JPH07115538A - 階調記録方法及び装置 - Google Patents
階調記録方法及び装置Info
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- JPH07115538A JPH07115538A JP5259691A JP25969193A JPH07115538A JP H07115538 A JPH07115538 A JP H07115538A JP 5259691 A JP5259691 A JP 5259691A JP 25969193 A JP25969193 A JP 25969193A JP H07115538 A JPH07115538 A JP H07115538A
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/405—Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels
- H04N1/4055—Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels producing a clustered dots or a size modulated halftone pattern
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Abstract
(57)【要約】
【目的】階調性と解像度との両立を図ることができ低コ
ストで実施可能な階調記録方法及び装置を提供すること
を目的とする。 【構成】一定の大きさのマトリックス領域内におけるレ
ーザ光の露光位置を示す露光パターンＰＳＡを用い、レ
ーザ光を画像の主走査方向に走査しながら副走査方向に
走査し、レーザ光の強度を露光パターンＰＳＡに応じて
制御することによって濃度の階調性を有した記録を行う
階調記録方法であって、露光パターンＰＳＡとして、レ
ーザ光による合計露光時間は同一であるが露光位置が互
いに異なる複数の露光パターンＰＳＡ２〜４を用い、画
像の各画素の濃度情報に応じた露光パターンを選択して
記録を行う。
ストで実施可能な階調記録方法及び装置を提供すること
を目的とする。 【構成】一定の大きさのマトリックス領域内におけるレ
ーザ光の露光位置を示す露光パターンＰＳＡを用い、レ
ーザ光を画像の主走査方向に走査しながら副走査方向に
走査し、レーザ光の強度を露光パターンＰＳＡに応じて
制御することによって濃度の階調性を有した記録を行う
階調記録方法であって、露光パターンＰＳＡとして、レ
ーザ光による合計露光時間は同一であるが露光位置が互
いに異なる複数の露光パターンＰＳＡ２〜４を用い、画
像の各画素の濃度情報に応じた露光パターンを選択して
記録を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、面積階調による中間調
再現のための階調記録方法及び装置に関し、例えば電子
写真式の複写機又はプリンタ装置などに利用される。
再現のための階調記録方法及び装置に関し、例えば電子
写真式の複写機又はプリンタ装置などに利用される。
【０００２】
【従来の技術】従来より、プリンタ装置又はデジタル複
写機などにおいて、中間調のある画像を記録するため
に、濃度パターン法、ディザ法など、種々の面積階調に
よる記録方法が提案されている。
写機などにおいて、中間調のある画像を記録するため
に、濃度パターン法、ディザ法など、種々の面積階調に
よる記録方法が提案されている。
【０００３】濃度パターン法は、原画像の１画素に対し
てｍ×ｎのマトリックスの各ドット（要素）のしきい値
を対応させ、互いに異なる複数の面積パターンで表すも
のである。
てｍ×ｎのマトリックスの各ドット（要素）のしきい値
を対応させ、互いに異なる複数の面積パターンで表すも
のである。
【０００４】ディザ法は、原画像の１画素に対してｍ×
ｎのマトリックスの各ドットのしきい値を１対１に対応
させるものであり、中心を核として順次太っていくよう
に構成されたドット集中型（Ｆａｔｔｅｎｉｎｇ型）
と、ドットがなるべく分散するように構成されたドット
分散型（Ｂａｙｅｒ型）とに分類される。ドット分散型
のしきい値マトリックスを用いた場合には、レーザ光の
光強度分布の影響で高γ（ガンマ）の記録特性となって
しまう。一方、ドット集中型のしきい値マトリックスを
用いた場合には、階調数を増大させるためにマトリック
スサイズを大きくとると解像度が低下し、解像度を向上
させるためにマトリックスサイズを小さくとると階調数
が減少してしまう。
ｎのマトリックスの各ドットのしきい値を１対１に対応
させるものであり、中心を核として順次太っていくよう
に構成されたドット集中型（Ｆａｔｔｅｎｉｎｇ型）
と、ドットがなるべく分散するように構成されたドット
分散型（Ｂａｙｅｒ型）とに分類される。ドット分散型
のしきい値マトリックスを用いた場合には、レーザ光の
光強度分布の影響で高γ（ガンマ）の記録特性となって
しまう。一方、ドット集中型のしきい値マトリックスを
用いた場合には、階調数を増大させるためにマトリック
スサイズを大きくとると解像度が低下し、解像度を向上
させるためにマトリックスサイズを小さくとると階調数
が減少してしまう。
【０００５】また、階調性及び解像度を両立させるため
の記録方法として、図１３に示すようにドット集中型の
しきい値マトリックスを変形したものとパルス幅変調と
を組み合せた方法（ＩＨ法）が提案されている（電子写
真学会誌第２５巻第１号１９８６年第３４頁）。このＩ
Ｈ法による表現可能な階調数ｒは、パルス幅変調による
ドット分割数Ｒとマトリックスサイズｍ×ｍとにより、
全白を含めると、ｒ＝ｍ×ｍ×Ｌ×０．５＋１となり、
これ以前のディザ法と比べて高画質の出力が得られる。
の記録方法として、図１３に示すようにドット集中型の
しきい値マトリックスを変形したものとパルス幅変調と
を組み合せた方法（ＩＨ法）が提案されている（電子写
真学会誌第２５巻第１号１９８６年第３４頁）。このＩ
Ｈ法による表現可能な階調数ｒは、パルス幅変調による
ドット分割数Ｒとマトリックスサイズｍ×ｍとにより、
全白を含めると、ｒ＝ｍ×ｍ×Ｌ×０．５＋１となり、
これ以前のディザ法と比べて高画質の出力が得られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＩＨ法を用い
た場合であっても、ドット集中型の場合と同様に、レー
ザ光の光強度分布の影響による出力特性の高ガンマ化が
避けられない。そのため、直線化出力を得るためには、
濃度変化が等間隔となるように必要なステップのみを抜
き出さなくてはならない。したがって、その場合には、
上述の式で計算される階調数ｒに比べて実際の階調数は
低下してしまい、それだけ画質が低下する。
た場合であっても、ドット集中型の場合と同様に、レー
ザ光の光強度分布の影響による出力特性の高ガンマ化が
避けられない。そのため、直線化出力を得るためには、
濃度変化が等間隔となるように必要なステップのみを抜
き出さなくてはならない。したがって、その場合には、
上述の式で計算される階調数ｒに比べて実際の階調数は
低下してしまい、それだけ画質が低下する。
【０００７】このように、従来においては、階調性と解
像度との両立が充分に図られているとは言い難い。これ
は、出力濃度を上げるためには、マトリックス領域内に
おける発光ドット数、即ち合計露光時間（トータル露光
時間）を増やさなければならないという前提に立ってい
るためである。例えば上述したＩＨ法の場合に、階調数
ｒを増大させるためにはマトリックスサイズｍを大きく
するか、又はドット分割数Ｒを増やすことが必要となる
が、マトリックスサイズｍの増大は解像度の低下を招
き、ドット分割数Ｒの増大は高速化対応が難しいという
状況に陥る。
像度との両立が充分に図られているとは言い難い。これ
は、出力濃度を上げるためには、マトリックス領域内に
おける発光ドット数、即ち合計露光時間（トータル露光
時間）を増やさなければならないという前提に立ってい
るためである。例えば上述したＩＨ法の場合に、階調数
ｒを増大させるためにはマトリックスサイズｍを大きく
するか、又はドット分割数Ｒを増やすことが必要となる
が、マトリックスサイズｍの増大は解像度の低下を招
き、ドット分割数Ｒの増大は高速化対応が難しいという
状況に陥る。
【０００８】この問題を解決する一手法として、レーザ
光を３値以上（多値）で強度変調することが考えられ
る。３値以上の強度変調を行うことによって、解像度を
低下させることなく階調性を高めることができるもの
の、多値レーザの安定性を確保することが困難であるた
め、それがコストアップにつながってしまう。
光を３値以上（多値）で強度変調することが考えられ
る。３値以上の強度変調を行うことによって、解像度を
低下させることなく階調性を高めることができるもの
の、多値レーザの安定性を確保することが困難であるた
め、それがコストアップにつながってしまう。
【０００９】本発明は、上述の問題に鑑みてなされたも
のであり、階調性と解像度との両立を図ることができ低
コストで実施可能な階調記録方法及び装置を提供するこ
とを目的とする。
のであり、階調性と解像度との両立を図ることができ低
コストで実施可能な階調記録方法及び装置を提供するこ
とを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る方
法は、上述の課題を解決するため、画像を主走査方向及
び副走査方向に走査し、前記画像の各画素に対応して照
射されるエネルギーの量を制御することによって階調性
を得るようにした階調記録方法であって、一定の大きさ
の領域内における前記エネルギーの総照射量が同一であ
る複数の領域に対して、前記エネルギーを照射する位置
を互いに異ならせることによって互いに異なる階調の記
録を行う方法である。
法は、上述の課題を解決するため、画像を主走査方向及
び副走査方向に走査し、前記画像の各画素に対応して照
射されるエネルギーの量を制御することによって階調性
を得るようにした階調記録方法であって、一定の大きさ
の領域内における前記エネルギーの総照射量が同一であ
る複数の領域に対して、前記エネルギーを照射する位置
を互いに異ならせることによって互いに異なる階調の記
録を行う方法である。
【００１１】請求項２の発明に係る方法は、画像を主走
査方向及び副走査方向に走査し、前記画像の各画素に対
応して照射される光源からの露光量を制御することによ
って階調性を得るようにした階調記録方法であって、一
定の大きさのマトリックス領域内における前記光源によ
る合計露光時間が同一である複数のマトリックス領域に
対して、前記光源によって露光される露光位置を互いに
異ならせることによって互いに異なる階調の記録を行う
方法である。
査方向及び副走査方向に走査し、前記画像の各画素に対
応して照射される光源からの露光量を制御することによ
って階調性を得るようにした階調記録方法であって、一
定の大きさのマトリックス領域内における前記光源によ
る合計露光時間が同一である複数のマトリックス領域に
対して、前記光源によって露光される露光位置を互いに
異ならせることによって互いに異なる階調の記録を行う
方法である。
【００１２】請求項３の発明に係る方法は、画像を主走
査方向及び副走査方向に走査するとともに、一定の大き
さのマトリックス領域内における露光位置を示す露光パ
ターンを用い、光源からの露光量を前記露光パターンに
応じて制御することによって階調性を有した記録を行う
階調記録方法であって、前記露光パターンとして、前記
光源による合計露光時間は同一であるが露光位置が互い
に異なる複数の露光パターンを用い、前記画像の各画素
の濃度情報に応じた露光パターンを選択して記録を行う
方法である。
査方向及び副走査方向に走査するとともに、一定の大き
さのマトリックス領域内における露光位置を示す露光パ
ターンを用い、光源からの露光量を前記露光パターンに
応じて制御することによって階調性を有した記録を行う
階調記録方法であって、前記露光パターンとして、前記
光源による合計露光時間は同一であるが露光位置が互い
に異なる複数の露光パターンを用い、前記画像の各画素
の濃度情報に応じた露光パターンを選択して記録を行う
方法である。
【００１３】請求項４の発明に係る方法は、前記光源の
強度を前記露光パターンに応じて零又は所定値のいずれ
かとなるように２値制御する方法である。請求項５の発
明に係る方法は、前記光源の強度を前記露光パターンに
応じて多値となるように強度変調する方法である。
強度を前記露光パターンに応じて零又は所定値のいずれ
かとなるように２値制御する方法である。請求項５の発
明に係る方法は、前記光源の強度を前記露光パターンに
応じて多値となるように強度変調する方法である。
【００１４】請求項６の発明に係る装置は、光源による
合計露光時間は同一であるが露光位置が互いに異なる複
数の露光パターンを格納したパターンＲＯＭと、入力さ
れた画像データの各画素の濃度情報に応じた露光パター
ンを指定するための露光パターン指定手段と、指定され
た露光パターンのデータを前記パターンＲＯＭから読み
出すためのアドレス指定手段と、前記パターンＲＯＭか
ら読み出されたデータに基づいて光源の強度を制御する
ためのドライバ手段とを有して構成される。
合計露光時間は同一であるが露光位置が互いに異なる複
数の露光パターンを格納したパターンＲＯＭと、入力さ
れた画像データの各画素の濃度情報に応じた露光パター
ンを指定するための露光パターン指定手段と、指定され
た露光パターンのデータを前記パターンＲＯＭから読み
出すためのアドレス指定手段と、前記パターンＲＯＭか
ら読み出されたデータに基づいて光源の強度を制御する
ためのドライバ手段とを有して構成される。
【００１５】
【作用】例えば回転する感光ドラム上に、レーザ光又は
ＬＥＤアレイなどの光源によって主走査方向に露光され
ると、一定以上のエネルギーで露光された部分がトナー
によって顕像化される。そのとき、一定の大きさの領域
内において、光源による合計露光時間が同一であって
も、光源による露光位置が相違する場合には、光源から
のエネルギーの加算状態が異なるため、顕像化される面
積が異なり、これによって互いに異なる階調の記録が行
われる。
ＬＥＤアレイなどの光源によって主走査方向に露光され
ると、一定以上のエネルギーで露光された部分がトナー
によって顕像化される。そのとき、一定の大きさの領域
内において、光源による合計露光時間が同一であって
も、光源による露光位置が相違する場合には、光源から
のエネルギーの加算状態が異なるため、顕像化される面
積が異なり、これによって互いに異なる階調の記録が行
われる。
【００１６】
【実施例】図１は本発明に係るプリンタ装置１の概略図
である。プリンタ装置１は、走査光学系１１、感光ドラ
ム１２、帯電器１３、現像器１４、及び転写器１５など
から構成されている。感光ドラム１２は、図示の矢印方
向に定速で回転し、その表面が帯電器１３によって所定
の電位に一様に帯電される。走査光学系１１から出力さ
れる光ビーム（レーザビーム）が感光ドラム１２上に結
像し、感光ドラム１２の表面に静電潜像が形成される。
静電潜像は、現像器１４によって現像され顕像化され
る。顕像化されたトナー像が転写位置に達すると、転写
器１５によって記録紙ＰＰに転写され、図示しない定着
器によって定着される。
である。プリンタ装置１は、走査光学系１１、感光ドラ
ム１２、帯電器１３、現像器１４、及び転写器１５など
から構成されている。感光ドラム１２は、図示の矢印方
向に定速で回転し、その表面が帯電器１３によって所定
の電位に一様に帯電される。走査光学系１１から出力さ
れる光ビーム（レーザビーム）が感光ドラム１２上に結
像し、感光ドラム１２の表面に静電潜像が形成される。
静電潜像は、現像器１４によって現像され顕像化され
る。顕像化されたトナー像が転写位置に達すると、転写
器１５によって記録紙ＰＰに転写され、図示しない定着
器によって定着される。
【００１７】図２は走査光学系１１の概略を示す斜視図
である。半導体レーザ２１は、図示しない制御部の画像
メモリなどから読み出した画像情報によって強度変調さ
れ、光ビームを出力する。光ビームは、コリメートレン
ズ２２によりコリメートされ、回転多面鏡２３によって
光偏向を受ける。偏光された光ビームは、ｆθレンズと
呼称される結像レンズ２４により感光ドラム１２上に像
を結び、ビーム走査を行う。このビーム走査に際して、
光ビームの各走査ラインの始端部の光をミラー２５によ
り反射させ、ディテクタ２６に導く。ディテクタ２６か
らの検出信号はＨ方向（水平方向）の走査の同期信号と
して用いられる。
である。半導体レーザ２１は、図示しない制御部の画像
メモリなどから読み出した画像情報によって強度変調さ
れ、光ビームを出力する。光ビームは、コリメートレン
ズ２２によりコリメートされ、回転多面鏡２３によって
光偏向を受ける。偏光された光ビームは、ｆθレンズと
呼称される結像レンズ２４により感光ドラム１２上に像
を結び、ビーム走査を行う。このビーム走査に際して、
光ビームの各走査ラインの始端部の光をミラー２５によ
り反射させ、ディテクタ２６に導く。ディテクタ２６か
らの検出信号はＨ方向（水平方向）の走査の同期信号と
して用いられる。
【００１８】図３は半導体レーザ２１の変調回路３０の
ブロック図、図４はアドレス指定のタイミングを示す図
である。図３において、変調回路３０は、パターンＲＯ
Ｍ３１、Ｚアドレスカウンタ３２、Ｘアドレスカウンタ
３３、Ｙアドレスカウンタ３４、及びドライバ３５から
なっている。
ブロック図、図４はアドレス指定のタイミングを示す図
である。図３において、変調回路３０は、パターンＲＯ
Ｍ３１、Ｚアドレスカウンタ３２、Ｘアドレスカウンタ
３３、Ｙアドレスカウンタ３４、及びドライバ３５から
なっている。
【００１９】パターンＲＯＭ３１は、ｍ×ｎのマトリッ
クスからなる多数の露光パターンＰＳを格納しており、
Ｚアドレスカウンタ３２によって指定される露光パター
ンについて、各要素（セル）の値がＸアドレスカウンタ
３３及びＹアドレスカウンタ３４によって順次指定さ
れ、それぞれ１ビットのデータＤＥとして読み出され
る。露光パターンＰＳについては後で詳述する。
クスからなる多数の露光パターンＰＳを格納しており、
Ｚアドレスカウンタ３２によって指定される露光パター
ンについて、各要素（セル）の値がＸアドレスカウンタ
３３及びＹアドレスカウンタ３４によって順次指定さ
れ、それぞれ１ビットのデータＤＥとして読み出され
る。露光パターンＰＳについては後で詳述する。
【００２０】Ｚアドレスカウンタ３２は、図示しない画
像メモリなどから読み出した画像データＤＧに基づい
て、１つの画像データＤＧ毎に、つまり１画素毎に、Ｚ
アドレスＡＺを生成して出力する。画像データＤＧは、
例えば１画素について６ビット又は８ビット程度の濃度
情報を有したデジタル信号である。
像メモリなどから読み出した画像データＤＧに基づい
て、１つの画像データＤＧ毎に、つまり１画素毎に、Ｚ
アドレスＡＺを生成して出力する。画像データＤＧは、
例えば１画素について６ビット又は８ビット程度の濃度
情報を有したデジタル信号である。
【００２１】Ｘアドレスカウンタ３３は、画素クロック
信号ＳＣをカウントし、そのカウント値をＸアドレスＡ
Ｘとして出力する。画素クロック信号ＳＣは、画像クロ
ック信号に対してｋ倍（ｋは分割数）の周波数を有する
クロック信号である。つまり、１つの画像データＤＧが
入力されている間にｋ個の画素クロック信号ＳＣが入力
される。Ｘアドレスカウンタ３３は、後述する露光パタ
ーンＰＳの横方向（行方向、水平方向、又は主走査方
向）に配列される要素ＥＭの個数に応じて、所定の値の
範囲でカウントを繰り返す。例えば、露光パターンＰＳ
のサイズが４（縦）×１６（横）であれば、図４に示す
ように、０〜１５の範囲でカウントを繰り返す。
信号ＳＣをカウントし、そのカウント値をＸアドレスＡ
Ｘとして出力する。画素クロック信号ＳＣは、画像クロ
ック信号に対してｋ倍（ｋは分割数）の周波数を有する
クロック信号である。つまり、１つの画像データＤＧが
入力されている間にｋ個の画素クロック信号ＳＣが入力
される。Ｘアドレスカウンタ３３は、後述する露光パタ
ーンＰＳの横方向（行方向、水平方向、又は主走査方
向）に配列される要素ＥＭの個数に応じて、所定の値の
範囲でカウントを繰り返す。例えば、露光パターンＰＳ
のサイズが４（縦）×１６（横）であれば、図４に示す
ように、０〜１５の範囲でカウントを繰り返す。
【００２２】Ｙアドレスカウンタ３４は、水平同期信号
ＳＨをカウントし、そのカウント値をＹアドレスＡＹと
して出力する。Ｙアドレスカウンタ３４は、後述する露
光パターンＰＳの縦方向（列方向、垂直方向、又は副走
査方向）の要素ＥＭの個数に応じて、所定の値の範囲で
カウントを繰り返す。例えば、露光パターンＰＳのサイ
ズが４（縦）×１６（横）であれば、図４に示すよう
に、０〜３の範囲でカウントを繰り返す。
ＳＨをカウントし、そのカウント値をＹアドレスＡＹと
して出力する。Ｙアドレスカウンタ３４は、後述する露
光パターンＰＳの縦方向（列方向、垂直方向、又は副走
査方向）の要素ＥＭの個数に応じて、所定の値の範囲で
カウントを繰り返す。例えば、露光パターンＰＳのサイ
ズが４（縦）×１６（横）であれば、図４に示すよう
に、０〜３の範囲でカウントを繰り返す。
【００２３】ドライバ３５は、パターンＲＯＭ３１から
読み出されたデータＤＥに基づいて、半導体レーザ２１
をオンオフ制御する。次に、パターンＲＯＭ３１に格納
された露光パターンについて説明する。
読み出されたデータＤＥに基づいて、半導体レーザ２１
をオンオフ制御する。次に、パターンＲＯＭ３１に格納
された露光パターンについて説明する。
【００２４】露光パターンは、縦横共にｍ個のドットＤ
Ｔからなる正方マトリックスの各ドットＤＴを横方向に
ｋ分割し、分割されたそれぞれを要素ＥＭとするｍ×
（ｍ×ｋ）のサイズのマトリックスからなる。各要素Ｅ
Ｍは「０」又は「１」の値をとる。「０」の場合は半導
体レーザ２１がオフであり、「１」の場合は半導体レー
ザ２１がオンである。したがって、半導体レーザ２１の
オンに対応する感光ドラム１２上の部分が露光されてそ
の電位が低下し、その部分にトナーが付着し、その結
果、記録紙ＰＰのその部分が黒くなる。その逆に、半導
体レーザ２１のオフに対応する記録紙ＰＰの部分は白く
なる。したがって、「０」の値の要素ＥＭを「白要素
（ＥＭＷ）」、「１」の値の要素ＥＭを「黒要素（ＥＭ
Ｂ）」ということがある。
Ｔからなる正方マトリックスの各ドットＤＴを横方向に
ｋ分割し、分割されたそれぞれを要素ＥＭとするｍ×
（ｍ×ｋ）のサイズのマトリックスからなる。各要素Ｅ
Ｍは「０」又は「１」の値をとる。「０」の場合は半導
体レーザ２１がオフであり、「１」の場合は半導体レー
ザ２１がオンである。したがって、半導体レーザ２１の
オンに対応する感光ドラム１２上の部分が露光されてそ
の電位が低下し、その部分にトナーが付着し、その結
果、記録紙ＰＰのその部分が黒くなる。その逆に、半導
体レーザ２１のオフに対応する記録紙ＰＰの部分は白く
なる。したがって、「０」の値の要素ＥＭを「白要素
（ＥＭＷ）」、「１」の値の要素ＥＭを「黒要素（ＥＭ
Ｂ）」ということがある。
【００２５】ここで注意しなければならないことは、１
つの黒要素ＥＭＢによって記録紙ＰＰ上に黒く記録され
る像の面積は、その黒要素ＥＭＢの位置によって異なる
ということである。さらに詳しく言えば、その黒要素Ｅ
ＭＢに隣接する要素が白要素ＥＭＷであるか黒要素ＥＭ
Ｂであるかによって異なり、しかも隣接位置が左右か上
下かによっても異なるのである。その理由については後
で詳述する。
つの黒要素ＥＭＢによって記録紙ＰＰ上に黒く記録され
る像の面積は、その黒要素ＥＭＢの位置によって異なる
ということである。さらに詳しく言えば、その黒要素Ｅ
ＭＢに隣接する要素が白要素ＥＭＷであるか黒要素ＥＭ
Ｂであるかによって異なり、しかも隣接位置が左右か上
下かによっても異なるのである。その理由については後
で詳述する。
【００２６】図５は露光パターンＰＳＡの例を示す図、
図６は図５に示す露光パターンＰＳＡに対応する照射エ
ネルギーの状態を示す図、図７は図５に示す露光パター
ンＰＳＡに対応する記録紙ＰＰ上の記録状態を示す図、
図８は光ビームの横方向移動による照射エネルギーの分
布状態を示す図である。なお、図６及び図７はシミュレ
ーションにより得られたものであり、図７は５．２ｅｒ
ｇをしきい値として２値化した場合の記録状態である。
図６は図５に示す露光パターンＰＳＡに対応する照射エ
ネルギーの状態を示す図、図７は図５に示す露光パター
ンＰＳＡに対応する記録紙ＰＰ上の記録状態を示す図、
図８は光ビームの横方向移動による照射エネルギーの分
布状態を示す図である。なお、図６及び図７はシミュレ
ーションにより得られたものであり、図７は５．２ｅｒ
ｇをしきい値として２値化した場合の記録状態である。
【００２７】図５に示す露光パターンＰＳＡ１〜４は、
３×３ドットの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方
向に４分割して３×１２のマトリックスとし、その各要
素ＥＭについて「０」を白で「１」を黒でそれぞれ示し
たものである。
３×３ドットの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方
向に４分割して３×１２のマトリックスとし、その各要
素ＥＭについて「０」を白で「１」を黒でそれぞれ示し
たものである。
【００２８】１つの黒要素ＥＭＢに対応して半導体レー
ザ２１がオンされ、半導体レーザ２１から光ビームが感
光ドラム１２上に照射される。したがって、１つの黒要
素ＥＭＢによって、感光ドラム１２に対する単位時間の
光ビームの照射、すなわち露光が行われる。黒要素ＥＭ
Ｂの合計個数が合計露光時間となる。
ザ２１がオンされ、半導体レーザ２１から光ビームが感
光ドラム１２上に照射される。したがって、１つの黒要
素ＥＭＢによって、感光ドラム１２に対する単位時間の
光ビームの照射、すなわち露光が行われる。黒要素ＥＭ
Ｂの合計個数が合計露光時間となる。
【００２９】なお、ここでは、正方マトリックスの各ド
ットＤＴが画像データＤＧの１画素に対応しており、各
ドットＤＴを４分割することによって、半導体レーザ２
１のパルス幅変調を行ったものである。光ビームは、例
えば、１つのドットＤＴに対して、静止した状態の半値
幅が主走査方向及び副走査方向にともに直径約６０μｍ
の円形状である。そして、光ビームはその中心部におい
てエネルギーが高く、周辺に行くほどエネルギーは段々
と低くなっている。また、光ビームは、感光ドラム１２
上を主走査方向に１ライン分走査した後、次のラインを
同様に走査するのであるから、露光パターンＰＳＡの各
要素ＥＭに対して、同行の要素ＥＭは連続して走査され
るが、列が互いに異なる要素ＥＭに対しては、走査が互
いに空間的間隔を置いて離散的に、つまり不連続に行わ
れる。
ットＤＴが画像データＤＧの１画素に対応しており、各
ドットＤＴを４分割することによって、半導体レーザ２
１のパルス幅変調を行ったものである。光ビームは、例
えば、１つのドットＤＴに対して、静止した状態の半値
幅が主走査方向及び副走査方向にともに直径約６０μｍ
の円形状である。そして、光ビームはその中心部におい
てエネルギーが高く、周辺に行くほどエネルギーは段々
と低くなっている。また、光ビームは、感光ドラム１２
上を主走査方向に１ライン分走査した後、次のラインを
同様に走査するのであるから、露光パターンＰＳＡの各
要素ＥＭに対して、同行の要素ＥＭは連続して走査され
るが、列が互いに異なる要素ＥＭに対しては、走査が互
いに空間的間隔を置いて離散的に、つまり不連続に行わ
れる。
【００３０】その結果、黒要素ＥＭＢが横方向に隣接し
た場合には、光ビームの照射エネルギーが互いに加算さ
れて増大し、その結果、図８に示すように最大照射エネ
ルギーは大きくなる。これに対し、黒要素ＥＭＢが縦方
向に隣接した場合には、照射エネルギーの関与が小さい
ので、最大照射エネルギーは大きくならない。つまり、
黒要素ＥＭＢの個数が同じであっても、換言すれば合計
露光時間が同じであっても、黒要素ＥＭＢが横方向に連
続して並んだ場合には最大照射エネルギーが大きく、黒
要素ＥＭＢが縦方向に並んだ場合には最大照射エネルギ
ーはそれよりも小さくなる。したがって、合計露光時間
が同じであっても、感光ドラム１２上には、異なる照射
エネルギーによる静電潜像が形成される。
た場合には、光ビームの照射エネルギーが互いに加算さ
れて増大し、その結果、図８に示すように最大照射エネ
ルギーは大きくなる。これに対し、黒要素ＥＭＢが縦方
向に隣接した場合には、照射エネルギーの関与が小さい
ので、最大照射エネルギーは大きくならない。つまり、
黒要素ＥＭＢの個数が同じであっても、換言すれば合計
露光時間が同じであっても、黒要素ＥＭＢが横方向に連
続して並んだ場合には最大照射エネルギーが大きく、黒
要素ＥＭＢが縦方向に並んだ場合には最大照射エネルギ
ーはそれよりも小さくなる。したがって、合計露光時間
が同じであっても、感光ドラム１２上には、異なる照射
エネルギーによる静電潜像が形成される。
【００３１】そうすると、そのような互いに異なる照射
エネルギーで形成された静電潜像を現像すると、感光ド
ラム１２の感度及び現像バイアスの大きさに応じて、あ
るしきい値を越えた照射エネルギーを受けた部分のみに
トナーが付着して顕像化され、黒い像が形成される。
エネルギーで形成された静電潜像を現像すると、感光ド
ラム１２の感度及び現像バイアスの大きさに応じて、あ
るしきい値を越えた照射エネルギーを受けた部分のみに
トナーが付着して顕像化され、黒い像が形成される。
【００３２】その結果、黒要素ＥＭＢの個数が同じであ
っても、その配列位置によって、記録紙ＰＰ上に記録さ
れる像の面積が異なることとなる。つまり、黒要素ＥＭ
Ｂの合計数が互いに同一である複数の露光パターンＰＳ
Ａに対して、黒要素ＥＭＢの位置を互いに異ならせるこ
とによって、互いに異なる階調の記録が行われる。
っても、その配列位置によって、記録紙ＰＰ上に記録さ
れる像の面積が異なることとなる。つまり、黒要素ＥＭ
Ｂの合計数が互いに同一である複数の露光パターンＰＳ
Ａに対して、黒要素ＥＭＢの位置を互いに異ならせるこ
とによって、互いに異なる階調の記録が行われる。
【００３３】図５（Ａ）において、露光パターンＰＳＡ
１は要素ＥＭの合計数が「４」であり、中央の１つのド
ットＤＴを黒く記録するものである。この場合には、図
６（Ａ）に示すように、照射エネルギーはほぼ同心円を
描いて広がっており、しきい値を５．２ｅｒｇとした場
合には、図７（Ａ）に示すように、中央部に円形状の黒
い像ＦＧ１が記録される。
１は要素ＥＭの合計数が「４」であり、中央の１つのド
ットＤＴを黒く記録するものである。この場合には、図
６（Ａ）に示すように、照射エネルギーはほぼ同心円を
描いて広がっており、しきい値を５．２ｅｒｇとした場
合には、図７（Ａ）に示すように、中央部に円形状の黒
い像ＦＧ１が記録される。
【００３４】図５（Ｂ）〜（Ｄ）において、露光パター
ンＰＳＡ２〜４は、いずれも要素ＥＭの合計数は「５」
であり、４分の５ドットを記録するものである。しか
し、これらは要素ＥＭの位置（つまりパターン）が相違
している。すなわち、露光パターンＰＳＡ２では、５つ
の黒要素ＥＭＢが横方向に連続して配置されているが、
露光パターンＰＳＡ３では、１つの黒要素ＥＭＢが他の
４つの黒要素ＥＭＢの上の行に配置され、露光パターン
ＰＳＡ４では、２つの黒要素ＥＭＢが他の３つの黒要素
ＥＭＢの上の行に配置されている。
ンＰＳＡ２〜４は、いずれも要素ＥＭの合計数は「５」
であり、４分の５ドットを記録するものである。しか
し、これらは要素ＥＭの位置（つまりパターン）が相違
している。すなわち、露光パターンＰＳＡ２では、５つ
の黒要素ＥＭＢが横方向に連続して配置されているが、
露光パターンＰＳＡ３では、１つの黒要素ＥＭＢが他の
４つの黒要素ＥＭＢの上の行に配置され、露光パターン
ＰＳＡ４では、２つの黒要素ＥＭＢが他の３つの黒要素
ＥＭＢの上の行に配置されている。
【００３５】そのため、図６（Ｂ）〜（Ｄ）に示すよう
に、５つの黒要素ＥＭＢが横方向に連続している露光パ
ターンＰＳＡ２の照射エネルギーが最も大きくなり、連
続数の少ない露光パターンＰＳＡ４の照射エネルギーが
最も小さくなる。その結果、図７（Ｂ）〜（Ｄ）に示す
ように、露光パターンＰＳＡ２による像ＦＧ２が最も大
きく、露光パターンＰＳＡ４による像ＦＧ４が最も小さ
くなる。これを数値で示すと、露光パターンＰＳＡ１〜
４における像ＦＧ１〜４のドット面積率〔％〕はそれぞ
れ「２．６」「８．０」「５．０」「１．３」である。
図５乃至図７において、（Ａ）と（Ｄ）との比較から明
らかなように、露光パターンＰＳの黒要素ＥＭＢの個数
が互いに異なる場合、その配列位置によっては、黒要素
ＥＭＢの個数の少ないものの方が記録紙ＰＰ上に記録さ
れる像の面積が大きくなることもある。
に、５つの黒要素ＥＭＢが横方向に連続している露光パ
ターンＰＳＡ２の照射エネルギーが最も大きくなり、連
続数の少ない露光パターンＰＳＡ４の照射エネルギーが
最も小さくなる。その結果、図７（Ｂ）〜（Ｄ）に示す
ように、露光パターンＰＳＡ２による像ＦＧ２が最も大
きく、露光パターンＰＳＡ４による像ＦＧ４が最も小さ
くなる。これを数値で示すと、露光パターンＰＳＡ１〜
４における像ＦＧ１〜４のドット面積率〔％〕はそれぞ
れ「２．６」「８．０」「５．０」「１．３」である。
図５乃至図７において、（Ａ）と（Ｄ）との比較から明
らかなように、露光パターンＰＳの黒要素ＥＭＢの個数
が互いに異なる場合、その配列位置によっては、黒要素
ＥＭＢの個数の少ないものの方が記録紙ＰＰ上に記録さ
れる像の面積が大きくなることもある。
【００３６】このように、マトリックスサイズｍ及びド
ット分割数Ｒが同じであっても、要素ＥＭの位置を変え
ることによって、階調性を変えることができる。つま
り、解像度を低下させることなく階調数を増加させるこ
とができる。したがって、要素ＥＭの合計個数と各要素
ＥＭの位置との組み合わせによって、直線化された階調
特性を得ることができる。しかも、２値以上の強度変調
を行なわないので、レーザの安定性の問題を生じること
なく、低価格で実施することができる。
ット分割数Ｒが同じであっても、要素ＥＭの位置を変え
ることによって、階調性を変えることができる。つま
り、解像度を低下させることなく階調数を増加させるこ
とができる。したがって、要素ＥＭの合計個数と各要素
ＥＭの位置との組み合わせによって、直線化された階調
特性を得ることができる。しかも、２値以上の強度変調
を行なわないので、レーザの安定性の問題を生じること
なく、低価格で実施することができる。
【００３７】さて、パターンＲＯＭ３１には多数の露光
パターンＰＳが格納されているが、画像データＤＧが例
えば６４階調である場合には、全白及び全黒を含めて６
４個の露光パターンＰＳが格納される。
パターンＰＳが格納されているが、画像データＤＧが例
えば６４階調である場合には、全白及び全黒を含めて６
４個の露光パターンＰＳが格納される。
【００３８】図９及び図１０はパターンＲＯＭ３１に格
納された露光パターンＰＳＢの例を示す図である。図９
及び図１０に示された露光パターンＰＳＢ０〜２３は、
４×４ドットの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方
向に４分割して４×１６のマトリックスとし、その各要
素ＥＭについて「０」を白で「１」を黒でそれぞれ示し
たものである。
納された露光パターンＰＳＢの例を示す図である。図９
及び図１０に示された露光パターンＰＳＢ０〜２３は、
４×４ドットの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方
向に４分割して４×１６のマトリックスとし、その各要
素ＥＭについて「０」を白で「１」を黒でそれぞれ示し
たものである。
【００３９】これらの露光パターンＰＳＢ０〜２３は、
６４階調の露光パターンの中の第０階調〜第２３階調の
露光パターンを示し、それぞれＺアドレスＡＺが０〜２
３である。これらの露光パターンＰＳＢを含む６４個の
露光パターンＰＳＢがパターンＲＯＭ３１に格納されて
いる。これらの露光パターンＰＳＢは、次に示す光学特
性を有する走査光学系１１に対して直線的な出力特性が
得られるように選ばれている。
６４階調の露光パターンの中の第０階調〜第２３階調の
露光パターンを示し、それぞれＺアドレスＡＺが０〜２
３である。これらの露光パターンＰＳＢを含む６４個の
露光パターンＰＳＢがパターンＲＯＭ３１に格納されて
いる。これらの露光パターンＰＳＢは、次に示す光学特
性を有する走査光学系１１に対して直線的な出力特性が
得られるように選ばれている。
【００４０】解像度 ：主走査２４００
ＤＰＩ 副走査６００ＤＰＩ 画像クロック ：８．９ＭＨｚ レーザ発光強度 ：０．２３ｍＷ 静止ビーム径（半値幅）：主・副走査共６０μｍ Ｚアドレスカウンタ３２において、６４階調の画像デー
タＤＧの値に対応したＺアドレスＡＺが生成され、これ
によっていずれかの露光パターンＰＳＢが指定される。
また、Ｘアドレスカウンタ３３及びＹアドレスカウンタ
３４によってＸアドレスＡＸ及びＹアドレスＡＹが指定
され、各露光パターンＰＳＢの要素ＥＭが順次データＤ
Ｅとして読み出され、その値に応じて半導体レーザ２１
をオンオフ制御する。なお、ＺアドレスＡＺ、Ｘアドレ
スＡＸ、及びＹアドレスＡＹは、必要に応じて合成さ
れ、合成されたアドレスによってパターンＲＯＭ３１の
アドレス指定が行われる。
ＤＰＩ 副走査６００ＤＰＩ 画像クロック ：８．９ＭＨｚ レーザ発光強度 ：０．２３ｍＷ 静止ビーム径（半値幅）：主・副走査共６０μｍ Ｚアドレスカウンタ３２において、６４階調の画像デー
タＤＧの値に対応したＺアドレスＡＺが生成され、これ
によっていずれかの露光パターンＰＳＢが指定される。
また、Ｘアドレスカウンタ３３及びＹアドレスカウンタ
３４によってＸアドレスＡＸ及びＹアドレスＡＹが指定
され、各露光パターンＰＳＢの要素ＥＭが順次データＤ
Ｅとして読み出され、その値に応じて半導体レーザ２１
をオンオフ制御する。なお、ＺアドレスＡＺ、Ｘアドレ
スＡＸ、及びＹアドレスＡＹは、必要に応じて合成さ
れ、合成されたアドレスによってパターンＲＯＭ３１の
アドレス指定が行われる。
【００４１】その結果、同じ走査光学系１１を用いてＩ
Ｈ法などの従来法により階調再現を行った場合に比べ、
解像度及び階調数はそのままで直線化出力が得られる。
また、階調数が６４である場合において、パターンＲＯ
Ｍ３１に格納する露光パターンＰＳは６４個必要である
が、各露光パターンＰＳの要素ＥＭ（データＤＥ）は１
ビットであるため、データ量は従来と比較して増大する
ことなく、コスト的な問題とはならない。むしろ、露光
パターンＰＳの個数によって階調数を決めることができ
るので、階調数を小刻みに設定することができ、従来法
と比較してデータ量を少なくできることがあり、コスト
的に有利である。
Ｈ法などの従来法により階調再現を行った場合に比べ、
解像度及び階調数はそのままで直線化出力が得られる。
また、階調数が６４である場合において、パターンＲＯ
Ｍ３１に格納する露光パターンＰＳは６４個必要である
が、各露光パターンＰＳの要素ＥＭ（データＤＥ）は１
ビットであるため、データ量は従来と比較して増大する
ことなく、コスト的な問題とはならない。むしろ、露光
パターンＰＳの個数によって階調数を決めることができ
るので、階調数を小刻みに設定することができ、従来法
と比較してデータ量を少なくできることがあり、コスト
的に有利である。
【００４２】上述の実施例においては、各要素ＥＭを２
値としたが、２値以上とすることも可能である。２値以
上とすることによって、階調数をさらに増大させて高画
質化を図ることができる。また、分割数ｋを減少させ、
その分を多値化によって補うことにより、同じ階調数を
維持しながら、画素クロック信号ＳＣの周波数を低くす
ることができるので、各部の動作に余裕が生じ、動作の
高信頼化とコストの低減を図ることが可能となる。
値としたが、２値以上とすることも可能である。２値以
上とすることによって、階調数をさらに増大させて高画
質化を図ることができる。また、分割数ｋを減少させ、
その分を多値化によって補うことにより、同じ階調数を
維持しながら、画素クロック信号ＳＣの周波数を低くす
ることができるので、各部の動作に余裕が生じ、動作の
高信頼化とコストの低減を図ることが可能となる。
【００４３】図１１は３値化された露光パターンＰＳＣ
の例を示す図、図１２は図１１（Ｂ）に示す露光パター
ンＰＳＣ２に対応する照射エネルギーの状態及び記録紙
ＰＰ上の記録状態を示す図である。
の例を示す図、図１２は図１１（Ｂ）に示す露光パター
ンＰＳＣ２に対応する照射エネルギーの状態及び記録紙
ＰＰ上の記録状態を示す図である。
【００４４】図１１に示す露光パターンＰＳＣ１〜３
は、図５に示す露光パターンＰＳＡと同様に３×３ドッ
トの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方向に４分割
して３×１２のマトリックスとしたものであり、その各
要素ＥＭについて「０」を白で「１」を灰で「２」を黒
でそれぞれ示したものである。「１」の値の要素ＥＭを
「灰要素（ＥＭＧ）」ということがある。
は、図５に示す露光パターンＰＳＡと同様に３×３ドッ
トの正方マトリックスの各ドットＤＴを横方向に４分割
して３×１２のマトリックスとしたものであり、その各
要素ＥＭについて「０」を白で「１」を灰で「２」を黒
でそれぞれ示したものである。「１」の値の要素ＥＭを
「灰要素（ＥＭＧ）」ということがある。
【００４５】１つの灰要素ＥＭＧ又は黒要素ＥＭＢに対
応して半導体レーザ２１がオンされるが、黒要素ＥＭＢ
のときには定格の強度となるようにオンされ、灰要素Ｅ
ＭＧのときには定格の半分の強度となるようにオンされ
る。
応して半導体レーザ２１がオンされるが、黒要素ＥＭＢ
のときには定格の強度となるようにオンされ、灰要素Ｅ
ＭＧのときには定格の半分の強度となるようにオンされ
る。
【００４６】このような露光パターンＰＳＣによると、
黒要素ＥＭＢ及び灰要素ＥＭＧの合計の個数が同じであ
っても、黒要素ＥＭＢと灰要素ＥＭＧとの割合い、及び
それらの配列位置によって、記録紙ＰＰ上に記録される
像ＦＧの面積が異なることとなる。したがって、上述の
露光パターンＰＳＡの場合よりも階調数を増大させるこ
とができる。
黒要素ＥＭＢ及び灰要素ＥＭＧの合計の個数が同じであ
っても、黒要素ＥＭＢと灰要素ＥＭＧとの割合い、及び
それらの配列位置によって、記録紙ＰＰ上に記録される
像ＦＧの面積が異なることとなる。したがって、上述の
露光パターンＰＳＡの場合よりも階調数を増大させるこ
とができる。
【００４７】なお、露光パターンＰＳＣ１では、同一の
しきい値で記録される像ＦＧの面積は露光パターンＰＳ
Ａ１と露光パターンＰＳＡ２との間であり、露光パター
ンＰＳＣ２では露光パターンＰＳＡ３よりも小さく、露
光パターンＰＳＣ３では最大照射エネルギーがしきい値
よりも低いため像ＦＧは記録されない。これら露光パタ
ーンＰＳＣ１〜３における像ＦＧのドット面積率〔％〕
はそれぞれ「５．１」「３．８」「０．０」である。
しきい値で記録される像ＦＧの面積は露光パターンＰＳ
Ａ１と露光パターンＰＳＡ２との間であり、露光パター
ンＰＳＣ２では露光パターンＰＳＡ３よりも小さく、露
光パターンＰＳＣ３では最大照射エネルギーがしきい値
よりも低いため像ＦＧは記録されない。これら露光パタ
ーンＰＳＣ１〜３における像ＦＧのドット面積率〔％〕
はそれぞれ「５．１」「３．８」「０．０」である。
【００４８】上述の実施例においては、半導体レーザ２
１を用いた走査光学系１１を例にとって説明したが、Ｌ
ＥＤアレイ、液晶、ＰＬＺＴなどを用いた光学系におい
ても、感光ドラム１２上での光強度分布が存在するた
め、半導体レーザ２１を用いた場合と同様に露光位置に
よってドット面積率が変化し、階調数を増大させ且つ階
調特性の直線性を向上させることができる。
１を用いた走査光学系１１を例にとって説明したが、Ｌ
ＥＤアレイ、液晶、ＰＬＺＴなどを用いた光学系におい
ても、感光ドラム１２上での光強度分布が存在するた
め、半導体レーザ２１を用いた場合と同様に露光位置に
よってドット面積率が変化し、階調数を増大させ且つ階
調特性の直線性を向上させることができる。
【００４９】上の実施例においては、画像データＤＧの
１画素に露光パターンＰＳの１ドットＤＴを１対１で対
応させたが、画像データＤＧの１画素に１つの露光パタ
ーンＰＳを対応させてもよい。また、画像データＤＧの
１画素に露光パターンＰＳの複数のドットＤＴを対応さ
せてもよいし、画像データＤＧの１画素に１つ又は複数
の要素ＥＭを対応させてもよい。
１画素に露光パターンＰＳの１ドットＤＴを１対１で対
応させたが、画像データＤＧの１画素に１つの露光パタ
ーンＰＳを対応させてもよい。また、画像データＤＧの
１画素に露光パターンＰＳの複数のドットＤＴを対応さ
せてもよいし、画像データＤＧの１画素に１つ又は複数
の要素ＥＭを対応させてもよい。
【００５０】上述の実施例においては、スクリーン角が
０で１点から太っていくような露光パターンＰＳの場合
を説明したが、これ以外のタイプの露光パターンについ
ても適用できるのは明らかである。例えば、フルカラー
のプリンタ装置に適用する場合には、通常の印刷と同様
に各色ごとに異なったスクリーン角に設定した露光パタ
ーンを使用することが考えられる。本発明は、電子写真
法以外の方法によって画像を記録し、又は画像を可視化
して記録（表示）する場合にも適用することができる。
０で１点から太っていくような露光パターンＰＳの場合
を説明したが、これ以外のタイプの露光パターンについ
ても適用できるのは明らかである。例えば、フルカラー
のプリンタ装置に適用する場合には、通常の印刷と同様
に各色ごとに異なったスクリーン角に設定した露光パタ
ーンを使用することが考えられる。本発明は、電子写真
法以外の方法によって画像を記録し、又は画像を可視化
して記録（表示）する場合にも適用することができる。
【００５１】
【発明の効果】本発明によると、階調性と解像度との両
立を図ることができ低コストで実施可能な階調記録方法
及び装置を提供することができる。また、従来の階調表
現方法に加えて露光位置を変えることによって階調表現
を行うことができるので、階調表現の自由度が増し、階
調性と解像度との両立を図りつつ階調特性の直線性を向
上させることができる。
立を図ることができ低コストで実施可能な階調記録方法
及び装置を提供することができる。また、従来の階調表
現方法に加えて露光位置を変えることによって階調表現
を行うことができるので、階調表現の自由度が増し、階
調性と解像度との両立を図りつつ階調特性の直線性を向
上させることができる。
【図１】本発明に係るプリンタ装置の概略図である。
【図２】走査光学系の概略を示す斜視図である。
【図３】半導体レーザの変調回路のブロック図である。
【図４】アドレス指定のタイミングを示す図である。
【図５】露光パターンＰＳＡの例を示す図である。
【図６】図５に示す露光パターンに対応する照射エネル
ギーの状態を示す図である。
ギーの状態を示す図である。
【図７】図５に示す露光パターンに対応する記録紙上の
記録状態を示す図である。
記録状態を示す図である。
【図８】光ビームの横方向移動による照射エネルギーの
分布状態を示す図である。
分布状態を示す図である。
【図９】パターンＲＯＭに格納された露光パターンの例
を示す図である。
を示す図である。
【図１０】パターンＲＯＭに格納された露光パターンの
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１１】３値化された露光パターンの例を示す図であ
る。
る。
【図１２】図１１（Ｂ）に示す露光パターンに対応する
照射エネルギーの状態及び記録紙上の記録状態を示す図
である。
照射エネルギーの状態及び記録紙上の記録状態を示す図
である。
【図１３】従来のＩＨ法による階調記録方法を説明する
ための図である。
ための図である。
【符号の説明】 １ プリンタ装置（階調記録装置） ２１ 半導体レーザ（光源） ３１ パターンＲＯＭ ３２ Ｚアドレスカウンタ（露光パターン指定手段） ３３ Ｘアドレスカウンタ（アドレス指定手段） ３４ Ｙアドレスカウンタ（アドレス指定手段） ３５ ドライバ（ドライバ手段） ＰＳ，ＰＳＡ，ＰＳＢ，ＰＳＣ 露光パターン ＥＭ 要素
Claims (6)
- 【請求項１】画像を主走査方向及び副走査方向に走査
し、前記画像の各画素に対応して照射されるエネルギー
の量を制御することによって階調性を得るようにした階
調記録方法であって、 一定の大きさの領域内における前記エネルギーの総照射
量が同一である複数の領域に対して、前記エネルギーを
照射する位置を互いに異ならせることによって互いに異
なる階調の記録を行う、 ことを特徴とする階調記録方法。 - 【請求項２】画像を主走査方向及び副走査方向に走査
し、前記画像の各画素に対応して照射される光源からの
露光量を制御することによって階調性を得るようにした
階調記録方法であって、 一定の大きさのマトリックス領域内における前記光源に
よる合計露光時間が同一である複数のマトリックス領域
に対して、前記光源によって露光される露光位置を互い
に異ならせることによって互いに異なる階調の記録を行
う、 ことを特徴とする階調記録方法。 - 【請求項３】画像を主走査方向及び副走査方向に走査す
るとともに、一定の大きさのマトリックス領域内におけ
る露光位置を示す露光パターンを用い、光源からの露光
量を前記露光パターンに応じて制御することによって階
調性を有した記録を行う階調記録方法であって、 前記露光パターンとして、前記光源による合計露光時間
は同一であるが露光位置が互いに異なる複数の露光パタ
ーンを用い、 前記画像の各画素の濃度情報に応じた露光パターンを選
択して記録を行う、 ことを特徴とする階調記録方法。 - 【請求項４】前記光源の強度を前記露光パターンに応じ
て零又は所定値のいずれかとなるように２値制御するこ
とを特徴とする請求項３記載の階調記録方法。 - 【請求項５】前記光源の強度を前記露光パターンに応じ
て多値となるように強度変調することを特徴とする請求
項３記載の階調記録方法。 - 【請求項６】画像を主走査方向及び副走査方向に走査
し、前記画像の各画素に対応して照射される光源からの
露光量を制御することによって階調性を有した記録を行
う階調記録装置であって、 光源による合計露光時間は同一であるが露光位置が互い
に異なる複数の露光パターンを格納したパターンＲＯＭ
と、 入力された画像データの各画素の濃度情報に応じた露光
パターンを指定するための露光パターン指定手段と、 指定された露光パターンのデータを前記パターンＲＯＭ
から読み出すためのアドレス指定手段と、 前記パターンＲＯＭから読み出されたデータに基づいて
光源の強度を制御するためのドライバ手段と、 を有してなることを特徴とする階調記録装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25969193A JP3598124B2 (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | 階調記録方法及び装置 |
| US08/323,924 US5790272A (en) | 1993-10-18 | 1994-10-17 | Multi-tone image processing method and apparatus |
| US09/288,966 USRE40170E1 (en) | 1993-10-18 | 1999-04-09 | Multi-tone image processing method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25969193A JP3598124B2 (ja) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | 階調記録方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07115538A true JPH07115538A (ja) | 1995-05-02 |
| JP3598124B2 JP3598124B2 (ja) | 2004-12-08 |
Family
ID=17337587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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