JPH085211B2 - レーザ光照射装置 - Google Patents
レーザ光照射装置Info
- Publication number
- JPH085211B2 JPH085211B2 JP63156197A JP15619788A JPH085211B2 JP H085211 B2 JPH085211 B2 JP H085211B2 JP 63156197 A JP63156197 A JP 63156197A JP 15619788 A JP15619788 A JP 15619788A JP H085211 B2 JPH085211 B2 JP H085211B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- generating means
- laser
- output
- light generating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/40025—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales
- H04N1/40037—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales the reproducing element being a laser
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/23—Reproducing arrangements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Color, Gradation (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば、レーザプリンタ、レーザ複写機、
レーザ加工機、レーザ印刷機、レーザ製版機などに適用
されるレーザ光照射装置に関するものである。
レーザ加工機、レーザ印刷機、レーザ製版機などに適用
されるレーザ光照射装置に関するものである。
従来、レーザ書込装置等において中間調の画像を記録
する方法としては、半導体レーザ等のレーザ光発生手段
の光出力を変化させ、記録媒体上に形成される１画素ご
とに中間調を段階的につける第１の方法と、記録媒体上
に形成される１画素を細分化して複数の小画素を形成
し、レーザ光発生手段の光出力を単一レベルに安定させ
る一方、各画素の中間調に対応させて上記複数の小画素
のうちの適当な数の小画素のみにレーザ光を照射して記
録する第２の方法とが知られている。
する方法としては、半導体レーザ等のレーザ光発生手段
の光出力を変化させ、記録媒体上に形成される１画素ご
とに中間調を段階的につける第１の方法と、記録媒体上
に形成される１画素を細分化して複数の小画素を形成
し、レーザ光発生手段の光出力を単一レベルに安定させ
る一方、各画素の中間調に対応させて上記複数の小画素
のうちの適当な数の小画素のみにレーザ光を照射して記
録する第２の方法とが知られている。
しかしながら、上記した第１の方法においては、レー
ザ光発生手段の出力を複数のレベルに変化させ、かつ、
各レベルで安定させるように制御することは、極めて困
難なことである。
ザ光発生手段の出力を複数のレベルに変化させ、かつ、
各レベルで安定させるように制御することは、極めて困
難なことである。
また、上記した第２の方法においては、１画素の中間
調を再現するために、複数の小画素のうちから適当な小
画素を選択してレーザ光の照射を行うというように、複
雑な処理を行う必要性が生じる。
調を再現するために、複数の小画素のうちから適当な小
画素を選択してレーザ光の照射を行うというように、複
雑な処理を行う必要性が生じる。
一方、このような問題を解決するものとして、特開昭
63−4763号公報には、出力が同一である複数のレーザ光
発源を設けるとともに、これらレーザ発光源を選択して
発行させ、その光軸を同一として記録媒体の同一個所に
焦点を結ばせる構成が開示されている。このような構成
によれば、上記の第１および第２の方法と比較して、簡
単な制御により記録媒体における所定の受光点において
所望の階調性を得ることができる。
63−4763号公報には、出力が同一である複数のレーザ光
発源を設けるとともに、これらレーザ発光源を選択して
発行させ、その光軸を同一として記録媒体の同一個所に
焦点を結ばせる構成が開示されている。このような構成
によれば、上記の第１および第２の方法と比較して、簡
単な制御により記録媒体における所定の受光点において
所望の階調性を得ることができる。
ところが、上記の公報に開示されている構成では、各
レーザ発光源の出力が同一であるため、記録媒体上の受
光点において必要な所定の階調数を得るためのレーザ発
光源の数が多くなる。即ち、所定数のレーザ発光源によ
って得られる階調数が少なくなっている。例えば、３個
のレーザ発光源では４階調しか得られない。従って、多
段階の階調数を設定する場合、多数のレーザ発光源が必
要となって、構造の大型化およびコストアップを招来す
るという問題点を有している。
レーザ発光源の出力が同一であるため、記録媒体上の受
光点において必要な所定の階調数を得るためのレーザ発
光源の数が多くなる。即ち、所定数のレーザ発光源によ
って得られる階調数が少なくなっている。例えば、３個
のレーザ発光源では４階調しか得られない。従って、多
段階の階調数を設定する場合、多数のレーザ発光源が必
要となって、構造の大型化およびコストアップを招来す
るという問題点を有している。
上述した課題を解決するための本発明の一つであるレ
ーザ光照射装置は、 中間調の程度応じて選択的に付勢されるｎ個のレーザ
光発光手段と、各レーザ光発生手段から出力されるレー
ザ光を合成するレーザ光合成手段とを備え、 上記ｎ個のレーザ光発生手段の出力がそれぞれ異なる
ように、それらの出力比を2n-1:2n-2:・・・22:21:20に
設定し、これた選択的に出力されるレーザ光を合成して
出力することを特徴とする。
ーザ光照射装置は、 中間調の程度応じて選択的に付勢されるｎ個のレーザ
光発光手段と、各レーザ光発生手段から出力されるレー
ザ光を合成するレーザ光合成手段とを備え、 上記ｎ個のレーザ光発生手段の出力がそれぞれ異なる
ように、それらの出力比を2n-1:2n-2:・・・22:21:20に
設定し、これた選択的に出力されるレーザ光を合成して
出力することを特徴とする。
また上述した課題を解決するための本発明の他のレー
ザ光照射装置は、上述ｎ個のレーザ光発生手段と、レー
ザ光合成手段とを備え、 上記レーザ光合成手段は、最大出力のレーザ光発生手
段に対応させた反射材と、他のレーザ光発生手段にそれ
ぞれ対応させたｎ−１個の異なる２方向から入射したレ
ーザ光を１つの光軸に集合させて出力する方向性結合器
とを備え、 最大出力のレーザ光発生手段から出力され、反射材に
て反射されたレーザ光が各方向性結合器を順次経由する
とともに、出力が小さいレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光ほど、経由する方向性結合器の個数が少なく
なり、かつ各方向性結合器において各方向性結合器に対
応するレーザ光発生手段から出力されたレーザ光と、こ
れより強力なレーザ光発生手段から出力されたレーザ光
とが集合されるように、上記反射材、各レーザ光発生手
段および各方向性結合器が配置されていることを特徴と
する。
ザ光照射装置は、上述ｎ個のレーザ光発生手段と、レー
ザ光合成手段とを備え、 上記レーザ光合成手段は、最大出力のレーザ光発生手
段に対応させた反射材と、他のレーザ光発生手段にそれ
ぞれ対応させたｎ−１個の異なる２方向から入射したレ
ーザ光を１つの光軸に集合させて出力する方向性結合器
とを備え、 最大出力のレーザ光発生手段から出力され、反射材に
て反射されたレーザ光が各方向性結合器を順次経由する
とともに、出力が小さいレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光ほど、経由する方向性結合器の個数が少なく
なり、かつ各方向性結合器において各方向性結合器に対
応するレーザ光発生手段から出力されたレーザ光と、こ
れより強力なレーザ光発生手段から出力されたレーザ光
とが集合されるように、上記反射材、各レーザ光発生手
段および各方向性結合器が配置されていることを特徴と
する。
上記の構成により、ｎ個のレーザ光発生手段のうち中
間調の程度に応じて選択的に付勢されたものからレーザ
光が出力され、出力されたレーザ光が合成されるので、
付勢されたレーザ光が発生手段の合計出力に対応する段
階付けられた光エネルギを有するレーザ光を、例えば、
レーザ書込装置における記録媒体の１画素にとして照射
し、中間調の画像を再現することができる。
間調の程度に応じて選択的に付勢されたものからレーザ
光が出力され、出力されたレーザ光が合成されるので、
付勢されたレーザ光が発生手段の合計出力に対応する段
階付けられた光エネルギを有するレーザ光を、例えば、
レーザ書込装置における記録媒体の１画素にとして照射
し、中間調の画像を再現することができる。
この場合、各レーザ光発生手段の出力比が2n-1:2n-2:
・・22:21:20に設定されていることから、例えば白（レ
ーザ光を照射しない状態）を含め８階調得るために、３
個の異なる出力、つまり22:21:20の比率でレーザ光を出
力する個々のレーザ光発生手段を設け、これを選択的に
駆動することで目的の階調を得ることができる。
・・22:21:20に設定されていることから、例えば白（レ
ーザ光を照射しない状態）を含め８階調得るために、３
個の異なる出力、つまり22:21:20の比率でレーザ光を出
力する個々のレーザ光発生手段を設け、これを選択的に
駆動することで目的の階調を得ることができる。
そのためレーザ光発生手段の個数を必要最小限にする
ことが可能になり、装置の小型化およびコストダウンが
可能になる。
ことが可能になり、装置の小型化およびコストダウンが
可能になる。
また、レーザ光合成手段は、具体的な構成について特
に限定するものではないが、１個の反射材、および異な
る２方向から入射されたレーザ光を共通の光軸に沿って
出力させるｎ−１個の方向性結合器により構成すること
ができる。この場合、各レーザ光発生手段から出力され
たレーザ光がレーザ光合成手段から出力された後に分散
しないように構成するのが望ましい。従って、上記反射
材、各レーザ光発生手段および各方向性結合器の配置と
しては、レーザ光合成手段内での光エネルギの減衰を考
慮して、最大出力のレーザ光発生手段に対応させて反射
材を設け、他のレーザ光発生手段に１対１に対応させて
方向性結合器を設け、最大出力のレーザ光発生手段から
出力され、反射材で反射されたレーザ光が各方向性結合
器を順次経由するとともに、出力が小さいレーザ光発生
手段から出力されたレーザ光ほど、経由する方向性結合
器の個数が少なくなり、かつ各方向性結合器において各
方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光と、これより強力なレーザ光発生手段から出
力されたレーザ光とが集合されるように設定するのがよ
い。
に限定するものではないが、１個の反射材、および異な
る２方向から入射されたレーザ光を共通の光軸に沿って
出力させるｎ−１個の方向性結合器により構成すること
ができる。この場合、各レーザ光発生手段から出力され
たレーザ光がレーザ光合成手段から出力された後に分散
しないように構成するのが望ましい。従って、上記反射
材、各レーザ光発生手段および各方向性結合器の配置と
しては、レーザ光合成手段内での光エネルギの減衰を考
慮して、最大出力のレーザ光発生手段に対応させて反射
材を設け、他のレーザ光発生手段に１対１に対応させて
方向性結合器を設け、最大出力のレーザ光発生手段から
出力され、反射材で反射されたレーザ光が各方向性結合
器を順次経由するとともに、出力が小さいレーザ光発生
手段から出力されたレーザ光ほど、経由する方向性結合
器の個数が少なくなり、かつ各方向性結合器において各
方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光と、これより強力なレーザ光発生手段から出
力されたレーザ光とが集合されるように設定するのがよ
い。
本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以
下の通りである。
下の通りである。
レーザ書込装置は、画像の明暗を８段階にわたって再
現できるように構成したものであって、レーザ光照射装
置Ａから照射されるレーザ光で記録媒体としての液晶セ
ル30の受光面を走査し、レーザ光の光エネルギーの大き
さに対応して液晶セル30の光透過性を失わせて画像を形
成するようになっている。
現できるように構成したものであって、レーザ光照射装
置Ａから照射されるレーザ光で記録媒体としての液晶セ
ル30の受光面を走査し、レーザ光の光エネルギーの大き
さに対応して液晶セル30の光透過性を失わせて画像を形
成するようになっている。
上記レーザ光照射装置Ａは、３個のレーザ光発生手段
１・２・３と、これらレーザ発光生手段１・２・３から
出力されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段Ｂと、
レーザ光合成手段Ｂにより合成された合成レーザ光L4を
液晶セル30上に走査させるレーザ用光学系20とを備えて
いる。
１・２・３と、これらレーザ発光生手段１・２・３から
出力されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段Ｂと、
レーザ光合成手段Ｂにより合成された合成レーザ光L4を
液晶セル30上に走査させるレーザ用光学系20とを備えて
いる。
各レーザ光発生手段１・２・３は、それぞれ内部に例
えば半導体レーザを備え、電流変換回路11・12・13の出
力電流に対応してそれぞれ所定の強さのレーザ光L1・L2
・L3を出力するようになっている。
えば半導体レーザを備え、電流変換回路11・12・13の出
力電流に対応してそれぞれ所定の強さのレーザ光L1・L2
・L3を出力するようになっている。
各レーザ光発生手段１・２・３からのレーザ光の出力
比は、本実施例では、4:2:1となるように設定されてい
る。
比は、本実施例では、4:2:1となるように設定されてい
る。
また、レーザ光照射装置Ａにおいては、各レーザ光発
生手段１・２・３の出力を正確に制御するために公知の
フィードバック制御系が設けられている。
生手段１・２・３の出力を正確に制御するために公知の
フィードバック制御系が設けられている。
即ち、各レーザ光発生手段１・２・３から出力される
レーザ光L1・L2・L3は、それぞれPINダイオードを備え
た光検知手段４・５・６によって検知され、各光検知手
段４・５・６の出力をそれぞれ比較回路７・８・９にお
いて所定の光出力に対応する基準電圧V1・V2・V3と比較
して、各比較回路７・８・９の出力に基づき制御回路10
から電流変換回路11・12・13に指示信号を出力し、各電
流変換回路11・12・13が制御回路10の指示信号に従って
レーザ光発生手段１・２・３に各々所定の出力光を発射
するのに要する適正な電流を供給するように構成されて
いる。なお、書込時に各フィードバック制御系から各比
較回路７・８・９に入力される基準電圧V1・V2・V3は、
各レーザ光発生手段１・２・３の出力比が4:2:1となる
ように各フィードバック制御系に記憶設定されている。
レーザ光L1・L2・L3は、それぞれPINダイオードを備え
た光検知手段４・５・６によって検知され、各光検知手
段４・５・６の出力をそれぞれ比較回路７・８・９にお
いて所定の光出力に対応する基準電圧V1・V2・V3と比較
して、各比較回路７・８・９の出力に基づき制御回路10
から電流変換回路11・12・13に指示信号を出力し、各電
流変換回路11・12・13が制御回路10の指示信号に従って
レーザ光発生手段１・２・３に各々所定の出力光を発射
するのに要する適正な電流を供給するように構成されて
いる。なお、書込時に各フィードバック制御系から各比
較回路７・８・９に入力される基準電圧V1・V2・V3は、
各レーザ光発生手段１・２・３の出力比が4:2:1となる
ように各フィードバック制御系に記憶設定されている。
上記制御回路10は、外部から入力される画像信号P
Vと、中間調の程度に対応する中間調信号Phとを入力
し、画像信号PVと中間調信号Phとが同時に入力される時
に駆動信号Pf1・Pf2・Pf3を出力するようになってい
る。上記の中間調信号Phは、レーザ光発生手段１・２・
３の数に対応するビット数、即ち、３ビットのバイナリ
信号で形成され、画像信号PVが入力している時に中間調
信号Phの最上位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf1が
出力され、画像信号PVが入力している時に中間調信号Ph
の第２位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf2が出力さ
れ、画像信号PVが入力している時に中間調信号Phの最下
位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf3が出力されるよ
うになっている。
Vと、中間調の程度に対応する中間調信号Phとを入力
し、画像信号PVと中間調信号Phとが同時に入力される時
に駆動信号Pf1・Pf2・Pf3を出力するようになってい
る。上記の中間調信号Phは、レーザ光発生手段１・２・
３の数に対応するビット数、即ち、３ビットのバイナリ
信号で形成され、画像信号PVが入力している時に中間調
信号Phの最上位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf1が
出力され、画像信号PVが入力している時に中間調信号Ph
の第２位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf2が出力さ
れ、画像信号PVが入力している時に中間調信号Phの最下
位のビットが‘1'であれば駆動信号Pf3が出力されるよ
うになっている。
前記レーザ光合成手段Ｂは、反射材17と、これと順に
並んで配置された２個の方向性結合器18・19とで構成さ
れている。
並んで配置された２個の方向性結合器18・19とで構成さ
れている。
各レーザ光発生手段１・２・３から発射されるレーザ
光L1・L2・L3は互いに平行に発射され、反射材17あるい
は方向性結合器18・19の内部の鏡面にそれぞれ45゜の角
度で入射され、一定方向に反射される。そして、反射材
17あるいは方向性結合器18・19を経由したレーザ光L1・
L2・L3は、順に各方向性結合器18・19において同じ光軸
上に集合され、合成レーザ光L4となってレーザ用光学系
20に入射されるようになっている。
光L1・L2・L3は互いに平行に発射され、反射材17あるい
は方向性結合器18・19の内部の鏡面にそれぞれ45゜の角
度で入射され、一定方向に反射される。そして、反射材
17あるいは方向性結合器18・19を経由したレーザ光L1・
L2・L3は、順に各方向性結合器18・19において同じ光軸
上に集合され、合成レーザ光L4となってレーザ用光学系
20に入射されるようになっている。
上記液晶セル30は、合成レーザ光L4を受光するレーザ
光吸収膜31、液晶層32及び基板33から構成され、合成レ
ーザ光L4の照射を受けた点でレーザ光吸収膜31に吸収さ
れた合成レーザ光L4の光エネルギの大きさに対応してレ
ーザ光吸収膜31の温度が上昇し、この温度上昇によって
液晶の光透過性がその温度上昇の大きさに対応する広さ
にわたって失われ、１画素中に合成レーザ光L4の光エネ
ルギの大きさに対応した大きさの像が形成されるように
なっている。
光吸収膜31、液晶層32及び基板33から構成され、合成レ
ーザ光L4の照射を受けた点でレーザ光吸収膜31に吸収さ
れた合成レーザ光L4の光エネルギの大きさに対応してレ
ーザ光吸収膜31の温度が上昇し、この温度上昇によって
液晶の光透過性がその温度上昇の大きさに対応する広さ
にわたって失われ、１画素中に合成レーザ光L4の光エネ
ルギの大きさに対応した大きさの像が形成されるように
なっている。
次に、レーザ書込装置の動作を説明する。
レーザ光照射装置Ａから出力される合成レーザ光L
4は、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオフとなる
０から、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオンとな
る７との間で、８段階にわたって強さを段階的に制御さ
れる。
4は、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオフとなる
０から、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオンとな
る７との間で、８段階にわたって強さを段階的に制御さ
れる。
例えば、画像信号PVと、出力の弱い順番からすれば６
段階目の強度の‘5'に対応する中間調信号Phとして‘10
1'が制御回路10に与えられた場合には、駆動回路14に駆
動信号Pf1として‘1'を出力してレーザ光発生手段１を
付勢し、駆動回路15には駆動信号Pf2として‘0'を出力
してレーザ光発生手段２を消勢状態に継続させ、また駆
動回路16には駆動信号Pf3として‘1'を出力してレーザ
光発生手段３を付勢する。すると、付勢されたレーザ光
発生手段１から出力されたレーザ光L1と、レーザ光発生
手段３から出力されたレーザ光L3とが、レーザ光合成手
段Ｂにて合成され、‘5'の光エネルギを有する合成レー
ザ光L4が、レーザ用光学系20を経て液晶セル30の所定の
画素に照射されることになる。
段階目の強度の‘5'に対応する中間調信号Phとして‘10
1'が制御回路10に与えられた場合には、駆動回路14に駆
動信号Pf1として‘1'を出力してレーザ光発生手段１を
付勢し、駆動回路15には駆動信号Pf2として‘0'を出力
してレーザ光発生手段２を消勢状態に継続させ、また駆
動回路16には駆動信号Pf3として‘1'を出力してレーザ
光発生手段３を付勢する。すると、付勢されたレーザ光
発生手段１から出力されたレーザ光L1と、レーザ光発生
手段３から出力されたレーザ光L3とが、レーザ光合成手
段Ｂにて合成され、‘5'の光エネルギを有する合成レー
ザ光L4が、レーザ用光学系20を経て液晶セル30の所定の
画素に照射されることになる。
また、例えば、画像信号PVと、出力の弱い順番からす
れば４段階目の強度の‘3'に対応する中間調信号Phとし
て‘011'が制御回路10に与えられた場合には、同様にし
て、レーザ光発生手段２から出力されたレーザ光L2とレ
ーザ光発生手段３から出力されたレーザ光L3とがレーザ
光合成手段Ｂにて合成され、‘3'の光エネルギを有する
合成レーザ光L4が、レーザ用光学系20を経て液晶セル30
の所定の画素に照射されることになる。すると、液晶セ
ル30の画素中には、合成レーザ光L4の光エネルギ量に対
応した大きさの像が形成され、この画素が中間調の明る
さになる。
れば４段階目の強度の‘3'に対応する中間調信号Phとし
て‘011'が制御回路10に与えられた場合には、同様にし
て、レーザ光発生手段２から出力されたレーザ光L2とレ
ーザ光発生手段３から出力されたレーザ光L3とがレーザ
光合成手段Ｂにて合成され、‘3'の光エネルギを有する
合成レーザ光L4が、レーザ用光学系20を経て液晶セル30
の所定の画素に照射されることになる。すると、液晶セ
ル30の画素中には、合成レーザ光L4の光エネルギ量に対
応した大きさの像が形成され、この画素が中間調の明る
さになる。
この場合、上記各レーザ光発生手段１・２・３の出力
が多段に変化されることなく安定されているので、再現
される中間調の明るさは各段階において安定することに
なる。また、各画素を小画素に細分化することなく中間
調を再現するようにしているので、複数の小画素のうち
から適当な小画素を選択してレーザ光の照射を行うとい
った複雑な処理を行わなくてもよい。
が多段に変化されることなく安定されているので、再現
される中間調の明るさは各段階において安定することに
なる。また、各画素を小画素に細分化することなく中間
調を再現するようにしているので、複数の小画素のうち
から適当な小画素を選択してレーザ光の照射を行うとい
った複雑な処理を行わなくてもよい。
また、各レーザ光発生手段１・２・３の出力が異なる
ように設定されているので、これら３個のレーザ光発生
手段１・２・３で８階調が得られるようになっている。
即ち、各レーザ光発生手段１・２・３の出力が同一に設
定されている場合と比較して、少ないレーザ光発生手段
の数で同一の階調数が得られ、これによって装置の小型
化およびコストダウンが可能となっている。
ように設定されているので、これら３個のレーザ光発生
手段１・２・３で８階調が得られるようになっている。
即ち、各レーザ光発生手段１・２・３の出力が同一に設
定されている場合と比較して、少ないレーザ光発生手段
の数で同一の階調数が得られ、これによって装置の小型
化およびコストダウンが可能となっている。
また、各レーザ光発生手段１・２・３のレーザ光出力
比が、4:2:1、即ち2n-1:2n-2:・・・20（ｎ＝３）とな
っているので、少ないレーザ光発生手段の数にて中間調
を一定の変動量で段階的に制御可能となり、良好な階調
性が得られるようになっている。
比が、4:2:1、即ち2n-1:2n-2:・・・20（ｎ＝３）とな
っているので、少ないレーザ光発生手段の数にて中間調
を一定の変動量で段階的に制御可能となり、良好な階調
性が得られるようになっている。
また、レーザ光発生手段１・２・３が出力の大きい順
に配置され、最大出力のレーザ光発生手段１から出力さ
れて反射材17で反射されたレーザ光が各方向性結合器18
・19を順次経由し、各方向性結合器18・19においてその
方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光が最大出力のレーザ光発生手段１から出力さ
れたレーザ光と集合されるようになっているので、レー
ザ光合成手段Ｂ内での光エネルギの減衰による階調性の
低減が防止されている。
に配置され、最大出力のレーザ光発生手段１から出力さ
れて反射材17で反射されたレーザ光が各方向性結合器18
・19を順次経由し、各方向性結合器18・19においてその
方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力され
たレーザ光が最大出力のレーザ光発生手段１から出力さ
れたレーザ光と集合されるようになっているので、レー
ザ光合成手段Ｂ内での光エネルギの減衰による階調性の
低減が防止されている。
上記のようにして、液晶セル30上の各画素の像を順次
形成することにより、良好な中間調を再現した全体画像
が得られる。
形成することにより、良好な中間調を再現した全体画像
が得られる。
なお、上記実施例では、レーザ光発生手段１・２・３
を３個設け、中間調を８段階としているが、レーザ光発
生手段１・２・３を増減して中間調の段階数を増加また
は減少させることも可能である。
を３個設け、中間調を８段階としているが、レーザ光発
生手段１・２・３を増減して中間調の段階数を増加また
は減少させることも可能である。
また、記録媒体は液晶セル30に限定されず、例えば感
光体で構成することも可能である。
光体で構成することも可能である。
以上説明した本発明のレーザ光照射装置によれば、レ
ーザ光発生手段の出力を異ならせており、該レーザ光発
生手段を選択的に駆動し、選択的に駆動したレーザ発生
手段からのレーザ光を合成、つまり集合させるため、必
要最小限の個数のレーザ光発生手段で目的とする多階調
のレーザ光を記録部分等に照射できる。
ーザ光発生手段の出力を異ならせており、該レーザ光発
生手段を選択的に駆動し、選択的に駆動したレーザ発生
手段からのレーザ光を合成、つまり集合させるため、必
要最小限の個数のレーザ光発生手段で目的とする多階調
のレーザ光を記録部分等に照射できる。
従ってレーザ光発生手段の個数を減らし、装置の小型
化およびコストダウンに大きく貢献できる。
化およびコストダウンに大きく貢献できる。
また本発明のレーザ光照射装置によれば、異なる出力
のレーザ光を合成する場合、小さい出力のレーザ光につ
いては、レーザ光合成手段を通過する個数が少なくなる
ようにしたことから、上述した効果に加え、光エネルギ
の減衰をできるだけ減すことができ、よってレーザ光の
合成による階調性の低減を防止することが可能になる。
のレーザ光を合成する場合、小さい出力のレーザ光につ
いては、レーザ光合成手段を通過する個数が少なくなる
ようにしたことから、上述した効果に加え、光エネルギ
の減衰をできるだけ減すことができ、よってレーザ光の
合成による階調性の低減を防止することが可能になる。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック構成図であ
る。 Ａはレーザ光照射装置、Ｂはレーザ光合成手段、１・２
・３はレーザ光発生手段、17は反射材、18・19は方向性
結合器、30は記録媒体としての液晶セルである。
る。 Ａはレーザ光照射装置、Ｂはレーザ光合成手段、１・２
・３はレーザ光発生手段、17は反射材、18・19は方向性
結合器、30は記録媒体としての液晶セルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｇ 15/04 15/043 Ｇ０３Ｇ 15/04 １２０
Claims (2)
- 【請求項１】中間調の程度に応じて選択的に付勢される
ｎ個のレーザ光発生手段と、 ｎ個のレーザ光発生手段から出力されるレーザ光を合成
するレーザ光合成手段とを備え、 上記ｎ個のレーザ光発生手段の出力がそれぞれ異なるよ
うに、それらの出力の比が2n-1:2n-2:・・・22:21:20に
設定されてなり、これら選択的に出力されるレーザ光を
合成して出力することを特徴とするレーザ光照射装置。 - 【請求項２】中間調の程度に応じて選択的に付勢され、
各々出力が異なるｎ個のレーザ光発生手段と、各レーザ
光発生手段から出力されるレーザ光を合成するレーザ光
合成手段とを備え、 上記レーザ光合成手段は、最大出力のレーザ光発生手段
に対応させた反射材と、他のレーザ光発生手段にそれぞ
れ対応させたｎ−１個の異なる２方向から入射したレー
ザ光を１つの光軸に集合させて出力する方向性結合器と
を備え、 最大出力のレーザ光発生手段から出力され、反射材にて
反射されたレーザ光が各方向性結合器を順次経由すると
ともに、出力が小さいレーザ光発生手段から出力された
レーザ光ほど、経由する方向性結合器の個数が少なくな
り、かつ各方向性結合器において各方向性結合器に対応
するレーザ光発生手段から出力されたレーザ光と、これ
より強力なレーザ光発生手段から出力されたレーザ光と
が集合されるように、上記反射材、各レーザ光発生手段
および各方向性結合器が配置されていることを特徴とす
るレーザ光照射装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156197A JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
| US07/370,903 US4973989A (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Halftone laser recording with plural beams |
| EP89306421A EP0348237B1 (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | A laser beam projecting unit |
| DE68926409T DE68926409T2 (de) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Laserstrahlprojektiereinheit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156197A JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026162A JPH026162A (ja) | 1990-01-10 |
| JPH085211B2 true JPH085211B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=15622489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63156197A Expired - Fee Related JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4973989A (ja) |
| EP (1) | EP0348237B1 (ja) |
| JP (1) | JPH085211B2 (ja) |
| DE (1) | DE68926409T2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5221971A (en) * | 1990-11-21 | 1993-06-22 | Polaroid Corporation | Area modulation printing apparatus |
| US5170261A (en) * | 1990-11-21 | 1992-12-08 | Polaroid Corporation | Printing method |
| WO1992010054A1 (en) * | 1990-11-21 | 1992-06-11 | Polaroid Corporation | Printing method |
| EP0511335B1 (en) * | 1990-11-21 | 1995-03-08 | Polaroid Corporation | Printing apparatus |
| US5145802A (en) * | 1991-11-12 | 1992-09-08 | United Technologies Corporation | Method of making SOI circuit with buried connectors |
| US5300962A (en) * | 1992-08-17 | 1994-04-05 | Xerox Corporation | Compound optics for a raster output scanner in an electrophotographic printer |
| DE69417794T2 (de) * | 1993-02-25 | 1999-11-18 | Konishiroku Photo Ind | Bilderzeugungsgerät zum Erzeugen einer Abbildung mit Hilfe von mehreren Laserstrahlabtastern |
| JP3276284B2 (ja) * | 1996-01-12 | 2002-04-22 | 旭光学工業株式会社 | マルチビーム光走査装置 |
| US6266359B1 (en) | 1999-09-02 | 2001-07-24 | Alphamicron, Inc. | Splicing asymmetric reflective array for combining high power laser beams |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4506275A (en) * | 1981-07-13 | 1985-03-19 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Image scanning and recording device |
| JPS5817442A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録装置における連続階調露光方法およびその装置 |
| JPS58141078A (ja) * | 1982-02-16 | 1983-08-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録方法及び装置 |
| JPS62109245A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録材料 |
| JPS634763A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | Canon Inc | 記録装置 |
| JPS6350811A (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-03 | Minolta Camera Co Ltd | レ−ザ−ビ−ムプリンタ |
| JPS63249658A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Konica Corp | 画像記録装置 |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63156197A patent/JPH085211B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-23 EP EP89306421A patent/EP0348237B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-23 DE DE68926409T patent/DE68926409T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-23 US US07/370,903 patent/US4973989A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68926409T2 (de) | 1996-10-10 |
| JPH026162A (ja) | 1990-01-10 |
| EP0348237A3 (en) | 1992-06-10 |
| EP0348237A2 (en) | 1989-12-27 |
| EP0348237B1 (en) | 1996-05-08 |
| DE68926409D1 (de) | 1996-06-13 |
| US4973989A (en) | 1990-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6567217B1 (en) | Image-forming system with enhanced gray levels | |
| US4689482A (en) | Multiple laser beam scanner with beam intensity control | |
| JP2524108B2 (ja) | 光走査記録装置 | |
| EP0144963B1 (en) | Radiation image read-out apparatus | |
| JPH085211B2 (ja) | レーザ光照射装置 | |
| JPS61200524A (ja) | 光走査装置 | |
| EP0480437B1 (en) | Scanning and exposing method using a plurality of optical beams and apparatus therefor | |
| US5856841A (en) | Image formation method and image formation apparatus for forming a high definition and high quality image | |
| JPS61230467A (ja) | 連続調画像記録方法 | |
| JPH07115538A (ja) | 階調記録方法及び装置 | |
| JPH1142815A (ja) | レーザ画像露光装置 | |
| US5325207A (en) | Facsimile machine using thin film electroluminescent device for spot scanning | |
| JP2561911B2 (ja) | マルチビ−ムレ−ザ走査装置 | |
| EP0585961A1 (en) | A light beam scanning apparatus for forming a halftone screen | |
| JPH0444751B2 (ja) | ||
| JPS61212818A (ja) | 画像情報記録方法 | |
| JPH02120062A (ja) | 像形成装置 | |
| JPS5974775A (ja) | レ−ザプリンタ | |
| JPH0477911B2 (ja) | ||
| JPH0477910B2 (ja) | ||
| JPS634763A (ja) | 記録装置 | |
| JPS60264158A (ja) | 半導体レ−ザ走査装置 | |
| JPS63173074A (ja) | デジタル複写装置 | |
| US5079568A (en) | Simultaneous multi-beam optical modulator device using memory mapped signals to adjust for constant light beam intensity | |
| JPS643389B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |