JPH08511126A

JPH08511126A - ガス放電フラットパネル表示装置及びその製造方法

Info

Publication number: JPH08511126A
Application number: JP7501034A
Authority: JP
Inventors: ピーマーチンレプセルター
Original assignee: Spectron Corp of America LLC
Current assignee: Spectron Corp of America LLC
Priority date: 1993-06-02
Filing date: 1994-05-25
Publication date: 1996-11-19
Also published as: EP0789384A1; US5469021A; US5634836A; WO1994028570A1; EP0701736A1; AU6961094A; CA2164429A1; US5654727A

Abstract

(57)【要約】交流、直流のいずれでも作動できるフラットパネルガス放電表示装置は、少なくとも略大気圧で作動するので爆縮力がかからない。この表示装置は透明な基板上に配設した第１組の導体と第１組から間隔を置いてそれと交叉する第２組とを備えている。交叉点のアレイは、第２組の導体が第１組の導体と交叉する各位置に形成されている。各交叉点で第１及び第２組の導体の間の空間に気体が封入されている。この気体は交叉点で最小パッシェン放電電圧より高いかまたは等しい電圧が印加されるたときに、発光放電する。作動気体としては空気を用いることかできる。表示装置は一つの基板上に形成され、一つ以上のキャッピング層の代わりに別の表示装置を積み重ねることかできる。導体の組の少なくとも一つの各交叉点でアパーチャを設けて放電を見やすくしている。フラットパネル表示装置を組み込んだシステムを提示する。適当に配線したフラットパネル構造体で、照明用のフラットパネルプラズマ放電灯が構成できる。

Description

【発明の詳細な説明】ガス放電フラットパネル表示装置及びその製造方法発明の背景本発明はフラットパネル表示装置構造体及びその製造方法、特に、少なくとも略大気圧の気体で作動する、基板の一側に形成されたガス放電表示装置に関する。プラズマ系フラットパネル表示装置は1960年代末期から知られている。概してこのような表示装置は部分真空の気体または気体混合物を、対向し交叉する導体リボンの間に封入したものである。交叉した導体によって交叉点のマトリックスが画定されるが、これは本質的に小型ネオン画像素子（画素）すなわち自体の光を出すランプのアレイである。どの画素においても交叉し隔間した導体はコンデンサの対向する電極板のように作用する。各交叉点で充分大きい電圧を印加すると、気体が放電して電子とイオンとのプラズマになり、電流によって励起されると光を放つ。パッシェンの法則は、気体が放電してプラズマになる電圧、いわゆる火花電圧または放電電圧を気体の圧力φ（mmHg）と電極間の距離ｄ（cm）の積に関係付けるものである。画素が発光するのに充分な電圧で一度に１列ずつ順序導体を走査し、このプロセスを毎秒少なくとも60回反復すると、人間の目で定常的な像が感知できるようになる。これらの表示装置では従来圧力−距離積をいわゆる最小パッシェン放電電圧の領域に近付けるには部分真空をすることが必要であった。従来の設計では周囲圧力を低くして導体間の領域の気体分子の密度を下げることによって遊離電子の平均自由行程を確実に長くできた。周囲圧力が低いと遊離電子が他の気体分子に向かって速く移動してこれらに強く打ち当たり、さらに電子を遊離させるために大電流が流れ易くなる。Ｓ．Ｃ．ミラー，ネオン技術と取扱い，11頁（第３版1977）を参照。しかしこれらの従来設計のパネルで放電電圧を確実に均等にするには、真空外囲器内で導体を精密に離間整合させねばならない。部分真空を必要とするのために、他の製造工程に複雑な問題が生じてフラットパネルガス放電表示装置の生産費が増加した。内部の真空環境と外部の大気の圧力が不均衡なので、パネルの表示面にかかる爆縮圧力（平方インチ当り１５ポンド）に耐えるためにフラットパネル表示装置を補強材で製造することが必要になった。またプラズマ材料に希有ガスを用いるので精巧な製造設備が必要である。これらの問題のために最近液晶やエレクトロルミネッセントポリマーなどの他の設計の表示装置構造体に注意を払うようになった。デップ，ホワード，フラットパネル表示装置，サイエンティフィックアメリカン（1993年３月号）90頁。さらに従来のプラズマ表示装置では、プラズマを保持するために要する機械的構造が所要の形状で製作されることが容易ではないので、輝度が低く、解像度をワークステーション表示装置が要するレベルまで上げることが困難であるという問題がある。従って、作動気体として空気を用い、少なくとも略大気圧で作動できるガス放電フラットパネル表示装置を製造することは有利である。発明の要約本発明の目的はエアブリッジ技術を用いる単一基板上に形成されたフラットパネル表示装置を提供することにある。また本発明の目的は略大気圧で作動できるフラットパネル表示装置を提供することにある。さらに一つの目的は気体中で気体の最小パッシェン放電電圧またはその付近で発光放電を誘起するフラットパネル表示装置を提供することにある。もう一つの目的は爆縮力を受けないガス放電フラットパネル表示装置を提供することにある。なおもう一つの目的は地図のように巻くことができる可撓性基板に取り付けたガス放電フラットパネル表示装置を提供することにある。さらにもう一つの目的は、一般用またはバックライト用のフラットパネルプラズマ灯を提供することにある。本発明は少なくとも略大気圧で作動するために爆縮力のない交流または直流のいずれでも作動できるフラットパネルガス放電装置を提供するものである。この表示装置は透明な基板上に配設した第１組の導体と、この導体と離間して交叉する第２組の導体とを備えている。第２組の導体が第１組の導体と交叉する各位置に交叉点のアレイが形成される。この気体はこの交叉点の空間に導入されており、最小パッシェン放電電圧がここに印加されたとき、発光放電を起こす。本発明の重要な特徴は、空気を作動気体として用い、製造費用及び製造の複雑さを少なくすることである。スパッタリングしない既知の導体から陰極材料を選ぶことによってパネルの寿命を長く保つことができる。好適な実施例においては、表示装置は基板の一側に形成される。また一つの実施例では導体の組の少なくとも一つの交叉点の夫々にアパーチャを設けて放電を見やすくしている。本発明のこれらその他の目的、特徴および利点については寸法不同の添付図面に照合してある好適な実施例に基づいて説明する。図１はパッシェンの法則を説明するための図、図２は本発明の一実施例によって構成したフラットパネル表示装置の一部の上端正面図、図３は図２の３−３線に沿う断面図、図3aは図２の実施例の改造品を示す図３の部分図、図４は図２の実施例に基づいて形成されたフラットパネル表示装置の部分断面図、図4aは図４のフラットパネル表示装置の別型構造の部分断面図、図５は処理の後段階における図４の構造である。図６は本発明の第２実施例に基づいて構成したフラットパネル表示装置の部分斜視図、図７は本発明に基づくフラットパネル表示装置の第３実施例の部分断面図、図８は本発明によるフラットパネル表示装置の第４実施例の部分断面図であり、図９は高速作動用金属被覆側壁を示す図８の実施例の改造品である。図10は本発明のフラットパネル表示装置を組み込んだビデオ表示装置のブロック図である。好適な実施例の詳細な説明パッシェンの法則によれば、どの気体にも特定の圧力−距離（“pd”）積に関連した特性的最小放電電圧Ｖmim（図１参照）がある。pd積のすべての他の値では放電電圧はこの最小値より上である。曲線Ａ，ＢまたはＣの下側の領域では、気体は火花を出さず初期放電は生じないが、現存の放電はこの領域の電圧で保持できる。超小型電子制御回路との相互接続を容易にするためには、ガス放電表示装置を最小パッシェン放電電圧またはその付近で作動させるように設計することが一般に望ましい。概要および緒言のために、本発明の一実施例に基づいて形成されたフラットパネル表示装置10の一部を図２，３に示す。製作された構造体10は絶縁基板14上ｙ方向行に配設された一組の導体12と、この第１組と交叉して交叉点18を規則的に配列させるｘ方向列に配設された第２組の導体16とを備えている。基板14は例えは地図のように可撓的に巻くことができる表示装置が所望な適用性を有するように、その上に導体を形成する略平面になった可撓材である。これらの交叉点18の夫々によって画定される、少なくとも空間20に封入されている気体は、上述したパッシェンの法則に基づいた適当な電圧を印加するときプラズマ化される。本発明によれば、同じ電圧信号でどの交叉点でもグロー放電を誘起できるように、交叉点18では導体12、16において所定の均一な間隔が保たれている。これは一般的には導体12、16間から犠牲層をエッチングすることによって形成される、ここに記載されたエアブリッジで有利に行える。犠牲層によって表示装置を構成する交叉点の全アレイの各交叉点 18の局部厚さが調整される。本発明のフラットパネル表示装置には先行技術から逸脱して単一基板上で交叉導線を相互の離間関係位置を調節できるように位置付けるためにエアブリッジ構造（例えば、図３，3a，および６〜９参照）が用いられている。導電層12、16にできる限り影響を及ぼさない手段でエッチングされ得る犠牲層28を用いることにより、それらの間にガスブリッジまたはエアブリッジを形成することができる。エアブリッジによって交叉導線をミクロン範囲に離間して、従来知られなかった例えば大気圧といった気体圧レベルを表示パネルで用いることができるようになる。空間20に封入する気体の種類と導体の間隔とはパネルを封止するときの気体の圧力に影響する。犠牲層を用い、導体12、16の間隔を局部で調整することによって、現在市場で優位にある液晶型パネルと比較して大きい表示パネルの形成を有利にできる。この犠牲層により、１フート対角画面と同じ精度で対角線10フィートのパネルを作ることができる。本発明のパネルのエアブリッジでは空間20に空気またはその他の気体が入っていてもよい。この空間20は一般に少なくとも２、３ミクロンの厚さを有するので、この空間にエレクトロルミネッセント粒子及びアルコールのスラリーが充填されて交叉導体が通電されるときに、表示パネルがエレクトロルミネッセント物質を発光させる。本技術に堪能な人にはわかるように、導体12，16またはその上の被膜が親水性を有すると毛管作用が容易になる。別に処理をしなければ、MgＯ及びZrＯ₂のようなガラスはすべて親水性である。別法としては、この空間20に液晶物質を充填して均一な液晶表示パネル構造とすることもできる。例示しやすくするため、また好適な形状として、導体12，16は他の形状も可能であるが導電体の線形リボンとして示した。この形状により、通常動作のようにそれの列及び行のアドレスによって外部回路から各交叉点18をアドレス指定することができるようになる。導体12が陰極として働き、導体16が陽極として働くように、夫々が電子回路によって外部で構成されていると想定すると、討論だけの目的には便利である。陰極材料は一般にスパッタリングを通さない導電体を選ぶと良く、ジルコニウムが好ましく、酸化スズ及び酸化インジウム・スズ（ITO）のような酸化スズの誘導体とするとさらに好ましい。ここで用いるような酸化スズの誘導体とは、３以上の元素を含む化合物は勿論、１つの元素にスズ及び酸素を加えた少なくとも一群の３元化合物に渡るものとされている。酸化スズ及びいくらかのその誘導体の長所は透明であることである。陽極物質も導電体でつくられており、ニッケルのようにモノ酸化可能なものが好ましい。導体12は表面14a に垂直方向に、厚さが約1.2ミクロンを有し、導体16は少なくとも11ミクロンの厚さを有することが好ましい。導体16は実質的に厚い輪郭を有しており、寸法安定性を賦与し、自己支持している。これについては表示装置10の製造法の論述で説明する。導体12、16は表示装置10の製造を容易にし長寿命を得やすくするために導電体の層を積むことが好ましい。本発明の明らかなる目的に基づくと、導体12と16の間の空間20がミクロン範囲で精密に寸法取りされているので、気体を略大気圧で充填してもその最小パッシェン放電電圧またはその付近でプラズマ化され得る。気体分解の結果生じたプラズマは、特定の交叉点18においてで可視または紫外放電を放つ。この特定の交叉点18は、適当な支援回路及び他の交叉点18と共にビデオ表示装置を構成している。ビデオ表示装置とは、現在吉の手段または後世に開発される手段によって送信、放送、ケーブル放送、デジタル若しくは孔記憶装置から検索、またはコンピュータ発生できるような静止画像、移動画像または順次の画像、を表示する表示装置のことである。別法として、液晶表示装置のバックライティングのようにフラットパネルプラズマランプの適用としては、通常のスイッチを用いてすべての交叉点18を同時に（またはそうでなく）電源入切することがある。表示装置10では表面14aにキャッピング層22を形成して裏当することにより、水分や異物粒子を密封排除している。充填された気体が略大気圧である場合は、ふた付きパネルの内側及び外側の圧力は均衡する。表示装置の輝度を増加させ、また紫外線放射を可視スペクトルに変換するためには、発光材料層を基板14（図３）と導体の一つに付着させるとよい（図3a、７、８および９）。表示装置10に形成される画素の密度はハイビジョン（HDTV）表示装置の線密度に匹敵する。表示装置10の解像度はｘ方向における導体12の幅とｙ方向における導体16の幅に直接関係付けられる。これは導体12、16の幅が広くなると単位面積当りの交叉点18の総数が少なくなるからである。しかし、電流は交叉点の面積に比例するので導体の幅を広くすることによって、より明るい画像が得られる。そこで技術者は応用設計規準に基づいて解像度と明るさのバランスをとらねばならない。例えば、 HDTVにおけるように、1250本の水平解像度を得るためには、導体の中心間間隔を画面１インチ当り約20ミクロンとすることが必要である。従って交叉点18の断面積即ち明るさに上限が課せられることは勿論である。それ故、16×９インチ画面には、このレベルの解像度で180ミクロンの中心−中心間隔をとることを必要とするが、技術者は導体12，16の幅を狭くする。それは、ここを通して放射線を見ることができる媒体14をより露出させることにより、交叉点18からの放射線を見易くするためである（所要の中心−中心間隔を保ちながら）。そこで例えば、導体12，16は幅70ミクロンに形成し、そこから交叉点18からの放射線を見ることのできる露出基板を110ミクロン残す。この導体幅はほぼ人間の髪の毛の幅に相当し、ほとんど見えない。図３の断面図に示すように、一連の穴26を導体12にエッチングして基板14の表面14aを露出させている。穴26は直径が導体12の幅より少し小さいことが好ましい。表示装置10の交叉点18の夫々で放出される光を直接穴26から見ることができ、導体16の反射支持体面の前で放電を見るための直線通路が形成され、画像の全体の明るさが増す。その結果できる「中空」の管状陰極構造体のためにさらにいくつかの利点が得られる。交叉点18で初期に放電が起こると穴26の壁に負の電荷が蓄積し、その陰、陽極対のその後の放電がより低い電圧で生じるようになる。このため、中空陰極構造体は、板状陰極よりも電子発生源として一層効率が良くなる。これは壁電位の貯留の結果で、短時間「記憶」効果がある。それ故、微小中空陰極を一つの電極、板状構造体を他のものとして用いることにより、近く放電されていない隣接した画素と比較して放電電圧が非対称になる。さらに、蓄積された負の電荷が穴26の壁から他の電子を追い出し、中空陰極の中央のプラズマが一層高密度で、より高圧になって、より低電圧で電子を励起できるようになる。表示装置10は直流、交流のいずれでも作動させる可能であるが、交流の方が画像がより明るくなるので作動の態様が好ましい。これは放電した直後の交叉点18 ではその交叉点の電極の絶縁層に電荷が暫時保持されるからである。この保持された電荷は、記憶セルのようにその後印加された電圧と合わさってより低い電圧でさらに放電を維持するかまたはトリガする。さらに電圧が反転するたびに画素が放電するので走査時間より長時間に渡って発光する。導体12，16には対向面に絶縁層12c,16aを備えており、導体を静電結合して交流作動させる。絶縁層が少なくとも一つあると導体−電極のアーキングまたはスパッタリングのための放電路が導体間に形成されない。これはパルス励起源で交流作動する場合に顕著である。直流作動の場合は絶縁層12c,16aが空間20に入り込まない場合に簡単な構造とすることができる。本技術に堪能な人にはわかるように、交流の場合は導体12，16に印加される電圧は空間20の電圧、すなわち気体放電範囲の電圧と全く同じではない。交流作動用の表示パネル構造体には相対的に厚さコンデンサ（約13ミクロン）とこれに直列接続されたに薄いコンデンサ（約2000オングストローム）とが介在する空間20 の両側に絶縁層12c,16aがある。これらの薄い絶縁層では誘電恒数が違うのは別として、キャパシタンスが有意に大きいが、この電圧降下は有意に小さい。従って、絶縁層12c,16aを備える交流パネル構造体に対しては、パネル10の交叉点18 で気体放電を開始するためには、最小パッシェン電圧よりもわずかに大きい電圧を印加せねばならない。これらの絶縁層のない直流パネル構造体では、最小パッシェル電圧またはその付近で気体放電を開始できる。図６、７、８および９は本発明の他の構造体を例示している。これらの構造体の夫々は本発明によるフラットパネル設計、すなわち、作動気体の最小パッシェン電圧の付近の電圧を印加するときプラズマ表示をなす単一基板に形成したフラットパネル表示装置を例示している。作動気体とは空間20に充填した特定気体のことである。構造体の特定の細目に関する限り、これらの実施例は他の点では図２，３に例示した実施例と異なっている。この細目は前記の考案の各種の変形、潤色の適例であり、それらに限定するものではない。しかし、これらの細目には一実施例が特定の応用により望ましくなる利点があるが、下記の方法との関連で本技術に普通の技量のある人がこれらの変形をして前記の考案物を造り用いることができるために適当なようにこれらの変形について詳細に説明する。本発明のフラットスクリーン表示装置10の製造方法について説明する。図４は基板14の表面14a上の第１組の導体12を断面で示す。基板14は絶縁材料であることが好ましく、透明であるのでここを通してビデオ画像が見える。基板 14はガラスまたは高温用プラスチックで形成されると良く、その上に導体を形成するために表面が略平面である可撓性材料とする。第１組の導体12は薄膜製造の技術で通常行われるように、表面14aの略全面に導電物質を堆積させてからこれにマスクを形成しエッチングして導体12を形成する。一つの好適な実施例において、導体12は材料の数層より成るものである。第１層12aは基板14に確実に接着するように表面14a上に堆積させる。この層は厚さ約 2500オングストロームのジルコニウムであることが好ましく、次工程のためのはんだ付けまたはエレクトロフォーミングできる素地となる第２の非酸化層12bの付着により形成される。白金は不可的な層をはんだ付けまたはエレクトロフォーミングするための素地となるので、第２層として用いるのに適当な非酸化物質であるが、ニッケルがより安価で同様な特性を有するので代替品として好まれる。この第２層 12bは厚さ約１ミクロンである。別法として、層12a，12bを単一層12a′として形成し（図4a）表示装置10を形成するその後のステップは図４とほぼ同じとすることができる。酸化インジウム・スズは可視、紫外スペクトルともに対して透明であることが知られており、層 12a′に好適な材料である。このことはプラズマ放電を導体12自身を通して見るために有利である。酸化スズの導電層を付着させた適当な透明基板がオハイオ州トレドのリビイオウエンスフォードからTECガラスの商品名で市販されている。交流操作の場合には、導体12は対向する第２組の導体16から絶縁され、そしてこれに静電結合されており、第２組の導体16は下側の導電材料に最上層12cとして絶縁シートを堆積させることにより導体12を交叉させその上を覆うように付着させている。これらの層も導体がプラズマエッチングを受けないようにする。ジルコニウムのような金属シートを層12cとして付着させ、後述するように酸化されて厚さ2000オングストロームの絶縁層を形成することが好ましい。直流操作の場合には、層12cは同様に形成させるが、これは酸化されず、むしろジルコニウムのようなスパッタ不可能な導電物質のままである。同じく好適な材料として、実質的に純粋な酸化マグネシウム（MgＯ）があげられる。酸化マグネシウムは常態で絶縁性を有利、上述した酸化工程を必要としない。また、MgＯは可視および紫外スペクトル（.22ないし8.0μm範囲）で酸化ジルコニウムと比較して透明性にすぐれているが、ZrＯ₂の方が耐久性が大きい。レスラーとハフマン，固体の光学的常数の必携書II 926,923,924頁，アカデミックプレス（1992）を参照。しかし、MgＯは望まれれば酸化できるジルコニウムと違い、これがあると直流操作ができなくなるためにジルコニウムと同程度だけしか好まれない。層12a、12b、12cを蒸着させた後、通常の方法でこれらにマスクを付けエッチングして相互に間隔を置いてなるべく平行、線形に１組の導体12を形成し、基板 14の表面14aをそれらの間に露出させる。中空陰極構造体の場合は、穴26は導体1 2を形成するのと同じエッチングステップで形成される。但しマスクは適当なものを用いる。中空陰極の穴26の壁をスパッタリングから防護するために、エッチングの後に層12cの材料を被覆または選択的蒸着を行って内張りする。エッチングはプラズマエッチングまたは化学エッチングとする。図４に示すように、導体12は図の平面内でｙ方向に延在している。導体12のｘ方向の幅（と図５で導体16のｙ方向の幅）は交叉点18の面積に直接関係がある。上述したように明るさと解像度とに関わる設計規準が競合するので、技術者は応用規準に基づいてバランスをとった導体12（及び16）をエッチングするためのマスクを設計しなければならない。第１組の導体12を形成した後、導体12を包むように犠牲スペーサ層28を蒸着させる。層28は選択的に蒸着または除去して図４に示す構造体を形成する。スペーサ28に用いる材料の種類は導体層12、16にできるだけ影響を与えない手段でエッチングできる材料を選ぶことが好ましく、銅がよい。さて図５に示すように、まず導電物質16が表面14aとそれを包む導体12のほぼ全面に渡って蒸着され、その後通常のプラズマエッチング法または化学的エッチング法によって導体のリボンを形成する。導体16は導体12のように数層から成るものがよく、第１、第２層は導体12のものと同じにする。すなわち、第１層16aは厚さ約2500オングストロームのジルコニウムまたは厚さ約2000オングストロームのMgＯのいずれかを表面14a及びスペーサ層28上に蒸着したものとして基板14への接着を確実にすることが好ましく、第２層16bは、１ミクロンシートのニッケルではんだ付けでき、またエレクトロフォーミングできる素地である。比較的厚め（10ミクロン）の層16cは、ニッケルか金のように非酸化型で、はんだ付けでき、またできればエレクトロフォーミングできる導電物質であり、導電性リボンの形で素地層16b上にエレクトロフォーミングされる。層16cはその後のエッチング過程に堪える厚さとする。エレクトロフォーミング以前にパターンをとり現像したポジの感光性レジスト層（図示せず）を素地層16b上に形成してエレクトロフォーミングプロセス用のパターンを画定しておく。エレクトロフォーミングは露出面でのみ行われる。レジスト、素地層16bおよび恐らく若干の接着層16aを通常の方法でエッチング除去し、ｙ方向に相互に離間して第２組の導体16を後に残してそれらの間に犠牲層28と表面14 aとの交互の領域を露出させる（図示せず）。第２組の導体は導体12と交叉して交叉点18アレイをつくらねばならない。これらの二組12、16は表面に垂直な方向に犠牲層28の高さだけ分離されている。犠牲スペーサ層28は導体16を形成した後、導体層12、16にできるだけ影響の少ない手段で通常の方法で選択的にエッチング除去される。層28が銅の場合は、硝酸鉄化学エッチにより各層28は包まれた導体から選択的にエッチングされる。この選択的エッチにより、導体12、16間から層28を除去して夫々の交叉点領域18でエアブリッジ構造体を形成し、すべての他の位置で導体12が露出される。ｘ方向の導体16はｙ方向導体12の両側で表面14aに略垂直に延在するポスト様の延長部により基板面14a上で支持されている。このエッチの結果図２の構造ができる。交叉点領域18によって図３に示すように犠牲層28の厚さに等しい高さの空間のアレイすなわち導体12，16の間のエアギャップ20のアレイが画定される。所定の交叉点18に位置付けられた導体12、16の夫々の部分に電圧が印加されて発光気体放電を誘起させる電極となる。このエアブリッジにはキャッピング層22の下に空気またはその他の気体を封入してあることは言うまでもない。また別法としてこのエアブリッジにエレクトロルミネッセント物質が封入されてあっても良い。この加工段階で、層12c，16aが金属である場合は、交流操作の際に酸化されて対称的な対向する離間した絶縁層となる。絶縁物は交叉点18で電極を短絡させないようにし、また静電結合する。好適な実施例においては図３に示すように、ジルコニウム層12c、16aを酸素を導入した炉で350℃で５ないし８時間酸化して厚さ2000オングストロームの酸化ジルコニウムしている。この酸化物の出発物質は厚さ約1000オングストロームであり、酸化の正味の効果として2000オングストロームの無視できる程度の空間20に侵入することになる。もちろんパネルを直流操作に用いる場合、または層12c，16aがMgＯのような常態で絶縁性材料である場合には高温酸化工程は省略される。本技術に堪能な人が熟知のように、この最終高温工程が行われなければ、パネルのよじれ及び位置合わせはずれの根源がなくなる。図３の好適な実施例において、空間20には略大気圧の空気が封入されていても良く、適当な電圧が空間20越しに印加されたとき、導体12、16の交叉点18で空気が発光放電する。この場合、この圧力で最小パッシェン放電電圧またはその付近で気体放電を確実に起こさせるには空間20の高さを10ないし25ミクロン、できれば13ミクロンとするとよい。１気圧すなわち763mmHgで電極が13ミクロン離れている場合は、pdは.99mmHgcm で、これは空気のＶminに相当近い。電極板が少し遠く離れるとpd積が増し、図１の曲線Ａ沿いに右方へずれるようになる。それでもこの場合は放電電圧が数10 0ボルトの範囲で事実上一定であるので、放電電圧に及ぼす影響はゆるやかであり表示装置の作動に影響はない。これにより以下に示すように、パネル構造を通常の超小型電子回路とインターフェースさせやすい利点がある。大気圧以上で作動させるとプラズマ放電速度が増加しこれに相応して持続頻度数が増加し、それ故表示明るさが増す。これはパッシェンの法則に基づくので、それによると、プラズマ放電において圧力ｐと放電ギャップサイズｄの積を一定にすると、圧力に比例して経時プロセスの速度が増す。表示装置10を本発明に従って大気圧で作動させると、ギャップサイズを例えば0.003″〜0.005″（75〜15 0ミクロン）以上要する従来の低圧（部分真空）法から0.001″〜0.002″（25〜5 0ミクロン）以下へと有意に低減できる。明るさは他の方法、例えば、作動気体が空気である場合には炭化水素を空気に加えてキャッピング層22の下に密封して「白色光」気体を構成し、これを濾光して各画素で原色またはその組合せとすることができる。本発明のプラズマ表示装置で色画素三つ組をインチ当り200とするには、各画素の幅は約0.0016″（41ミクロン）にすぎない。「白色画素」すなわち「三色組」は三つの画素の１群で、その夫々が制御して異なった原色（赤，緑または青）を発生し、合わさって働いて全色スペクトルを出す。これは少なくとも生産量ではシルクスクリーン過程の能力を越えそうであるが、どんな標準の光学的石版印刷術でもできる。重要なことは、本発明による画素の幅により、従来の活性マトリックスフラットパネル表示装置でなされるような夫々３ミクロンチャネル幅のトランジスタのアレイを造る場合の難点が避けられるということである。それでも、50インチ 5000×9000画素表示装置にはそのような画素密度は想像されるものである。電極の間隔が狭いとピンホール短絡を起こすことがある。この現象は導体16のような金属の層がスペーサ28のような絶縁材料の薄膜上に蒸着され、この薄膜の小さい穴を透過してこの薄膜の下にあるどんなものにでも電機的接触するときに起こる。下にある物質が本構造体における導体12のような導体であれば、この結果「ピンホール」短絡として知られる直接短絡となる。その特許開示を参考文献として掲げているレップセルタの米国特許3,461,524に開示されているようなピンホール短絡をなくす方法は既知である。略大気圧で空気の最小パッシェン放電電圧またはその付近で表示装置10を有利に作動させることができる電極間隔は、 13ミクロンであり、これはピンホール短絡の起こる度数を低減するために十分大である。所定の許容度で導体12、16を離間させるために高さが調節された犠牲層28を用いる本発明の一方側構造体によって、空間20の大きさが有利に精密調整される。超小型電子技術の分野に堪能な人の認知する他の方法もあるので、上述のものは二つの導体を離間させる一つの好適な仕方にすぎないことはもちろんである。空間20の高さを前選定するためには、導体12，16に十分強剛なものを選ぶことにより、犠牲スペーサ層28をエッチング除去した後できるエアブリッジが形状安定性を保持するようにすると有利である。できる導体12，16間に形成される空間20はもちろん誘電体として作用する。オプションであるがなお役立つ特徴として、表示装置10を外部回路に電気的に接続するために導体12，16の少なくとも一つの縁沿いに結合タブ29を形成することができる。明るさを増すために、導体12の下の基板上に燐光画面24を蒸着することができる（図３）。蛍光体画面24が紫外線光子を吸収するが、これは放射の終了後続いてある期間画面24を照明する。これはLSD表示装置をバックライトとして用いる場合には、フラットパネルプラズマランプには好適である。別法として、化学蒸着法によって既に形成された表示装置10の導体12，16上とこれらの間に発光物質を蒸着してもよい。この方法では、上側の組の導体すなわち導体16が蛍光体の蒸着の一部マスクとして働き、蛍光体被膜に不連続部ができる。これらの不連続部が一つの画素から放射される光が蛍光体画面を通って隣接画素の方へ「ブリーディング」言い換えれば「クローリング」することを防止する。導体16によって形成される高反射性の「エアブリッジ」は、画面24があってもなくても表示装置10の明るさに寄与するが、蛍光体層24′を導体16自身の上に、すなわち透明層16aの上に形成してもよい（図3aを参照）。この代替実施例では白色蛍光体をプラズマガスのすぐ後ろに蒸着し、プラズマグローが消えた後も白色蛍光体は極めて効率的な放射光源として働く。結合タブ29を除く全構造体はキャッピング層22によってふたがされ水分と異物粒子を封じ出すことができる。キャッピング層22は締具、接着または熱処理によるなど通常の手段によって基板14に接続することができる。キャッピング層22は基板14に気密封止して周囲の湿気が導体12，16上に凝縮しないようにし、また紫外光を発生させる気体を逃がさないようにするものである。一つの好適な実施例においては、大気圧の空気をキャッピング層の下と交叉導体12，16の各交叉点18 の空間20中に封入している。これによりふたをしたパネルの間外側の圧力がつり合うことになる。部分真空とされる表示装置と違い、構造体に圧力がかからずまた、爆縮の危険もない。これでプラスチックを初め廉価な材料を用いて比較的大きい構造体を製造できるようになる。別法としてキャッピング層22で気体を大気圧よりも大きい圧力で封止してもよい。これは空気以外の気体、例えば、ネオンまたはネオンにアルゴン0.1％を加えたものを用いると有利である。図１において、曲線Ｂ、Ｃでは曲線Ａよりも比較的に高いpd積で最小パッシェン放電電圧となる。本技術に堪能な人には、図１に示すもののような空気以外のある気体のための導体間の所定距離を一定にする場合は、表示装置10に用いられる特定の気体をその気体のパッシェン曲線pd積によって決まる最小放電電圧に相当する超大気圧で封止すればよいことがすぐわかる。導体12、16の間隔が狭いと解像度と効率が高くなるのでギャップサイズｄを増すのは一般に好ましくない。従って、空間20に入れた気体の圧力を大気圧または超大気圧のレベルに上げるとよい。超大気圧を用いる場合は、キャッピング層22は基板面14aに加えて導電層16cにも接着せしめて気体圧力によりキャッピング層に力が加わり基板14からキャッピング層がそり離れないようにすると良い。21の接着は各エアブリッジの上端、各交叉点18の上その他どこで行ってもよい（図3a参照）。キャッピング層22は暗色か黒色の材料が好ましく、これは表示装置10を透明基板14を通して見るために対照的な背景とするためである。キャッピング層22は金属層を備え、後方へ向けられた光を再び基板14を通して前方へ反射させるようにする。金属層を使うと構造体内に発生した熱を効率的に放出できる。逆に基板14 が不透明であれば、表示装置は適当に透明なキャッピング層22越しに見ることができる。図６に示す本発明の第２実施例においては、大きいフラットパネル表示装置30 を透明パネル32の一方の側に形成している。パネル32はガラス、ガラスファイバ、または高温用プラスチックのような強剛な透明材料でできていることが好ましい。パネル32には一方の側に所定深さ36の矩形スロット34を形成する。スロット 34にはなるべくスロット34の形状に合うように選んだ断面の第１組電線38を収納する。電線38はできれば両端で通常の手段によって緊張させて保持する。スロット34の上端に渡って第１組電線38に対してある角度で第２組電線40を配設して交叉点42のアレイを形成する。電線38をスロット34間に設け、電線40をそれに渡って伸張させるとき、電線38、40の対向面が約13ミクロン離れており、少なくとも略大気圧の気体が最小パッシェン電圧かまたはその付近で発光放電をなすように深さ36を選ぶ。電線38、40は交流の場合は絶縁層で被覆して電線を静電結合するとよい。例えば電線38、40を通常の塗装電線とする。表示装置構造体30はキャッピング層44でふたして粉塵や他の異物粒子が入らないようにする。表示装置30は少なくとも略大気圧で作動するので、有意な爆縮力が構造体にかからない。これにより、機械的受金物を使うことなく、また爆縮の虞なしに比較的廉価な材料を用いることができる。図７は本発明の第３実施例を示すが、これは一つが夫々の原色（赤，緑，青）に相当する三つの画素に渡る１つのエアブリッジ50を設けることによってカラー操作するよう構成されている。次の説明は表示盤の交流操作についての説明である。直流操作が望まれる場合には、後述するの層のあるもの、例えば導体12a′ を図２、３で説明したものと取り替える。この図では、導電物質12a′、これは酸化インジウムスズが好ましいが、これを基板14上でストライプ状にパターン付けられる。図７に示す３つのストライプは一つの白色画素すなわち三色組を構成している。それらは例えば、ｘ、ｙ方向に延在する、より大きいアレイの一つの列および三つの行を占有する。次いで通常の方法で基板に被覆し（例えばアルコールスラリーによる）、パターン付けし（例えばホトレジストで）、エッチングして導電ストライプ12a′上に赤52、緑54、青56の蛍光体ストライプを積層する。層12a′、52、54、56の夫々は厚さ１ミクロン程度であるが、層52、54、56は厚さ２ミクロンまではよい。層12a′は蛍光体層52 、54、56の形成以前に蒸着するよう述べているが、この方法はそう限定したものではない。本技術に精通した人が認識するように、層52、54、56は導体12a′を形成する前に蒸着してパターン付けすることができる。絶縁層58、好ましくは酸化マグネシウムを例えばスプレーまたは蒸着によってどこにでも堆積させ、次いで好ましくは銅の犠牲層28（図示せず）を蒸着させて、下記の後続ステップで蒸着される第２組導体と離間させる。この犠牲層をエッチング除去後、各画素に渡って空間すなわちエアギャップ60が最終的に出来る。加えて犠牲層58は次工程に移る前に平坦化される。次いでこの犠牲層28を絶縁層 62、好ましくはMgＯので絶縁層58と同様にして被覆する。導体16とエアブリッジ50を形成するため、例えば写真製版法を用いて、で絶縁層62、58および犠牲層58を通って下へ基板14まで穴64のアレイをエッチングする。図示のように、好ましくは幅0.002″または50ミクロンの穴64を画素の各三色組の間にエッチングする。これで本実施例のパネル構造に必要な支柱の数が三分の一に減る。それから、2000オングストローム程度にできるめっき素地、例えばニッケルをどこにでも蒸着させる（図示せず）。次いで好ましくはニッケルの導体16とエアブリッジ50を構成する厚い導電層をめっき素地上にエレクトロフォームできるように基板14の上面14aにパターン付けする。エレクトロフォーミングは柱66が穴64に入りエアブリッジ50のために十分に構造支持できるまで続ける。本技術に精通する人が認識しているように、各エアブリッジ50は梁のようなものであり、その剛性は厚さの３乗で変わるので、この関係に基づいて各エアブリッジ50の径間を柱66が支えるまでエレクトロフォーミングを続ける。どのパネル70の各エアブリッジ50も特定の径間は導体 12a′の厚さとパネルの所望解像度によって変わる。別法として、各エレクトロフォーミング工程に適当なマスクを用いてエアブリッジをエレクトロフォームする以前に柱をエレクトロフォームすることができる。どちらの場合も、エアブリッジは少なくとも厚さ11ミクロンとすることが好ましく、梁を支持するのに十分な厚さとすればさらによい。エアブリッジ50の厚さの上限は解像度やレジストマスクの厚さのような他のファクタによって決まる。例えば、電型材がレジストマスクの上端をずっと越える厚さに被覆された場合は、この材料がその上に急に広く張り出して隣接列の画素の方へ横に広がるので解像度に悪影響がある。エアブリッジ50が形成された後、めっき素地を例えばプラズマエッチで除去してパネルがめっき素地によって短絡されないようにする。最後に、犠牲層をエッチングし去って図２、３の実施例におけるようにプラズマグローが起こる空間60 を残す。グローは領域68（人為的な空間の分離の例としてファントムに示す）も自由に照明できるが、この領域では導体12a′と各エアブリッジ50との間の適路長は最小pdではなく領域68ではプラズマ放電は発生しない。柱66もまたグローが一つの三色組から隣接三色組へ伸びて行かないようにされる。パネル70は高温での工程を行うことなく形成できる利点がある。このことはこの方法でなければ別法では得られない寸法安定度を得ることができる。これはパネル70の付加的な利点と見られる。図８は白色蛍光体78と組み合った色フィルタ72、74、76を用いて表示パネル80 とするもう一つの実施例を示す。表示パネル80を造る方法は２つの点を除いて図７のパネル70について上述したものと同じである。第１は赤72、緑74、青76のカラーフィルタをストライプ状（カラー蛍光体52、54、56の代わりに）にパターン取りして白色画素すなわち三色組を形成する。フィルタ72，74，76の厚さは約１ミクロンである。また導体層12a′はカラーフィルタの上側かまたは下側に蒸着しパターン取りされる。第２に穴64をエッチングする前に白色蛍光体の層78を第２絶縁層62の上に蒸着させる。白色蛍光層78は光を横に透過させないように、また層78内にトラップさせないようにする結晶粒組織に形成される利点がある。穴64をエッチングすると、柱66が蒸着され導体16とエアブリッジ50とを電気的に接続させることができる。なお各エアブリッジ50は、適当な電圧が印加されたとき、空間60内でグロー放電する交叉点18をつくり、交叉して配設された導体12a′の１つに連続するｘ方向またはｙ方向の導体の一部であることがわかる。作動中に白色蛍光体78は、それぞれの空間60の紫外放電の波長を白色光に変える働きをする。空間60のプラズマによって発生される紫外光は白色蛍光体78（および他の場所）中へ進んで白色蛍光体に衝合するエアブリッジ50から反射することにより基板14を通って戻り出る。この光がカラーフィルタ72、74、76の１つ以上を通して見え調整されて金色出力スペクトルとなる。パネル80の作動について一般に図10の関連で説明する際に、例えば赤72と緑74のカラーフィルタおよび導体16の一つと連携した導体12a′に適当な電圧を印加した場合に、パネル80は原色の重ね合わせの原理によってその画素三色組の交叉点18で黄色光を生ずる。ヘヒト，オプティックス第２版115頁を参照。なお本発明の範囲内と考えられるレイアウトや構成には他のものもあるので、表示盤のこれと他の実施例に関連して述べた画素のレイアウトは例示にすぎないものである。図９には図８のパネル構造の変形を示しており、ここでは基板14′にみぞ切り面14a′を設けている。この図は寸法不同であるが、図８よりはフラットパネル表示装置の鉛直水平の相対寸法がよく近似しているので、白色画素すなわち三色組の一つの画素だけを示す。みぞ切り面14a′には多数のスロット82があり、その夫々は付加さ２ミクロンが好ましい。スロット82は、例えば液体ホーニング処理などで形成できる。液体ホーニング処理は研磨剤スラリーを含む水ジェットを基板14のような目標に突き当たらせるよう方向付けて目標のマスクしていない部分を減磨して例えばスロット82を切る工程である。カラーフィルタ72、74、76と導体12a′がスロットの付加さに略等しい積層厚さとなるように選ばれたときは、平面構造をとるようにこれらのフィルタと導線とをスロット82に収納する。スロット82の側壁は好ましくはニッケルであり、複合スパッタリング法が用いられるように金属化すると良い。レプセルタ等の米国特許4,343,082を参照。金属化された側壁82は電圧信号のような信号すなわちパルスを導体12a′の長手沿いに搬送する自己調整伝送線として働く。金属化側壁84はニッケルが選ばれ、導体12a′が酸化インジウムスズであるとき、この側壁は信号のための１ミクロン厚さのITO層と比較して低抵抗通路となり、その側壁は平方当り約10ないし20オームのシート抵抗を有する。その結果、このパネル構造体90は連携した高速回路を連携し、100MHzといった比較的高い周波数で作動できる。側壁84はガスチャンバ内の基板の上方に配されたスパッタリング電極（図示せず）から金属をスパッタ蒸着することによって基板14′上に形成される。スパッタリング電極はニッケルが、ガスチャンバ内にはアルゴンガスを導入することが好ましい。直流電源Ｖ₁の正端子をスパッタリング電極に接続するとスパッタリング（陰極）電極の表面でプラズマが励起される。同様に無線周波数電源Ｖ₂をキャパシタンスＣを介して基板14′に印加すると（陽極）基板表面のプラズマが励起される。この電源の周波数は通常13.5MHzである。励起プラズマからのイオンは目標であるスパッタリング電極を爆撃して金属イオン、例えばニッケルを遊離させる。スパッタリング電極を基板14′の上方に配すると、スパッタされたイオンは最初は基板14′に向かって垂直に進むが、スパッタされたイオンの若干はプラズマ中のイオンと衝突してスパッタされたイオンが垂直でない配向で基板面へ向かってはね戻されるようになる。電圧Ｖ１，Ｖ２は水平面への正味の到達量（そして成長率）が零になるように通常の方法で調整する。石英様またはガラス様の基板の表面は金属イオンによって減少しないので、基板表面14 a′は原子的に平滑なままである。しかし、基板表面へ跳ね戻ったスパッタされたイオンは側壁沿いにトラップされそこでスロット82の側壁沿いに金属化側壁84 として集められる。これらの金属化側壁は例えばスロット82の深さ以下の適当な厚さの鉛直側壁となり、上述したように電気信号を搬送する伝送線として働く。このプロセスによってスロットと自己整合する金属化側壁84が形成される。図８の実施例の導体12a′とフィルタ72、74、76は金属化側壁が形成される前後にスロット82内でパターン取りして共線形に形成される。カラーフィルタはシルクスクリーンによって蒸着でき、また導体はパターン取り蒸着とエッチングによって形成される。導体とカラーフィルタのどちらを先に蒸着させるかは本発明では重要ではない。また金属化側壁84は導体12a′を全く設けないで第１組の長い導体として働くことができるが、導体12a′は導体16の反対側に均一なキャパシタプレートを設けることになってプラズマが偏平になるので、それらの存在が好ましい。その他の点では図９の構造体90は図８のパネル80に関連して述べた事項と同様に完了させる。パネル70と同じく図８，９のパネル80、90は高温のプロセスステップなしに形成できる。上記の構造に留意してフラットパネル表示装置の作動について図10に照合して次に説明する。図10は本発明の表示装置10，30を内蔵するビデオ表示システム80を例示している。表示するビデオ信号はデジタルメモリチップにフレームごとににデジタルに記憶する。システム80にはアナログまたはデジタルのビデオ信号84を受信してデジタルフォーマットで信号をデジタル化信号88としてバッファ86へ与えるビデオ信号処理手段82を備えている。バッファ手段86はデジタル化信号88の少なくとも一つのビデオフレームを記憶する一時記憶域である。バッファ手段86は通常のランダムアクセスメモリ（RAM）チップまたはその種類のもの（SRAM，DRAMなど）を備えている。各ビデオフレームは、元のビデオ信号の同様の座標に相応する列と行との座標によってアドレス指定可能となる画素のデジタル化アレイに変換される。ビデオ信号処理手段82は信号84を画素のアドレス指定可能アレイに変換して強度情報を各画素のアドレスに割り当てる。バッファ手段86は列と行との座標によって通常のようにアドレス指定可能デジタル化信号88を記憶する。デジタル化信号88は情況、強度および色度レベルの情報である。記憶装置90はバッファ手段86からデジタル化信号88の一ビデオフレームを受信して、次のビデオフレーム88′をバッファ手段86にロードできるようにする。記憶装置90も通常のRAMチップでよい。グレイスケール白黒作動には、画素が「オン」であるか「オフ」であるかを示す情報とともに画素の明るさに関する情報もあるが、これは各画素アドレスには関連付けられていない。この情報はバッファ手段86（および記憶装置90）の１バイト以上のデジタルメモリの形で記憶することができる。用いるメモリの各バイトでは所定画素に対して94とは異なった明るさを記憶することができる。カラー操作では、この技術に精通した人が認識するように、白色画素すなわち三色組を構成する赤、緑、青の画素の夫々が同じ明るさ情報とされる。作動中、表示装置10、30の画素をインターフェース及びアドレす指定の回路92 （“IAC”）によって一時に一列順次にアドレス指定され、すなわち走査される。IAC 92は記憶手段90からデジタル化信号88、高圧電源94から高電圧を受けて、所定ビデオフレーム88の各画素に関連した、情況及び強度の情報に従って交叉点 18、42に高電圧信号を選択的に印加する。例えは大規模または超大規模集積と集積の程度によるが、記憶手段90はバッファ手段86とビデオ信号処理手段82とをともにIAC 92の内部にあっても良いことは言うまでもない。IAC 92は毎秒90回表示装置10、30を走査して人間の目にビデオ信号84に相応する安定したビデオ画像が見られるようにする。記憶装置90からIAC 92によって受けた情況情報によって示されるように、ある画素が「オフ」であるとき、高電圧94は今走査されている交叉点18、42に印加されず、パネルのその位置から光は放射されない。同じくIAC 92から受ける情況情報によって示されるように、画素が「オン」状態であるときは、高電圧94が今走査されている交叉点に印加されて気体放電を誘起し、今の走査サイクルの間表示装置の交叉点を照明する。表示装置10、30でグレイスケール、すなわち明暗の強度を感知するにはIAC 92 はなるべくメガヘルツ領域で所要の毎秒90回の倍数回、表示装置10，30を走査する。強度情報が、同じビデオフレーム88を次に走査する際に、高圧電圧94がもはや印加されなくなったときの所定値に相応するようになるまで、表示装置が走査される都度各画素についての記憶された強度情報が増減または変形される。すなわち、表示装置10、30が1/16秒の間に32回走査されるとき、強度「８」の一つの画素は1/16秒の1/4の間オンになるが、強度「16」のもう一つの画素はその走査時間の1/2の間オンになる。目はそのような急速な閃光に敏感でないので、明るさの範囲は記憶された明るさの程度とプロセッサの速度の範囲とによってだけ制限されるようになる。表示板10、30は比較的高い圧力で作動されるので、プラズマの電子はその拡散長が比較的短く、イオンと再結合して放電を急激に消す。これで高速処理が可能になり、またグレイすなわち作動の「Ｚ」スケールが広くなる。任意の白色画素すなわち三色組からの光の赤、緑、青の相対強度も同様に調整される。表示器10は基板14が透明の場合は、基板14を通してかまたはキャッピング層22 を通してかのいずれかで前面または後面から見ることができることを認識すべきである。さらに表示器10はデジタル化信号の列アドレスを左から右へ取り換えて、パネルの反対側の像が元のビデオ信号と同じ空間位置に現れるようにする手段を備えることにより、同時にではないが両側から見ることができる。コンピュータ援用設計、核磁気共鳴その他特殊応用で必要とされるような三次元像を表示するために、透明な表示器10を数個積み重ねることができる。導体12、16は図示のように導電物質の線形帯片でなくてもよく、交差したシニュソイドまたは正方形若しくは三角形の波パターンなどであってもよい。これは、ビデオ信号を見るためにクロスポイント18のアレイを形成するという必要条件によってのみ限定されるものであることは、本技術に精通する人には判るであろう。上述の説明から本発明はその主旨や本質的な特性から逸脱することなく、他の特定の形で実施できることは明らかである。すなわち、例えば、上述の例では直接見ることができる表示パネルについて説明したが、このパネルは同様に像を半銀被鏡に投影して「ヘッアップ」表示装置にすることもできる。また本発明のフラットパネル構造は写真複写または印刷用のトランスファプレートに潜像を移すために用いた場合は同じく利点があり役に立つ。ここに開示された実施例はそれ故あらゆる点で例示的で制限的ではなく、発明の範囲は付属の請求項に示すが、前述の説明に限定するものではない。

【手続補正書】特許法第１８４条の８【提出日】１９９５年６月１４日【補正内容】ない。また金属化側壁84は導体12a′を全く設けないで第１組の長い導体として働くことができるが、導体12a′は導体16の反対側に均一なキャパシタプレートを設けることになってプラズマが偏平になるので、それらの存在が好ましい。その他の点では図９の構造体90は図８のパネル80に関連して述べた事項と同様に完了させる。パネル70と同じく図８，９のパネル80、90は高温のプロセスステップなしに形成できる。上記の構造に留意してフラットパネル表示装置の作動について図10に照合して次に説明する。図10は本発明の表示装置10，30，70，80，90を内蔵するビデオ表示システム10 0を例示している。表示するビデオ信号はデジタルメモリチップにフレームごとににデジタルに記憶する。システム100にはアナログまたはデジタルのビデオ信号104を受信してデジタルフォーマットで信号をデジタル化信号108としてバッファ106へ与えるビデオ信号処理手段102を備えている。バッファ手段106はデジタル化信号108の少なくとも一つのビデオフレームを記憶する一時記憶域である。バッファ手段106は通常のランダムアクセスメモリ（RAM）チップまたはその種類のもの（SRAM，DRAMなど）を備えている。各ビデオフレームは、元のビデオ信号の同様の座標に相応する列と行との座標によってアドレス指定可能となる画素のデジタル化アレイに変換される。ビデオ信号処理手段102は信号104を画素のアドレス指定可能アレイに変換して強度情報を各画素のアドレスに割り当てる。バッファ手段106は列と行との座標によって通常のようにアドレス指定可能デジタル化信号108を記憶する。デジタル化信号108は情況、強度および色度レベルの情報である。記憶装置110はバッファ手段106からデジタル化信号108の一ビデオフレームを受信して、次のビデオフレーム108′をバッファ手段106にロードできるようにする。記憶装置110も通常のRAMチップでよい。グレイスケール白黒作動には、画素が「オン」であるか「オフ」であるかを示す情報とともに画素の明るさに関する情報もあるが、これは各画素アドレスには関連付けられていない。この情報はバッファ手段106（および記憶装置110）の１バイト以上のデジタルメモリの形で記憶することができる。用いるメモリの各バイトでは所定画素に対して114とは異なった明るさを記憶することができる。カラー操作では、この技術に精通した人が認識するように、白色画素すなわち三色組を構成する赤、緑、青の画素の夫々が同じ明るさ情報とされる。作動中、表示装置10、30の画素をインターフェース及びアドレす指定の回路11 2（“IAC”）によって一時に一列順次にアドレス指定され、すなわち走査される。IAC 112は記憶手段110からデジタル化信号108、高圧電源114から高電圧を受けて、所定ビデオフレーム88108の各画素に関連した、情況及び強度の情報に従って交叉点18、42に高電圧信号を選択的に印加する。例えば大規模または超大規模集積と集積の程度によるが、記憶手段110はバッファ手段106とビデオ信号処理手段102とをともにIAC 112の内部にあっても良いことは言うまでもない。IAC 102 は毎秒90回表示装置10、30を走査して人間の目にビデオ信号84に相応する安定したビデオ画像か見られるようにする。記憶装置110からIAC 112によって受けた情況情報によって示されるように、ある画素が「オフ」であるとき、高電圧114は今走査されている交叉点18、42に印加されず、パネルのその位置から光は放射されない。同じくIAC 112から受ける情況情報によって示されるように、画素が「オン」状態であるときは、高電圧11 4が今走査されている交叉点に印加されて気体放電を誘起し、今の走査サイクルの間表示装置の交叉点を照明する。表示装置10、30でグレイスケール、すなわち明暗の強度を感知するにはIAC 11 2はなるべくメガヘルツ領域で所要の毎秒90回の倍数回、表示装置10，30を走査する。強度情報が、同じビデオフレーム108を次に走査する際に、高圧電圧114がもはや印加されなくなったときの所定値に相応するようになるまで、表示装置が走査される都度各画素についての記憶された強度情報が増減または変形される。すなわち、表示装置10、30が1/16秒の間に32回走査されるとき、強度「８」の一つの画素は1/16秒の1/4の間オンになるが、強度「16」のもう一つの画素はその走査時間の1/2の間オンになる。目はそのような急速な閃光に敏感でないので、明るさの範囲は記憶された明るさの程度とプロセッサの速度の範囲とによってだけ制限されるようになる。表示板10、30は比較的高い圧力で作動されるので、プラズマの電子はその拡散長が比較的短く、イオンと再結合して放電を急激に消す。これで高速処理が可能になり、またグレイすなわち作動の「Ｚ」スケールが広くなる。任意の白色画素すなわち三色組からの光の赤、緑、青の相対強度も同様に調整される。表示器10は基板14が透明の場合は、基板14を通してかまたはキャッピング層22 を通してかのいずれかで前面または後面から見ることができることを認識すべきである。さらに表示器10はデジタル化信号の列アドレスを左から右へ取り換えて、パネルの反対側の像が元のビデオ信号と同じ空間位置に現れるようにする手段を備えることにより、同時にではないが両側から見ることかできる。コンピュータ援用設計、核磁気共鳴その他特殊応用で必要とされるような三次元像を表示するために、透明な表示器10を数個積み重ねることができる。導体12、16は図示のように導電物質の線形帯片でなくてもよく、交差したシニュソイドまたは正方形若しくは三角形の波パターンなどであってもよい。これは、ビデオ信号を見るためにクロスポイント18のアレイを形成するという必要条件によってのみ限定されるものであることは、本技術に精通する人には判るであろう。上述の説明から本発明はその主旨や本質的な特性から逸脱することなく、他の特定の形で実施できることは明らかである。すなわち、例えば、上述の例では直接見ることができる表示パネルについて説明したが、このパネルは同様に像を半銀被鏡に投影して「ヘッアップ」表示装置にすることもできる。また本発明のフラットパネル構造は写真複写または印刷用のトランスファプレートに潜像を移すために用いた場合は同じく利点があり役に立つ。ここに開示された実施例はそれ故あらゆる点で例示的で制限的ではなく、発明の範囲は付属の請求項に示すが、前述の説明に限定するものではない。【手続補正書】特許法第１８４条の８【提出日】１９９５年８月９日【補正内容】特許請求の範囲１．平坦表面を有する基板と、前記平坦表面上の第１組の導体と、前記平坦表面上で、前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、前記所定間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の放電空間が画定される第２組の導体と、爆縮力がそれにほとんどかからないような圧力の、前記放電空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ表示構造体。２．前記放電空間の気体が略大気圧である請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。３．パッシェン最小放電電圧以上の電圧を特定交叉点の前記放電空間に印加されたときにのみ前記特定交叉点で発光放電が開始されるように前記所定間隔が選定されている請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。４．前記気体が空気である請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。５．さらに、前記基板に蛍光体被膜を設けてある請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。６．さらに、夫々が前記第１及び第２組の導体の一方と接触関係にある複数の蛍光体帯片を備える請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。７．前記第１及び第２組の導体の少なくとも一方は、前記交叉点の夫々にそこから発光放電を見ることができるアパーチャを備える請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。８．前記第１及び第２組の導体の一方の少なくとも一部に絶縁層を備える請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。９．前記第１及び第２組の夫々の導体の少なくとも一部に絶縁層を備える請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１０．前記第１及び第２組の導体夫々は表面を有し、前記第１組の導体の表面は前記第２組の導体の表面に対向しており、前記絶縁層は少なくとも夫々の交叉点で前記対向面に設けられてある請求項９記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１１．さらに、前記第１及び第２組の導体を気密封止するキャッピング手段を備える請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１２．前記キャッピング手段は前記第２組の導体に接着されてある請求項11記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１３．さらに、赤、緑及び青フィルタを、前記第１及び第２組の導体の一方に接触して設けてある請求項11記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１４．さらに赤、緑及び青蛍光体を、前記第１及び第２組の導体の一方に接触して設けてある請求項11記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１５．背面に、夫々が同形で所定深さｄを有して互いに略平行に設けられた複数のスロットを備える透明パネルと、厚さｔを有し、前記スロット内に設けられた第１組の導体と、前記背面に前記第１組の導体に関して角度をなして設けられ、間隔ｄ−ｔ差で前記第１組に交叉して、前記間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の放電空間が画定される第２組の導体と、前記放電空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ表示構造体。１６．前記放電空間の気体が略大気圧である請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１７．パッシェン最小放電電圧以上の電圧を特定交叉点の前記放電空間に印加されたときにのみ前記特定交叉点で発光放電が開始されるように前記間隔が選定されている請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１８．前記気体が空気である請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。１９．さらに、前記第１及び第２組の導体を気密封止するキャッピング手段を備える請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。２０．さらに、前記背面に蛍光体被膜を設けてある請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。２１．さらに、前記第１及び第２組の導体の少なくとも一方と接触関係にあり、前記第１及び第２組の導体の間に設けた蛍光層を備える請求項１５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。２２．平坦表面を有する基板と、前記平坦表面上の第１組の導体と、前記平坦表面上で、前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、前記所定間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の放電空間が画定される第２組の導体と、爆縮力がそれにほとんどかからないような圧力の、前記放電空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ放電灯。２３．背面に、夫々が同形で所定深さｄを有して互いに略平行に設けられた複数のスロットを備える透明パネルと、厚さｔを有し、前記スロット内に設けられた第１組の導体と、前記背面に前記第１組の導体に関して角度をなして設けられ、間隔ｄ−ｔ差で前記第１組に交叉して、前記間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の放電空間が画定される第２組の導体と、前記放電空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ放電灯。２４．基板の平坦表面上に形成されるフラットパネルプラズマ表示装置の製造方法であって、前記基板上に第１組の導体を形成する過程と、該第１組の導体上にスペーサ手段を蒸着する過程と、前記基板及びスペーサ手段上に、前記第１組の導体に関してある角度をなし、前記スペーサ手段によって分離された交叉点のアレイを画定するように前記第１組の導体と交叉する第２組の導体を形成する過程と、少なくとも交叉点のアレイから前記スペーサ手段を選択的に除去し、プラズマ放電セルのアレイを画定する過程と、を有することを特徴とするフラットパネルブラズマ表示装置の製造方法。２５．前記第１及び第２組の導体の一部を酸化して、絶縁エアブリッジ構造体を形成する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。２６．交叉点で第１及び第２組の導体の一方に穴を形成する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。２７．前記第１及び第２組の夫々を形成する過程であって、導電物質を蒸着する過程と、該導電物質の選定部分をマスクする過程と、前記マスクされた部分をエッチングして、これにより一組の導体を形成する過程と、を有する請求項２４記載の方法。２８．前記蒸着導電物質は、ジルコニウム及びニッケルの薄膜を含む複合層を備えることを特徴とする請求項２７記載の方法。２９．前記第１及び第２組の導体のうち少なくとも一方のための前記蒸着導電物質は、本質的に酸化スズ及びその誘導体から成る群から選ばれたものである請求項２７記載の方法。３０．前記選ばれた導電物質は透明である請求項２９記載の方法。３１．前記エッチング過程は、前記第１及び第２組の導体の一方にエッチング穿設することにより、穴を有する一組の導体を形成する過程を有する請求項２７記載の方法。３２．前記第１組を形成した後及び前記スペーサ手段を蒸着した後ともに、絶縁層を堆積する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。３３．前記絶縁層は酸化マグネシウムである請求項３２記載の方法。３４．前記スペーサ手段を蒸着する過程は、前記第１及び第２組の導体に及ぼす影響が少ない手段を用いてエッチング可能な物質を蒸着する過程を有する請求項２５記載の方法。３５．ピンホール短絡を排除する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３６．前記第１組の導体を形成する以前に、１層の発光物質を前記基板上に蒸着する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３７．前記第２組の導体を形成する過程の以前に１層の発光物質を前記スペーサ手段上に蒸着する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３８．前記スペーサ手段を蒸着した後、及び前記１層の発光物質を蒸着する以前に、絶縁層を蒸着する過程をさらに有する請求項３７記載の方法。３９．夫々が底部及び対向する側壁を有する複数のスロットを前記基板に形成する過程をさらに有し、前記第１の導体が前記基板の前記スロット夫々の内に形成されている請求項２５記載の方法。４０．原色の群から選ばれるカラーフィルタを前記スロット夫々の内に蒸着する過程をさらに有する請求項３９記載の方法。４１．隣接スロットには前記原色の群から選ばれた異なるカラーフィルタを蒸着させている請求項４０記載の方法。４２．前記対向側壁を金属化する過程をさらに有する請求項３９記載の方法。４３．前記金属化側壁はニッケルで金属化されている請求項４２記載の方法。４４．（1）基板の平坦表面上の第１組の導体と、（2）前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、交叉点を画定する特定の導体によってその夫々がアドレス指定可能であるような該交叉点で、自身と前記第１組の導体との間の放電空間が前記所定間隔により画定される第２組の導体と、（3）爆縮力がそれにほとんどかからないような圧力の前記放電空間の気体と、を備える、（a）平面状基板上に形成されるフラットパネルプラズマ表示装置と、（b）ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換し、前記デジタル化画素のアレイに少なくともアドレス及び強度の情報を伝えるビデオ信号処理手段と、（c）前記デジタル化画素のアレイを記憶する記憶手段と、（d）該記憶手段にアクセスするアドレス指定手段と、（e）前記アクセスされた記憶手段からの前記アドレス及び強度の情報に基づいて、前記アドレス指定可能な交叉点に第１電圧を選択的に印加するインターフェース手段と、を備えることを特徴とする前記ビデオ信号を表示するビデオ表示システム。４５．前記記憶手段がデジタル化画素の、以前のアレイを記憶している間に、デジタル化画素の一アレイを記憶するために、前記ビデオ信号処理手段及び前記記憶手段に接続されるバッファ手段をさらに備える請求項４４記載のビデオ表示システム。４６．前記ビデオ信号処理手段は、前記ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換する以前に、前記ビデオ信号をデジタル信号に変換するコンバータを備える請求項４４記載のビデオ表示システム。４７．前記インターフェース手段は、特定の交叉点の発光放電を維持するための、前記第１電圧よりも低い第２電圧を選択的に印加する請求項４４記載のビデオ表示システム。【手続補正書】【提出日】１９９５年１２月２８日【補正内容】補正後の特許請求の範囲の全文を記載した書面特許請求の範囲１．平坦表面を有する基板と、前記平坦表面上の第１組の導体と、前記平坦表面上で、前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、前記所定間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の放電空間が画定される第２組の導体と、爆縮力がそれにほとんどかからないような圧力の、前記放電空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ表示構造体。２．前記放電空間の気体が略大気圧である請求項１記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。３．パッシェン最小放電電圧以上の電圧を特定交叉点の前記放電空間に印加されたときにのみ前記特定交叉点で発光放電が開始されるように前記所定間隔が選定されている請求項１または２記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。４．前記気体が空気である請求項１乃至３記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。５．さらに、夫々が前記第１及び第２組の導体の一方と接触関係にある複数の蛍光体帯片を備える請求項１乃至４記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。６．前記第１及び第２組の導体の一方の少なくとも一部に絶縁層を備える請求項１乃至５記載のフラットパネルプラズマ表示構造体。７．基板の平坦表面上に形成されるフラットパネルプラズマ表示装置の製造方法であって、前記基板上に第１組の導体を形成する過程と、該第１組の導体上にスペーサ手段を蒸着する過程と、前記基板及びスペーサ手段上に、前記第１組の導体に関してある角度をなし、前記スペーサ手段によって分離された交叉点のアレイを画定するように前記第１組の導体と交叉する第２組の導体を形成する過程と、少なくとも交叉点のアレイから前記スペーサ手段を選択的に除去し、プラズマ放電セルのアレイを画定する過程と、を有することを特徴とするフラットパネルプラズマ表示装置の製造方法。８．前記第１及び第２組の導体の一部を酸化して、絶縁エアブリッジ構造体を形成する過程をさらに有する請求項７記載の方法。９．交叉点で第１及び第２組の導体の一方に穴を形成する過程をさらに有する請求項７記載の方法。１０．前記第１及び第２組の夫々を形成する過程であって、導電物質を蒸着する過程と、該導電物質の選定部分をマスクする過程と、前記マスクされた部分をエッチングして、これにより一組の導体を形成する過程と、を有する請求項７記載の方法。１１．前記蒸着導電物質は、ジルコニウム及びニッケルの薄膜を含む複合層を備えることを特徴とする請求項１０記載の方法。１２．前記スペーサ手段を蒸着する過程は、前記第１及び第２組の導体に及ぼす影響が少ない手段を用いてエッチング可能な物質を蒸着する過程を有する請求項７記載の方法。１３．夫々が底部及び対向する側壁を有する複数のスロットを前記基板に形成する過程をさらに有し、前記第１の導体が前記基板の前記スロット夫々の内に形成されている請求項７乃至１２記載の方法。１４．原色の群から選ばれるカラーフィルタを前記スロット夫々の内に蒸着する過程をさらに有する請求項１３記載の方法。１５．隣接スロットには前記原色の群から選ばれた異なるカラーフィルタを蒸着させている請求項１３または１４記載の方法。１６．前記対向側壁を金属化する過程をさらに有する請求項１３、１４または１５記載の方法。１７．（1）基板の平坦表面上の第１組の導体と、（2）前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、交叉点を画定する特定の導体によってその夫々がアドレス指定可能であるような該交叉点で、自身と前記第１組の導体との間の放電空間が前記所定間隔により画定される第２組の導体と、（3）爆縮力がそれにほとんどかからないような圧力の前記放電空間の気体と、を備える、（a）平面状基板上に形成されるフラットパネルプラズマ表示装置と、（b）ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換し、前記デジタル化画素のアレイに少なくともアドレス及び強度の情報を伝えるビデオ信号処理手段と、（c）前記デジタル化画素のアレイを記憶する記憶手段と、（d）該記憶手段にアクセスするアドレス指定手段と、（e）前記アクセスされた記憶手段からの前記アドレス及び強度の情報に基づいて、前記アドレス指定可能な交叉点に第１電圧を選択的に印加するインターフェース手段と、を備えることを特徴とする前記ビデオ信号を表示するビデオ表示システム。１８．前記記憶手段がデジタル化画素の、以前のアレイを記憶している間に、デジタル化画素の一アレイを記憶するために、前記ビデオ信号処理手段及び前記記憶手段に接続されるバッファ手段をさらに備える請求項１７記載のビデオ表示システム。１９．前記ビデオ信号処理手段は、前記ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換する以前に、前記ビデオ信号をデジタル信号に変換するコンバータを備える請求項１７または１８記載のビデオ表示システム。２０．前記インターフェース手段は、特定の交叉点の発光放電を維持するための、前記第１電圧よりも低い第２電圧を選択的に印加する請求項１７、１８または１９記載のビデオ表示システム。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＬ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims

【特許請求の範囲】１．基板と、前記基板上に形成された第１組の導体と、前記基板上に形成され、前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、前記所定間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の空間が画定される第２組の導体と、前記空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネル表示構造体。２．前記空間の気体が略大気圧である請求項１記載のフラットパネル表示構造体。３．パッシェン最小放電電圧以上の電圧を特定交叉点の前記空間に印加されたときにのみ前記特定交叉点で発光放電が開始されるように前記所定間隔が選定されている請求項１記載のフラットパネル表示構造体。４．前記気体が空気である請求項１記載のフラットパネル表示構造体。５．さらに、前記基板に蛍光体被膜を設けてある請求項１記載のフラットパネル表示構造体。６．さらに、夫々が前記第１及び第２組の導体の一方と接触関係にある複数の蛍光体帯片を備える請求項１記載のフラットパネル表示構造体。７．前記第１及び第２組の導体の少なくとも一方は、前記交叉点の夫々にそこから発光放電を見ることができるアパーチャを備える請求項１記載のフラットパネル表示構造体。８．前記第１及び第２組の導体の一方の少なくとも一部に絶縁層を備える請求項１記載のフラットパネル表示構造体。９．前記第１及び第２組の夫々の導体の少なくとも一部に絶縁層を備える請求項１記載のフラットパネル表示構造体。１０．前記第１及び第２組の導体夫々は表面を有し、前記第１組の導体の表面は前記第２組の導体の表面に対向しており、前記絶縁層は少なくとも夫々の交叉点で前記対向面に設けられてある請求項９記載のフラットパネル表示構造体。１１．さらに、前記第１及び第２組の導体を気密封止するキャッピング手段を備える請求項１記載のフラットパネル表示構造体。１２．前記キャッピング手段は前記第２組の導体に接着されてある請求項11記載のフラットパネル表示構造体。１３．さらに、赤、緑及び青フィルタを、前記第１及び第２組の導体の一方に接触して設けてある請求項11記載のフラットパネル表示構造体。１４．さらに赤、緑及び青蛍光体を、前記第１及び第２組の導体の一方に接触して設けてある請求項11記載のフラットパネル表示構造体。１５．背面に、夫々が同形で所定深さｄを有して互いに略平行に設けられた複数のスロットを備える透明パネルと、厚さｔを有し、前記スロット内に設けられた第１組の導体と、前記背面に前記第１組の導体に関して角度をなして設けられ、間隔ｄ−ｔ差で前記第１組に交叉して、前記間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の空間が画定される第２組の導体と、前記空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネル表示構造体。１６．前記空間の気体が略大気圧である請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。１７．パッシェン最小放電電圧以上の電圧を特定交叉点の前記空間に印加されたときにのみ前記特定交叉点で発光放電が開始されるように前記間隔が選定されている請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。１８．前記気体が空気である請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。１９．さらに、前記第１及び第２組の導体を気密封止するキャッピング手段を備える請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。２０．さらに、前記背面に蛍光体被膜を設けてある請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。２１．さらに、前記第１及び第２組の導体の少なくとも一方と接触関係にあり、前記第１及び第２組の導体の間に設けられた蛍光層を備える請求項１５記載のフラットパネル表示構造体。２２．基板と、前記基板上に形成された第１組の導体と、前記基板上に形成され、前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、前記所定間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の空間が画定される第２組の導体と、前記空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ放電灯。２３．背面に、夫々が同形で所定深さｄを有して互いに略平行に設けられた複数のスロットを備える透明パネルと、厚さｔを有し、前記スロット内に設けられた第１組の導体と、前記背面に前記第１組の導体に関して角度をなして設けられ、間隔ｄ−ｔ差で前記第１組に交叉して、前記間隔により、前記交叉点で自身と前記第１組の導体との間の空間が画定される第２組の導体と、前記空間内の気体と、を備えることを特徴とするフラットパネルプラズマ放電灯。２４．基板の一側に形成されるフラットパネル表示装置の製造方法であって、前記基板上に第１組の導体を形成する過程と、該第１組の導体上にスペーサ手段を蒸着する過程と、前記スペーサ手段上に、前記第１組の導体に関してある角度をなし、前記スペーサ手段によって分離された交叉点のアレイを画定するように前記第１組の導体と交叉する第２組の導体を形成する過程と、前記スペーサ手段を選択的に除去し、エアブリッジ構造を形成する過程と、を有することを特徴とするフラットパネル表示装置の製造方法。２５．前記第１及び第２組の導体の一部を酸化して、絶縁エアブリッジ構造体を形成する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。２６．交叉点で第１及び第２組の導体の一方に穴を形成する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。２７．前記第１及び第２組の夫々を形成する過程であって、導電物質を蒸着する過程と、該導電物質の選定部分をマスクする過程と、前記マスクされた部分をエッチングして、これにより一組の導体を形成する過程と、を有する請求項２４記載の方法。２８．前記蒸着導電物質は、ジルコニウム及びニッケルの薄膜を含む複合層を備えることを特徴とする請求項２７記載の方法。２９．前記第１及び第２組の導体のうち少なくとも一方のための前記蒸着導電物質は、本質的に酸化スズ及びその誘導体から成る群から選ばれたものである請求項２７記載の方法。３０．前記選ばれた導電物質は透明である請求項２９記載の方法。３１．前記エッチング過程は、前記第１及び第２組の導体の一方にエッチング穿設することにより、穴を有する一組の導体を形成する過程を有する請求項２７記載の方法。３２．前記第１組を形成した後及び前記スペーサ手段を蒸着した後ともに、絶縁層を堆積する過程をさらに有する請求項２４記載の方法。３３．前記絶縁層は酸化マグネシウムである請求項３２記載の方法。３４．前記スペーサ手段を蒸着する過程は、前記第１及び第２組の導体に及ぼす影響が少ない手段を用いてエッチング可能な物質を蒸着する過程を有する請求項２５記載の方法。３５．ピンホール短絡を排除する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３６．前記第１組の導体を形成する以前に、１層の発光物質を前記基板上に蒸着する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３７．前記第２組の導体を形成する過程の以前に１層の発光物質を前記スペーサ手段上に蒸着する過程をさらに有する請求項２５記載の方法。３８．前記スペーサ手段を蒸着した後、及び前記１層の発光物質を蒸着する以前に、絶縁層を蒸着する過程をさらに有する請求項３７記載の方法。３９．夫々が底部及び対向する側壁を有する複数のスロットを前記基板に形成する過程をさらに有し、前記第１の導体が前記基板の前記スロット夫々の内に形成されている請求項２５記載の方法。４０．原色の群から選ばれるカラーフィルタを前記スロット夫々の内に蒸着する過程をさらに有する請求項３９記載の方法。４１．隣接スロットには前記原色の群から選ばれた異なるカラーフィルタを蒸着させている請求項４０記載の方法。４２．前記対向側壁を金属化する過程をさらに有する請求項３９記載の方法。４３．前記金属化側壁はニッケルで金属化されている請求項４２記載の方法。４４．（1）基板上に形成された第１組の導体と、（2）前記第１組と角度をなして所定間隔離隔して配設され、前記第１組と交叉しており、交叉点を画定する特定の導体によってその夫々がアドレス指定可能であるような該交叉点で、自身と前記第１組の導体との間の空間が前記所定間隔により画定される第２組の導体と、（3）前記空間の気体と、を備える、（a）少なくとも一つの基板上に形成されるフラットパネル表示装置と、（b）ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換し、前記デジタル化画素のアレイに少なくともアドレス及び強度の情報を伝えるビデオ信号処理手段と、（c）前記デジタル化画素のアレイを記憶する記憶手段と、（d）該記憶手段にアクセスするアドレス指定手段と、（e）前記アクセスされた記憶手段からの前記アドレス及び強度の情報に基づいて、前記アドレス指定可能な交叉点に第１電圧を選択的に印加するインターフェース手段と、を備えることを特徴とする前記ビデオ信号を表示するビデオ表示システム。４５．前記記憶手段がデジタル化画素の、以前のアレイを記憶している間に、デジタル化画素の一方のアレイを記憶するために、前記ビデオ信号処理手段及び前記記憶手段に接続されるバッファ手段をさらに備える請求項４４記載のビデオ表示システム。４６．前記ビデオ信号処理手段は、前記ビデオ信号をデジタル化画素のアレイに変換する以前に、前記ビデオ信号をデジタル信号に変換するコンバータを備える請求項４４記載のビデオ表示システム。４７．前記インターフェース手段は、特定の交叉点の発光放電を維持するための、前記第１電圧よりも低い第２電圧を選択的に印加する請求項４４記載のビデオ表示システム。