JPH0841077A - オルガノオキシシランの製造方法 - Google Patents

オルガノオキシシランの製造方法

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JPH0841077A JP7106420A JP10642095A JPH0841077A JP H0841077 A JPH0841077 A JP H0841077A JP 7106420 A JP7106420 A JP 7106420A JP 10642095 A JP10642095 A JP 10642095A JP H0841077 A JPH0841077 A JP H0841077A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 オルガノオキシシランの収率を向上させ、あ
るいは従来と同等の収率をより簡単により小型の装置で
実現すること。 【構成】 Ｒn ＳｉＣｌ4-n のクロロシランとアルコー
ルを膜中で接触させ、オルガノオキシシランと塩化水素
を生成させ、塩化水素を膜中から気化させて平衡反応を
オルガノオキシシランの生成に有利に導く。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はクロロシランのオルガノ
オキシ化方法に係る。この方法では膜の状態でクロロシ
ランを、クロロシランのエステル化が可能なアルコール
と接触させて、オルガノオキシシランと塩化水素の平衡
混合物を生成する。この膜を加熱して平衡混合物から塩
化水素を蒸気させて、平衡混合物中のオルガノオキシシ
ランの収率を増加させる。好ましい方法では、落下膜型
（ｆａｌｌｉｎｇ−ｆｉｌｍｔｙｐｅ）反応器又はワイ
プト膜型（ｗｉｐｅｄ−ｆｉｌｍ）反応器で行なう。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】本発明で
製造するオルガノオキシシロキサンは他のシランの製造
の中間体として有用であり、またカップリング剤、シリ
ル化剤、表面処理剤として用いることができる。オルガ
ノオキシシランは一般的にそれからオルガノオキシシラ
ンを生成するオルガノオキシシランより取扱い上安全で
あり、またオルガノオキシ基のオルガノ置換基は有機化
合物および有機材料とより適合可能なオルガノオキシシ
ランを得るように選択することができる。
【０００３】アルコールとクロロシランとによるオルガ
ノオキシシランの生成反応は下記式
【０００４】
【化１】
【０００５】により例示される平衡反応である。従っ
て、オルガノオキシシランの収率を高めるように反応を
誘導するためには、塩化水素をそれが反応混合物中に生
成したときに除去することが望ましい。さらに、反応中
に放出される塩化水素は出発物質および生成物と反応し
て不所望な副生成物を生成するので、これがまた所望の
生成物の収率を低下させる。例えば、放出された塩化水
素はアルコールと反応して炭化水素塩化物と水を生成す
る。この反応によりかなりのアルコールの損失が生じ
る。さらに、この副反応で生成した水はクロロシランを
加水分解して不所望なポリシロキサンを生成しまたより
多くの塩化水素を発生する。また、塩化水素はそれ単独
で又はアルコールと共に、クロロシランに存在する他の
官能基と反応することがある。
【０００６】従って、本発明の目的は製造中に発生する
塩化水素を迅速かつ効果的に反応混合物から除去する方
法を提供することである。本発明者らは、前記の平衡反
応を薄膜法（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ ｐｒｏｃｅｓｓ）で
実施することにより上記の目的を達成できることを見い
出した。本発明は反応生成物である塩化水素を系から除
去する有効な手段を提供することにより、系の化学平衡
をオルガノオキシシロキサンの生成に好ましい方向に移
すものである。本発明はまた副反応と副反応の結果とし
ての不所望な副生成物を最小限にする手段を提供するも
のである。本発明のもう１つの目的は、物質移動を改良
して、現在商業的に使用されている反応性蒸留反応器で
実現可能なよりもより有効な反応操作を可能にする製法
を提供することである。
【０００７】従来、アルコールとクロロシランの反応の
化学平衡を動かして不所望な副反応を減少させる多くの
方法が報告されている。例えば、米国特許第３，００
８，９７５号、同第３，６５１，１１７号、同第３，７
９２，０７１号、同第３，９８５，７８１号、同第４，
０３９，５６７号、同第４，１７３，５７６号、同第
４，２９８，７５３号、同第４，５０６，０８７号、同
第４，９２４，０２２号。
【０００８】これらの従来技術は、アルコールとクロロ
シランのエステル化反応を薄膜法（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ
ｐｒｏｃｅｓｓ）として実施することができ、それに
よって塩化水素を反応系から有効に気化（蒸発）させて
除去することができることを認識していない。本発明の
製法によればオルガノオキシシランの収率を増大し、不
所望な副反応を減少させることができる。同様に、本発
明の製法は、現在使用されている典型的な反応性蒸留法
と比べて、同等の収率をより簡単でより小型の反応器で
製造できる。
【０００９】
【課題を解決するための手段及び作用、効果】本発明は
クロロシランのオルガノオキシ化方法である。この方法
は、（Ａ）膜中で式（１）、即ち、Ｒn ＳｉＣｌ
4-n （式中、各Ｒは独立して水素原子、１〜２０個の炭
素原子を含む１価炭化水素基、または１〜２０個の炭素
原子を含みハロゲン置換した１価炭化水素基から選ば
れ、ｎ＝０，１，２又は３である。）のクロロシラン
を、該クロロシランのケイ素原子とエステル化反応をし
得るアルコールと接触させてオルガノオキシシランと塩
化水素を生成し、（Ｂ）該膜から塩化水素を気化させて
オルガノオキシシランの生成を促進し、（Ｃ）オルガノ
オキシシランを回収する工程を含むことを特徴とするオ
ルガノオキシシランの製造方法である。
【００１０】本発明に有用なクロロシランは上記式
（１）で表わされるものである。この製法のエステル化
反応はケイ素原子上に少なくとも１個の塩素置換基を有
することが必要であり、４個の塩素置換基がケイ素原子
上に存在してもよい。クロロシランは０，１，２又は３
個の置換基Ｒ（Ｒは独立して水素原子、１〜２０個の炭
素原子を含む非置換１価炭化水素基、又は１〜２０個の
炭素原子を含むハロゲン置換１価炭化水素基から選択さ
れる。）を有することができる。水素原子のほかに、Ｒ
はアルキル（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、オクチル、オクチル
デシル、２−エチルヘキシル）、アルケニル（例えば、
ビニル、アリル）、ヘキサジエン、シクロアルキル（例
えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル）、芳香族炭化水素基（例えば、ペンチル、ナフチ
ル）、アラルキル又はアリールアルキル（例えば、ベン
ジル、２−フェニルエチル、２−フェニルプロピル）、
アルカリール又はアルカリアリール（例えば、トリル、
ジメチルフェニル）、ハロゲン置換炭化水素基（例え
ば、クロロメチル、３−クロロプロピル、３，３，３−
トリフルオロプロピル）であることができる。
【００１１】本発明の方法に有用なクロロシランにはク
ロロシラン（Ｈ3 ＳｉＣｌ）、トリクロロシラン、テト
ラクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、トリメチルクロロシラン、エチルジクロロ
シラン、ビニルトリクロロシラン、メチルビニルジクロ
ロシラン、フェニルジクロロシラン、フェニルトリクロ
ロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルヘキサン
ジエニル、ジクロロシラン、（クロロプロピル）トリク
ロロシラン、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピ
ル）ジクロロシラン、トリス（３，３，３−トリフルオ
ロプロピル）クロロシランがある。
【００１２】クロロシランはクロロシランのケイ素原子
とエステル化しうるアルコールと接触させてオルガノオ
キシシランと塩化水素を生成させる。本明細書で用語
「アルコール」は炭素、水素及び酸素だけを含む化合物
で、非カルボキシ基炭素原子だけにただ１個の水酸基が
結合し、アルコール中の他のすべての酸素原子はエーテ
ル基であるか又は水酸基もしくはエステル構造の一部で
あるような化合物を指称する。本発明の製法の条件下で
クロロシランのケイ素原子とエステル化反応を行ないう
るすべてのアルコールは使用できる。このようなアルコ
ールの選択に伴なう唯一の制約はアルコールの沸点の実
用上の考慮である。
【００１３】好適なアルコールにはメタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノール、イソブタノール、ターシャリブチルアルコー
ル、ｎ−ペンタノール、イソペンタノール、ｎ−ヘキサ
ノール、２−エチル−ｎ−ヘキサノール、アリルアルコ
ール、シクロヘキサノール、フェノール、ベンジルアル
コール、２−メトキシアルコール、２−エトキシエタノ
ール、２−ブトキシエタノールがある。
【００１４】アルコールが１〜１２個の炭素原子を含む
１価アルコールであることが好ましい。アルコールがメ
タノール又はエタノールであることが最も好ましい。本
発明の製法で用いるアルコール対クロロシランのモル比
は、ケイ素に結合した塩素原子の数、および各ケイ素原
子上のオルガノオキシ基で置換されることが望まれる塩
素原子の数に依存する。
【００１５】一般的に、ケイ素原子に結合した全部の塩
素原子を置換することが望ましい場合、アルコール対ク
ロロシランのモル比は化学量論的等量（ｓｔｏｉｃｈｉ
ｏｍｅｔｒｉｃ ｅｑｕｉｖａｌｅｎｃｅ）の６０〜１
４０％の範囲内で変更することができる。しかしなが
ら、アルコール対クロロシランのモル比が９５〜１１０
％の範囲内が好ましい。最も好ましくは１００〜１０５
％の範囲内である。化学量論的等量とは、反応系に添加
されるクロロシラン中のケイ素に結合した塩素原子の１
モルに対して、アルコール１モルとして定義される。
【００１６】アルコールとクロロシランは薄膜（ｆｉｌ
ｍ）中で接触される。本発明の製法では、アルコールと
クロロシランのいずれか一方又は双方が液相でなければ
ならない。しかしながら、当業者は薄膜を形成するため
には反応体中の単に１成分が液相である必要があり、そ
の他の成分は気相（蒸気）として薄膜に接触させること
ができることを理解するであろう。従って、反応体のう
ち少なくとも１つが液相であるという上記の条件が満た
される限り、アルコール、クロロシラン又はその両方を
それらの接触前に予想することができる。好ましい方法
では、クロロシランの膜を形成し、アルコールを蒸気と
してその膜に接触させる。
【００１７】膜の形成方法は本発明にとって重要ではな
く、業界公知のどの方法でもよい。本発明の方法の利点
は、塩化水素を膜から迅速に蒸発させて除去することを
可能にする膜の有効な物質移動特性によって実現される
ものである。このように膜から塩化水素を除去すること
により、反応の化学平衡をオルガノオキシシランの生成
が促進されかつ不所望な副反応が最小限化される。
【００１８】膜は、例えば、落下膜蒸発器（ｆａｌｌｉ
ｎｇ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）あるいはワイ
プト膜蒸発器（ｗｉｐｅｄ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏｒａ
ｔｏｒ）により形成できる。このような装置の例はＫｉ
ｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒの″Ｅｒｃｙｃｌｏｐｅａｉａ ｏ
ｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ″、第４
版、第９分冊、９６５〜９６８頁（１９８４年）、及び
Ｍｅｈｒａの″Ｓｅｌｅｃｔｉｎｇ Ｅｖａｐｏｒａｔ
ｏｒ″（″Ｃｈｅｒａｍｉｃ Ｅｒｇｉｎｅｅｒｉｎ
ｇ）、１９８６年２月３日発行、５６〜７２頁に記載さ
れている。本発明の方法で反応器として使用する膜形成
装置はリボイラーに接続することができる。反応器は多
段反応器として使用でき、その場合、反応器を出る物質
は更なる反応を実施するために一連に接続された１又は
２以上の類似の反応器に供給することができる。反応器
からの生成物はさらに反応し生成物を純化する他の処理
（例えば、蒸留又は反応性蒸留処理）の原料（ｆｅｅ
ｄ）として働く。
【００１９】膜厚や流量は膜を形成する表面の最小濡れ
速度や膜の流動点（ｆｌｏｏｄｉｎｇ ｐｏｉｎｔ）な
どの要因に依存するであろう。これらのパラメータを決
定する標準的方法はＰｅｒｒｙらのＰｅｒｒｙ’ｓ Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ’ Ｈａｎｄｂｏ
ｏｋ 第６版、ＭｃＧｒｏｗ−Ｈｉｌｌ社（ニューヨー
ク州）５〜５９頁（１９９４年）、及びＹｏｒｋらのＣ
ｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｏｇｒ
ｅｓｓ，１９９２年１０月、９３〜９８頁に記載されて
いる。用語「膜（ｆｉｌｍ）」は表面上にバルクの液体
を塗布（ｃｏａｔｉｎｇ）又は散布（ｓｐｒｅａｄｉｎ
ｇ）してバルクの液体の表面積を増大させ、それによっ
て液体から気相への成分の物質移動を増加させることを
含むものである。
【００２０】アルコールとクロロシランの接触の結果と
して生成する塩化水素は膜から気化（蒸発）される。塩
化水素の気化は膜を加熱して、膜上方を減圧して、また
はこれらを組合せて実施される。膜を加熱して膜から塩
化水素を気化させることが好ましい。膜の加熱は標準的
手法、例えば、膜を支持する壁に接触する外被中を気
体、水またはシリコーン油などの熱媒体を通して行なう
ことができる。また、反応系への原料のあるものをその
気化温度以上に加熱してその蒸気を膜と接触させること
によって膜を加熱してもよい。例えば、アルコールをそ
の気化温度より高い温度に加熱して、液体クロロシラン
の膜の流れに向流として反応器に供給することができ
る。一般的には、膜の温度は膜が著しく蒸発しない範囲
でできるだけ高温であることが好ましい。これらの一般
的ガイドラインの範囲内で、本発明の方法を実施する最
適の温度はこの方法に用いる特定のアルコール、クロロ
シラン、及び任意の溶剤に依存するであろう。
【００２１】不活性溶剤も本発明に使用できる。溶剤は
本発明の方法において還流助剤、希釈剤、キャリヤある
いは加熱手段として機能する。一般的に、反応に関与せ
ずまひ反応速度に悪影響を与えないどのような不活性溶
剤も使用可能である。通常の条件下で液体であり１５０
℃以下の沸点を持つ不活性溶剤が好ましい。例えば、ト
ルエン、キシレン、ヘキサン、ソナン、ペンタン、ブタ
ンなどの炭化水素溶剤、四塩化水素、メチレンクロライ
ド、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、１，１，１−
トリクロロエタン、トリクロロエチレン、ペルクロロエ
チレン、テトラクロロエタンなどで例示される塩素化炭
化水素がある。
【００２２】本発明で気化された塩化水素は標準的方
法、例えば排気して反応器から除去し、集め、他の方法
の原料として使用することができる。オルガノオキシシ
ランも本発明の方法から回収される。回収されうるオル
ガノオキシシランは式（１）〔式中、クロロシランのケ
イ素原子の１又は２以上の塩素置換基はオルガノオキシ
基で置換される。〕で表わされる。本発明の方法で製造
される好ましいオルガノオキシシランは式（１）中のケ
イ素原子に結合した全部の塩素原子でオルガノオキシ基
で置換されたものである。
【００２３】好適なオルガノオキシシランはメトキシシ
ラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルメトキシクロロシラン、トリメ
トキシシラン、テトラメトキシシラン、ｔｅｒｔ−ブチ
ルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラ
ン、イソブチルメトキシシラン、オクタデシルトリメト
キシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、
トリエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、
フェニルジメチトキシシラン、ジフェニルジメトキシシ
ラン、フェニルメトキシクロロシラン、トリフェニルメ
トキシシラン、２−フェニルプロピルメチルジメトキシ
シラン、メチルヘキサンジエニルジメトキシシラン、
（クロロプロピル）トリメトキシシラン、（３，３，３
−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ビス−
（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジメトキシシラ
ン、トリス−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メ
トキシシランがある。
【００２４】本発明の方法におけるオルガノオキシシラ
ンの回収は、単純に膜状態でアルコールとクロロシラン
を接触させて得られるオルガノオキシシラン含有混合物
を保持することからなることができる。オルガノオキシ
シランの回収はそのオルガノオキシシラン含有混合物
を、例えば、他の同様な反応器又は反応性蒸留塔への原
料として用いて、混合物をさらに反応させることに利用
してもよい。また、オルガノオキシシランの回収は、蒸
留などの標準的分離方法からなって、オルガノオキシシ
ランをさらに精製することであってもよい。
【００２５】
【実施例】例１ 落下膜型（ｆａｌｌｉｎｇ−ｆｉｌｍ ｔｙｐｅ）反応
器におけるトリクロロシランのメトキシ化を評価した。
この反応器は７．６cmの内径と２５cmの長さを持つガラ
ス管であった。反応器の頂部から５cmの位置に３個の１
５cm長のテフロン（登録商標）製ワイプブレードを有
し、これらは遠心力で反応器壁に向って保持されてい
た。反応器の外側には反応器の頂部から１０cm下から底
部の４cm上まで延在する加熱用ジャケットを有した。加
熱用ジャケットの上側及び下側の高さの反応器の空隙部
に温度測定用熱電対を設置した。反応器の頂部はドライ
アイス凝縮器に接続した。反応器の底部はリボイラーに
接続した。メタノールを気化させ、反応器のリボイラー
の上かつブレードの下の位置の口を介して反応器に供給
した。この実験の間、生成物はリボイラー中に一定の量
を維持するためにリボイラーを満たす速度に等しい速度
でリボイラーから連続的に回収した。
【００２６】この実施を実施するために、リボイラーに
７５℃に加熱したキシレン１５０．０ｇを充填した。反
応器の頂部にトリクロロシラン３８１．１ｇとキシレン
２５４．０ｇの混合物を供給し、かつ反応器の底部の口
からメタノール蒸気を化学量論的等量の約９９％の量を
供給した。この実験中、加熱ジャケットによる加熱は行
なわなかった。この実験中、反応器の上方空隙部温度は
４３℃、下部空隙部温度は６０℃であった。２時間後、
リボイラーから試料を取り出し、熱伝導度検出器を用い
るガス液体クロマトグラフィー（ＧＬＣ−ＴＣ）で分析
した。ＧＬＣ−ＴＣのトレース下の面積％を下記の各成
分について測定した。クロロジメトキシシラン０％、ト
リメトキシシラン４０．８％、テトラメトキシシラン
０．４％、キシレン５８．１％。リボイラーから取出し
た試料の塩素含分をＫＯＨ滴定法でＢＣＰを指示薬とし
て用いて測定した。試料は０．０６重量％の塩素を含ん
でいた。
【００２７】例２ ワイプト膜型（ｗｉｐｅｄ−ｆｉｌｍ ｔｙｐｅ）反応
器におけるメチルビニルジクロロシランのメトキシ化を
評価した。反応器は例１のものと同様であった。リボイ
ラーに１５０．０ｇのトルエンを充填し、初め１００℃
に加熱してから実験中７０℃まで降温させた。メチルビ
ニルジクロロシランを反応器の頂部に３．２３mL／分の
速度で供給し、メタノール蒸気を反応器の底部の口から
化学量論的等量の約１２０％を供給した。この実験中加
熱用ジャケットによる加熱はしなかった。この実験中、
反応器の上方空隙温度は５７℃、下方空隙温度は６５℃
であった。２．３時間後、リボイラー中の中味を火炎点
火検出器を用いるＧＬＣ（ＧＬＣ−ＦＩＤ）で分析し、
また例１に記載したようにＫＯＨ滴定した。分析の結
果、メチルビニルクロロメトキシシラン７．４％、メチ
ルビニルジメトキシシラン、７７．３％、トルエン６．
３％、ジシロキサンＭｅＶｉ（ＭｅＯ）ＳｉＯ 1/2 （式
中、Ｍｅはメチル、Ｖｉはビニルである。）２．０％、
塩素２．６〜３．０重量％であった。
【００２８】例３ ワイプト膜型反応器におけるメチルジクロロシランのメ
トキシ化を評価した。反応器は例１に記載したものと同
様であった。リボイラーに７０℃に加熱したトルエン１
５０ｇを充填した。反応器の頂部にメチルジクロロシラ
ン４６０．１ｇとトルエン３０７．４ｇの混合物をメチ
ルジクロロシランとして０．０２４モル／分の速度で供
給し、メタノール蒸気を反応器の底部の口に化学量論的
等量の１００〜１０３％の量で供給した。この実験中加
熱用ジャケットによる加熱は行なわなかった。３．６時
間後、リボイラー中の中味をＧＬＣ−ＴＣで分析し、ま
た例１に記載したようにＫＯＨ滴定した。結果として、
メタノール１．２％、メチルメトキシクロロシラン１．
９％、メチルジメチルメトキシシラン２０．３％、メチ
ルトリメトキシシラン４．９％、トルエン７１．５％、
塩素２．３重量％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ｃ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （Ａ）膜の状態で式Ｒn ＳｉＣｌ
    4-n （式中、各Ｒは独立して水素原子、１〜２０個の炭
    素原子を含む１価炭化水素基、又は１〜２０個の炭素原
    子を含みハロゲン置換した１価炭化水素基から選ばれ、
    ｎ＝０，１，２又は３である。）のクロロシランを、該
    クロロシランのケイ素原子とエステル化反応をし得るア
    ルコールと接触させてオルガノオキシシランと塩化水素
    を生成し、（Ｂ）該膜から塩化水素を気化させてオルガ
    ノオキシシランの生成を促進し、（Ｃ）オルガノオキシ
    シランを回収する工程を含むことを特徴とするオルガノ
    オキシシランの製造方法。
  2. 【請求項２】 前記アルコールが１〜１２個の炭素原子
    を含む１価アルカノールである請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記アルコールと前記クロロシランのモ
    ル比が化学量論的等量の６０〜１４０％の範囲内である
    請求項１記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記クロロシランの膜を形成し、該膜に
    前記アルコールを気化させて接触させる請求項１記載の
    方法。
  5. 【請求項５】 さらに不活性溶剤を用いる請求項１記載
    の方法。
  6. 【請求項６】 前記クロロシランのケイ素原子に結合し
    た全部の塩素原子がオルガノオキシ基により置換される
    請求項１記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記アルコールが１〜１２個の炭素原子
    を含む１価アルコールであり、前記アルコールと前記ク
    ロロシランのモル比が化学量論的等量の１００〜１０５
    ％の範囲内であり、前記クロロシランの膜を形成して該
    膜に前記アルコールを気化させて接触させ、該膜からの
    前記塩化水素の気化を該フィルムを加熱して促進する請
    求項１記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記回収されるオルガノオキシシランが
    トリメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン又
    はメチルジメトキシシランから選ばれる請求項１記載の
    方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012091154A1 (en) 2010-12-28 2012-07-05 Waseda University Method of producing a hydrolyzable silicon-containing compound

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5374757A (en) * 1994-05-10 1994-12-20 Dow Corning Corporation Process for organooxylation of cyanoalkylchlorosilanes
EP0965593B2 (en) * 1998-06-19 2008-12-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Distillation of (meth)acryloxybearing alkoxysilane
US7964031B2 (en) * 2000-06-06 2011-06-21 Dow Corning Corporation Compositions for treating materials and methods of treating same
ES2313964T3 (es) * 2000-06-06 2009-03-16 Woodholdings Environmental, Inc. Composiciones conservantes para productos de madera.
US7192470B2 (en) * 2003-05-27 2007-03-20 Woodholdings Environmental, Inc. Preservative compositions for materials and method of preserving same
US8721783B2 (en) * 2000-06-06 2014-05-13 Dow Corning Corporation Compositions for treating materials and methods of treating same
CN1293082C (zh) * 2003-04-30 2007-01-03 樊中华 三甲氧基硅烷的工业化制备方法
US6861546B1 (en) 2004-02-03 2005-03-01 Dow Corning Corporation Method of purifying alkoxysilanes
US20080276970A1 (en) * 2007-05-09 2008-11-13 John Christopher Cameron Apparatus and method for treating materials with compositions
CN102070663B (zh) * 2010-12-27 2013-01-09 蓝星化工新材料股份有限公司江西星火有机硅厂 二甲基二乙氧基硅烷制备工艺
WO2012099719A1 (en) 2011-01-18 2012-07-26 Dow Corning Corporation Method for treating substrates with halosilanes
CN102408568B (zh) * 2011-11-11 2013-04-10 江苏创基新材料有限公司 高沸硅油的连续制备方法
CN102516545B (zh) * 2011-11-11 2013-08-07 江苏创基新材料有限公司 连续化生产含氢硅油的方法
CN102372733B (zh) * 2011-11-30 2014-04-30 江苏创基新材料有限公司 一种甲基三烷氧基硅烷的连续制备方法
CN105131028B (zh) * 2015-09-06 2017-08-15 浙江衢州硅宝化工有限公司 一种甲基三乙氧基硅烷的制备方法
CN105542168B (zh) * 2015-12-21 2019-04-09 浙江衢州正邦有机硅有限公司 一种聚甲基三乙氧基硅烷双塔连续化生产工艺
CN105646564B (zh) * 2016-03-14 2018-08-28 荆州市江汉精细化工有限公司 一种氯甲基三甲氧基硅烷的制备方法
CN106749387B (zh) * 2017-01-17 2019-01-15 荆州市江汉精细化工有限公司 一种甲基二甲氧基氢硅烷的制备方法
CN115490719B (zh) * 2022-11-22 2023-05-02 江苏南大光电材料股份有限公司 一种烷氧基硅烷组合物的纯化方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3008975A (en) * 1958-06-24 1961-11-14 Union Carbide Corp Process for preparing silicon esters from halosilanes
DE1180359B (de) * 1962-05-15 1964-10-29 Ruhrchemie Ag Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Orthokieselsaeureestern
DE2033373A1 (en) * 1969-07-25 1971-04-01 VEB Chemiekombinat Bitterfeld, χ 4400 Bitterfeld Alkoxy silane prepn
US3651117A (en) * 1970-09-08 1972-03-21 Union Carbide Corp Esterification of halosilanes
DE2061189C3 (de) * 1970-12-11 1974-12-05 Wacker-Chemie Gmbh, 8000 Muenchen Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen oder Alkoxypolysiloxanen
DE2409731C2 (de) * 1974-03-01 1983-05-26 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Veresterung von Trichlorsilan
DD120024A5 (ja) * 1974-06-05 1976-05-20
US4173576A (en) * 1975-07-23 1979-11-06 Dynamit Nobel Aktiengesellschaft Process for the esterification of chlorosilanes
DE3000782A1 (de) * 1980-01-10 1981-07-16 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von sioc-gruppen aufweisenden silanen oder sioc-gruppen aufweisenden polysiloxanen
DE3236628C2 (de) * 1982-10-04 1986-09-11 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen
US4471133A (en) * 1983-05-31 1984-09-11 General Electric Company Continuous method for making methyldimethoxysilane
DE3929866A1 (de) * 1989-09-08 1991-03-21 Bayer Ag Spaltbare tenside, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
US4924022A (en) * 1989-10-04 1990-05-08 Dow Corning Corporation Method for preparation of organoalkoxysilanes
US5189194A (en) * 1992-07-06 1993-02-23 Dow Corning Corporation Process for preparation of hydrido organooxysilanes
US5374757A (en) * 1994-05-10 1994-12-20 Dow Corning Corporation Process for organooxylation of cyanoalkylchlorosilanes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012091154A1 (en) 2010-12-28 2012-07-05 Waseda University Method of producing a hydrolyzable silicon-containing compound
JP2012140347A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Waseda Univ 加水分解性含ケイ素化合物の製造方法

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