JPH08335764A - 多数個取りプリント配線板の製造方法 - Google Patents
多数個取りプリント配線板の製造方法Info
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- JPH08335764A JPH08335764A JP13963895A JP13963895A JPH08335764A JP H08335764 A JPH08335764 A JP H08335764A JP 13963895 A JP13963895 A JP 13963895A JP 13963895 A JP13963895 A JP 13963895A JP H08335764 A JPH08335764 A JP H08335764A
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- Japan
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- photosensitive resin
- resin layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 作業性の向上及び導体回路の形成精度の向上
を達成することができる多数個取りプリント配線板の製
造方法を提供すること。 【構成】 まず、基材2上への感光性樹脂層5の形成工
程、フォトマスク6を用いた感光性樹脂層5の露光工程
及び現像工程からなる画像形成を行う。その後、無電解
めっきを施して導体回路3を形成する。次いで、基材2
を複数のピースに分割する。露光工程においては、基材
2の大きさに相当するワークサイズを区画して、複数の
サブワークサイズの領域W1 を設ける。サブワークサイ
ズに対応する大きさのフォトマスク6を同領域W1 内に
存在する被露光部7に配置する。この状態で光照射を行
うことによって、感光性樹脂層5を露光する。
を達成することができる多数個取りプリント配線板の製
造方法を提供すること。 【構成】 まず、基材2上への感光性樹脂層5の形成工
程、フォトマスク6を用いた感光性樹脂層5の露光工程
及び現像工程からなる画像形成を行う。その後、無電解
めっきを施して導体回路3を形成する。次いで、基材2
を複数のピースに分割する。露光工程においては、基材
2の大きさに相当するワークサイズを区画して、複数の
サブワークサイズの領域W1 を設ける。サブワークサイ
ズに対応する大きさのフォトマスク6を同領域W1 内に
存在する被露光部7に配置する。この状態で光照射を行
うことによって、感光性樹脂層5を露光する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多数個取りプリント配
線板の製造方法に関するものである。
線板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板を製造する手法の一つと
して、1枚の基材上における複数の箇所に後に複数の製
品となる導体回路を形成した後、これらを個々の製品に
分割するという手法(いわゆる多数個取り)が従来から
実施されている。
して、1枚の基材上における複数の箇所に後に複数の製
品となる導体回路を形成した後、これらを個々の製品に
分割するという手法(いわゆる多数個取り)が従来から
実施されている。
【0003】多数個取りプリント配線板は、概して次の
ような手順を経て製造される。まず、基材11上にロー
ルコータ等を用いて感光性樹脂を塗布した後、その感光
性樹脂を乾燥させる。次に、形成された感光性樹脂層1
2の上面に、樹脂製かつ基材11とほぼ同じ大きさのフ
ォトマスク13を設ける。そして、このフォトマスク1
3を位置合わせした後、被露光部14に対する光照射を
行う(図4参照)。このような露光工程を経た後に現像
工程を行うことにより、基材11上に所定のめっきレジ
ストを画像形成する。さらに、粗化や触媒核付与等の後
に無電解銅めっきを施すことによって、レジスト非形成
部分に導体回路を形成する。そして、複数の導体回路が
形成された基材11を個々の製品に分割する。
ような手順を経て製造される。まず、基材11上にロー
ルコータ等を用いて感光性樹脂を塗布した後、その感光
性樹脂を乾燥させる。次に、形成された感光性樹脂層1
2の上面に、樹脂製かつ基材11とほぼ同じ大きさのフ
ォトマスク13を設ける。そして、このフォトマスク1
3を位置合わせした後、被露光部14に対する光照射を
行う(図4参照)。このような露光工程を経た後に現像
工程を行うことにより、基材11上に所定のめっきレジ
ストを画像形成する。さらに、粗化や触媒核付与等の後
に無電解銅めっきを施すことによって、レジスト非形成
部分に導体回路を形成する。そして、複数の導体回路が
形成された基材11を個々の製品に分割する。
【0004】このような多数個取りにおいては、近年、
1枚の基材11からより多くの製品を得るために、大き
な基材11を使用してそれを作業単位とする傾向(即
ち、ワークサイズを拡大する傾向)が強くなってきてい
る。つまり、感光性樹脂の塗布工程や無電解めっき工程
等を大きなワークサイズで実施することは、作業性の向
上につながり、ひいては低コスト化にもつながるからで
ある。
1枚の基材11からより多くの製品を得るために、大き
な基材11を使用してそれを作業単位とする傾向(即
ち、ワークサイズを拡大する傾向)が強くなってきてい
る。つまり、感光性樹脂の塗布工程や無電解めっき工程
等を大きなワークサイズで実施することは、作業性の向
上につながり、ひいては低コスト化にもつながるからで
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ワークサイ
ズの拡大は上記の利点をもたらす反面、露光工程におい
て次のような不都合を生じさせる。即ち、露光時にフォ
トマスク13に光L1 を照射すると、フォトマスク13
周囲の温度の上昇に起因して、フォトマスク13の寸法
が変化してしまうからである。そして、このような寸法
変化は、フォトマスク13のサイズが大きくなるほど、
換言すると露光時のワークサイズが大きくなるほど顕著
になる。従って、露光時におけるフォトマスク13のア
ライメントが難しくなり、めっきレジストの形成精度が
悪くなる結果、導体回路の形成精度も悪くなるという問
題があった。逆に、このような問題を回避するためにワ
ークサイズを小さくすると、他の工程において作業性の
向上が図れなくなるという問題があった。
ズの拡大は上記の利点をもたらす反面、露光工程におい
て次のような不都合を生じさせる。即ち、露光時にフォ
トマスク13に光L1 を照射すると、フォトマスク13
周囲の温度の上昇に起因して、フォトマスク13の寸法
が変化してしまうからである。そして、このような寸法
変化は、フォトマスク13のサイズが大きくなるほど、
換言すると露光時のワークサイズが大きくなるほど顕著
になる。従って、露光時におけるフォトマスク13のア
ライメントが難しくなり、めっきレジストの形成精度が
悪くなる結果、導体回路の形成精度も悪くなるという問
題があった。逆に、このような問題を回避するためにワ
ークサイズを小さくすると、他の工程において作業性の
向上が図れなくなるという問題があった。
【0006】本発明は上記の課題を解決するためなされ
たものであり、その目的は、作業性の向上及び導体回路
の形成精度の向上を達成することができる多数個取りプ
リント配線板の製造方法を提供することにある。
たものであり、その目的は、作業性の向上及び導体回路
の形成精度の向上を達成することができる多数個取りプ
リント配線板の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明では、基材上への感光性樹
脂層の形成工程、フォトマスクを用いた前記感光性樹脂
層の露光工程及び現像工程からなる画像形成を行った
後、無電解めっきを施して導体回路を形成し、次いで前
記基材を複数の製品に分割する多数個取りプリント配線
板の製造方法において、前記基材の大きさに相当するワ
ークサイズを区画して、複数のサブワークサイズの領域
を設けるとともに、前記サブワークサイズに対応する大
きさのフォトマスクを前記サブワークサイズ領域内に存
在する被露光部に配置し、この状態で光照射を行うこと
によって、前記感光性樹脂層を露光する多数個取りプリ
ント配線板の製造方法をその要旨とする。
めに、請求項1に記載の発明では、基材上への感光性樹
脂層の形成工程、フォトマスクを用いた前記感光性樹脂
層の露光工程及び現像工程からなる画像形成を行った
後、無電解めっきを施して導体回路を形成し、次いで前
記基材を複数の製品に分割する多数個取りプリント配線
板の製造方法において、前記基材の大きさに相当するワ
ークサイズを区画して、複数のサブワークサイズの領域
を設けるとともに、前記サブワークサイズに対応する大
きさのフォトマスクを前記サブワークサイズ領域内に存
在する被露光部に配置し、この状態で光照射を行うこと
によって、前記感光性樹脂層を露光する多数個取りプリ
ント配線板の製造方法をその要旨とする。
【0008】請求項2に記載の発明では、請求項1にお
いて、前記フォトマスクを前記各被露光部にそれぞれ配
置した状態で同時に光照射を行うことによって、前記感
光性樹脂層を同時露光することをその要旨とする。
いて、前記フォトマスクを前記各被露光部にそれぞれ配
置した状態で同時に光照射を行うことによって、前記感
光性樹脂層を同時露光することをその要旨とする。
【0009】請求項3に記載の発明は、請求項1におい
て、前記フォトマスクを前記各被露光部のうちの1つに
配置した状態でその被露光部のみに対して光照射を行う
ことを必要回数だけ繰り返すことによって、前記感光性
樹脂層を部分露光することをその要旨とする。
て、前記フォトマスクを前記各被露光部のうちの1つに
配置した状態でその被露光部のみに対して光照射を行う
ことを必要回数だけ繰り返すことによって、前記感光性
樹脂層を部分露光することをその要旨とする。
【0010】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3
のいずれか1項において、前記サブワークサイズ領域の
数は2〜8であることをその要旨とする。請求項5に記
載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項において、
前記サブワークサイズを、縦80mm〜120mmかつ横1
00mm〜170mmに設定することをその要旨とする。
のいずれか1項において、前記サブワークサイズ領域の
数は2〜8であることをその要旨とする。請求項5に記
載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項において、
前記サブワークサイズを、縦80mm〜120mmかつ横1
00mm〜170mmに設定することをその要旨とする。
【0011】請求項6に記載の発明は、請求項1におい
て、前記感光性樹脂層は、硬化処理により酸あるいは酸
化剤に難溶性となる感光性樹脂と、酸あるいは酸化剤に
可溶性の耐熱性樹脂とからなることをその要旨とする。
て、前記感光性樹脂層は、硬化処理により酸あるいは酸
化剤に難溶性となる感光性樹脂と、酸あるいは酸化剤に
可溶性の耐熱性樹脂とからなることをその要旨とする。
【0012】請求項7に記載の発明は、請求項1におい
て、前記感光性樹脂層はめっきレジストであることをそ
の要旨とする。
て、前記感光性樹脂層はめっきレジストであることをそ
の要旨とする。
【0013】
【作用】請求項1〜7に記載の発明によると、サブワー
クサイズを作業単位として露光工程が行われることか
ら、使用されるフォトマスクはそれほど大きくなく、そ
の分だけ従来に比べて寸法変化が生じにくい。よって、
フォトマスクのアライメント作業が比較的容易になり、
しかも感光性樹脂層の露光精度も向上する。
クサイズを作業単位として露光工程が行われることか
ら、使用されるフォトマスクはそれほど大きくなく、そ
の分だけ従来に比べて寸法変化が生じにくい。よって、
フォトマスクのアライメント作業が比較的容易になり、
しかも感光性樹脂層の露光精度も向上する。
【0014】請求項2に記載の発明によると、感光性樹
脂層上に複数の被露光部があっても、1回の光照射によ
ってそれらを同時に露光することができる。請求項3に
記載の発明によると、感光性樹脂層上に複数の被露光部
があっても、1枚のフォトマスクの使用によってそれら
を露光することができる。
脂層上に複数の被露光部があっても、1回の光照射によ
ってそれらを同時に露光することができる。請求項3に
記載の発明によると、感光性樹脂層上に複数の被露光部
があっても、1枚のフォトマスクの使用によってそれら
を露光することができる。
【0015】
〔実施例1〕以下、本発明を具体化した実施例1を図
1,図2に基づき詳細に説明する。
1,図2に基づき詳細に説明する。
【0016】図1には、複数の製品に分割される前の状
態の多数個取りプリント配線板1が概略的に示されてい
る。このプリント配線板1を構成するガラスエポキシ基
材2は長方形状をしており、その寸法は縦255mm×横
340mmである。このプリント配線板1は、最終的に2
4個の製品に分割されるようになっている。従って、ガ
ラスエポキシ基材2における24箇所(4箇所×6列)
には、同じパターン形状をした導体回路3がそれぞれ形
成されている。
態の多数個取りプリント配線板1が概略的に示されてい
る。このプリント配線板1を構成するガラスエポキシ基
材2は長方形状をしており、その寸法は縦255mm×横
340mmである。このプリント配線板1は、最終的に2
4個の製品に分割されるようになっている。従って、ガ
ラスエポキシ基材2における24箇所(4箇所×6列)
には、同じパターン形状をした導体回路3がそれぞれ形
成されている。
【0017】次に、このプリント配線板1を製造する手
順を順を追って説明する。まず、ロールコータ等の塗布
手段によって、ガラスエポキシ基材2上にアディティブ
用接着剤を塗布した後、乾燥を行う。その結果、ガラス
エポキシ基材2上に、後にめっきレジスト4となる感光
性樹脂層5が形成される。この場合、前記接着剤は1回
の塗布作業によって、ガラスエポキシ基材2の上面全体
に均一に塗布される。つまり、この工程では、ガラスエ
ポキシ基材2の大きさに相当する通常のワークサイズを
作業単位として塗布作業が行われることになる。なお、
前記基材2としては、ガラスエポキシ基材2以外に、例
えばポリイミド製やBT製の基材2を選択してもよい。
順を順を追って説明する。まず、ロールコータ等の塗布
手段によって、ガラスエポキシ基材2上にアディティブ
用接着剤を塗布した後、乾燥を行う。その結果、ガラス
エポキシ基材2上に、後にめっきレジスト4となる感光
性樹脂層5が形成される。この場合、前記接着剤は1回
の塗布作業によって、ガラスエポキシ基材2の上面全体
に均一に塗布される。つまり、この工程では、ガラスエ
ポキシ基材2の大きさに相当する通常のワークサイズを
作業単位として塗布作業が行われることになる。なお、
前記基材2としては、ガラスエポキシ基材2以外に、例
えばポリイミド製やBT製の基材2を選択してもよい。
【0018】前記塗布工程では、アディティブ用接着剤
として、硬化処理により酸あるいは酸化剤に難溶性とな
る感光性樹脂と、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱性樹
脂粒子とからなるものが使用されることがよい。このよ
うな組成の接着剤は、ファインな画像を形成するうえで
好適だからである。具体的にいうと、酸あるいは酸化剤
に難溶性となる感光性樹脂としては、例えばエポキシア
クリレートや感光性ポリイミド等が使用可能である。こ
の樹脂には、例えばポリエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、フェノキシ樹脂、ポリエチレン等が含まれていても
よい。また、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱性樹脂粒
子としては、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミ
ン樹脂等といったアミノ樹脂や、エポキシ樹脂などが使
用可能である。
として、硬化処理により酸あるいは酸化剤に難溶性とな
る感光性樹脂と、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱性樹
脂粒子とからなるものが使用されることがよい。このよ
うな組成の接着剤は、ファインな画像を形成するうえで
好適だからである。具体的にいうと、酸あるいは酸化剤
に難溶性となる感光性樹脂としては、例えばエポキシア
クリレートや感光性ポリイミド等が使用可能である。こ
の樹脂には、例えばポリエーテルスルホン、ポリスルホ
ン、フェノキシ樹脂、ポリエチレン等が含まれていても
よい。また、酸あるいは酸化剤に可溶性の耐熱性樹脂粒
子としては、例えばメラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミ
ン樹脂等といったアミノ樹脂や、エポキシ樹脂などが使
用可能である。
【0019】次に、感光性樹脂層5が形成されたガラス
エポキシ基材2に対し、以下に示す手順で露光工程を実
施する。まず、ガラスエポキシ基材2の大きさに相当す
る通常のワークサイズを区画して、複数のサブワークサ
イズの領域W1 を設ける(図1の2点鎖線参照)。ここ
で、前記サブワークサイズ領域W1 の数は、2〜8であ
ることが好ましい。この数が少ないと、サブワークサイ
ズ領域W1 が充分に小さくないため、通常のワークサイ
ズを区画した意義が薄れてしまう。従って、依然として
大きなフォトマスク6を使用することになり、導体回路
3の形成精度を充分に向上させることができなくなる。
逆にこの数が多いと、導体回路3の形成精度の向上には
好適である反面、多くのフォトマスク6が必要になり、
アライメント作業が煩雑になるおそれがある。また、よ
り具体的にいうと、サブワークサイズは、縦80mm〜1
20mmかつ横100mm〜170mmの範囲内に設定される
ことが好ましい。その理由は、縦または横の寸法が大き
すぎると、依然として大きなフォトマスク6を使用する
必要があり、導体回路3の形成精度を充分に向上させる
ことができなくなるからである。逆に、縦または横の寸
法が小さすぎると、多くのフォトマスク6が必要にな
り、アライメント作業が煩雑になるおそれがあるからで
ある。
エポキシ基材2に対し、以下に示す手順で露光工程を実
施する。まず、ガラスエポキシ基材2の大きさに相当す
る通常のワークサイズを区画して、複数のサブワークサ
イズの領域W1 を設ける(図1の2点鎖線参照)。ここ
で、前記サブワークサイズ領域W1 の数は、2〜8であ
ることが好ましい。この数が少ないと、サブワークサイ
ズ領域W1 が充分に小さくないため、通常のワークサイ
ズを区画した意義が薄れてしまう。従って、依然として
大きなフォトマスク6を使用することになり、導体回路
3の形成精度を充分に向上させることができなくなる。
逆にこの数が多いと、導体回路3の形成精度の向上には
好適である反面、多くのフォトマスク6が必要になり、
アライメント作業が煩雑になるおそれがある。また、よ
り具体的にいうと、サブワークサイズは、縦80mm〜1
20mmかつ横100mm〜170mmの範囲内に設定される
ことが好ましい。その理由は、縦または横の寸法が大き
すぎると、依然として大きなフォトマスク6を使用する
必要があり、導体回路3の形成精度を充分に向上させる
ことができなくなるからである。逆に、縦または横の寸
法が小さすぎると、多くのフォトマスク6が必要にな
り、アライメント作業が煩雑になるおそれがあるからで
ある。
【0020】なお、本実施例においては、上記の事情を
考慮して、図1,図2に示されるように、縦100mm×
横150mmのサブワークサイズ領域W1 を4つ設定する
こととしている。なお、各サブワークサイズ領域W1 内
には、6つの導体回路形成予定領域3aを含む被露光部
7がそれぞれ存在している。
考慮して、図1,図2に示されるように、縦100mm×
横150mmのサブワークサイズ領域W1 を4つ設定する
こととしている。なお、各サブワークサイズ領域W1 内
には、6つの導体回路形成予定領域3aを含む被露光部
7がそれぞれ存在している。
【0021】このようにして設定されたサブワークーサ
イズ領域W1 には、図2に示されるように、同サブワー
クサイズに対応する大きさのフォトマスク6がそれぞれ
配置される。従って、本実施例では、同じ形状をした4
枚のフォトマスク6が使用される。そして、これらのフ
ォトマスク6を各被露光部7に配置しかつアライメント
作業を行った後、基材2の上面全体に対して同時に光L
1 を照射する。以上のようにして、感光性樹脂層5を同
時露光する。つまり、この露光工程においては、通常の
ワークサイズのほぼ1/4の大きさのサブワークサイズ
を作業単位として作業が行われることになる。
イズ領域W1 には、図2に示されるように、同サブワー
クサイズに対応する大きさのフォトマスク6がそれぞれ
配置される。従って、本実施例では、同じ形状をした4
枚のフォトマスク6が使用される。そして、これらのフ
ォトマスク6を各被露光部7に配置しかつアライメント
作業を行った後、基材2の上面全体に対して同時に光L
1 を照射する。以上のようにして、感光性樹脂層5を同
時露光する。つまり、この露光工程においては、通常の
ワークサイズのほぼ1/4の大きさのサブワークサイズ
を作業単位として作業が行われることになる。
【0022】次いで、前記露光工程を経たガラスエポキ
シ基材2を従来公知の方法に従って現像し、所望形状の
めっきレジスト4を画像形成する。なお、この工程にお
いては、通常のワークサイズを作業単位として作業が行
われる。さらに、常法に従って表面粗化、触媒核付与及
び無電解銅めっき工程を実施することによって、めっき
レジスト4の非形成部分に導体回路3を形成する。これ
らの工程においても、従来と同じく、通常のワークサイ
ズを作業単位として作業が行われる。そして、最後にガ
ラスエポキシ基材2を分割する。以上の結果、24個の
製品が得られる。
シ基材2を従来公知の方法に従って現像し、所望形状の
めっきレジスト4を画像形成する。なお、この工程にお
いては、通常のワークサイズを作業単位として作業が行
われる。さらに、常法に従って表面粗化、触媒核付与及
び無電解銅めっき工程を実施することによって、めっき
レジスト4の非形成部分に導体回路3を形成する。これ
らの工程においても、従来と同じく、通常のワークサイ
ズを作業単位として作業が行われる。そして、最後にガ
ラスエポキシ基材2を分割する。以上の結果、24個の
製品が得られる。
【0023】さて、上述した本実施例の製造方法による
と、露光工程ではサブワークサイズを作業単位として作
業が行われ、それ以外の工程では通常のワークサイズを
作業単位として作業が行われることを特徴とする。従っ
て、露光時に使用されるフォトマスク6はそれほど大き
くなく、その分だけ従来に比べて寸法変化も生じにく
い。よって、アライメント作業が比較的容易になり、し
かもめっきレジスト4の形成精度を向上させることがで
きる。そして、このことは導体回路3の形成精度の向上
にもつながる。ちなみに、本発明者らの試験によると、
形成された導体回路3には、±50μm以内の精度が確
保されることが確認されている。また、フォトマスク6
の使用数は4枚であるため、アライメント作業に特に支
障を来すこともない。さらに、感光性樹脂の塗布工程や
無電解銅めっき工程等については、通常のワークサイズ
を作業単位としているため、これらの工程についても効
率よく作業を行うことができる。以上詳述したように、
本実施例によると、作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上の双方を確実に達成することができる。 〔実施例2〕次に、本発明を具体化した実施例2を図3
に基づき詳細に説明する。ここでは、実施例1との相違
点を中心に述べる。
と、露光工程ではサブワークサイズを作業単位として作
業が行われ、それ以外の工程では通常のワークサイズを
作業単位として作業が行われることを特徴とする。従っ
て、露光時に使用されるフォトマスク6はそれほど大き
くなく、その分だけ従来に比べて寸法変化も生じにく
い。よって、アライメント作業が比較的容易になり、し
かもめっきレジスト4の形成精度を向上させることがで
きる。そして、このことは導体回路3の形成精度の向上
にもつながる。ちなみに、本発明者らの試験によると、
形成された導体回路3には、±50μm以内の精度が確
保されることが確認されている。また、フォトマスク6
の使用数は4枚であるため、アライメント作業に特に支
障を来すこともない。さらに、感光性樹脂の塗布工程や
無電解銅めっき工程等については、通常のワークサイズ
を作業単位としているため、これらの工程についても効
率よく作業を行うことができる。以上詳述したように、
本実施例によると、作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上の双方を確実に達成することができる。 〔実施例2〕次に、本発明を具体化した実施例2を図3
に基づき詳細に説明する。ここでは、実施例1との相違
点を中心に述べる。
【0024】本実施例では、実施例1と同じ方法により
ガラスエポキシ基材2上に感光性樹脂層5を形成した
後、以下に示す手順で露光工程を行うこととしている。
まず、実施例1において使用したフォトマスク6を1枚
用意する。このフォトマスク6を各被露光部7のうちの
1つに配置しかつアライメントを行う。この状態で、フ
ォトマスク6が配置された被露光部7のみに対して光L
1 を照射する。このような1回目の部分露光の後、前記
フォトマスク6を未露光の被露光部7に配置しかつアラ
イメントした状態で同様の方法にて部分露光を行う。本
実施例では、サブワークサイズ領域W1 が4つ(即ち被
露光部7が4つ)存在していることから、部分露光は合
計4回行われる。その結果、全ての被露光部7の露光が
完了する。つまり、本実施例の露光工程においても、通
常のワークサイズのほぼ1/4の大きさのサブワークサ
イズを作業単位として作業が行われることになる。この
後、実施例1と同じく、通常のワークサイズを作業単位
として現像工程以降の工程を実施する。以上の結果、2
4個の製品が得られる。
ガラスエポキシ基材2上に感光性樹脂層5を形成した
後、以下に示す手順で露光工程を行うこととしている。
まず、実施例1において使用したフォトマスク6を1枚
用意する。このフォトマスク6を各被露光部7のうちの
1つに配置しかつアライメントを行う。この状態で、フ
ォトマスク6が配置された被露光部7のみに対して光L
1 を照射する。このような1回目の部分露光の後、前記
フォトマスク6を未露光の被露光部7に配置しかつアラ
イメントした状態で同様の方法にて部分露光を行う。本
実施例では、サブワークサイズ領域W1 が4つ(即ち被
露光部7が4つ)存在していることから、部分露光は合
計4回行われる。その結果、全ての被露光部7の露光が
完了する。つまり、本実施例の露光工程においても、通
常のワークサイズのほぼ1/4の大きさのサブワークサ
イズを作業単位として作業が行われることになる。この
後、実施例1と同じく、通常のワークサイズを作業単位
として現像工程以降の工程を実施する。以上の結果、2
4個の製品が得られる。
【0025】さて、上述した本実施例の製造方法におい
ても、露光工程ではサブワークサイズを作業単位として
作業が行われ、それ以外の工程では通常のワークサイズ
を作業単位として作業が行われる。従って、作業性の向
上及び導体回路の形成精度の向上の双方を確実に達成す
ることができる。また、本実施例では部分露光を行って
いるため、露光に要する時間が若干長くなる反面、フォ
トマスク6が1枚で足りるという利点がある。従って、
不要になるフォトマスク6の分だけ、全体の低コスト化
を図ることもできる。
ても、露光工程ではサブワークサイズを作業単位として
作業が行われ、それ以外の工程では通常のワークサイズ
を作業単位として作業が行われる。従って、作業性の向
上及び導体回路の形成精度の向上の双方を確実に達成す
ることができる。また、本実施例では部分露光を行って
いるため、露光に要する時間が若干長くなる反面、フォ
トマスク6が1枚で足りるという利点がある。従って、
不要になるフォトマスク6の分だけ、全体の低コスト化
を図ることもできる。
【0026】なお、本発明は例えば次のように変更する
ことが可能である。 (1)サブワークサイズ領域W1 の大きさ・形状は、必
ずしも全て同一でなくてもよい。即ち、各々のサブワー
クサイズ領域W1 を相似形にすること等も許容される。
もっとも、サブワークサイズ領域W1 の大きさ・形状が
同一であると、実施例2のように1枚のフォトマスク6
を用いた部分露光を実施することができるという利点が
ある。さらに、サブワークサイズ領域W1 の形状は、長
方形以外のもの、例えば正方形、三角形、菱形、六角形
等であってもよい。なお、この場合においても、サブワ
ークサイズ領域W1 の形状は、基材2の相似形であるこ
とが好ましい。
ことが可能である。 (1)サブワークサイズ領域W1 の大きさ・形状は、必
ずしも全て同一でなくてもよい。即ち、各々のサブワー
クサイズ領域W1 を相似形にすること等も許容される。
もっとも、サブワークサイズ領域W1 の大きさ・形状が
同一であると、実施例2のように1枚のフォトマスク6
を用いた部分露光を実施することができるという利点が
ある。さらに、サブワークサイズ領域W1 の形状は、長
方形以外のもの、例えば正方形、三角形、菱形、六角形
等であってもよい。なお、この場合においても、サブワ
ークサイズ領域W1 の形状は、基材2の相似形であるこ
とが好ましい。
【0027】(2)サブワークサイズ領域W1 の数も2
〜8の範囲内で任意に変更することが可能である。この
場合、基材2が大きくなるほど多数のサブワークサイズ
領域W1 が設定される。
〜8の範囲内で任意に変更することが可能である。この
場合、基材2が大きくなるほど多数のサブワークサイズ
領域W1 が設定される。
【0028】(3)面積が等しいフォトマスク6同士を
比較した場合、長方形であるものよりは正方形に近いも
ののほうが、導体回路3の形成精度の向上を図るうえで
好適である。その理由は、縦横の長さの比が1に近いほ
ど、温度変化による影響を受けにくくなるからである。
比較した場合、長方形であるものよりは正方形に近いも
ののほうが、導体回路3の形成精度の向上を図るうえで
好適である。その理由は、縦横の長さの比が1に近いほ
ど、温度変化による影響を受けにくくなるからである。
【0029】ここで、特許請求の範囲に記載された技術
的思想のほかに、前述した実施例及び別例によって把握
される技術的思想をその効果とともに以下に列挙する。 (1) 基材上への感光性樹脂層の形成工程、フォトマ
スクを用いた前記感光性樹脂層の露光工程及び現像工程
からなる多数個取りプリント配線板の画像形成方法にお
いて、前記基材の大きさに相当するワークサイズを区画
して、複数のサブワークサイズの領域を設けるととも
に、前記サブワークサイズに対応する大きさのフォトマ
スクを前記サブワークサイズ領域内に存在する被露光部
に配置し、この状態で光照射を行うことによって、前記
感光性樹脂層を露光する、多数個取りプリント配線板の
画像形成方法。この方法であると、作業性の向上及び導
体回路の形成精度の向上を達成できる。
的思想のほかに、前述した実施例及び別例によって把握
される技術的思想をその効果とともに以下に列挙する。 (1) 基材上への感光性樹脂層の形成工程、フォトマ
スクを用いた前記感光性樹脂層の露光工程及び現像工程
からなる多数個取りプリント配線板の画像形成方法にお
いて、前記基材の大きさに相当するワークサイズを区画
して、複数のサブワークサイズの領域を設けるととも
に、前記サブワークサイズに対応する大きさのフォトマ
スクを前記サブワークサイズ領域内に存在する被露光部
に配置し、この状態で光照射を行うことによって、前記
感光性樹脂層を露光する、多数個取りプリント配線板の
画像形成方法。この方法であると、作業性の向上及び導
体回路の形成精度の向上を達成できる。
【0030】(2) 複数の導体回路形成予定領域を有
する基材上に形成された感光性樹脂層をフォトマスクを
用いて露光する方法において、前記基材の大きさに相当
するワークサイズを区画して、複数のサブワークサイズ
の領域を設けるとともに、前記サブワークサイズに対応
する大きさのフォトマスクを前記サブワークサイズ領域
内に存在する被露光部に配置し、この状態で光照射を行
うことによって、前記感光性樹脂層を露光する露光方
法。この方法であると、作業性の向上及び導体回路の形
成精度の向上を達成できる。
する基材上に形成された感光性樹脂層をフォトマスクを
用いて露光する方法において、前記基材の大きさに相当
するワークサイズを区画して、複数のサブワークサイズ
の領域を設けるとともに、前記サブワークサイズに対応
する大きさのフォトマスクを前記サブワークサイズ領域
内に存在する被露光部に配置し、この状態で光照射を行
うことによって、前記感光性樹脂層を露光する露光方
法。この方法であると、作業性の向上及び導体回路の形
成精度の向上を達成できる。
【0031】なお、本明細書中において使用した技術用
語を次のように定義する。 「アディティブ用接着剤: 接着剤層の形成に使用され
る樹脂製接着剤であって、酸あるいは酸化剤等に対して
難溶性の成分と可溶性の成分とを含むものをいう。」
語を次のように定義する。 「アディティブ用接着剤: 接着剤層の形成に使用され
る樹脂製接着剤であって、酸あるいは酸化剤等に対して
難溶性の成分と可溶性の成分とを含むものをいう。」
【0032】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1〜7に記
載の発明によれば、作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上を達成できる多数個取りプリント配線板の製造
方法を提供することができる。請求項2に記載の発明に
よれば、同時露光が実施されることから、より作業性の
向上を図ることができる。請求項3に記載の発明によれ
ば、フォトマスクの数が少なくて済むため、より低コス
ト化を図ることができる。請求項4,5に記載の発明に
よれば、より確実に作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上を達成することができる。
載の発明によれば、作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上を達成できる多数個取りプリント配線板の製造
方法を提供することができる。請求項2に記載の発明に
よれば、同時露光が実施されることから、より作業性の
向上を図ることができる。請求項3に記載の発明によれ
ば、フォトマスクの数が少なくて済むため、より低コス
ト化を図ることができる。請求項4,5に記載の発明に
よれば、より確実に作業性の向上及び導体回路の形成精
度の向上を達成することができる。
【図1】複数の製品に分割される前の状態における実施
例1の多数個取りプリント配線板を示す概略平面図。
例1の多数個取りプリント配線板を示す概略平面図。
【図2】実施例1の多数個取りプリント配線板の製造方
法における露光工程を示す概略斜視図。
法における露光工程を示す概略斜視図。
【図3】実施例2の多数個取りプリント配線板の製造方
法における露光工程を示す概略斜視図。
法における露光工程を示す概略斜視図。
【図4】従来の多数個取りプリント配線板の製造方法に
おける露光工程を示す概略斜視図。
おける露光工程を示す概略斜視図。
1…多数個取りプリント配線板、2…(ガラスエポキ
シ)基材、3…導体回路、5…感光性樹脂層、6…フォ
トマスク、7…被露光部、W1 …サブワークサイズ領
域。
シ)基材、3…導体回路、5…感光性樹脂層、6…フォ
トマスク、7…被露光部、W1 …サブワークサイズ領
域。
Claims (7)
- 【請求項1】基材上への感光性樹脂層の形成工程、フォ
トマスクを用いた前記感光性樹脂層の露光工程及び現像
工程からなる画像形成を行った後、無電解めっきを施し
て導体回路を形成し、次いで前記基材を複数の製品に分
割する多数個取りプリント配線板の製造方法において、 前記基材の大きさに相当するワークサイズを区画して、
複数のサブワークサイズの領域を設けるとともに、前記
サブワークサイズに対応する大きさのフォトマスクを前
記サブワークサイズ領域内に存在する被露光部に配置
し、この状態で光照射を行うことによって、前記感光性
樹脂層を露光する多数個取りプリント配線板の製造方
法。 - 【請求項2】前記フォトマスクを前記各被露光部にそれ
ぞれ配置した状態で同時に光照射を行うことによって、
前記感光性樹脂層を同時露光する請求項1に記載の多数
個取りプリント配線板の製造方法。 - 【請求項3】前記フォトマスクを前記各被露光部のうち
の1つに配置した状態でその被露光部のみに対して光照
射を行うことを必要回数だけ繰り返すことによって、前
記感光性樹脂層を部分露光する請求項1に記載の多数個
取りプリント配線板の製造方法。 - 【請求項4】前記サブワークサイズ領域の数は2〜8で
ある請求項1乃至3のいずれか1項に記載の多数個取り
プリント配線板の製造方法。 - 【請求項5】前記サブワークサイズを、縦80mm〜12
0mmかつ横100mm〜170mmに設定する請求項1乃至
4のいずれか1項に記載の多数個取りプリント配線板の
製造方法。 - 【請求項6】前記感光性樹脂層は、硬化処理により酸あ
るいは酸化剤に難溶性となる感光性樹脂と、酸あるいは
酸化剤に可溶性の耐熱性樹脂とからなる請求項1に記載
の多数個取りプリント配線板の製造方法。 - 【請求項7】前記感光性樹脂層はめっきレジストである
請求項1に記載の多数個取りプリント配線板の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13963895A JPH08335764A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 多数個取りプリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13963895A JPH08335764A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 多数個取りプリント配線板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08335764A true JPH08335764A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15249945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13963895A Pending JPH08335764A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 多数個取りプリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08335764A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002190674A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Sony Chem Corp | 多層フレキシブル配線板の製造方法 |
-
1995
- 1995-06-06 JP JP13963895A patent/JPH08335764A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002190674A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Sony Chem Corp | 多層フレキシブル配線板の製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050228 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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