JPH0842561A

JPH0842561A - セラミック製動圧軸受及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0842561A
Application number: JP6178237A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Nakahara; 正博中原
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1994-07-29
Filing date: 1994-07-29
Publication date: 1996-02-13
Anticipated expiration: 2019-10-27
Also published as: JP3580577B2

Abstract

(57)【要約】【構成】表面に動圧発生溝２を有するセラミック製動圧
軸受において、ヤング率が３００ＧＰａ以上、平均結晶
粒径が０．５μｍ以上のセラミックスで形成するととも
に、動圧発生溝２の底部２ａの表面粗さ（Ｒａ）を１μ
ｍ以下とする。【効果】動圧発生溝２のエッジ２ａによる相手材の切削
摩耗を低減し、かつ潤滑剤を軸受表面に均一に介在さ
せ、摩耗量を低減し、高い信頼性と長寿命化をもたらす
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電気モータ等のシャフ
トの支持に用いられるセラミック製動圧軸受及びその製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より軸受装置としては、すべり軸
受、玉軸受、含油軸受などが一般的に用いられている。
しかしながら、従来の軸受では、製品の薄型化、高性能
化に伴い、種々の問題点が発生してきた。

【０００３】例えば、フロッピィディスクドライブ（Ｆ
ＤＤ）装置等のスピンドルモータの薄型化をはかる場合
など、軸受を短くする必要があるが、短くするにつれ軸
振れが大きくなってくる。これにより、メディアの偏心
が大きくなり、データ読み書きの信頼性が著しく低下す
るという問題点が発生する。

【０００４】このような問題点の解決手段として、ラジ
アル軸受及び／又はスラスト軸受の表面にスパイラル溝
等の動圧発生溝を形成した動圧軸受が開発された。これ
は、スピンドルモータの回転に伴い動圧発生溝が潤滑流
体に与えるポンピング作用により、流体圧が上昇してシ
ャフトを浮上させ、流体膜を形成して無接触で回転する
ようにしたものである。更には流体圧によるセンタリン
グ効果により、偏心を著しく抑えられるものである。

【０００５】動圧軸受の構成は図５に示すように、シャ
フト２１とこれを支持するスリーブ２３からなり、シャ
フト２１の外周に動圧発生溝２４ａを形成してラジアル
方向の剛性を持つラジアル軸受部２４と成し、一方動圧
スラスト軸受２２にはスパイラル状の動圧発生溝２２ａ
を形成して、オイルや気体等の潤滑流体のポンピング作
用によりスラスト剛性を持たせるようにしてある。

【０００６】ここで、重要な部分は動圧スラスト軸受２
２である。例えば、縦型モータでのラジアル方向はシャ
フト２１の外径とスリーブ２３の内径が殆ど等しい為に
接触により傷がついたり、面が剥離することは殆ど無
い。これに対し、スラスト方向は回転部の自重、マグネ
ットとステータの吸引力等のスラスト力が全て動圧スラ
スト軸受２２とシャフト２１端部との接触部にかかるこ
とになり、スタート・ストップ時、低速回転時に接触回
転するため耐久性に対して重要な影響を持つことにな
る。

【０００７】この動圧軸受を構成するシャフト２１や動
圧スラスト軸受２２はいずれも従来はステンレス等の焼
き入れ材を使用していた。しかしながら、金属同士で構
成した場合、金属同士の接触により摩耗が生じやすく、
また発生した摩耗粉が軸受隙間に入り込むと、かじり焼
き付きを生じる等の問題がある。そのため、動圧スラス
ト軸受２２等をセラミックスで形成することが考えられ
ていた。

【０００８】また、動圧軸受において重要となるのが、
オイル、気体等の潤滑流体をポンピングする為に必要な
動圧発生溝の形状とその溝深さに関する要因であり、動
圧スラスト軸受２２の場合動圧発生溝２２ａの形状精度
と溝深さについて高い加工精度が要求されてくる。この
スパイラル形状の動圧発生溝２２ａを形成する方法とし
ては、化学エッチング法ショットブラスト法レー
ザー加工など種々の方法が提案されている。

【０００９】ステンレス等の金属からなる動圧スラスト
軸受２２の場合には、化学エッチング処理を施すことに
より所望のスパイラル形状と溝深さを形成している。し
かしながら、この製造方法はエッチング処理後の廃液処
理の環境問題、加工時間の問題（量産性）等について改
善が求められている。さらには、金属製の動圧スラスト
軸受２２は始動・停止時の摺動により摩耗し易いという
問題点がある。

【００１０】そこで、動圧スラスト軸受２２をセラミッ
クスで形成し、スパイラル形状の動圧発生溝２２ａをシ
ョットブラスト法で加工することが提案されている（特
開昭６３−１６３０１６号、特開平２−９３１１５号公
報等参照）。

【００１１】ショットブラスト法は、セラミック部材の
表面に凹溝を形成する製造方法としてよく知られており
（特開昭６０−１４６１５号、特開昭６２−２７８３１
３号、特開平５−５８７６５号公報等参照）、所望する
凹溝形成部分を除いた樹脂マスクや金属マスクを製作
し、これをセラミック体の表面に貼り付けた後、ショッ
トブラスト処理を施してマスキングされていない部分に
短時間で凹溝を形成するものである。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記セラミッ
ク製動圧軸受では、流体膜を安定して保持しにくいとい
う問題点があり、相手材と接触して摩耗させやすかっ
た。また、その際に動圧発生溝のエッジにより相手材が
切削摩耗しやすいことから、寿命が短いものであった。

【００１３】さらに、従来のセラミック製動圧軸受の製
造方法では所定のスパイラル形状等をもったマスクの作
製作業、及び該マスクのセラミック表面への貼り付け作
業が極めて煩雑である上、スパイラル形状の細線化及び
形状のパターニングを高精度に行えない為、効率よく量
産することは困難であるという問題点があった。

【００１４】さらに、加工精度の面ではセラミック体表
面に凹溝を短時間で形成するため、ブラストノズルを被
加工材の表面に近接させておく必要があり、また、被加
工材の表面に噴射された硬質微粒子は被加工材の表面に
衝突し次第に摩滅していく為、均一かつ高精度の凹溝深
さを安定して量産することは極めて困難であった。

【００１５】そこで、ショットブラストの代わりに、レ
ーザー光を用いてセラミックス製動圧軸受の溝加工を行
う方法もあるが、この場合動圧発生溝の形状に沿ってレ
ーザ光を照射するため加工時間がかかることは言うまで
もなく、加工面への溶融層析出により、所望の表面平滑
性が得にくいという問題、熱影響層の増加によるクラッ
クの問題、さらには加工部分と未加工部分の境界に析出
する溶融層の除去が必要になる等の問題がある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は、表面に動圧発
生溝を有するセラミック製動圧軸受において、ヤング率
が３００ＧＰａ以上で、平均結晶粒径が０．５μｍ以上
のセラミックスで形成するとともに、動圧発生溝底部の
表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下としたことを特徴とする
ものである。なお、本発明において表面粗さは、ＪＩＳ
Ｂ０６０１に規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）で示
す。

【００１７】ここで、ヤング率３００ＧＰａ以上のセラ
ミックスを用いたのは、３００ＧＰａ未満であると負荷
荷重に対する変形のために、高精度（溝深さ精度±１μ
ｍ程度）に仕上がった動圧発生溝による動圧効果を充分
に安定して引き出すことができないためである。

【００１８】また、セラミックスの平均結晶粒径を０．
５μｍ以上としたのは、０．５μｍ未満であると動圧発
生溝のエッジが鋭くなりすぎて相手材の切削摩耗が大き
くなるためである。なお、優れた機械的物性を維持する
ためには、平均結晶粒径は１０μｍ以下とすることが好
ましい。

【００１９】また動圧発生溝溝底部の表面粗さ（Ｒａ）
を１μｍ以下としたのは、１μｍを越えると動圧スラス
ト軸受と相手材の間に介在する潤滑剤等で形成される流
体膜の保持力が低下してしまい、動圧軸受と相手材が接
触しやすくなって摩耗が進行するためである。さらに、
動圧発生溝底部の平坦度は３μｍ以下とすることが好ま
しい。

【００２０】また本発明は、表面に動圧発生溝を有する
セラミック製動圧軸受の製造方法において、セラミック
体の軸受面にフォトレジスト膜を形成した後、動圧発生
溝の形状に合致したマスクを介して露光し、現像を行う
ことにより動圧発生溝となる部分のみのフォトレジスト
膜を除去し、この軸受面全面に平均粒径２〜２０μｍの
硬質微粒子を噴射して上記フォトレジスト膜のない部分
に動圧発生溝を形成するようにしたものである。

【００２１】ここで、硬質微粒子の平均粒径を２〜２０
μｍとしたのは、２μｍ未満であると加工効率が悪く、
均一分散のコントロールが困難となるためであり、一方
２０μｍを越えると動圧発生溝の底部の表面粗さを１μ
ｍ以下とできないためである。

【００２２】また、動圧発生溝の深さは２〜３０μｍの
範囲が良い。これは２μｍより浅いと寸法精度の制御が
難しくなり、また良好な表面平滑性が得られず、逆に３
０μｍより深いと溝部がテーパ状になり溝底隅部が大き
なＲ面となり、充分な動圧効果を得ることが困難となる
ためである。なお、好ましくは２〜２０μｍの範囲が良
い。

【００２３】なお、本発明のセラミック製動圧軸受と
は、軸及び軸受からなるスラスト方向またはラジアル方
向の軸受であって、軸及び／又は軸受をセラミックスで
形成し、その軸受面に動圧発生溝を有するものを言う。

【００２４】

【実施例】以下、本発明実施例としてＶＴＲ用スピンド
ルモータの動圧軸受装置に用いる動圧スラスト軸受を例
にして説明する。

【００２５】図５に示すように、動圧軸受装置はシャフ
ト２１、動圧スラスト軸受２２およびスリーブ２３から
なり、該シャフト２１を固定軸にしてスリーブ２３が回
転するようになっている。該シャフト２１の外周にヘリ
ングボーン形状の動圧発生溝２４ａが形成されて動圧ラ
ジアル軸受部２４となり、また動圧スラスト軸受２２に
はスパイラル状の動圧発生溝２２ａを備えていることか
ら、回転時にはこれらの動圧発生溝２２ａ、２４ａによ
って流体膜が生じ、滑らかな回転を行うことができる。

【００２６】ただし、スタート・ストップ時、低速回転
時にはシャフト２１の先端が動圧スラスト軸受２２と摺
動するようになり、回転体の全荷重がシャフト２１の先
端と動圧スラスト軸受２２に負荷として加わることにな
る。

【００２７】この動圧スラスト軸受２２は、図１に示す
ように、セラミック体１の表面中央にスパイラル状の動
圧発生溝２を有し、該動圧発生溝２中の凸部３と外周部
４とは同一平面となっている。そして、シャフト２１の
端面をこの動圧スラスト軸受２２で支持して回転させれ
ば、上記動圧発生溝２の動圧作用によりシャフト２１を
浮上させることができる。

【００２８】また、このセラミック体１は、ヤング率３
００ＧＰａ以上で平均結晶粒径０．５μｍ以上のセラミ
ックスからなり、動圧発生溝２の底部２ａの表面粗さ
（Ｒａ）を１μｍ以下としてある。

【００２９】本発明の動圧スラスト軸受２２は、セラミ
ックスとしてヤング率３００ＧＰａ以上の高剛性の材料
を用いることにより、負荷が加わっても変形しにくく、
優れた動圧発生効果を維持できる。また、平均結晶粒径
０．５μｍ以上と粒径の大きいセラミックスを用いてい
るため、動圧発生溝２のエッジ部２ｂが鋭くならず、相
手材を摩耗させにくい。さらに、動圧発生溝２の底部２
ａの表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下とすることにより、
流体膜の保持力を高めて相手材との摺動による摩耗を防
止することができる。

【００３０】なお、動圧発生溝２の底部２ａの表面粗さ
（Ｒａ）を１μｍ以下とするためには、後述する製造方
法においてサンドブラスト加工時の硬質微粒子を所定の
粒径とすれば良い。あるいは、動圧発生溝２の形状を有
する金型を用いてプレス成形することもでき、この場合
は、金型の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下としておい
て、プレス成形し焼成すれば良い。

【００３１】上記動圧軸受装置をＶＴＲのスピンドルモ
ータに用いる場合は３０００ｒｐｍ程度、ＬＢＰ（レー
ザービームプリンター）のスピンドルモータでは２万ｒ
ｐｍ程度と非常に高速となる。このとき、シャフト２１
と動圧スラスト軸受２２は、スタート・ストップ時に負
荷の加わった状態で激しく摺動することになるが、上記
のように平均結晶粒子径を０．５μｍ以上、動圧発生溝
２の底部２ａの表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下とするこ
とにより、潤滑剤の流体膜を均一に介在させ、切削摩耗
量も少なく長期間にわたって良好に使用することができ
る。

【００３２】なお、上記実施例では動圧スラスト軸受２
２について説明したが、本発明のセラミック製動圧軸受
はこれに限るものではない。例えば、シャフト２１の端
面をセラミックスで形成して動圧発生溝を形成したり、
あるいはラジアル軸受部２４におけるシャフト２１また
はスリーブ２３をセラミックスで形成して動圧発生溝を
備えて本発明のセラミック製動圧軸受とすることができ
る。

【００３３】次に、図１に示す本発明の動圧スラスト軸
受の製造方法について説明する。

【００３４】図２（ａ）に示すように、まずセラミック
体１の軸受面１ａを所望の表面状態、好ましくは表面粗
度（Ｒａ）０．３μｍ以下に仕上げた後、全面にフィル
ム状のフォトレジスト膜１１を気泡を巻き込まないよう
に積層する。フォトレジスト膜１１の厚みｔは、後述す
るショットブラストの衝撃に耐えられるように３０μｍ
以上とする。しかし、必要以上に厚くすると加工時に形
成される動圧発生溝２の縁部を高精度に形成できない等
の問題があるため、厚みｔは２００μｍ以下が好まし
い。この厚みｔは加工する溝深さに応じて適宜に変更す
ることができる。

【００３５】その後、図３に示すようなガラスマスク１
２を作製する。このガラスマスク１２は、図１の動圧発
生溝２に対応する部分が不透明部１２ａとなり、その他
の部分が透明部１２ｂとなったものである。このガラス
マスク１２は、ＣＡＤ等を使用して製作した図面をもと
に正確に形状を転写すれば良い。

【００３６】ここで製作したガラスマスク１２を図２
（ｂ）に示すように、フォトレジスト膜１１の表面に密
着して載置し、その上から紫外線を照射して露光を行
う。この時、フォトレジスト膜１１の露光された部分は
硬化されることになる。即ち、フォトレジスト膜１１の
うち、ガラスマスク１２の透明部１２ｂに対応する部分
は露光されて硬化し、一方不透明部１２ａに対応する部
分は露光されないため硬化しないことになる。

【００３７】その後、ガラスマスク１２を外し、セラミ
ック体１を回転させながら現像液を吹き付ければ、図２
（ｃ）に示すように、フォトレジスト膜１１のうち硬化
していない紫外線未露光部分１１ａのみが除去されるこ
とになる。即ち、セラミック基体１の表面のフォトレジ
スト膜１１は、ガラスマスク１２の不透明部１２ａの形
状（動圧発生溝２の形状）の部分が除去され、それ以外
の部分のみに被着した状態となり、所望の動圧発生溝２
の形状がセラミック体１の表面に正確にマスキングされ
る。

【００３８】このように、本発明によれば、フォトレジ
スト膜１１の露光、現像でマスキングを形成したため、
マスキングが分離した形状でも容易に所望の形状を正確
に形成することができる。なお、上記実施例ではネガ型
のフォトレジストを使用したが、ポジ型のフォトレジス
トを使用しても同様に所望の動圧発生溝２の形状被膜が
可能なことは云うまでもない。

【００３９】さらに、セラミック体１およびフォトレジ
スト膜１１を１５０〜２００℃でベイキングし、フォト
レジスト膜１１の強度を向上させる。

【００４０】最後に、図２（ｄ）に示すように、上記に
て得られたセラミック体１を装置内にセットした後、噴
射ノズル１３よりセラミック体１の軸受面１ａに硬質微
粒子１４を噴射してショットブラストを行う。この工程
により、セラミック体１の軸受面１ａにおけるフォトレ
ジスト膜１１の除去された部分が削られ、動圧発生溝２
が形成されることになる。

【００４１】ここで、動圧発生溝２を高精度に形成する
ためには、上記硬質微粒子１４のコントロール方法が重
要である。具体的には、硬質微粒子１４を常に一定重量
ずつ計量しながら供給して、時間当たりの噴射量が一定
となるようにしてある。また、硬質微粒子１４は、高圧
エアー源からドライヤーやシリカゲルを経て乾燥され導
入されたエアーに均一分散させて噴射する。特に微粒子
の場合、非常に凝集しやすいため乾燥したエアーを使用
することが重要である。

【００４２】さらに、硬質微粒子１４としてはＧＣ砥粒
の２５００番を使用したが、この他にもセラミックスの
ショットブラスト加工に一般的に使用されているシリコ
ンカーバイトやアルミナ等で平均粒径２〜２０μｍのも
のを用いれば良い。ここで、硬質微粒子１４の平均粒径
を２〜２０μｍとしたのは、２μｍ未満であると加工効
率が悪く、均一分散のコントロールが困難であるためで
あり、一方２０μｍを越えると動圧発生溝２の底部２ａ
の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下とできないためであ
る。そして、噴射した硬質微粒子１４は回収して再利用
するが、この際に砕けたり摩耗して小さくなった硬質微
粒子１４は除去し、常に平均粒径が２〜２０μｍの範囲
内を維持するようにしておくことが重要である。

【００４３】このように、硬質微粒子１４を常に計量し
ながら供給して時間当たりの噴射量を一定にし、かつ再
利用時に小さくなった硬質微粒子１４を除去して平均粒
径を一定に維持することによって、動圧発生溝２を高精
度に加工することができ、底面２ａの平面度を３μｍ以
下に加工することができる。

【００４４】また、このショットブラストの工程は、図
４に示すように、台板１５上に複数のセラミック体１を
載置し、台板１５とノズル１３を相対的に移動させなが
ら、繰り返しスキャンさせて、徐々に動圧発生溝２を形
成すれば、均一かつ高精度の動圧発生溝２を形成するこ
とができる。

【００４５】なお、上記動圧スラスト軸受２２をなすセ
ラミック体１の材質としては、アルミナ（Ａｌ
₂Ｏ₃）、ジルコニア（ＺｒＯ₂）、チタン酸カルシウ
ム（ＣａＴｉＯ₃）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉ
Ｏ₃）、窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）、炭化珪素（Ｓｉ
Ｃ）、アルティック（Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ）、サーメッ
ト（ＴｉＣ−ＴｉＮ系）等を用いるが、摺動時の耐摩耗
性を考慮してアルティックまたはサーメットが好まし
い。

【００４６】さらに、以上の実施例では動圧スラスト軸
受２２に動圧発生溝を形成したものを説明したが、シャ
フト２１をセラミックスで形成し、その端面に動圧発生
溝を形成することもでき、この場合も本発明の製造方法
を適用することができる。また、スラスト軸受に限ら
ず、ラジアル方向のシャフト２１及び／又はスリーブ２
３に動圧発生溝を形成する場合にも本発明の製造方法を
適用できる。

【００４７】実験例１ここで、図１に示す本発明の動圧スラスト軸受を試作
し、耐摩耗性および摺動性を調べるため、ボール・オン
・ディスク型の摩擦摩耗試験を用いた試験を行った。

【００４８】本発明実施例として、アルミナ系セラミッ
クス、窒化珪素系セラミックス、及びＴｉＣ−ＴｉＮ系
サーメットからなる動圧スラスト軸受２２を用意し、一
方比較例として、ＳＫＨ材、ジルコニアセラミックスか
らなるもの、及びアルミナセラミックからなり動圧発生
溝の底部の表面粗さを粗くしたものを用意した。

【００４９】各試料を、湿式潤滑下の状態で、相手材に
高炭素クロム軸受け鋼ＳＵＪ２のボールを用いて、荷重
０．５Ｋｇ、相対摺動速度０．１７ｍ／ｓで摺動試験を
行い、両部材の摩耗量を測定した結果は表１に示す通り
である。

【００５０】表１から明らかなように、相手材に対する
摩耗量はＮｏ．４〜６の比較例が大きいのに対し、本発
明実施例であるＮｏ．１〜３は何れも相手材摩耗量が極
めて小さく、その中でもサーメットが非常に優れている
ことがわかる。また、Ｎｏ．１とＮｏ．６を比較する
と、同じアルミナ系セラミックであるにもかかわらず、
動圧発生溝の底部の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍより大き
くしたＮｏ．６は、相手材の摩耗量が大きかった。さら
に、Ｎｏ５に示すジルコニアセラミックスは結晶粒径が
０．５μｍ以下と小さすぎるため、動圧発生溝のエッジ
が鋭くなり、相手材に切削摩耗を発生させた。

【００５１】したがって、ヤング率３００ＧＰａ以上、
平均結晶粒径０．５μｍ以上のセラミックスを用い、動
圧発生溝の底部の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下とする
ことによって、相手材を摩耗させにくくできることがわ
かる。

【００５２】

【表１】

【００５３】実験例２次に、上記の製造方法により図１に示すスラスト軸受を
製造した。セラミック体１はアルティックにより形成
し、動圧発生溝２の深さを変化させた時の性能評価を行
った。

【００５４】結果は表２に示す通りである。表１中、Ｎ
ｏ．１においては、溝深さが浅すぎるため加工時間の制
御ができずセラミック体１表面に未加工部分が残ってし
まい所定の動圧効果を得ることはできなかった。また、
Ｎｏ．７では溝深さが深いため動圧発生溝２の断面が奥
に向かって幅が狭くなるテーパ形状となり、かつ隅部に
大きなＲ面が発生し、性能評価においても所定の動圧効
果を得ることはできなかった。

【００５５】これに対し、溝深さを２〜３０μｍとした
Ｎｏ．２〜６については、精度的にも性能的にも何等問
題はなく、特に溝深さを２〜２０μｍとしたもの（Ｎ
ｏ．２〜５）は優れた動圧効果を示した。

【００５６】

【表２】

【００５７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、表面に動
圧発生溝を有するセラミック製動圧軸受において、ヤン
グ率が３００ＧＰａ以上、平均結晶粒径が０．５μｍ以
上のセラミックスで形成するとともに、動圧発生溝底部
の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下としたことによって、
動圧発生溝のエッジによる相手材の切削摩耗を低減し、
かつ潤滑剤を軸受表面に均一に介在させ、摩耗量を低減
し、高い信頼性と長寿命化をもたらすことができる。

【００５８】また本発明によれば、セラミック製動圧軸
受の動圧発生溝を形成する際に、フォトレジスト膜の露
光・現像を利用してマスキングをすることにより形状の
制限を全く受けることなく正確にかつ容易にマスキング
を行うことができる。また、この表面にコントロールさ
れた硬質微粒子を噴射することにより、サブミクロンオ
ーダーの加工を実現し、所望の凹溝を有したセラミック
製動圧軸受を高精度に量産加工することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセラミック製動圧軸受の一例である動
圧スラスト軸受けを示し、（ａ）は平面図（ｂ）は
（ａ）中のＸ−Ｘ線断面図である。

【図２】本発明のセラミック製動圧軸受の製造方法を説
明する図である。

【図３】本発明のセラミック製動圧軸受の製造方法に使
用するガラスマスクを示す平面図である。

【図４】本発明のセラミック製動圧軸受の製造方法を説
明する図である。

【図５】一般的な動圧軸受装置を示す断面図である。

【符号の説明】

１：セラミック体２：動圧発生溝２ａ：底部３：凸部４：外周部２２：動圧スラスト軸受

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に動圧発生溝を有するセラミック製動
圧軸受において、ヤング率が３００ＧＰａ以上、平均結
晶粒径が０．５μｍ以上のセラミックスで形成するとと
もに、動圧発生溝底部の表面粗さ（Ｒａ）を１μｍ以下
としたことを特徴とするセラミック製動圧軸受。
【請求項２】表面に動圧発生溝を有するセラミック製動
圧軸受の製造方法において、セラミック体の軸受面にフ
ォトレジスト膜を形成した後、動圧発生溝の形状に合致
したマスクを介して露光し、現像を行うことにより動圧
発生溝となる部分のフォトレジスト膜を除去し、この表
面に平均粒径２〜２０μｍの硬質微粒子を噴射して上記
フォトレジスト膜のない部分に動圧発生溝を形成する工
程からなるセラミック製動圧軸受の製造方法。
【請求項３】上記動圧発生溝の深さが２〜３０μｍであ
ることを特徴とする請求項２記載のセラミック製動圧軸
受の製造方法。