JPH026162A - レーザ光照射装置およびレーザ書込装置 - Google Patents
レーザ光照射装置およびレーザ書込装置Info
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- JPH026162A JPH026162A JP63156197A JP15619788A JPH026162A JP H026162 A JPH026162 A JP H026162A JP 63156197 A JP63156197 A JP 63156197A JP 15619788 A JP15619788 A JP 15619788A JP H026162 A JPH026162 A JP H026162A
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/40025—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales
- H04N1/40037—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales the reproducing element being a laser
-
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/23—Reproducing arrangements
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
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- Color, Gradation (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば、レーザプリンタ、レーザ複写機、レ
ーザ加工機、レーザ印刷機、レーザ製版機などに適用さ
れるレーザ光照射装置およびレーザ書込装置に関し、特
に、中間調の程度に対応した強さのレーザ光を安定よく
照射できるようにしたレーザ光照射装置、並びに、書込
画像の中間調を良好に再現できるようにしたレーザ書込
装置に関するものである。
ーザ加工機、レーザ印刷機、レーザ製版機などに適用さ
れるレーザ光照射装置およびレーザ書込装置に関し、特
に、中間調の程度に対応した強さのレーザ光を安定よく
照射できるようにしたレーザ光照射装置、並びに、書込
画像の中間調を良好に再現できるようにしたレーザ書込
装置に関するものである。
従来、レーザ書込装置等において中間調の画像を記録す
る方法としては、半導体レーザ等のレーザ光発生手段の
光出力を変化させ、記録媒体上に形成される１画素ごと
に中間調を段階的につける第１の方法と、記録媒体上に
形成される１画素を細分化して複数の小画素を形成し、
レーザ光発生手段の光出力を単一レベルに安定させる一
方、各画素の中間調に対応させて上記複数の小画素のう
ちの適当な数の小画素のみにレーザ光を照射して記録す
る第２の方法とが知られている。
る方法としては、半導体レーザ等のレーザ光発生手段の
光出力を変化させ、記録媒体上に形成される１画素ごと
に中間調を段階的につける第１の方法と、記録媒体上に
形成される１画素を細分化して複数の小画素を形成し、
レーザ光発生手段の光出力を単一レベルに安定させる一
方、各画素の中間調に対応させて上記複数の小画素のう
ちの適当な数の小画素のみにレーザ光を照射して記録す
る第２の方法とが知られている。
ところが、上記した第１の方法においては、レーザ光発
生手段の出力を複数のレベルに変化させ、かつ、各レベ
ルで安定させるように制御することは、極めて困難なこ
とである。
生手段の出力を複数のレベルに変化させ、かつ、各レベ
ルで安定させるように制御することは、極めて困難なこ
とである。
一方、上記した第２の方法においては、１画素の中間調
を再現するために、複数の小画素のうちから適当な小画
素を選択してレーザ光の照射を行うというように、複雑
な処理を行う必要性が生じるといった問題がある。
を再現するために、複数の小画素のうちから適当な小画
素を選択してレーザ光の照射を行うというように、複雑
な処理を行う必要性が生じるといった問題がある。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので
あって、中間調の程度に対応した強さのレーザ光を安定
よ（照射でき、また、書込画像の中間調を良好に再現で
きるように構成したものである。
あって、中間調の程度に対応した強さのレーザ光を安定
よ（照射でき、また、書込画像の中間調を良好に再現で
きるように構成したものである。
すなわち、請求項第１項に記載の本発明のレーザ光照射
装置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数
のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射さ
れるレーザ光を合成するレーザ光合成手段とが備えられ
ていることを特徴としている。
装置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数
のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射さ
れるレーザ光を合成するレーザ光合成手段とが備えられ
ていることを特徴としている。
また、請求項第２項に記載の本発明のレーザ光照射装置
は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレーザ
光照射装置であって、上記の各レーザ発生手段の出力が
異なるように設定されていることを特徴としている。
は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレーザ
光照射装置であって、上記の各レーザ発生手段の出力が
異なるように設定されていることを特徴としている。
さらに、請求項第３項に記載の本発明のレーザ光照射装
置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数の
レーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射され
るレーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレー
ザ光照射装置であって、ｎ個のレーザ光発生手段を有し
、かつ各レーザ光発生手段の出力の大きさが２ｎ−１，
２ｎ−２，・・２ ｚ、 ２ ’、 ２０となるように
設定されていることを特徴としている。
置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数の
レーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射され
るレーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレー
ザ光照射装置であって、ｎ個のレーザ光発生手段を有し
、かつ各レーザ光発生手段の出力の大きさが２ｎ−１，
２ｎ−２，・・２ ｚ、 ２ ’、 ２０となるように
設定されていることを特徴としている。
さらに、請求項第４項に記載の本発明のレーザ光照射装
置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢され、出力の
大きい順に設置されたｎ個のレーザ光発生手段と、各レ
ーザ光発生手段から発射されるレーザ光を合成するレー
ザ光合成手段とを備え、このレーザ光合成手段は、最大
出力のレーザ光発生手段に対応させた反射材と、他のレ
ーザ光発生手段にそれぞれ対応させたｎ−１個の、異な
る２方向から入射したレーザ光を１つの光軸に集合させ
て出力する方向性結合器とを備え、最大出力のレーザ光
発生手段から出力されたレーザ光が各方向性結合器を順
次経由するとともに、各方向性結合器において各方向性
結合器に対応するレーザ光発生手段から出力されたレー
ザ光と、より強力なレーザ光発生手段から出力されたレ
ーザ光とが集合されるように、上記反射材及び各方向性
結合器が配置されていることを特徴としている。
置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢され、出力の
大きい順に設置されたｎ個のレーザ光発生手段と、各レ
ーザ光発生手段から発射されるレーザ光を合成するレー
ザ光合成手段とを備え、このレーザ光合成手段は、最大
出力のレーザ光発生手段に対応させた反射材と、他のレ
ーザ光発生手段にそれぞれ対応させたｎ−１個の、異な
る２方向から入射したレーザ光を１つの光軸に集合させ
て出力する方向性結合器とを備え、最大出力のレーザ光
発生手段から出力されたレーザ光が各方向性結合器を順
次経由するとともに、各方向性結合器において各方向性
結合器に対応するレーザ光発生手段から出力されたレー
ザ光と、より強力なレーザ光発生手段から出力されたレ
ーザ光とが集合されるように、上記反射材及び各方向性
結合器が配置されていることを特徴としている。
さらに、請求項第５項に記載の本発明のレーザ書込装置
は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段と、このレーザ光
合成手段にて合成されたレーザ光を受ける記録媒体とが
備えられていることを特徴としている。
は、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段と、このレーザ光
合成手段にて合成されたレーザ光を受ける記録媒体とが
備えられていることを特徴としている。
上記の構成により、複数のレーザ光発生手段のうち中間
調の程度に応じて選択的に付勢されたものからレーザ光
が出力され、これらレーザ光が合成されるので、付勢さ
れたレーザ光発生手段の合計出力に対応する段階付けら
れた光エネルギを有するレーザ光を、例えば、レーザ書
込装置における記録媒体の１画素に照射して中間調の画
像を再現することができる。
調の程度に応じて選択的に付勢されたものからレーザ光
が出力され、これらレーザ光が合成されるので、付勢さ
れたレーザ光発生手段の合計出力に対応する段階付けら
れた光エネルギを有するレーザ光を、例えば、レーザ書
込装置における記録媒体の１画素に照射して中間調の画
像を再現することができる。
また、各レーザ光発生手段の出力レベルが段階的に多段
に変化されずに単一レベルに安定されているので、安定
よく中間調を再現できることになる。また、１画素の中
間調を再現するために複数の小画素のうちから適当な小
画素を選択してレーザ光の照射を行うといった複雑な処
理を行う必要がなくなる。
に変化されずに単一レベルに安定されているので、安定
よく中間調を再現できることになる。また、１画素の中
間調を再現するために複数の小画素のうちから適当な小
画素を選択してレーザ光の照射を行うといった複雑な処
理を行う必要がなくなる。
なお、複数のレーザ光発生手段の光出力は、これらを全
て同一レベルに設定してもよいが、各レーザ光発生手段
から出力されたレーザ光においてレーザ光合成手段内で
の光エネルギの減衰を考慮して、少なくともそのうちの
１つのレーザ光発生手段の出力を他のレーザ光発生手段
の出力と異ならせてもよい。
て同一レベルに設定してもよいが、各レーザ光発生手段
から出力されたレーザ光においてレーザ光合成手段内で
の光エネルギの減衰を考慮して、少なくともそのうちの
１つのレーザ光発生手段の出力を他のレーザ光発生手段
の出力と異ならせてもよい。
また、中間調を、より少数のレーザ光発生手段にて段階
的に制御するために、例えばｎ個のレーザ光発生手段を
用いる場合には、各レーザ光発生手段の光出力の大きさ
を、２ｎ−１，２ｎ−２，・・・２２．２１、２０とな
るように設定する。
的に制御するために、例えばｎ個のレーザ光発生手段を
用いる場合には、各レーザ光発生手段の光出力の大きさ
を、２ｎ−１，２ｎ−２，・・・２２．２１、２０とな
るように設定する。
レーザ光合成手段の具体的な構成については特に限定す
るものでないが、各レーザ光発生手段から出力されたレ
ーザ光がレーザ光合成手段から出力された後に分散しな
いように構成することが望ましい。このようにするため
には、例えば、レーザ光合成手段をｎ個のレーザ光発生
手段に対して、異なる２方向から入射されたレーザ光を
共通の光軸に沿って出力させるｎ−１個の方向性結合器
で構成し、１つのレーザ光発生手段から出力されたレー
ザ光が各方向性結合器を順次経由するとともに、各方向
性結合器において上記１つのレーザ光発生手段から出力
されたレーザ光と当該方向性結合器に対応するレーザ光
発生手段から出力されたレーザ光とが集合されるように
各方向性結合器を配置すればよい。
るものでないが、各レーザ光発生手段から出力されたレ
ーザ光がレーザ光合成手段から出力された後に分散しな
いように構成することが望ましい。このようにするため
には、例えば、レーザ光合成手段をｎ個のレーザ光発生
手段に対して、異なる２方向から入射されたレーザ光を
共通の光軸に沿って出力させるｎ−１個の方向性結合器
で構成し、１つのレーザ光発生手段から出力されたレー
ザ光が各方向性結合器を順次経由するとともに、各方向
性結合器において上記１つのレーザ光発生手段から出力
されたレーザ光と当該方向性結合器に対応するレーザ光
発生手段から出力されたレーザ光とが集合されるように
各方向性結合器を配置すればよい。
この場合、上記１つのレーザ光発生手段から出力される
レーザ光を直接に最初の方向性結合器に入射させること
も可能であるが、レーザ光照射装置全体の軽量化および
コンパクト化を図ることを考慮して、各レーザ光発生手
段のレーザ光発射方向を互いに平行に設定することが望
ましい。このためには、上記１つのレーザ光発生手段が
出力するレーザ光を１つの反射材で反射させてから最初
の方向性結合器に入射するように構成することが有利で
ある。また、レーザ光合成手段内での光エネルギの減衰
を考慮して、レーザ光発生手段を出力の大きい順に配置
し、最大出力のレーザ光発生手段に対応して反射材を設
け、他のレーザ光発生手段に１対１に対応させて方向性
結合器を設け、最大出力のレーザ光発生手段から出力さ
れ、反射材で反射されたレーザ光が各方向性結合器を順
次経由するように構成するとともに、各方向性結合器に
おいてその方向性結合器に対応するレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光が最大出力のレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光と集合されるように、上記反射材
及び各方向性結合器を配置することが有利である。
レーザ光を直接に最初の方向性結合器に入射させること
も可能であるが、レーザ光照射装置全体の軽量化および
コンパクト化を図ることを考慮して、各レーザ光発生手
段のレーザ光発射方向を互いに平行に設定することが望
ましい。このためには、上記１つのレーザ光発生手段が
出力するレーザ光を１つの反射材で反射させてから最初
の方向性結合器に入射するように構成することが有利で
ある。また、レーザ光合成手段内での光エネルギの減衰
を考慮して、レーザ光発生手段を出力の大きい順に配置
し、最大出力のレーザ光発生手段に対応して反射材を設
け、他のレーザ光発生手段に１対１に対応させて方向性
結合器を設け、最大出力のレーザ光発生手段から出力さ
れ、反射材で反射されたレーザ光が各方向性結合器を順
次経由するように構成するとともに、各方向性結合器に
おいてその方向性結合器に対応するレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光が最大出力のレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光と集合されるように、上記反射材
及び各方向性結合器を配置することが有利である。
〔実施例］
本発明の一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。
の通りである。
レーザ書込装置は、画像の明暗を８段階にわたって再現
できるように構成したものであって、レーザ光照射装置
Ａから照射されるレーザ光で記録媒体としての液晶セル
３０の受光面を走査し、レーザ光の光エネルギーの大き
さに対応して液晶セル３０の光透過性を失わせて画像を
形成するようになっている。
できるように構成したものであって、レーザ光照射装置
Ａから照射されるレーザ光で記録媒体としての液晶セル
３０の受光面を走査し、レーザ光の光エネルギーの大き
さに対応して液晶セル３０の光透過性を失わせて画像を
形成するようになっている。
上記レーザ光照射装置Ａは、３個のレーザ光発生手段ｌ
・２・３と、これらレーザ光発生手段ｌ・２・３から出
力されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段Ｂと、レ
ーザ光合成手段Ｂにより合成された合成レーザ光Ｌ４を
液晶セル３０上に走査させるレーザ用光学系２０とを備
えている。
・２・３と、これらレーザ光発生手段ｌ・２・３から出
力されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段Ｂと、レ
ーザ光合成手段Ｂにより合成された合成レーザ光Ｌ４を
液晶セル３０上に走査させるレーザ用光学系２０とを備
えている。
各レーザ発生手段１・２・３は、それぞれ内部に例えば
半導体レーザを備え、電流変換回路１１・１２・１３の
出力電流に対応してそれぞれ所定の強さのレーザ光り、
・Ｌ２ ・Ｌ、を出力するようになっている。
半導体レーザを備え、電流変換回路１１・１２・１３の
出力電流に対応してそれぞれ所定の強さのレーザ光り、
・Ｌ２ ・Ｌ、を出力するようになっている。
各レーザ光発生手段１・２・３の出力は、これらを同等
に設定したり、若しくは、例えば２：１＝１に設定する
ことも可能であるが、本実施例では、これら出力の大き
さが４：２：１となるように設定されている。
に設定したり、若しくは、例えば２：１＝１に設定する
ことも可能であるが、本実施例では、これら出力の大き
さが４：２：１となるように設定されている。
また、レーザ光照射装置Ａにおいては、各レーザ光発生
手段１・２・３の出力を正確に制御するために公知のフ
ィードバック制御系が設けられている。
手段１・２・３の出力を正確に制御するために公知のフ
ィードバック制御系が設けられている。
即ち、各レーザ光発生手段ｌ・２・３から出力されるレ
ーザ光り、−Ｌ、 ・Ｌ、は、それぞれＰＩＮダイオ
ードを備えた光検知手段４・５・６によって検知され、
各光検知手段４・５・６の出力をそれぞれ比較回路７・
８・９において所定の光出力に対応する基準電圧■、・
Ｖ２ ・■、と比較して、各比較回路７・８・９の出力
に基づき制御回路１０から電流変換回路１１・１２・１
３に指示信号を出力し、各電流変換回路１１・１２・１
３が制御回路ｌＯの指示信号に従ってレーザ光発生手段
ｌ・２・３に各々所定の出力光を発射するのに要する適
正な電流を供給するように構成されている。なお、書込
時に各フィードバック制御系から各比較回路７・８・９
に入力される基準電圧■１ ・■２ ・■、は、各レー
ザ光発生手段ｌ・２・３の出力比が４：２：１となるよ
うに各フィードバック制御系に記憶設定されている。
ーザ光り、−Ｌ、 ・Ｌ、は、それぞれＰＩＮダイオ
ードを備えた光検知手段４・５・６によって検知され、
各光検知手段４・５・６の出力をそれぞれ比較回路７・
８・９において所定の光出力に対応する基準電圧■、・
Ｖ２ ・■、と比較して、各比較回路７・８・９の出力
に基づき制御回路１０から電流変換回路１１・１２・１
３に指示信号を出力し、各電流変換回路１１・１２・１
３が制御回路ｌＯの指示信号に従ってレーザ光発生手段
ｌ・２・３に各々所定の出力光を発射するのに要する適
正な電流を供給するように構成されている。なお、書込
時に各フィードバック制御系から各比較回路７・８・９
に入力される基準電圧■１ ・■２ ・■、は、各レー
ザ光発生手段ｌ・２・３の出力比が４：２：１となるよ
うに各フィードバック制御系に記憶設定されている。
上記制御回路ｌＯは、外部から入力される画像信号Ｐｖ
と、中間調の程度に対応する中間調信号Ｐｈとを入力し
、画像信号Ｐｖと中間調信号Ｐｈとが同時に入力される
時に駆動信号Ｐｆｌ・ｐｔｚ・ＰＦ３を出力するように
なっている。上記の中間調信号Ｐ、は、レーザ光発生手
段１・２・３の数に対応するビット数、即ち、３ビツト
のバイナリ信号で形成され、画像信号Ｐｖが入力してい
る時に中間調信号Ｐ６の最上位のビットが“１°であれ
ば駆動信号ＰｆＩが出力され、画像信号Ｐｖが入力して
いる時に中間調信号Ｐ６の第２位のビットが“１°であ
れば駆動信号Ｐｆｔが出力され、画像信号Ｐｖが入力し
ている時に中間調信号Ｐｈの最下位のビットが“ｌ′で
あれば駆動信号Ｐｆ３が出力されるようになっている。
と、中間調の程度に対応する中間調信号Ｐｈとを入力し
、画像信号Ｐｖと中間調信号Ｐｈとが同時に入力される
時に駆動信号Ｐｆｌ・ｐｔｚ・ＰＦ３を出力するように
なっている。上記の中間調信号Ｐ、は、レーザ光発生手
段１・２・３の数に対応するビット数、即ち、３ビツト
のバイナリ信号で形成され、画像信号Ｐｖが入力してい
る時に中間調信号Ｐ６の最上位のビットが“１°であれ
ば駆動信号ＰｆＩが出力され、画像信号Ｐｖが入力して
いる時に中間調信号Ｐ６の第２位のビットが“１°であ
れば駆動信号Ｐｆｔが出力され、画像信号Ｐｖが入力し
ている時に中間調信号Ｐｈの最下位のビットが“ｌ′で
あれば駆動信号Ｐｆ３が出力されるようになっている。
前記レーザ光合成手段Ｂは、反射材１７と、これと順に
並んで配置された２個の方向性結合器１８・１９とで構
成されている。
並んで配置された２個の方向性結合器１８・１９とで構
成されている。
各レーザ光発生手段ｌ・２・３から発射されるレーザ光
り、・Ｌ２ ・Ｌ、は互いに平行に発射され、反射材１
７あるいは方向性結合器１８・１９の内部の鏡面にそれ
ぞれ４５°の角度で入射され一定方向に反射される。そ
して、反射材１７あるいは方向性結合器１８・１９を経
由したレーザ光Ｌ１ ・Ｌ２ ・Ｌ、は、順に各方向性
結合器１日・１９において同じ光軸上に集合され、合成
レーザ光Ｌ４となってレーザ用光学系２０に入射される
ようになっている。
り、・Ｌ２ ・Ｌ、は互いに平行に発射され、反射材１
７あるいは方向性結合器１８・１９の内部の鏡面にそれ
ぞれ４５°の角度で入射され一定方向に反射される。そ
して、反射材１７あるいは方向性結合器１８・１９を経
由したレーザ光Ｌ１ ・Ｌ２ ・Ｌ、は、順に各方向性
結合器１日・１９において同じ光軸上に集合され、合成
レーザ光Ｌ４となってレーザ用光学系２０に入射される
ようになっている。
上記液晶セル３０は、合成レーザ光Ｌ４を受光するレー
ザ光吸収膜３１、液晶層３２及び基板３３から構成され
、合成レーザ光Ｌ４の照射を受けた点でレーザ光吸収膜
３１に吸収された合成レーザ光Ｌ４の光エネルギの大き
さに対応してレーザ光吸収膜３１の温度が上昇し、この
温度上昇によって液晶の光透過性がその温度上昇の大き
さに対応する広さにわたって失われ、１画素中に合成し
−ザ光Ｌ４の光エネルギの大きさに対応した大きさの像
が形成されるようになっている。
ザ光吸収膜３１、液晶層３２及び基板３３から構成され
、合成レーザ光Ｌ４の照射を受けた点でレーザ光吸収膜
３１に吸収された合成レーザ光Ｌ４の光エネルギの大き
さに対応してレーザ光吸収膜３１の温度が上昇し、この
温度上昇によって液晶の光透過性がその温度上昇の大き
さに対応する広さにわたって失われ、１画素中に合成し
−ザ光Ｌ４の光エネルギの大きさに対応した大きさの像
が形成されるようになっている。
次に、レーザ書込装置の動作を説明する。
レーザ光照射装置Ａから出力される合成レーザ光Ｌ４は
、全てのレーザ光発生手段ｌ・２・３がオフとなるＯか
ら、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオンとなる７
との間で、８段階にわたって強さを段階的に制御される
。
、全てのレーザ光発生手段ｌ・２・３がオフとなるＯか
ら、全てのレーザ光発生手段１・２・３がオンとなる７
との間で、８段階にわたって強さを段階的に制御される
。
例えば、画像信号Ｐｖと、出力の弱い順番からすれば６
段階目の強度の“５″に対応する中間調信号Ｐ、、とじ
て“１０１゛が制御回路１０に与えられた場合には、駆
動回路１４に駆動信号Ｐｆｌとして“１°を出力してレ
ーザ光発生手段ｌを付勢し、駆動回路１５には駆動信号
ｐｒｚとして“０を出力してレーザ光発生手段２を消勢
状態に継続させ、また駆動回路１６には駆動信号Ｐｆ３
として“ｌ゛を出力してレーザ光発生手段３を付勢する
。すると、付勢されたレーザ光発生手段１から出力され
たレーザ光Ｌ＋ と、レーザ光発生手段３から出力され
たレーザ光り、とか、レーザ光合成手段Ｂにて合成され
、“５′の光エネルギを有する合成レーザ光Ｌ４が、レ
ーザ用光学系２０を経て液晶セル３０の所定の画素に照
射されることになる。
段階目の強度の“５″に対応する中間調信号Ｐ、、とじ
て“１０１゛が制御回路１０に与えられた場合には、駆
動回路１４に駆動信号Ｐｆｌとして“１°を出力してレ
ーザ光発生手段ｌを付勢し、駆動回路１５には駆動信号
ｐｒｚとして“０を出力してレーザ光発生手段２を消勢
状態に継続させ、また駆動回路１６には駆動信号Ｐｆ３
として“ｌ゛を出力してレーザ光発生手段３を付勢する
。すると、付勢されたレーザ光発生手段１から出力され
たレーザ光Ｌ＋ と、レーザ光発生手段３から出力され
たレーザ光り、とか、レーザ光合成手段Ｂにて合成され
、“５′の光エネルギを有する合成レーザ光Ｌ４が、レ
ーザ用光学系２０を経て液晶セル３０の所定の画素に照
射されることになる。
また、例えば、画像信号Ｐｖと、出力の弱い順番からす
れば４段階目の強度の“３゛に対応する中間調信号Ｐ１
として“０１１°が制御回路１０に与えられた場合には
、同様にして、レーザ光発生手段２から出力されたレー
ザ光Ｌ２とレーザ光発生手段３から出力されたレーザ光
Ｌ３とがレーザ光合成手段Ｂにて合成され、３°の光エ
ネルギを有する合成レーザ光Ｌ４が、レーザ用光学系２
０を経て液晶セル３０の所定の画素に照射されることに
なる。すると、液晶セル３０の画素中には、合成レーザ
光Ｌ４の光エネルギ量に対応した大きさの像が形成され
、この画素が中間調の明るさになる。
れば４段階目の強度の“３゛に対応する中間調信号Ｐ１
として“０１１°が制御回路１０に与えられた場合には
、同様にして、レーザ光発生手段２から出力されたレー
ザ光Ｌ２とレーザ光発生手段３から出力されたレーザ光
Ｌ３とがレーザ光合成手段Ｂにて合成され、３°の光エ
ネルギを有する合成レーザ光Ｌ４が、レーザ用光学系２
０を経て液晶セル３０の所定の画素に照射されることに
なる。すると、液晶セル３０の画素中には、合成レーザ
光Ｌ４の光エネルギ量に対応した大きさの像が形成され
、この画素が中間調の明るさになる。
この場合、上記各レーザ光発生手段１・２・３の出力が
上記のように多段に変化されることなく安定されている
ので、再現される中間調の明るさは各段階において安定
することになる。また、各画素を小画素に細分化するこ
となく中間調を再現するようにしているので、複数の小
画素のうちから適当な小画素を選択してレーザ光の照射
を行うといった複雑な処理を行わなくてもよい。
上記のように多段に変化されることなく安定されている
ので、再現される中間調の明るさは各段階において安定
することになる。また、各画素を小画素に細分化するこ
となく中間調を再現するようにしているので、複数の小
画素のうちから適当な小画素を選択してレーザ光の照射
を行うといった複雑な処理を行わなくてもよい。
このようにして、液晶セル３０上の各画素の像を順次形
成することにより、良好な中間調を再現した全体画像が
得られる。
成することにより、良好な中間調を再現した全体画像が
得られる。
なお、上記実施例では、レーザ光発生手段ｌ・２・３を
３個設け、中間調を８段階としているが、レーザ光発生
手段ｌ・２・３を増減して中間調の段階数を増加または
減少させたり、各レーザ光発生手段１・２・３の出力比
を、例えば２：１：１あるいは１：ｌ：１と設定変更し
て、中間調の段階を減少させることも可能である。
３個設け、中間調を８段階としているが、レーザ光発生
手段ｌ・２・３を増減して中間調の段階数を増加または
減少させたり、各レーザ光発生手段１・２・３の出力比
を、例えば２：１：１あるいは１：ｌ：１と設定変更し
て、中間調の段階を減少させることも可能である。
また、記録媒体は液晶セル３０に限定されず、例えば感
光体で構成することも可能である。
光体で構成することも可能である。
〔発明の効果］
請求項第１項に記載の本発明のレーザ光照射装置は、以
上のように、中間調の程度に応じて選択的に付勢される
複数のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発
射されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段とが備え
られている構成である。また、請求項第２項のレーザ光
照射装置は、上記の各レーザ光発生手段の出力が異なる
ように設定されている構成である。さらに、請求項第３
項のレーザ光照射装置は、ｎ個のレーザ光発生手段を有
し、かつ、各レーザ光発生手段の出力の大きさが２ ｎ
−１，２ｎ−２，、、、２２，２Ｚ２０となるように設
定されている構成である。さらに、請求項第４項のレー
ザ光照射装置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢さ
れ、出力の大きい順に設置されたｎ個のレーザ光発生手
段と、各レーザ光発生手段から発射されるレーザ光を合
成するレーザ光合成手段とを備え、このレーザ光合成手
段は、最大出力のレーザ光発生手段に対応させた反射材
と、他のレーザ光発生手段にそれぞれ対応させたｎ−１
個の、異なる２方向から入射したレーザ光を１つの光軸
に集合させて出力する方向性結合器とを備え、最大出力
のレーザ光発生手段から出力されたレーザ光が各方向性
結合器を順次経由するとともに、各方向性結合器におい
て各方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力
されたレーザ光と、これより強力なレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光とが集合されるように、上記反射
材及び各方向性結合器が配置されている構成である。
上のように、中間調の程度に応じて選択的に付勢される
複数のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発
射されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段とが備え
られている構成である。また、請求項第２項のレーザ光
照射装置は、上記の各レーザ光発生手段の出力が異なる
ように設定されている構成である。さらに、請求項第３
項のレーザ光照射装置は、ｎ個のレーザ光発生手段を有
し、かつ、各レーザ光発生手段の出力の大きさが２ ｎ
−１，２ｎ−２，、、、２２，２Ｚ２０となるように設
定されている構成である。さらに、請求項第４項のレー
ザ光照射装置は、中間調の程度に応じて選択的に付勢さ
れ、出力の大きい順に設置されたｎ個のレーザ光発生手
段と、各レーザ光発生手段から発射されるレーザ光を合
成するレーザ光合成手段とを備え、このレーザ光合成手
段は、最大出力のレーザ光発生手段に対応させた反射材
と、他のレーザ光発生手段にそれぞれ対応させたｎ−１
個の、異なる２方向から入射したレーザ光を１つの光軸
に集合させて出力する方向性結合器とを備え、最大出力
のレーザ光発生手段から出力されたレーザ光が各方向性
結合器を順次経由するとともに、各方向性結合器におい
て各方向性結合器に対応するレーザ光発生手段から出力
されたレーザ光と、これより強力なレーザ光発生手段か
ら出力されたレーザ光とが集合されるように、上記反射
材及び各方向性結合器が配置されている構成である。
上記のように、レーザ光発生手段の出力を段階的に変化
させるのではなく、出力が各々単一レベルに設定された
複数のレーザ光発生手段を設け、中間調に対応して選択
された各レーザ光発生手段から出力されるレーザ光をレ
ーザ光合成手段にて合成させるので、その中間調に対応
する光出力を極めて安定良く得ることができるという効
果を奏する。
させるのではなく、出力が各々単一レベルに設定された
複数のレーザ光発生手段を設け、中間調に対応して選択
された各レーザ光発生手段から出力されるレーザ光をレ
ーザ光合成手段にて合成させるので、その中間調に対応
する光出力を極めて安定良く得ることができるという効
果を奏する。
また、請求項第５項に記載の本発明のレーザ書込装置は
、以上のように、中間調の程度に応じて選択的に付勢さ
れる複数のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段か
ら発射されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段と、
このレーザ光合成手段にて合成されたレーザ光を受ける
記録媒体とが備えられた構成である。
、以上のように、中間調の程度に応じて選択的に付勢さ
れる複数のレーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段か
ら発射されるレーザ光を合成するレーザ光合成手段と、
このレーザ光合成手段にて合成されたレーザ光を受ける
記録媒体とが備えられた構成である。
これにより、極めて安定良く中間調の各段階に対応する
光出力で記録媒体に記録することができるので、良好な
中間調の画像を再現できるという効果を奏する。
光出力で記録媒体に記録することができるので、良好な
中間調の画像を再現できるという効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック構成図である
。 Ａはレーザ光照射装置、Ｂはレーザ光合成手段１・２・
３はレーザ光発生手段、１７は反射材１８・１９は方向
性結合器、３０は記録媒体としての液晶セルである。
。 Ａはレーザ光照射装置、Ｂはレーザ光合成手段１・２・
３はレーザ光発生手段、１７は反射材１８・１９は方向
性結合器、３０は記録媒体としての液晶セルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段とが備えられてい
ることを特徴とするレーザ光照射装置。 ２、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレーザ
光照射装置であって、上記の各レーザ発生手段の出力が
異なるように設定されていることを特徴とするレーザ光
照射装置。 ３、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、各レーザ光発生手段から発射される
レーザ光を合成するレーザ光合成手段とを備えたレーザ
光照射装置であって、ｎ個のレーザ光発生手段を有し、
かつ、各レーザ光発生手段の出力の大きさが２＾ｎ＾−
＾１、２＾ｎ＾−＾２、・・・、２＾２、２＾１、２＾
０となるように設定されていることを特徴とするレーザ
光照射装置。 ４、中間調の程度に応じて選択的に付勢され、出力の大
きい順に設置されたｎ個のレーザ光発生手段と、各レー
ザ光発生手段から発射されるレーザ光を合成するレーザ
光合成手段とを備え、このレーザ光合成手段は、最大出
力のレーザ光発生手段に対応させた反射材と、他のレー
ザ光発生手段にそれぞれ対応させたｎ−１個の、異なる
２方向から入射したレーザ光を１つの光軸に集合させて
出力する方向性結合器とを備え、 最大出力のレーザ光発生手段から出力されたレーザ光が
各方向性結合器を順次経由するとともに、各方向性結合
器において各方向性結合器に対応するレーザ光発生手段
から出力されたレーザ光と、これより強力なレーザ光発
生手段から出力されたレーザ光とが集合されるように、
上記反射材及び各方向性結合器が配置されていることを
特徴とするレーザ光照射装置。 ５、中間調の程度に応じて選択的に付勢される複数のレ
ーザ光発生手段と、 各レーザ光発生手段から発射されるレーザ光を合成する
レーザ光合成手段と、 このレーザ光合成手段にて合成されたレーザ光を受ける
記録媒体とが備えられていることを特徴とするレーザ書
込装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156197A JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
| US07/370,903 US4973989A (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Halftone laser recording with plural beams |
| EP89306421A EP0348237B1 (en) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | A laser beam projecting unit |
| DE68926409T DE68926409T2 (de) | 1988-06-24 | 1989-06-23 | Laserstrahlprojektiereinheit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63156197A JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026162A true JPH026162A (ja) | 1990-01-10 |
| JPH085211B2 JPH085211B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=15622489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63156197A Expired - Fee Related JPH085211B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | レーザ光照射装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4973989A (ja) |
| EP (1) | EP0348237B1 (ja) |
| JP (1) | JPH085211B2 (ja) |
| DE (1) | DE68926409T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5145802A (en) * | 1991-11-12 | 1992-09-08 | United Technologies Corporation | Method of making SOI circuit with buried connectors |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5221971A (en) * | 1990-11-21 | 1993-06-22 | Polaroid Corporation | Area modulation printing apparatus |
| US5170261A (en) * | 1990-11-21 | 1992-12-08 | Polaroid Corporation | Printing method |
| WO1992010054A1 (en) * | 1990-11-21 | 1992-06-11 | Polaroid Corporation | Printing method |
| EP0511335B1 (en) * | 1990-11-21 | 1995-03-08 | Polaroid Corporation | Printing apparatus |
| US5300962A (en) * | 1992-08-17 | 1994-04-05 | Xerox Corporation | Compound optics for a raster output scanner in an electrophotographic printer |
| DE69417794T2 (de) * | 1993-02-25 | 1999-11-18 | Konishiroku Photo Ind | Bilderzeugungsgerät zum Erzeugen einer Abbildung mit Hilfe von mehreren Laserstrahlabtastern |
| JP3276284B2 (ja) * | 1996-01-12 | 2002-04-22 | 旭光学工業株式会社 | マルチビーム光走査装置 |
| US6266359B1 (en) | 1999-09-02 | 2001-07-24 | Alphamicron, Inc. | Splicing asymmetric reflective array for combining high power laser beams |
Citations (2)
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| JPS634763A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-09 | Canon Inc | 記録装置 |
| JPS63249658A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Konica Corp | 画像記録装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4506275A (en) * | 1981-07-13 | 1985-03-19 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Image scanning and recording device |
| JPS5817442A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録装置における連続階調露光方法およびその装置 |
| JPS58141078A (ja) * | 1982-02-16 | 1983-08-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録方法及び装置 |
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| JPS6350811A (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-03 | Minolta Camera Co Ltd | レ−ザ−ビ−ムプリンタ |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63156197A patent/JPH085211B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-06-23 EP EP89306421A patent/EP0348237B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-23 DE DE68926409T patent/DE68926409T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-23 US US07/370,903 patent/US4973989A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68926409T2 (de) | 1996-10-10 |
| JPH085211B2 (ja) | 1996-01-24 |
| EP0348237A3 (en) | 1992-06-10 |
| EP0348237A2 (en) | 1989-12-27 |
| EP0348237B1 (en) | 1996-05-08 |
| DE68926409D1 (de) | 1996-06-13 |
| US4973989A (en) | 1990-11-27 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |