密度が0.4g/cm3未満であれ
ば、ヘリウム、アルゴンなどの不活性雰囲気中で、加熱
処理することによって0.4〜0.7g/cm3の範囲内に高める
ことができる。このための加熱温度は、石英ガラス微粒
子集合体を構成するガラスの種類によって異なり、石英
ガラスのみから構成されたものでは1200〜1300℃の範囲
で、石英ガラスに酸化ゲルマニウムや酸化ホウ素などが
添加されたガラスから構成されたものでは700〜1100℃
の範囲で熱処理される。この加熱処理により、石英ガラ
ス微粒子集合体をなすガラス微粒子の表面が溶融し、ガ
ラス微粒子間の間隙が縮まったものとなり、これに伴い
その嵩密度も0.4〜0.7g/cm3程度に増加する。
また、通常のVAD法で得られた石英ガラス微粒子集合
体にあっては、その中心部分の嵩密度が高く（0.4〜0.4
5g/cm3程度）、表面部分のそれが低い（0.25g/cm3程
度）ものとなる傾向がある。したがって、上記アルコー
ル溶液の均一な浸透を行ううえで、良い結果を持たらさ
ない。このため、石英ガラス微粒子集合体の嵩密度が中
心部と表面部とで差がないものを得ることのできるVAD
法が好ましく、例えば石英ガラス微粒子集合体の形成
時、該集合体のガラス微粒子堆積部位におる中心部分の
温度と表面部分の温度との温度差を100℃以内とする方
法などを採用することで、嵩密度が均一な石英ガラス微
粒子集合体が得られる。また、通常のVAD法で得られた
石英ガラス微粒子集合体をそのガラスの溶融温度に近い
温度で短時間、複数回加熱することで、その表面部分の
みの嵩密度を高める方法も可能である。
体にあっては、その中心部分の嵩密度が高く（0.4〜0.4
5g/cm3程度）、表面部分のそれが低い（0.25g/cm3程
度）ものとなる傾向がある。したがって、上記アルコー
ル溶液の均一な浸透を行ううえで、良い結果を持たらさ
ない。このため、石英ガラス微粒子集合体の嵩密度が中
心部と表面部とで差がないものを得ることのできるVAD
法が好ましく、例えば石英ガラス微粒子集合体の形成
時、該集合体のガラス微粒子堆積部位におる中心部分の
温度と表面部分の温度との温度差を100℃以内とする方
法などを採用することで、嵩密度が均一な石英ガラス微
粒子集合体が得られる。また、通常のVAD法で得られた
石英ガラス微粒子集合体をそのガラスの溶融温度に近い
温度で短時間、複数回加熱することで、その表面部分の
みの嵩密度を高める方法も可能である。
一方、これとは別に塩化アルミニウムと塩化エルビウ
ムを混合して溶解したアルコール溶液を用意する。塩化
アルミニウムとしては、三塩化物の無水塩あるいは含水
塩が用いられる。また、塩化エルビウムとしては、三塩
化物の無水塩が用いられる。さらに、アルコールとして
は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノールなどが用いられる、好ましくは炭素数が
２〜５の一価アルコールが用いられる。塩化アルミニウ
ムおよび塩化エルビウムの濃度は、ドーパント添加量に
よって定められ、限定されないが通常塩化アルミニウム
では１〜30重量％、塩化エルビウムでは0.1〜１重量％
程度とされる。また、塩化アルミニウムと塩化エルビウ
ムとを同一または別種のアルコールにそれぞれ溶解し、
この２種の溶液を適宜の混合割合で混合してもよい。
ムを混合して溶解したアルコール溶液を用意する。塩化
アルミニウムとしては、三塩化物の無水塩あるいは含水
塩が用いられる。また、塩化エルビウムとしては、三塩
化物の無水塩が用いられる。さらに、アルコールとして
は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノールなどが用いられる、好ましくは炭素数が
２〜５の一価アルコールが用いられる。塩化アルミニウ
ムおよび塩化エルビウムの濃度は、ドーパント添加量に
よって定められ、限定されないが通常塩化アルミニウム
では１〜30重量％、塩化エルビウムでは0.1〜１重量％
程度とされる。また、塩化アルミニウムと塩化エルビウ
ムとを同一または別種のアルコールにそれぞれ溶解し、
この２種の溶液を適宜の混合割合で混合してもよい。
ついで、このようにして得られた塩化アルミニウムと
塩化エルビウムとの混合アルコール溶液を石英ガラス微
粒子集合体中に浸透させる。この浸透操作としては、集
合体を混合アルコール溶液中に0.5〜24時間程度浸漬す
る方法が最も簡単である。また、混合アルコール溶液を
集合体上に滴下したり、塗布したりすることも可能であ
る。さらに浸透操作前に集合体を真空中で放置して集合
体の空隙中の気体、水分等を吸引、排除して混合アルコ
ール溶液の浸透を即ししてもよい。
塩化エルビウムとの混合アルコール溶液を石英ガラス微
粒子集合体中に浸透させる。この浸透操作としては、集
合体を混合アルコール溶液中に0.5〜24時間程度浸漬す
る方法が最も簡単である。また、混合アルコール溶液を
集合体上に滴下したり、塗布したりすることも可能であ
る。さらに浸透操作前に集合体を真空中で放置して集合
体の空隙中の気体、水分等を吸引、排除して混合アルコ
ール溶液の浸透を即ししてもよい。
このようにして、混合アルコール溶液が浸透された集
合体は、ついで、不活性ガス雰囲気中において、70〜10
0℃で96時間以上加熱され、十分にアルコールが取り除
かれる。勿論、減圧乾燥を併用することもできる。
合体は、ついで、不活性ガス雰囲気中において、70〜10
0℃で96時間以上加熱され、十分にアルコールが取り除
かれる。勿論、減圧乾燥を併用することもできる。
ついで、この乾燥された集合体を電気炉などの加熱炉
中でヘリウムやアルゴンなどの不活性雰囲気下1400〜16
00℃で加熱して熔融し透明ガラス化して、酸化アルミニ
ウムおよび酸化エルビウムをドープした石英ガラスから
なる石英ガラス体を得る。この透明ガラス化の際に、加
熱炉中に塩素ガスを流しながら加熱処理し、集合体中に
残留する水分（水酸基）を除去することも可能である。
中でヘリウムやアルゴンなどの不活性雰囲気下1400〜16
00℃で加熱して熔融し透明ガラス化して、酸化アルミニ
ウムおよび酸化エルビウムをドープした石英ガラスから
なる石英ガラス体を得る。この透明ガラス化の際に、加
熱炉中に塩素ガスを流しながら加熱処理し、集合体中に
残留する水分（水酸基）を除去することも可能である。
このような石英ガラスの製法においては、混合アルコ
ール溶液中の塩化アルミニウムおよび塩化エルビウムの
濃度、溶液の浸透量などを調節することにより、これら
のドープ量を簡単かつ正確に定めることができ、石英ガ
ラス中のこれらドーパント量を均一とすることができ
る。また、従来の方法では取扱いが面倒であった塩化ア
ルミニウムをドーパント原料として簡単に取扱うことが
できるとともに得られる石英ガラスに発泡などの欠陥が
生じることがない。
ール溶液中の塩化アルミニウムおよび塩化エルビウムの
濃度、溶液の浸透量などを調節することにより、これら
のドープ量を簡単かつ正確に定めることができ、石英ガ
ラス中のこれらドーパント量を均一とすることができ
る。また、従来の方法では取扱いが面倒であった塩化ア
ルミニウムをドーパント原料として簡単に取扱うことが
できるとともに得られる石英ガラスに発泡などの欠陥が
生じることがない。
（実施例１） VAD法によって、嵩密度が0.4g/cm3で、かつ半径方向
に均一である石英ガラス微粒子集合体を得た。一方、三
塩化アルミニウムの19.9重量％エタノール溶液350gと、
三塩化エルビウムの0.53重量％エタノール溶液200gとを
混合して、混合アルコール溶液550gを作成し、この混合
アルコール溶液中に上記集合体を常温で24時間浸漬し
た。これにより約100gの混合アルコール溶液が集合体中
に吸収された。
に均一である石英ガラス微粒子集合体を得た。一方、三
塩化アルミニウムの19.9重量％エタノール溶液350gと、
三塩化エルビウムの0.53重量％エタノール溶液200gとを
混合して、混合アルコール溶液550gを作成し、この混合
アルコール溶液中に上記集合体を常温で24時間浸漬し
た。これにより約100gの混合アルコール溶液が集合体中
に吸収された。
ついで、このものを100℃の窒素気流中で24時間乾燥
させ、さらに100℃で12時間真空乾燥した。ついで、こ
れを電気炉中で脱水、焼結を行って、棒状の石英ガラス
とした。
させ、さらに100℃で12時間真空乾燥した。ついで、こ
れを電気炉中で脱水、焼結を行って、棒状の石英ガラス
とした。
この石英ガラスには、泡が全く認められず、ICP法に
よる分析ではアルミニウムが2000ppm、エルビウムが800
ppm添加されており、かつすべての部位でその含有量が
ほぼ一定であることが確認された。
よる分析ではアルミニウムが2000ppm、エルビウムが800
ppm添加されており、かつすべての部位でその含有量が
ほぼ一定であることが確認された。
また、この石英ガラスからなるコアと、フッ素添加石
英ガラスからなるクラッドとを有する径125μｍの光フ
ァイバを作成し、この光ファイバに波長1.48μｍ、パワ
ー48mWのポンプ光を入力したところ、最大利得22dBで広
い波長範囲にわたって高利得の光増幅が行われることが
わかった。
英ガラスからなるクラッドとを有する径125μｍの光フ
ァイバを作成し、この光ファイバに波長1.48μｍ、パワ
ー48mWのポンプ光を入力したところ、最大利得22dBで広
い波長範囲にわたって高利得の光増幅が行われることが
わかった。
（実施例２） VAD法によって、嵩密度が0.3g/cm3の石英ガラス微粒
子集合体を得た。この集合体を均熱型の電気炉中で加熱
し、嵩密度を0.7g/cm3とした。
子集合体を得た。この集合体を均熱型の電気炉中で加熱
し、嵩密度を0.7g/cm3とした。
この集合体を実施例１同様に処理して石英ガラスと
し、さらに同様にして光ファイバとした。この光ファイ
バの光増幅の最大利得は21dBで広い波長範囲にわたって
高利得の光増幅がなされることがわかった。
し、さらに同様にして光ファイバとした。この光ファイ
バの光増幅の最大利得は21dBで広い波長範囲にわたって
高利得の光増幅がなされることがわかった。
（比較例） 実施例２において、加熱処理によって嵩密度を0.8g/c
m3とした石英ガラス微粒子集合体を得た。この集合体を
実施例１で使用した混合アルコール溶液中に浸漬したと
ころ、溶液をほとんど吸収せず、24時間浸漬しても集合
体の重量増加は20gであった。このものから同様にして
石英ガラスを得たところ、アルミニウム400ppm、エルビ
ウム160ppmが添加されていた。
m3とした石英ガラス微粒子集合体を得た。この集合体を
実施例１で使用した混合アルコール溶液中に浸漬したと
ころ、溶液をほとんど吸収せず、24時間浸漬しても集合
体の重量増加は20gであった。このものから同様にして
石英ガラスを得たところ、アルミニウム400ppm、エルビ
ウム160ppmが添加されていた。
以上説明したように、この発明の石英ガラスの製法
は、気相合成法によって得られ、その嵩密度が0.4〜0.7
g/cm3の範囲で全体に均一である石英ガラス微粒子集合
体に、塩化アルミニウムと塩化エルビウムを溶解したア
ルコール溶液を浸透せしめたのち、これを加熱して、ア
ルミニウムとエルビウムが石英ガラス中にドープされた
石英ガラス体を得るものであるので、極めて簡単な操作
と簡単な設備によってアルミニウムとエルビウムを均一
にドープすることができる。また、ドープ量は正確かつ
任意に調節することができるとともに得られた石英ガラ
スには泡などの欠陥がなく、高品質なものとなり、生産
性も高いものとなるなどの効果を奏する。
は、気相合成法によって得られ、その嵩密度が0.4〜0.7
g/cm3の範囲で全体に均一である石英ガラス微粒子集合
体に、塩化アルミニウムと塩化エルビウムを溶解したア
ルコール溶液を浸透せしめたのち、これを加熱して、ア
ルミニウムとエルビウムが石英ガラス中にドープされた
石英ガラス体を得るものであるので、極めて簡単な操作
と簡単な設備によってアルミニウムとエルビウムを均一
にドープすることができる。また、ドープ量は正確かつ
任意に調節することができるとともに得られた石英ガラ
スには泡などの欠陥がなく、高品質なものとなり、生産
性も高いものとなるなどの効果を奏する。
Claims (1)
- 【請求項１】気相合成法によって得られ、その嵩密度が
0.4〜0.7g/cm3の範囲で、かつ全体に均一である石英ガ
ラス微粒子集合体に、塩化アルミニウムと塩化エルビウ
ムを溶解したアルコール溶液を浸透せしめたのち、これ
を加熱して、アルミニウムとエルビウムが石英ガラス中
にドープされた石英ガラス体は得ることを特徴とする石
英ガラスの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2049100A JPH085684B2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 石英ガラスの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2049100A JPH085684B2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 石英ガラスの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252320A JPH03252320A (ja) | 1991-11-11 |
| JPH085684B2 true JPH085684B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=12821679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2049100A Expired - Fee Related JPH085684B2 (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | 石英ガラスの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085684B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2766420B2 (ja) * | 1992-04-07 | 1998-06-18 | 株式会社フジクラ | エルビウム添加石英の製造方法 |
| JP2007091579A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-04-12 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS627640A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスの製造方法 |
| JPH0662311B2 (ja) * | 1988-12-07 | 1994-08-17 | シツプ‐ソシエタ・イタリアーナ・ペル・レセルチツイオ・デル・テレコミニカイオーニ・ピー・アー | シリカを基材としたファイバープリフォームのコアをドープする方法 |
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1990
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